JP2008266760A - ガスバリヤー性フィルムの製造方法 - Google Patents
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Abstract
【解決手段】基材フィルムの少なくとも一方の面に、SiO蒸着材料を用い、反応ガスを導入しない雰囲気下でエレクトロンビーム(EB)蒸着方法によりSiOx膜を形成するガスバリヤー性フィルムの製造方法であって、前記SiO蒸着材料が酸素存在下において焼結されていることを特徴とするガスバリヤー性フィルムの製造方法。
【選択図】なし
Description
しかし、SiOを蒸着したSiOx蒸着フィルムは黄色を呈してしまい、包装材料や表示媒体の保護膜として用いた場合に正しい色の把握が困難なものとなってしまう。
本発明の目的は、成膜時の酸素分圧のコントロールなどを必要とせず、高い生産性を有するとともに、高い透明性かつガスバリヤー性を有するガスバリヤー性フィルムの製造方法を提供することである。
また本発明の別の目的は、前記製造方法を用いて形成された、高い透明性かつガスバリヤー性を有するガスバリヤー性フィルムを提供することである。
前記SiO蒸着材料が酸素存在下において焼結されていることを特徴とするガスバリヤー性フィルムの製造方法である。
前記SiOx膜の膜厚が300nm以下であり、波長範囲380〜800nmにおける光線透過率が85%以上であり、水蒸気透過度が5g/m2/day以下であることを特徴とするガスバリヤー性フィルムである。
SiOをはじめとする無機酸化物の蒸着方式には、アルミニウム蒸着と同様の真空蒸着方式やスパッタリング方式などの物理的蒸着(PVD)とプラズマCVD方式などの化学的蒸着(CVD)が知られている。基材フィルムとして高分子樹脂フィルムを使用することが好適であること、コストダウンのため巻取りで連続蒸着を行う必要があることを考慮すると真空蒸着方式が適しており、またSiOの融点は1700℃であってアルミニウムと比較して高融点であるため、効率よくSiO蒸着材料を蒸発させるには真空蒸着方式のうち電子銃を用いたエレクトロンビーム(EB)蒸着方法が好ましい。また、この方法によれば抵抗加熱方式で必要な蒸着の前段階としての坩堝や蒸着材料の加熱を省くことが可能となり、蒸着材料を局部的かつ急速に加熱することができ生産性を高めることも期待できる。
したがって、焼結時の雰囲気としては、大気中の酸素、窒素および二酸化炭素濃度が最適であるが、具体的には、焼結時の酸素濃度は、10〜30%、窒素濃度は70〜80%、二酸化炭素濃度は0〜5%が好ましい。また焼結時間は0.25〜1時間、焼結温度は800〜1200℃が好ましい。
したがって、本発明におけるSiOxは、表面はxの値が大きく透明性に寄与するが、内部はxの小さい密な層であり、ガスバリヤー性に寄与し、結果として透明性およびガスバリヤー性に優れたものとなる。
なお本発明でいう水蒸気透過度はJIS Z0208により測定された値である。
電子ビーム加熱方式の巻き取り式真空蒸着装置を用いて、大気下で焼結・成型したSiO蒸着材料を電子ビーム加熱によって蒸発させ、成膜中の圧力が1.5×10−2Paにおいて厚さ134nmのSiOx膜を成膜した。ただし、このときの蒸着条件は以下の通りである。なお、SiO蒸着材料は、SiOを大気雰囲気下、1時間、900℃で焼結した。また成型法としては、加圧焼結法を採用した。
加速電圧:40kV
エミッション電流:0.2A
基材フィルム:PETフィルム 厚さ25μm(東レ社製T60)
反応性ガス:使用せず
電子ビーム加熱方式の巻き取り式真空蒸着装置を用いて、大気下で焼結・成型したSiO蒸着材料を電子ビーム加熱によって蒸発させ、成膜中の圧力が1.5×10−2Paにおいて厚さ207nmのSiOx膜を成膜した。SiOxの蒸着条件等のその他の条件は、実施例1と同様とする。なお、SiO蒸着材料は、SiOを大気雰囲気下、1時間、900℃で焼結した。また成型法としては、加圧焼結法を採用した。
電子ビーム加熱方式の巻き取り式真空蒸着装置を用いて、大気下で焼結・成型したSiO蒸着材料を電子ビーム加熱によって蒸発させ、成膜中の圧力が1.5×10−2Paにおいて厚さ313nmのSiOx膜を成膜した。SiOxの蒸着条件等のその他の条件は、実施例1と同様とする。なお、SiO蒸着材料は、SiOを大気雰囲気下、1時間、900℃で焼結した。また成型法としては、加圧焼結法を採用した。
