JP2008264536A - 傾斜コイルを直接冷却するためのシステム及び装置 - Google Patents

Abstract

【課題】ＭＲＩシステム内の傾斜コイルを直接冷却するためのシステム及び装置を提供する。
【解決手段】磁気共鳴撮像（ＭＲＩ）システムの傾斜コイルアセンブリ（５０）を冷却するためシステムは、複数の導体及び複数の中間周回チャンネル（７８、７６）を備えた第１の表面を有する傾斜コイル（７０、７４）を含む。各中間周回チャンネル（７８、７６）は複数の導体の周回間に配置させている。本システムはさらに、中間周回チャンネル（７８、７６）を封止するために傾斜コイル（７０、７４）の第１の表面に付着させた封止層（６８、７２）を含む。中間周回チャンネル（７８、７６）は冷却用流体を搬送するように構成される。
【選択図】図３

Description

本発明は、全般的には磁気共鳴撮像（ＭＲＩ）システムに関し、また具体的にはＭＲＩシステム内の傾斜コイル（複数のこともある）を直接冷却するためのシステム及び装置に関する。

磁気共鳴撮像（ＭＲＩ）は、Ｘ線やその他の電離放射線を用いずに人体の内部の画像を作成することが可能な医用撮像様式の１つである。ＭＲＩは強力なマグネットを用いて強力で均一な静磁場（すなわち、「主磁場」）を発生させている。人体（あるいは、人体の一部）が主磁場内に置かれると、組織の水や脂肪の水素原子核に関連する核スピンが偏向を受ける。このことは、これらのスピンに関連する磁気モーメントが主磁場の方向に特異的に整列することになり、これによって当該軸（慣例では、「ｚ軸」）の方向に小さな正味の組織磁化が得られることを意味する。ＭＲＩシステムはさらに、電流を加えたときに空間変動するより振幅が小さい磁場を発生させる傾斜コイルと呼ばれる構成要素をさらに備える。典型的には傾斜コイルは、ｚ軸に沿って整列すると共に、ｘ軸、ｙ軸またはｚ軸のうちの１つの方向で位置に応じて振幅が直線的に変動するような磁場成分を発生させるように設計されている。傾斜コイルの効果は単一の軸に沿って、その磁場強度に対してまた同時に核スピンの共鳴周波数に対してわずかな傾斜を生成させることにある。その軸が直交した３つの傾斜コイルを使用すれば、身体内の各箇所において標識共鳴周波数を生成することによってＭＲ信号が「空間エンコード」される。水素原子核の共鳴周波数、あるいはその近傍の周波数にあるＲＦエネルギーのパルスを発生させるためには無線周波数（ＲＦ）コイルが使用される。ＲＦコイルを使用すると核スピン系に対して制御された方式でエネルギーが追加される。次いで核スピンがその静止エネルギー状態まで緩和して戻ると、ＲＦ信号の形でエネルギーが放たれる。この信号はＭＲＩシステムによって検出されて、コンピュータ及び周知の再構成アルゴリズムを用いて画像になるように変換される。

患者スキャンの間に、磁場傾斜を生成させる傾斜コイルアセンブリの傾斜コイル（複数のこともある）は大量の熱を消費する。傾斜コイルが発生させた熱を除去するために冷却システムまたは装置が設けられることがある。傾斜コイルの達成可能な最大性能は使用される冷却システム（複数のこともある）の熱除去機能によって制限されることがある。最近のハイパワーＭＲＩ撮像シーケンスでは、傾斜コイルが発生させる熱のレベルがより大きくなりこれを除去することがますます困難となっている。さらに、傾斜コイル内部の温度上昇に関するまたスキャン中の患者ボア内における結果としての温度上昇に関する制限が課せられることが、積極的な撮像シーケンスのためのデューティサイクルに制限を生じさせることがある。

