JP2008263109A - ゲートアレイ半導体回路装置 - Google Patents
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Abstract
【課題】 ベースセルのセルサイズを増大させることなく、プルアップ抵抗またはプルダウン抵抗を備えた論理回路を形成することができるゲートアレイ半導体回路装置を実現する。
【解決手段】 ゲートアレイ半導体回路装置は、ゲート電極13により形成される抵抗R1と、ポリシリコン抵抗として形成される抵抗R2と、PMOSトランジスタ11aまたはNMOSトランジスタ12aのON抵抗としてそれぞれ形成される抵抗R3、R4と、P+拡散領域11またはN+拡散領域12に存在する抵抗を利用して形成される抵抗R5と、を形成可能に構成されており、論理回路と、電極配線61または接地配線62との間に、抵抗R1〜R5から選ばれる少なくとも1つの抵抗を挿入することにより、ベースセル10のセルサイズを増大させることなく、プルアップ抵抗またはプルダウン抵抗を形成することができる。
【選択図】 図2
【解決手段】 ゲートアレイ半導体回路装置は、ゲート電極13により形成される抵抗R1と、ポリシリコン抵抗として形成される抵抗R2と、PMOSトランジスタ11aまたはNMOSトランジスタ12aのON抵抗としてそれぞれ形成される抵抗R3、R4と、P+拡散領域11またはN+拡散領域12に存在する抵抗を利用して形成される抵抗R5と、を形成可能に構成されており、論理回路と、電極配線61または接地配線62との間に、抵抗R1〜R5から選ばれる少なくとも1つの抵抗を挿入することにより、ベースセル10のセルサイズを増大させることなく、プルアップ抵抗またはプルダウン抵抗を形成することができる。
【選択図】 図2
Description
この発明は、ゲートアレイ半導体回路装置に関する。
従来より、基本的な性能を備えた回路をあらかじめ基板上に配列しておき、配線工程のみを行うことにより所望の機能回路を形成可能であるセミカスタムLSIとして、ゲートアレイ半導体回路装置が用いられている。
この種のゲートアレイ半導体回路装置では、汎用性を高めるために、あらかじめダミーセルや機能拡張を想定した回路がベールセルに設けられている。
ここで、これらの回路については、プルアップ抵抗またはプルダウン抵抗を設け、個々の入力をプルアップもしくはプルダウンさせることにより、余分な動作をさせないように機能停止させている。
例えば、特許文献1には、ゲートポリシリコンをCMOSインバータのプルアップ抵抗またはプルダウン抵抗として用いる技術が開示されている。
特開平11−274440号公報
この種のゲートアレイ半導体回路装置では、汎用性を高めるために、あらかじめダミーセルや機能拡張を想定した回路がベールセルに設けられている。
ここで、これらの回路については、プルアップ抵抗またはプルダウン抵抗を設け、個々の入力をプルアップもしくはプルダウンさせることにより、余分な動作をさせないように機能停止させている。
例えば、特許文献1には、ゲートポリシリコンをCMOSインバータのプルアップ抵抗またはプルダウン抵抗として用いる技術が開示されている。
しかし、上述のゲートアレイ半導体回路装置では、ゲートポリシリコンを複数個用意して、その個数によって抵抗値を変化させるため、ベースセルにおいてゲートポリシリコンが占める面積が増大し、ベースセルの寸法が増大するという問題があった。
そこで、この発明は、ベースセルのセルサイズを増大させることなく、プルアップ抵抗またはプルダウン抵抗を備えた論理回路を形成することができるゲートアレイ半導体回路装置を実現することを目的とする。