電子ビーム加熱方式の巻き取り式真空蒸着装置を用いて、大気下で焼結・成型したSiO蒸着材料を電子ビーム加熱によって蒸発させ、成膜中の圧力が1.5×10−2Paにおいて厚さ350nmのSiOx膜を成膜した。SiOxの蒸着条件等のその他の条件は、実施例1と同様とする。なお、SiO蒸着材料は、SiOを大気雰囲気下、1時間、900℃で焼結した。また成型法としては、加圧焼結法を採用した。
電子ビーム加熱方式の巻き取り式真空蒸着装置を用いて、窒素雰囲気下で焼結・成型したSiO蒸着材料を電子ビーム加熱によって蒸発させ、成膜中の圧力が1.5×10−2Paにおいて厚さ205nmのSiOx膜を成膜した。SiOxの蒸着条件等のその他の条件は、実施例1と同様とする。なお、SiO蒸着材料は、SiOを窒素雰囲気下、1時間、900℃で焼結した。また成型法としては、加圧焼結法を採用した。
電子ビーム加熱方式の巻き取り式真空蒸着装置を用いて、真空下で焼結・成型したSiO蒸着材料を電子ビーム加熱によって蒸発させ、成膜中の圧力が1.5×10−2Paにおいて厚さ71nmのSiOx膜を成膜した。SiOxの蒸着条件等のその他の条件は、実施例1と同様とする。なお、SiO蒸着材料は、SiOを真空下、1時間、900℃で焼結した。また成型法としては、加圧焼結法を採用した。
電子ビーム加熱方式の巻き取り式真空蒸着装置を用いて、真空下で焼結・成型したSiO蒸着材料を電子ビーム加熱によって蒸発させ、成膜中の圧力が1.5×10−2Paにおいて厚さ345nmのSiOx膜を成膜した。SiOxの蒸着条件等のその他の条件は、実施例1と同様とする。なお、SiO蒸着材料は、SiOを真空下、1時間、900℃で焼結した。また成型法としては、加圧焼結法を採用した。
光線透過率・・・分光光度計U-4000(日立製作所製、測定波長420nm)
水蒸気透過度・・・JISZ0208法に基づき、40℃−90%の条件でカップ法により測定した。
膜厚・・・蛍光X線分析装置(リガク社製)を用いて、事前に同様のサンプルをTEMにて測定し得た検量線の結果からSiOxの膜厚を求めた。
色・・・目視による判断
結果を表1に示す。
水蒸気透過度:[g/m2/day]
光線透過率:25μm厚のPETフィルムを含めた波長420nmにおける光線透過率[%]
Claims (3)
- 基材フィルムの少なくとも一方の面に、SiO蒸着材料を用い、反応ガスを導入しない雰囲気下でエレクトロンビーム(EB)蒸着方法によりSiOx膜を形成するガスバリヤー性フィルムの製造方法であって、
前記SiO蒸着材料が酸素存在下において焼結されていることを特徴とするガスバリヤー性フィルムの製造方法。 - 前記基材フィルムがロール・トゥ・ロールで連続的に搬送されており、搬送中の基材フィルムにSiOx膜を形成することを特徴とする請求項1に記載のガスバリヤー性フィルムの製造方法。
- 請求項1または2に記載の製造方法を用いて形成したことを特徴とするガスバリヤー性フィルムであって、
前記SiOx膜の膜厚が300nm以下であり、波長範囲380〜800nmにおける光線透過率が85%以上であり、水蒸気透過度が5g/m2/day以下であることを特徴とするガスバリヤー性フィルム。
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JP2016069338A (ja) * | 2014-09-30 | 2016-05-09 | 北川工業株式会社 | 抗菌膜及び抗菌剤 |
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Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPH0428858A (ja) * | 1990-05-24 | 1992-01-31 | Mitsubishi Heavy Ind Ltd | 蒸着用材料の製造方法 |
JPH09143689A (ja) * | 1995-11-27 | 1997-06-03 | Toppan Printing Co Ltd | 多孔質蒸着材料及びその製造方法 |
JP2003246670A (ja) * | 2002-02-22 | 2003-09-02 | Sumitomo Titanium Corp | 一酸化ケイ素の焼結体およびその製造方法 |
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