ＭＲＩシステムで使用される傾斜コイルアセンブリは、エポキシ樹脂などの材料を用いて一体に結合させた内側及び外側傾斜コイルアセンブリからなる遮蔽型傾斜コイルアセンブリとすることがある。典型的には、内側傾斜コイルアセンブリはＸ、Ｙ及びＺ傾斜コイル対または組の内側（または、主）コイルを含み、また外側傾斜コイルアセンブリはＸ、Ｙ及びＺ傾斜コイル対または組のそれぞれの外側（または、遮蔽）コイルを含む。Ｚ傾斜コイルは典型的には、円柱状の表面（または、マンドレル）の周りに導体をらせん状に巻き付けた円筒状となっている。トランスバースＸ及びＹ傾斜コイルは、絶縁裏当て層を備えた銅パネルから形成させるのが一般的である。隣接する周回間に中間周回間隔（または、ギャップ）を残すように銅層内に導体周回パターン（例えば、指紋パターン）が切られることがある。

従来の冷却システムの１つは、内側傾斜コイルアセンブリの外側面上に配置させた主Ｚ傾斜コイル向けの中空導体を使用することを含む。次いで傾斜コイルアセンブリが発生させた熱を除去するために、中空のＺ導体内に冷却用流体を通過させることがある。しかしこうした冷却配置は、内側傾斜コイルアセンブリのトランスバースＸ及びＹ傾斜コイルに対して直接冷却を提供していない。典型的には、トランスバースＸ及びＹ傾斜コイルが発生させた熱は、内側傾斜コイルアセンブリの傾斜コイル間にある絶縁層を介して中空のＺ傾斜コイルに転送しなければならない。したがってその熱伝達は、絶縁層材料（例えば、ガラス−エポキシ樹脂）の熱抵抗によって制限されることがある。

追加的な冷却を提供するために、例えば内側傾斜コイルアセンブリの内径上に専用の冷却チャンネル（複数のこともある）が設けられることがある。追加的な冷却の提供に関する別の選択肢は、内側傾斜コイルアセンブリのトランスバースＸ傾斜コイルに関して中空の導体を使用することである。しかし追加的な専用の冷却チャンネルまたは追加的な中空の内側傾斜コイルによって、傾斜コイルアセンブリ半径方向スペースが増大すると共に、さらに主Ｘ、Ｙ及びＺ傾斜コイルが半径のより大きくなった位置まで移動することになる。これらの結果、傾斜コイルアセンブリの傾斜強度が低下することがある。

したがって、傾斜コイルアセンブリに半径方向スペースを追加することなく熱の除去、並びに傾斜コイル内部の温度上昇の制御を可能にした傾斜コイル冷却システムに対する要求が存在する。

一実施形態では、磁気共鳴撮像（ＭＲＩ）システムの傾斜コイルアセンブリを冷却するためのシステムは、複数の導体とその各々が該複数の導体の周回間に配置される複数の中間周回チャンネルとを備えた第１の表面を有する傾斜コイルと、該中間周回チャンネルを封止するために該傾斜コイルの第１の表面に付着させた封止層と、を備えており、該中間周回チャンネルは冷却用流体を搬送するように構成されている。

別の実施形態では、磁気共鳴撮像（ＭＲＩ）システムの傾斜コイルアセンブリ（５０）において、複数の導体と該複数の導体の周回間にある複数の中間周回チャンネルとを備えた第１の表面を有する傾斜コイルを冷却するための装置は、該傾斜コイルの中間周回チャンネル内に配置させた冷却用流体を搬送するように構成された少なくとも１つの冷却用チューブを含む。

本発明は、同じ参照番号が同じ部分を示している添付の図面に関連して取り上げた以下の詳細な説明によりさらに完全に理解できよう。

図１は、一実施形態による例示的なマグネットアセンブリの側方立面断面概要図である。マグネットアセンブリ１０はその形状が円筒状（ｃｙｌｉｎｄｒｉｃａｌ）や環状（ａｎｎｕｌａｒ）であり、ＭＲ画像を取得するために磁気共鳴撮像（ＭＲＩ）システム内で使用されることがある。マグネットアセンブリ１０は、超伝導マグネット１２、傾斜コイルアセンブリ１４及びＲＦコイル１６（ただし、構成要素はこれらに限らない）を含む。マグネットコイル、クライオスタット素子、支持体、懸架部材、端部キャップ、ブラケットその他などの様々な別の要素は明瞭にするために図１から省いてある。円筒状の患者ボリュームまたはスペース１８は患者ボアチューブ２０によって囲繞されている。ＲＦコイル１６は、患者ボアチューブ２０の外表面上に装着されると共に、傾斜コイルアセンブリ１４内部に装着されている。傾斜コイルアセンブリ１４は離間した共軸性関係でＲＦコイル１６の周りに配置されており、またこの傾斜コイルアセンブリ１４はＲＦコイル１６を円周方向で囲繞している。傾斜コイル１４はマグネット１２の内部に装着されると共に、マグネット１２によって円周方向で囲繞されている。

