JP6047997B2 - ガスバリア性フィルム - Google Patents
ガスバリア性フィルム Download PDFInfo
- Publication number
- JP6047997B2 JP6047997B2 JP2012185826A JP2012185826A JP6047997B2 JP 6047997 B2 JP6047997 B2 JP 6047997B2 JP 2012185826 A JP2012185826 A JP 2012185826A JP 2012185826 A JP2012185826 A JP 2012185826A JP 6047997 B2 JP6047997 B2 JP 6047997B2
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- film
- thin film
- inorganic compound
- magnesium oxide
- oxide
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Active
Links
Classifications
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C23—COATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; CHEMICAL SURFACE TREATMENT; DIFFUSION TREATMENT OF METALLIC MATERIAL; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL; INHIBITING CORROSION OF METALLIC MATERIAL OR INCRUSTATION IN GENERAL
- C23C—COATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; SURFACE TREATMENT OF METALLIC MATERIAL BY DIFFUSION INTO THE SURFACE, BY CHEMICAL CONVERSION OR SUBSTITUTION; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL
- C23C14/00—Coating by vacuum evaporation, by sputtering or by ion implantation of the coating forming material
- C23C14/06—Coating by vacuum evaporation, by sputtering or by ion implantation of the coating forming material characterised by the coating material
- C23C14/08—Oxides
- C23C14/081—Oxides of aluminium, magnesium or beryllium
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C23—COATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; CHEMICAL SURFACE TREATMENT; DIFFUSION TREATMENT OF METALLIC MATERIAL; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL; INHIBITING CORROSION OF METALLIC MATERIAL OR INCRUSTATION IN GENERAL
- C23C—COATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; SURFACE TREATMENT OF METALLIC MATERIAL BY DIFFUSION INTO THE SURFACE, BY CHEMICAL CONVERSION OR SUBSTITUTION; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL
- C23C14/00—Coating by vacuum evaporation, by sputtering or by ion implantation of the coating forming material
- C23C14/22—Coating by vacuum evaporation, by sputtering or by ion implantation of the coating forming material characterised by the process of coating
- C23C14/24—Vacuum evaporation
- C23C14/28—Vacuum evaporation by wave energy or particle radiation
- C23C14/30—Vacuum evaporation by wave energy or particle radiation by electron bombardment
