JP2008267567A - ジオテキスタイルによる地中構造物の浅埋設工法 - Google Patents
ジオテキスタイルによる地中構造物の浅埋設工法 Download PDFInfo
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Abstract
【解決手段】第1の工程で、地盤4の支持地盤C上にパイプライン2を配置し、第2の工程で、パイプラインの長手方向左右両側に土嚢3を配置し、第3の工程で、ジオテキスタイルの左右方向両端10B、10Cを余らせるようにパイプライン2と支持地盤Cと土嚢3の内側面とに沿ってジオテキスタイル10を被せる。第4の工程で、盛り土材5を土嚢3の左右両側に投入し、ジオテキスタイル両端余り部10B、10Cを盛り土材5の投入に応じて上方に伸ばし、所定の高さL1まで達すると、第5の工程で、ジオテキスタイル10の両端10B、10Cを接続してさらに盛り土材5を投入し、ジオテキスタイル10を盛り土材5内に埋め込んで土質構造体6を築造する。
【選択図】図1
Description
3 土嚢(支持壁材)
4 地盤
5 盛り土材
6 土質構造体
10 ジオテキスタイル
10B、10C ジオテキスタイル両端余り部
Claims (16)
- 地盤上に地中構造物を配置する第1の工程と、地中構造物の長手方向左右両側のうち少なくともいずれか一方に支持壁材を配置する第2の工程と、ジオテキスタイルの左右方向両端を余らせるように地中構造物と地盤と支持壁材の内側面とに沿ってジオテキスタイルを被せる第3の工程と、盛り土材を支持壁材の左右方向両側に投入し、ジオテキスタイル両端余り部を盛り土材の投入に応じて伸ばす第4の工程と、ジオテキスタイルの両端を埋め込むように盛り土材を投入し土質構造体を形成する第5の工程とを備えたことを特徴とするジオテキスタイルによる地中構造物の浅埋設工法。
- 第1の工程後、地中構造物の一部を盛り土材上に露出させるように地中構造物が配置された地盤に盛り土材を投入して、支持壁材を配置することを特徴とする請求項1に記載のジオテキスタイルによる地中構造物の浅埋設工法。
- 盛り土材を、配置された支持壁材上部まで投入しては、支持壁材上に他の支持壁材を積み上げてジオテキスタイルの余り部を引き上げ、積み上げと盛り土材の投入と余り部の引き上げとを繰り返し、投入された盛り土材内部に積み上げた支持壁材により支持壁を形成するとともに、支持壁上の所定の高さまで盛り土材を投入することを特徴とする請求項1または2に記載のジオテキスタイルによる地中構造物の浅埋設工法。
- 支持壁材を配置する際、盛り土材が所定の嵩を確保するように地中構造物と支持壁材との間に間隙を設けたことを特徴とする請求項1ないし3のうちいずれか1に記載のジオテキスタイルによる地中構造物の浅埋設工法。
- 支持壁材は、地中構造物の長手方向左右両側に設けられることを特徴とする請求項1ないし4のうちいずれか1に記載のジオテキスタイルによる地中構造物の浅埋設工法。
- 地盤上に地中構造物を配置する第1の工程と、地中構造物の長手方向左右両側のうち少なくともいずれか一方に抜き板を立設する第2の工程と、ジオテキスタイルの左右方向両端を余らせるように地中構造物と地盤と抜き板の内側面とに沿ってジオテキスタイルを被せる第3の工程と、盛り土材を抜き板の左右方向両側に投入し、ジオテキスタイル両端余り部を盛り土材の投入に応じて伸ばし、抜き板を上方に引き上げる第4の工程と、抜き板を引き抜く第5の工程と、ジオテキスタイルの両端を埋め込むように盛り土材を投入し、土質構造体を形成する第6の工程とを備えたことを特徴とするジオテキスタイルによる地中構造物の浅埋設工法。
- 第1の工程後、地中構造物の一部を盛り土材上に露出させるように地中構造物が配置された地盤に盛り土材を投入して、抜き板を立設することを特徴とする請求項6に記載のジオテキスタイルによる地中構造物の浅埋設工法。
- 地中構造物の配置後、盛り土材を投入しては、抜き板を徐々に引き上げ、盛り土材の投入と抜き板の引き上げとを繰り返すことを特徴とする請求項6または7に記載のジオテキスタイルによる地中構造物の浅埋設工法。
- 抜き板を立設する際、盛り土材が所定の嵩を確保するように地中構造物と抜き板との間に間隙を設けたことを特徴とする請求項6ないし8のうちいずれか1に記載のジオテキスタイルによる地中構造物の浅埋設工法。
- 抜き板は、地中構造物の長手方向左右両側に設けられることを特徴とする請求項6ないし9のうちいずれか1に記載のジオテキスタイルによる地中構造物の浅埋設工法。
- 地盤上に地中構造物を配置する第1の工程と、地中構造物の長手方向左右両側にジオテキスタイルの左右方向両端を余らせるようにジオテキスタイルの左右両端を延ばしてジオテキスタイルを地中構造物と地盤とに被せる第2の工程と、盛り土材を地中構造物上とその左右方向両側に投入し、ジオテキスタイル両端余り部を盛り土材の投入に応じて上方に伸ばす第3の工程と、ジオテキスタイルの両端を埋め込むように盛り土材を投入し土質構造体を形成する第4の工程とを備えたことを特徴とするジオテキスタイルによる地中構造物の浅埋設工法。
- 第1の工程後、地中構造物の一部を盛り土材上に露出させるように地中構造物が配置された地盤に盛り土材を投入して、ジオテキスタイルを被せることを特徴とする請求項11に記載のジオテキスタイルによる地中構造物の浅埋設工法。
- ジオテキスタイルを被せる際、盛り土材が所定の嵩を確保するようにジオテキスタイルを地中構造物から左右両側に敷き延ばすことを特徴とする請求項11または12に記載のジオテキスタイルによる地中構造物の浅埋設工法。
- ジオテキスタイルを被せ、このジオテキスタイルの左右方向両端を余らせて盛り土材を投入した後、盛り土材が所定の高さに達すると、上記ジオテキスタイルの余り部を投入された盛り土材上に被せて接続し盛り土材を包むことを特徴とする請求項1ないし13のうちいずれか1に記載のジオテキスタイルによる地中構造物の浅埋設工法。
- 第1の工程前に、地盤上に地盤材料を投入して支持地盤を形成し、この支持地盤上に地中構造物を配置したことを特徴とする請求項1ないし14のうちいずれか1に記載のジオテキスタイルによる地中構造物の浅埋設工法。
- 土質構造体が堤体または造成地であることを特徴とする請求項1ないし15のうちいずれか1に記載のジオテキスタイルによる地中構造物の浅埋設工法。
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- 2007-04-24 JP JP2007114378A patent/JP5121293B2/ja active Active
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