患者または撮像対象（図示せず）は患者テーブルまたはクレードル（図示せず）上で中心軸２２に沿ってマグネットアセンブリ１０内に挿入することができる。中心軸２２は、マグネット１２が発生させる主磁場Ｂ_０の方向と平行なマグネットアセンブリ１０のチューブ軸方向と一致している。ＲＦコイル１６は、患者または対象に無線周波数磁場パルス（または、複数のパルス）を印加するために利用できること、並びに対象から戻されたＭＲ情報を受け取るために利用できることはＭＲ撮像技術分野でよく知られていることである。傾斜コイルアセンブリ５０は、撮像ボリューム１８内の点を周知の方式で空間エンコードするために使用される時間依存の傾斜磁気パルスを発生させる。

超伝導マグネット１２は、例えば半径方向に整列させると共に長軸方向に間隔を設けており、その各々が同一の大きな電流を搬送できるような幾つかの超伝導コイル（図示せず）を含むことがある。この超伝導コイルは、患者ボリューム１８内部に均一性が高い磁場Ｂ_０を生成するように設計されている。超伝導マグネット１２は、超伝導コイルの温度をコイルが零点抵抗を有する超伝導状態となるような適当な臨界温度未満に維持するように設計された極低温エンベロープ２４内部の極低温環境内に封入されている。極低温エンベロープ２４は、例えばマグネット巻き線を周知の方式で包含しかつ冷却するためのヘリウム容器と熱遮蔽とを含むことがある。超伝導マグネット１２及び極低温エンベロープ２４はマグネット容器２８（例えば、クライオスタット容器）によって囲繞されている。マグネット容器２８によって真空が維持されると共に、さらに極低温エンベロープ２４及び超伝導マグネット１２に熱が転送されるのを防止している。常温ボア２６はマグネットアセンブリ１０の内側円柱状の表面によって規定される。

傾斜コイルアセンブリ１４は自己遮蔽型傾斜コイルアセンブリとすることがある。図２は、一実施形態による遮蔽型ＭＲ傾斜コイルアセンブリを長手方向中心軸を通過する面で切ってみた断面図である。傾斜コイルアセンブリ１４は、共通軸３４に対して同心円状に配置させた円筒状の内側傾斜コイルアセンブリまたは巻き線３０と円筒状の外側傾斜コイルアセンブリまたは巻き線３２とを備える。内側傾斜コイルアセンブリ３０はＸ、Ｙ及びＺ傾斜コイルの内側コイルを含み、かつ外側傾斜コイルアセンブリ３２はＸ、Ｙ及びＺ傾斜コイルのそれぞれの外側コイルを含む。傾斜コイルアセンブリ１４はＭＲＩシステムの主マグネット（例えば、図１に示したマグネット１２など）のボア内に挿入し、軸３４を主マグネットのボア軸と整列させることがある。傾斜コイルアセンブリ１４の各コイルはコイルに電流を通過させ、ＭＲ撮像における要求に従ってボア内に傾斜磁場を発生させることによって付勢されることがある。