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C23—COATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; CHEMICAL SURFACE TREATMENT; DIFFUSION TREATMENT OF METALLIC MATERIAL; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL; INHIBITING CORROSION OF METALLIC MATERIAL OR INCRUSTATION IN GENERAL
- C23C—COATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; SURFACE TREATMENT OF METALLIC MATERIAL BY DIFFUSION INTO THE SURFACE, BY CHEMICAL CONVERSION OR SUBSTITUTION; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL
- C23C14/00—Coating by vacuum evaporation, by sputtering or by ion implantation of the coating forming material
- C23C14/22—Coating by vacuum evaporation, by sputtering or by ion implantation of the coating forming material characterised by the process of coating
- C23C14/56—Apparatus specially adapted for continuous coating; Arrangements for maintaining the vacuum, e.g. vacuum locks
- C23C14/562—Apparatus specially adapted for continuous coating; Arrangements for maintaining the vacuum, e.g. vacuum locks for coating elongated substrates
Landscapes
- Chemical & Material Sciences (AREA)
- Chemical Kinetics & Catalysis (AREA)
- Engineering & Computer Science (AREA)
- Materials Engineering (AREA)
- Mechanical Engineering (AREA)
- Metallurgy (AREA)
- Organic Chemistry (AREA)
- Health & Medical Sciences (AREA)
- Toxicology (AREA)
- Laminated Bodies (AREA)
- Physical Vapour Deposition (AREA)
Description
すなわち、本発明は、以下の構成からなる。
本発明で用いるプラスチックフィルムは、有機高分子樹脂からなる。前記有機高分子樹脂としては、ナイロン4・6、ナイロン6、ナイロン6・6、ナイロン12などで代表されるポリアミド、ポリエチレンテレフタレート、ポリブチレンテレフタレート、ポリエチレン−2,6−ナフタレートなどで代表されるポリエステル、ポリエチレン、ポリプロピレン、ポリブテンなどで代表されるポリオレフィンの他、ポリ塩化ビニル、ポリ塩化ビニリデン、ポリビニルアルコール、全芳香族ポリアミド、ポリアミドイミド、ポリイミド、ポリエーテルイミド、ポリスルホン、ポリスチレン、ポリ乳酸、テトラフルオロエチレン、一塩化三弗化エチレンなどを挙げることができる。これらの中でも、ポリアミド、ポリエステルが好ましく、特に、耐熱性、寸法安定性、透明性の点ではポリエステルが好ましい。有機高分子樹脂は1種のみであってもよいし2種以上であってもよい。
本発明における無機化合物薄膜は、酸化アルミニウムと酸化マグネシウムとを主たる成分として含んでなる。このように酸化アルミニウムと酸化マグネシウムとを含む無機化合物薄膜を設けることにより、得られるフィルムのガスバリア性、特に水蒸気に対するバリア性を格段に向上させることができる。なお、無機化合物薄膜中に含まれる酸化アルミニウムと酸化マグネシウムの合計含有率は、無機化合物薄膜中の全物質の質量に対し、95質量%以上であることが好ましい。
本願の検量線は、以下の手順に沿って作成したものを使用することができる。まず、酸化アルミニウムと酸化マグネシウムとからなる無機化合物薄膜を持つフィルムを数種類作製し、誘導結合プラズマ発光法(ICP法)で酸化アルミニウムと酸化マグネシウムそれぞれの付着量を求める。次いで、付着量を求めた各フィルムを蛍光X線装置で分析することにより、蛍光X線分析から付着量を算出するための検量線を作成すればよい。
無機化合物薄膜の組成は、蛍光X線分析から求めた各成分の付着量を用いて、以下のようにして算出できる。すなわち、酸化アルミニウムの膜中の含有率wa(%)、酸化マグネシウムの膜中の含有量wm(%)は、酸化アルミニウムの単位面積当たりの付着量をMa(g/cm2)、酸化マグネシウムの単位面積当たりの付着量をMm(g/cm2)とすると、各々下記式(1)、(2)で求められる。
wa=100×[Ma/(Ma+Mm)] (1)
wm=100−wa (2)
無機化合物薄膜の膜厚は、無機酸化薄膜の密度がバルク密度の8割であるとし、かつ酸化アルミニウムと酸化マグネシウムとが混合された状態であってもそれぞれ体積を保つものとして、蛍光X線分析から求めた各成分の付着量を用いて、以下のようにして算出できる。すなわち、酸化アルミニウムの単位面積当たりの付着量をMa(g/cm2)、そのバルクの密度をρa(3.97g/cm3)とし、酸化マグネシウムの単位面積当たりの付着量をMm(g/cm2)、そのバルクの密度をρm(3.65g/cm3)とすると、膜厚t(nm)は下記式(3)で求められる。
t=((Ma/(ρa×0.8)+Mm/(ρm×0.8))×107・・・式(3)
蛍光X線法で測定した膜厚の値は、TEMで実際に計測した膜厚と近いものであった。
なお、酸化アルミニウム、酸化マグネシウム以外の他の種類の成分を含む場合にも、上記と同様に、組成および膜厚を求めることができる。
無機化合物薄膜を形成する方法は、真空槽内で、基板であるプラスチックフィルム上に、無機化合物薄膜を形成するドライプロセスであることが好ましい。具体的には、真空蒸着法、スパッタリング法、イオンプレーティング法などの物理蒸着法(PVD法)、あるいは化学蒸着法(CVD法)など、公知の蒸着法を適宜採用することができる。特に、包装材料に適用する本発明のガスバリア性フィルムを製造する場合には、生産性の観点から真空蒸着法が好ましい。
真空蒸着法で無機化合物薄膜を形成する場合、蒸着材料を加熱する方式としては、抵抗加熱、高周波誘導加熱、電子ビーム加熱などの方式がある。包装材料に適用する本発明のガスバリア性フィルムを製造する場合などには、高速成膜が可能な点で、電子ビーム加熱蒸着法が適している。
酸化アルミニウムと酸化マグネシウムとを個々に加熱する方法としては2台のビーム源を使う方法もあるが、1台のビーム源を使いビームを時分割で個々の材料を走査することで個別に加熱する方法がある。
なお、各実施例で得られたフィルム特性は以下の方法により測定、評価した。
JIS K7126−2 A法に準じて、酸素透過率測定装置(MOCON社製「OX−TRAN 2/21」)を用い、23℃、65%RHの条件下で測定した。なお測定に際しては、無機化合物薄膜面を酸素ガス側とした。
JIS K7129 B法に準じて、水蒸気透過率測定装置(MOCON社製「PERMATRAN−W 3/31」)を用い、40℃、90%RHの条件下で測定した。なお測定に際しては、無機化合物薄膜面を高湿度側とした。
検量線は、以下の手順に沿って作成したものを使用した。まず、酸化アルミニウムと酸化マグネシウムとからなる無機化合物薄膜を持つフィルムを数種類作製し、誘導結合プラズマ発光法(ICP法)で酸化アルミニウムと酸化マグネシウムそれぞれの付着量を求めた。次いで、付着量を求めた各フィルムを蛍光X線装置で分析することにより、蛍光X線分析から付着量を算出するための検量線を作成した。なお、蛍光X線分析は、蛍光X線分析装置((株)リガク製「ZSX100e」)を用い、励起X線管の条件は50kV、70mAとした。
無機化合物薄膜の組成は、蛍光X線分析から求めた各成分の付着量を用いて、以下のようにして算出した。すなわち、酸化アルミニウムの膜中の含有率wa(%)、酸化マグネシウムの膜中の含有量wm(%)は、酸化アルミニウムの単位面積当たりの付着量をMa(g/cm2)、酸化マグネシウムの単位面積当たりの付着量をMm(g/cm2)とし、各々下記式(1)、(2)に基づき算出した。
wa=100×[Ma/(Ma+Mm)] (1)
wm=100−wa (2)
無機化合物薄膜の膜厚は、無機酸化薄膜の密度がバルク密度の8割であるとし、かつ酸化アルミニウムと酸化マグネシウムとが混合された状態であってもそれぞれ体積を保つものとして、蛍光X線分析から求めた各成分の付着量を用いて、以下のようにして算出した。すなわち、膜厚t(nm)は、酸化アルミニウムの単位面積当たりの付着量をMa(g/cm2)、そのバルクの密度をρa(3.97g/cm3)とし、酸化マグネシウムの単位面積当たりの付着量をMm(g/cm2)、そのバルクの密度をρm(3.65g/cm3)とし、下記式(3)に基づき算出した。
t=((Ma/(ρa×0.8)+Mm/(ρm×0.8))×107・・・式(3)
なお、酸化アルミニウム、酸化マグネシウム以外の他の種類の成分を含む場合にも、上記と同様にして、組成および膜厚を求めた。
プラスチックフィルムとして12μm厚のポリエチレンテレフタレート(PET)フィルム(東洋紡績(株)製「E5100」)を使用し、該フィルム上に、酸化アルミニウム(蒸着材料1)と酸化マグネシウム(蒸着材料2)とからなる無機化合物薄膜を蒸着により形成し、積層フィルムを得た。
詳しくは、蒸着材料1としては、3〜6mm程度の粒子状酸化アルミニウム(純度99%)を、蒸着材料2としては、2〜6mm程度の粒状の酸化マグネシウム(純度99.9%以上)を使用し、各蒸着材料1、2は混合せずに別々に蒸着源に入れた。加熱には、電子銃(日本電子社製「JOBG−1000UB」;最大出力100kw)を使用した。
実施例1において、電子銃のエミッション電流を1.2Aとし、電子ビームの照射時間を酸化アルミニウム19に対し酸化マグネシウム5の比率で時分割するよう変更し、実施例1と同様にして、積層フィルムを得た。