内側傾斜コイルアセンブリ３０と外側傾斜コイルアセンブリ３２の間のスペースのボリューム３６は例えば、エポキシ樹脂、粘弾性樹脂、ポリウレタン、その他などの結合用材料によって満たされることがある。別法として、ガラスビーズ、シリカ、アルミナなどの充填材料を伴うエポキシ樹脂を結合用材料として用いることがある。内側傾斜コイルアセンブリ３０と外側傾斜コイルアセンブリ３２はこれらのそれぞれの端部位置において端部リング３８及び４０に結合させることがある。端部リング３８及び４０は、内側傾斜コイルアセンブリ３０と外側傾斜コイルアセンブリ３２を半径方向に離間した共軸性関係で保持するように設けられる。端部リング３８及び４０は、ブラケット、ねじ、その他などの締結用デバイス（図示せず）を用いて内側傾斜コイルアセンブリ３０と外側傾斜コイルアセンブリ３２に対して固定とさせることがある。端部リング３８及び４０は、ボリューム３６内でエポキシ（または、別の結合用材料）が硬化すなわち固まる間に内側及び外側傾斜コイルアセンブリ３０及び３２を所望の離間した共軸性関係で保持している。エポキシが硬化した後、端部リング３８及び４０は除去されるのが典型的である。図１及び２に関連して上述した円筒状アセンブリとは別のマグネット及び傾斜トポロジーが使用されることもあることを理解されたい。例えば分割開放型ＭＲＩシステムにおける平坦な傾斜幾何学構成では、以下で記載するような本発明の実施形態が利用されることもある。

円筒状傾斜コイルアセンブリ１４の傾斜コイル、あるいは上で言及したような別の傾斜コイルトポロジーで利用される傾斜コイルが発生させた熱を除去するために、冷却システムまたは装置が設けられることがある。図３は、一実施形態による冷却システムを含む遮蔽型傾斜コイルアセンブリ積み上げ体の断面概要図である。図３に示した積み上げ体内の傾斜コイルの順序は単に例示であること、並びに本明細書に記載した冷却システムは別の傾斜コイル順序で使用されることもあることを理解されたい。図３では、傾斜コイルアセンブリ５０は内側傾斜コイルアセンブリ５２及び外側傾斜コイルアセンブリ５４を含む。内側傾斜コイルアセンブリ５２と外側傾斜コイルアセンブリ５４を結合させるためにはエポキシ樹脂などの結合用材料５６が使用される。傾斜コイルアセンブリ５０は、対応する主コイルと遮蔽傾斜コイルの間に最大の半径方向離間が提供されるように構成されることが好ましい。外側傾斜コイルアセンブリ５４は、Ｙ傾斜遮蔽コイル５８、Ｘ傾斜遮蔽コイル６２及びＺ傾斜遮蔽コイル６４を備える。これら様々な遮蔽コイルは、例えばガラス−エポキシ樹脂などの材料とし得る絶縁層６０によって互いから離間させている。一実施形態では、Ｚ傾斜遮蔽コイル６４は、例えば水、エチレンまたはプロピレングリコール混合物などの冷却剤を搬送するように構成された中空の導体とすることがある。別法として、Ｚ傾斜コイル６４は銅パネルから形成されることがある。

内側傾斜コイルアセンブリ５２は、Ｚ傾斜主コイル６６、Ｙ傾斜主コイル７０及びＸ傾斜主コイル７４を備える。これら様々な主コイルは、例えばガラス−エポキシ樹脂などの材料とし得る絶縁層６０によって互いに離間させている。Ｙ傾斜主コイル７０は、あるパターンまたはトレース（例えば、「指紋」または「拇印」パターン）で切断（または、エッチング）し得る銅シートまたはボードを含む。その結果、冷却チャンネルとして使用し得るＹ傾斜主コイル７０の個々の導体（または、周回）間に複数のグルーブまたは中間周回スペース７８が生成される。Ｘ傾斜主コイル７４もまた、あるパターンまたはトレース（例えば、「指紋」または「拇印」パターン）で切断（または、エッチング）し得る銅シートまたはボードを含む。冷却チャンネルとして使用し得るＸ傾斜主コイル７４の個々の導体（または、周回）間に複数のグルーブまたは中間周回スペース７６が生成される。一実施形態では、Ｚ傾斜主コイル６６は冷却剤（または、冷却用流体）を搬送するように構成された中空の導体とすることがある。別法としてそのＺ傾斜主コイル６６は、冷却チャンネルとして使用し得る中間周回グルーブを含む切断パターンを有する銅シートまたはボードから形成されることがある。