実施例1において、フィルムの送り速度を60m/minとし、電子銃のエミッション電流を1.2Aとし、電子ビームの照射時間を酸化アルミニウム13に対し酸化マグネシウム2の比率で時分割するよう変更し、実施例1と同様にして、積層フィルムを得た。
実施例1において、フィルムの送り速度を55m/minとし、電子ビームの照射時間を酸化アルミニウム23に対し酸化マグネシウム7の比率で時分割するよう変更し、実施例1と同様にして、積層フィルムを得た。
実施例1において、フィルムの送り速度を15m/minとし、電子ビームの照射時間を酸化アルミニウム23に対し酸化マグネシウム7の比率で時分割するよう変更し、実施例1と同様にして、積層フィルムを得た。
実施例1において、プラスチックフィルムとして50μm厚のPETフィルム(東洋紡績(株)製「A4100」)を使用し、フィルムの送り速度を10m/minとし、電子銃のエミッション電流を1.4Aとし、電子ビームの照射時間を酸化アルミニウム5に対し酸化マグネシウム1の比率で時分割するよう変更し、実施例1と同様にして、積層フィルムを得た。
実施例1において、フィルムの送り速度を60m/minとし、電子銃のエミッション電流を0.8Aとし、電子ビームの照射時間を酸化アルミニウム67に対し酸化マグネシウム53の比率で時分割するよう変更し、実施例1と同様にして、積層フィルムを得た。
実施例1において、フィルムの送り速度を60m/minとし、電子銃のエミッション電流を1.2Aとし、電子ビームの照射時間を酸化アルミニウム107に対し酸化マグネシウム13の比率で時分割するよう変更し、実施例1と同様にして、積層フィルムを得た。
実施例1において、フィルムの送り速度を60m/minとし、電子銃のエミッション電流を1.2Aとし、電子ビームの照射時間を酸化アルミニウム108に対し酸化マグネシウム12の比率で時分割するよう変更し、実施例1と同様にして、積層フィルムを得た。
実施例1において、プラスチックフィルムとして50μm厚のPETフィルム(東洋紡績(株)製「A4100」)を使用し、蒸着材料2として2〜6mm程度の粒状の酸化ケイ素(純度99.9%以上)を使用し、フィルムの送り速度を40m/minとし、電子ビームの照射時間を酸化アルミニウム102に対し酸化ケイ素18の比率で時分割するよう変更し、実施例1と同様にして、積層フィルムを得た。
比較例1において、フィルムの送り速度を80m/minとし、電子銃のエミッション電流を1.0Aとし、電子ビームの照射時間を酸化アルミニウム109に対し酸化ケイ素11の比率で時分割するよう変更し、比較例1と同様にして、積層フィルムを得た。
比較例1において、蒸着材料2として2〜6mm程度の粒状の酸化セリウム(純度99%以上)を使用し、フィルムの送り速度を55m/minとし、電子銃のエミッション電流を1.0Aとし、電子ビームの照射時間を酸化アルミニウム86に対し酸化セリウム34の比率で時分割するよう変更し、比較例1と同様にして、積層フィルムを得た。
比較例1において、蒸着材料2として2〜5mm程度の粒状の酸化イットリウム(純度99.9%以上)を使用し、フィルムの送り速度を60m/minとし、電子銃のエミッション電流を1.0Aとし、電子ビームの照射時間を酸化アルミニウム65に対し酸化イットリウム55の比率で時分割するよう変更し、比較例1と同様にして、積層フィルムを得た。
比較例1において、蒸着材料2として2〜5mm程度の粒状の酸化ジルコニウム(純度99.9%以上)を使用し、フィルムの送り速度を25m/minとし、電子ビームの照射時間を酸化アルミニウム68に対し酸化ジルコニウム53の比率で時分割するよう変更し、比較例1と同様にして、積層フィルムを得た。
比較例5において、フィルムの送り速度を25m/minとし、電子銃のエミッション電流を1.0Aとし、電子ビームの照射時間を酸化アルミニウム71に対し酸化ジルコニウム49の比率で時分割するよう変更し、比較例5と同様にして、積層フィルムを得た。
プラスチックフィルムとして50μm厚のPETフィルム(東洋紡績(株)製「A4100」)を使用し、該フィルム上に、酸化マグネシウム(蒸着材料1)のみからなる無機化合物薄膜を蒸着により形成し、積層フィルムを得た。
詳しくは、蒸着材料1として、2〜6mm程度の粒状の酸化マグネシウム(純度99.9%以上)を使用した。加熱方式は、電子銃(日本電子社製「JOBG−1000UB」;最大出力100kw)を使用した電子ビーム方式で行った。
そして、電子銃のエミッション電流を0.6Aとして、酸化マグネシウムに電子ビームを照射して加熱することにより、酸化マグネシウムを蒸発させ、薄膜の形成を行った。
比較例7において、蒸着材料1として3〜6mm程度の粒子状酸化アルミニウム(純度99%)を使用し、電子銃のエミッション電流を1.0Aとし、フィルムの送り速度を40m/minに変更し、比較例7と同様にして、積層フィルムを得た。
Claims (3)
- プラスチックフィルムの少なくとも片面に無機化合物薄膜が形成されてなるフィルムであって、前記無機化合物薄膜が酸化アルミニウムと酸化マグネシウムとからなり、
前記無機化合物薄膜は、真空蒸着法により、酸化アルミニウムと酸化マグネシウムとを別々に配置し、個々に加熱して蒸発させ気相で混合し、前記混合における各成分の組成割合は一定の状態で形成された