Ｙ傾斜主コイル７０の中間周回グルーブ７８とＸ傾斜主コイル７４の中間周回グルーブ７６は内側傾斜コイルアセンブリ５２に冷却を提供するために使用されることがある。具体的には、トランスバースＹ及びＸ傾斜主コイル７０、７４の中間周回グルーブ７８及び７６を冷却チャンネルとして使用してトランスバースＹ及びＸ傾斜主コイルの直接冷却を提供することがある。中間周回グルーブ７８、７６を冷却チャンネルとして使用することによって、傾斜コイルアセンブリの半径方向サイズを小さく保つことができ、また傾斜コイルの半径方向位置をより低く維持することができる。図３に示すように、例えば水、エチレン、プロピレングリコール混合物などの冷却剤（または、冷却用流体）を搬送するように中間周回グルーブ７８及び７６が封止されて使用されることがあり、またこの冷却剤によってトランスバース傾斜コイルが発生させた熱が除去される。したがって中間周回グルーブ７６、７８は冷却用流体と密着した状態とさせている。

Ｙ傾斜主コイル７０の中間周回グルーブ７８を封止するために封止層６８が設けられることがあり、またＸ傾斜主コイル７４の中間周回グルーブ７６を封止するために封止層７２が設けられることがある。封止層６８及び７２を生成するためには様々な方法が使用されることがある。一実施形態では、パネルコイル（例えば、Ｘ傾斜主コイル７４及び／またはＹ傾斜主コイル７０）の最上部にシート状のガラス−エポキシ（例えば、Ｂ−ｓｔａｇｅエポキシガラスプリプレグ（ｐｒｅｐｒｅｇ））を配置させ、これを真空圧力含浸（ＶＰＩ）処理前に硬化させて、傾斜コイルアセンブリ５０の製作中に例えば絶縁層６０を付着させることがある。別法としてその封止層６８、７２は、硬化処理中に傾斜コイルアセンブリ５０が受ける最大温度を超える融解温度を有する中実の物質（例えば、すず−鉛、プラスチック、その他）で中間周回グルーブ７８、７６を事前充填することによって生成されることがある。この充填物質は、傾斜コイルアセンブリ５０内に含浸したエポキシがグルーブ７８、７６を満たすことを防止する。硬化処理過程が完了した後、充填物質の最上面及び銅パネル表面上にエポキシの層が形成される。傾斜コイルアセンブリ５０は、中間周回チャンネルを満たすのに使用した物質の融解温度を超えるように加熱されることがある。次いで充填物質を融解させて冷却チャンネルを通して排出している。別の実施形態ではその封止層は、隣接する傾斜コイルの裏当てボードまたはサブストレート（例えば、傾斜コイルの銅シートまたはボードの裏当て向けに使用される）によって形成させることがある。例えば、Ｘ傾斜主コイル７４向けの封止層は、Ｙ傾斜主コイル７０の裏当てボードまたはサブストレートによって形成されることがある。

上で言及したように、次いで封止した中間周回グルーブ７８、７６を用いて、トランスバース主傾斜コイル７０及び７４のそれぞれを冷却するための冷却用流体を搬送することがある。図３では冷却システムがＹ及びＸ傾斜主コイル７０、７４内に実現されるように表しているが、別の実施形態ではその冷却システムは上述のＹ及びＸ傾斜主コイルと同じ方式で銅パネルから形成したＺ傾斜主コイル６６内に実現されることがある。

別の実施形態では冷却用チューブが、図４に示すように中間周回グルーブ内で使用されることがある。上で言及したように、Ｙ傾斜主コイル７０の中間周回グルーブ７８及びＸ傾斜主コイル７４の中間周回グルーブ７６は、内側傾斜コイルアセンブリ５２のトランスバースＹ及びＸ傾斜主コイル７０、７４に対して直接冷却を提供するために使用されることがある。図４に示した実施形態では、Ｙ傾斜主コイル７０の中間周回グルーブ７８内に冷却用チューブ８２が設けられることがある。冷却用チューブ８２は非電気伝導性の薄壁冷却用チューブであること（例えば、Ｂ−ｓｔａｇｅガラス−エポキシから製作すること）が好ましい。冷却用チューブ８２は中間周回グルーブ７８内に押し入れられエポキシによって中間周回グルーブ７８に結合させることがある。例えば水、エチレン、プロピレングリコール混合物などの冷却用流体が冷却用チューブ８２を介して搬送され、トランスバースＹ傾斜主コイル７０が発生させた熱を除去するために使用されることがある。さらに、Ｘ傾斜主コイル７４の中間周回グルーブ７６内に、冷却用チューブ８４が設けられることがある。上で言及したように、冷却用チューブ８４は非電気伝導性の薄壁の冷却用チューブであることが好ましい。冷却用チューブ８４は中間周回グルーブ７６内に押し入れられ、エポキシによって中間周回グルーブに結合させることがある。次いで冷却用チューブ８４を介して冷却用流体を搬送し、これを用いてトランスバースＸ傾斜主コイル７４が発生させた熱を除去することがある。図４では冷却システムがＹ及びＸ傾斜主コイル７０、７４内に実現されるように表しているが、別の実施形態ではその冷却システムは上述のＹ及びＸ傾斜主コイルと同じ方式で銅パネルから形成したＺ傾斜主コイル６６内に実現されることがある。

図３に示した中間周回グルーブ７８、７６及び図４に示した冷却用チューブ８２、８４は、例えば冷却剤供給ライン及び帰還ライン（図示せず）を介して遠隔の熱交換器／冷凍機（図示せず）と結合させることがある。遠隔の熱交換器／冷凍機は、中間周回グルーブ７８、７６（図３参照）にあるいは冷却用チューブ８２、８４（図４参照）に冷却剤を導きトランスバース傾斜主コイル７０、７４の周囲を循環させるために使用されることがある。冷却剤は、中間周回グルーブ７８、７６または冷却用チューブ８２、８４を通るようにポンピングを受けると傾斜主コイルから熱を吸収し、この熱を遠隔の熱交換器／冷凍機に搬送する。次いでこの熱は例えば、熱交換／冷凍機によって大気中に排出される。中間周回グルーブまたは冷却用チューブに対する流入及び流出マニホールドの数は、要求される流量、伝熱係数及び許容可能な圧力低下が提供されるように様々とすることができる。図５は、一実施形態による傾斜コイル冷却システム向けの例示的な流入及び流出マニホールド箇所を表した斜視概要図である。流入マニホールド箇所１４０と流出マニホールド箇所１４２は例えば、対応するＹ傾斜コイルパネル間のギャップ内で９０°及び１８０°の位置にあるＸ傾斜主コイル１４６の各四分パネルの内部とすることがある。別法としてその流入及び流出マニホールドは、Ｘ及びＹ傾斜コイルへのＺ傾斜コイル周回間に、あるいはＺ傾斜コイル周回を通過するように位置決めされることがある。チャンネル長さ選択及び／または中間周回間隔に対する調整を用いると、異なる中間周回冷却チャンネル間でより均一なフロー分布を提供することが可能となる。

様々な実施形態では、冷却システムを１つまたは複数の主傾斜コイルパネルの形で実現させることがある。別の実施形態ではその冷却システムを、遮蔽用外側傾斜コイルアセンブリの１つまたは複数のパネル傾斜コイルの形で実現させることがある。

この記載では、本発明の実施形態（最適の形態を含む）を開示するため、並びに当業者による本発明の製作及び使用を可能にするために例を使用している。特許性のある範囲は添付の特許請求の範囲によって規定していると共に、当業者により行われる別の例を含むことができる。こうした別の例は、本特許請求の範囲の文字表記と異ならない構造要素を有する場合や、本特許請求の範囲の文字表記と実質的に差がない等価的な構造要素を有する場合があるが、本特許請求の範囲の域内にあるように意図したものである。任意の処理法や方法の各工程の順序及びシーケンスは、代替的な実施形態に応じて変更されるまたは順序構成し直されることがある。

その精神を逸脱することなく別の多くの変更形態や修正形態を実施することができる。こうした変更及びその他の変更の範囲は、添付の特許請求の範囲から明らかであろう。また、図面の符号に対応する特許請求の範囲中の符号は、単に本願発明の理解をより容易にするために用いられているものであり、本願発明の範囲を狭める意図で用いられたものではない。そして、本願の特許請求の範囲に記載した事項は、明細書に組み込まれ、明細書の記載事項の一部となる。