ことを特徴とするガスバリア性フィルム。 - 前記無機化合物薄膜中に含まれる酸化アルミニウムおよび酸化マグネシウムの合計100質量%に対し、酸化マグネシウムの比率が5質量%以上、90質量%以下である、請求項1に記載のガスバリア性フィルム。
- 前記無機化合物薄膜の膜厚が5〜500nmである、請求項1または2に記載のガスバリア性フィルム。
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP2012185826A JP6047997B2 (ja) | 2011-08-26 | 2012-08-24 | ガスバリア性フィルム |
Applications Claiming Priority (3)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP2011184812 | 2011-08-26 | ||
JP2011184812 | 2011-08-26 | ||
JP2012185826A JP6047997B2 (ja) | 2011-08-26 | 2012-08-24 | ガスバリア性フィルム |
Publications (2)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JP2013063644A JP2013063644A (ja) | 2013-04-11 |
JP6047997B2 true JP6047997B2 (ja) | 2016-12-21 |
Family
ID=47756193
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP2012185826A Active JP6047997B2 (ja) | 2011-08-26 | 2012-08-24 | ガスバリア性フィルム |
Country Status (3)
Country | Link |
---|---|
JP (1) | JP6047997B2 (ja) |
TW (1) | TWI539018B (ja) |
WO (1) | WO2013031703A1 (ja) |
Families Citing this family (3)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
WO2014129387A1 (ja) * | 2013-02-20 | 2014-08-28 | 東洋紡株式会社 | ガスバリア性フィルム |
KR20160088357A (ko) | 2013-11-21 | 2016-07-25 | 엔테그리스, 아이엔씨. | 플라즈마 시스템에서 사용되는 챔버 구성요소를 위한 표면 코팅 |
JP7393961B2 (ja) * | 2020-01-28 | 2023-12-07 | 川研ファインケミカル株式会社 | 耐熱性部材およびその製造方法 |
Family Cites Families (7)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPS5939506B2 (ja) * | 1976-09-01 | 1984-09-25 | 凸版印刷株式会社 | 透明導電膜の製造方法 |
JPS60112403A (ja) * | 1983-11-25 | 1985-06-18 | 株式会社大日製作所 | 木材剥皮バ−カ− |
JPH0672297B2 (ja) * | 1985-02-22 | 1994-09-14 | 積水化学工業株式会社 | 防湿性透明合成樹脂体の製造方法 |
JP3068107B2 (ja) * | 1991-09-19 | 2000-07-24 | 東洋紡績株式会社 | 透明ガスバリアフィルム |
JPH07126835A (ja) * | 1993-08-30 | 1995-05-16 | Tousero Kk | 透明バリヤーフィルム |
JPH08300589A (ja) * | 1995-05-12 | 1996-11-19 | Toppan Printing Co Ltd | 被覆層形成用フィルムと被覆フィルム |
JP2011202268A (ja) * | 2010-03-04 | 2011-10-13 | Mitsubishi Materials Corp | 薄膜形成用の蒸着材及び該薄膜を備える薄膜シート並びに積層シート |
-
2012
- 2012-08-24 TW TW101130784A patent/TWI539018B/zh active
- 2012-08-24 WO PCT/JP2012/071500 patent/WO2013031703A1/ja active Application Filing
- 2012-08-24 JP JP2012185826A patent/JP6047997B2/ja active Active
Also Published As
Publication number | Publication date |
---|---|
JP2013063644A (ja) | 2013-04-11 |
WO2013031703A1 (ja) | 2013-03-07 |
TW201315822A (zh) | 2013-04-16 |
TWI539018B (zh) | 2016-06-21 |
Similar Documents
Publication | Publication Date | Title |
---|---|---|
JP2019181960A (ja) | ガスバリア性積層フィルム | |
JP6047997B2 (ja) | ガスバリア性フィルム | |
CA3072406C (en) | Gas barrier laminated body | |
JP7298154B6 (ja) | ガスバリアフィルムの製造方法 | |
JP6225573B2 (ja) | 積層フィルム | |
JP6365528B2 (ja) | ガスバリア性フィルム | |
JP2005059537A (ja) | ガスバリア性フィルムおよびその製造方法 | |
JP2008121122A (ja) | 透明バリア性フィルム | |
JP2016188438A (ja) | ガスバリア性積層フィルムの製造方法 | |
JP2005131861A (ja) | 積層透明ガスバリア性フィルム | |
JP4164738B2 (ja) | ガスバリア性フィルム | |
JP3244149B2 (ja) | ペ−パ−カ−トン及びペ−パ−カ−トン用包装材料 | |
JP6572895B2 (ja) | 積層フィルム | |
JP3244148B2 (ja) | ペ−パ−カ−トン及びペ−パ−カ−トン用包装材料 | |
JP2016112743A (ja) | 積層フィルム | |
JPH06238804A (ja) | ペ−パ−カ−トン及びペ−パ−カ−トン用包装材料 | |
JPH06106670A (ja) | 透明ガスバリアフィルム | |
JP2002103509A (ja) | ガスバリア性フィルム | |
JP2003145670A (ja) | ガスバリア性フィルム |
Legal Events
Date | Code | Title | Description |
---|---|---|---|
A621 | Written request for application examination |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A621 Effective date: 20150708 |
|
A977 | Report on retrieval |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A971007 Effective date: 20160407 |
|
A131 | Notification of reasons for refusal |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A131 Effective date: 20160412 |
|
A521 | Request for written amendment filed |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A523 Effective date: 20160609 |
|
A131 | Notification of reasons for refusal |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A131 Effective date: 20160712 |
|
A521 | Request for written amendment filed |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A523 Effective date: 20160907 |
|
TRDD | Decision of grant or rejection written | ||
A01 | Written decision to grant a patent or to grant a registration (utility model) |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A01 Effective date: 20161025 |
|
A61 | First payment of annual fees (during grant procedure) |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A61 Effective date: 20161107 |
|
R151 | Written notification of patent or utility model registration |
Ref document number: 6047997 Country of ref document: JP Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R151 |
|
S531 | Written request for registration of change of domicile |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R313531 |
|
R350 | Written notification of registration of transfer |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R350 |