一実施形態による例示的なマグネットアセンブリの側方立面断面概要図である。 一実施形態による例示的なＭＲ傾斜コイル組アセンブリを長手方向中心軸を通過する面で切ってみた断面図である。 一実施形態による冷却システムを含む遮蔽型傾斜コイルアセンブリ積み上げ体の断面概要図である。 代替的実施形態による冷却システムを含む遮蔽型傾斜コイルアセンブリ積み上げ体の断面概要図である。 一実施形態による傾斜コイル冷却システム向けの例示的な流入及び流出マニホールド箇所を表した斜視概要図である。

符号の説明

１０ マグネットアセンブリ
１２ 超伝導マグネット
１４ 傾斜コイルアセンブリ
１６ ＲＦコイル
１８ 患者ボリュームまたはスペース
２０ 患者ボアチューブ
２２ 中心軸
２４ 極低温エンベロープ
２６ 常温ボア
２８ マグネット容器／クライオスタット容器
３０ 内側傾斜コイルアセンブリまたは巻き線
３２ 外側傾斜コイルアセンブリまたは巻き線
３４ 軸
３６ 内側と外側傾斜コイルアセンブリの間のボリュームまたはスペース
３８ 端部リング
４０ 端部リング
５０ 傾斜コイルアセンブリ
５２ 内側傾斜コイルアセンブリ
５４ 外側傾斜コイルアセンブリ
５６ 結合用材料
５８ Ｙ傾斜遮蔽コイル
６０ 絶縁層
６２ Ｘ傾斜遮蔽コイル
６４ Ｚ傾斜遮蔽コイル
６６ Ｚ傾斜主コイル
６８ 封止層
７０ Ｙ傾斜主コイル
７２ 封止層
７４ Ｘ傾斜主コイル
７６ グルーブまたは中間周回スペース
７８ グルーブまたは中間周回スペース
８２ 冷却用チューブ
８４ 冷却用チューブ
１４０ 流入マニホールド箇所
１４２ 流出マニホールド箇所
１４６ Ｘ傾斜主コイル

Claims (10)

1. 磁気共鳴撮像（ＭＲＩ）システムの傾斜コイルアセンブリ（５０）を冷却するためのシステムであって、
   複数の導体とその各々が該複数の導体の周回間に配置される複数の中間周回チャンネル（７８、７６）とを備えた第１の表面を有する傾斜コイル（７０、７４）と、
   前記中間周回チャンネル（７８、７６）を封止するために前記傾斜コイル（７０、７４）の第１の表面に付着させた封止層（６８、７２）と、を備えており、
   前記中間周回チャンネル（７８、７６）は冷却用流体を搬送するように構成されているシステム。
2. 前記傾斜コイル（７０）はトランスバースＹ傾斜コイルである、請求項１に記載のシステム。
3. 前記傾斜コイル（７４）はトランスバースＸ傾斜コイルである、請求項１に記載のシステム。
4. 前記傾斜コイルアセンブリ（５０）は内側傾斜コイルアセンブリ（５２）及び外側傾斜コイルアセンブリ（５４）を含み、かつ該内側傾斜コイルアセンブリ（５２）は傾斜コイル（７０、７４）及び封止層（６８、７２）を備える、請求項１に記載のシステム。
5. 前記封止層（６８、７２）はガラス−エポキシから製作されている、請求項１に記載のシステム。
6. 磁気共鳴撮像（ＭＲＩ）システムの傾斜コイルアセンブリ（５０）において、複数の導体と該複数の導体の周回間にある複数の中間周回チャンネル（７８、７６）とを備えた第１の表面を有する傾斜コイル（７０、７４）を冷却するための装置であって、
   前記傾斜コイル（７０、７４）の中間周回チャンネル（７８、７６）内に配置させた冷却用流体を搬送するように構成された少なくとも１つの冷却用チューブ（８２、８４）を備える装置。
7. 前記傾斜コイル（７０）はトランスバースＹ傾斜コイルである、請求項６に記載の装置。
8. 前記傾斜コイル（７４）はトランスバースＸ傾斜コイルである、請求項６に記載の装置。
9. 前記少なくとも１つの冷却用チューブ（８２、８４）は前記中間周回チャンネル（７８、７６）に対してエポキシを用いて結合されている、請求項６に記載の装置。
10. 前記少なくとも１つの冷却用チューブ（８２、８４）は薄壁の冷却用チューブである、請求項６に記載の装置。

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