この発明は、上記目的を達成するため、請求項1に記載の発明では、ベースセルに、P+拡散領域に形成されたPチャネル型MOSトランジスタと、N+拡散領域に形成されたNチャネル型MOSトランジスタと、を備えたゲートアレイ半導体回路装置において、電極(VDD)配線及び接地(GND)配線と接続可能なコンタクト領域を備え、前記P+拡散領域及び前記N+拡散領域に共通に形成されたゲート電極と、前記Pチャネル型MOSトランジスタ及び前記NチャネルMOSトランジスタを用いて形成された論理回路と、前記ベースセルに設けられたポリシリコン抵抗と、を備え、前記ゲート電極により形成される第1の抵抗と、前記ポリシリコン抵抗として形成される第2の抵抗と、前記Pチャネル型MOSトランジスタまたは前記NチャネルMOSトランジスタのON抵抗として形成される第3の抵抗と、前記P+拡散領域または前記N+拡散領域に存在する抵抗を利用して形成される第4の抵抗と、を形成可能に構成されており、前記論理回路と、前記電極(VDD)配線または前記接地(GND)配線との間に、前記第1ないし第4の抵抗から選ばれる少なくとも1つの抵抗を挿入することにより、プルアップ抵抗またはプルダウン抵抗を形成する、という技術的手段を用いる。
請求項1に記載の発明によれば、ゲート電極により形成される第1の抵抗と、ポリシリコン抵抗として形成される第2の抵抗と、Pチャネル型MOSトランジスタまたはNチャネルMOSトランジスタのON抵抗として形成される第3の抵抗と、P+拡散領域またはN+拡散領域に存在する抵抗を利用して形成される第4の抵抗と、を形成可能に構成されており、論理回路と、電極(VDD)配線または接地(GND)配線との間に、第1ないし第4の抵抗から選ばれる少なくとも1つの抵抗を挿入することにより、プルアップ抵抗またはプルダウン抵抗を形成することができるため、ベースセルにプルアップまたはプルダウン用の抵抗を追加して形成する必要がない。これにより、ベースセルのセルサイズを増大させることなく、プルアップ抵抗またはプルダウン抵抗を備えた論理回路を形成することができる。
また、異なる抵抗値を有する第1ないし第4の抵抗の組合せを変えて接続することにより、同じベースセルにおいて、抵抗値の異なるプルアップ抵抗またはプルダウン抵抗を形成することができる。
また、異なる抵抗値を有する第1ないし第4の抵抗の組合せを変えて接続することにより、同じベースセルにおいて、抵抗値の異なるプルアップ抵抗またはプルダウン抵抗を形成することができる。
請求項2に記載の発明では、請求項1に記載のゲートアレイ半導体回路装置において、前記プルアップ抵抗またはプルダウン抵抗は、前記第1の抵抗を用いて形成されている、という技術的手段を用いる。
請求項2に記載の発明のように、プルアップ抵抗またはプルダウン抵抗を第1の抵抗を用いて形成することもできる。この構成を用いると、ゲート電極をプルアップ抵抗またはプルダウン抵抗として兼用することができるので、ベースセルのセルサイズを増大させることなく、プルアップ抵抗またはプルダウン抵抗を備えた論理回路を形成することができる。
請求項3に記載の発明では、請求項1に記載のゲートアレイ半導体回路装置において、前記プルアップ抵抗またはプルダウン抵抗は、前記第2の抵抗と、前記第3の抵抗または前記第4の抵抗と、が直列に接続されて形成されている、という技術的手段を用いる。
請求項3に記載の発明のように、プルアップ抵抗またはプルダウン抵抗を、第2の抵抗と、第3の抵抗または第4の抵抗とを直列に接続して形成することができる。この構成を用いると、ポリシリコン抵抗を用いて、第3の抵抗または第4の抵抗と直列に接続することにより抵抗値の異なるプルアップ抵抗またはプルダウン抵抗を形成することができる。
請求項4に記載の発明では、請求項1ないし請求項3のいずれか1つに記載のゲートアレイ半導体回路装置において、前記論理回路は、インバータ論理回路である、という技術的手段を用いる。
請求項4に記載の発明のように、本発明は、論理回路としてインバータ論理回路とする場合に好適に用いることができる。
[第1実施形態]
第1実施形態に係るゲートアレイ半導体回路装置について、インバータが形成されたゲートアレイ半導体回路装置を例に、図を参照して説明する。図1は、ゲートアレイ半導体回路装置のベースセルの平面説明図である。図2は、第1実施形態に係るゲートアレイ半導体回路装置の平面説明図である。
第1実施形態に係るゲートアレイ半導体回路装置について、インバータが形成されたゲートアレイ半導体回路装置を例に、図を参照して説明する。図1は、ゲートアレイ半導体回路装置のベースセルの平面説明図である。図2は、第1実施形態に係るゲートアレイ半導体回路装置の平面説明図である。
ベースセル10には、Pチャンネル型MOSトランジスタ(PMOSトランジスタ)11a、11bが形成されたP+拡散領域11と、Nチャンネル型MOSトランジスタ(NMOSトランジスタ)12a、12bが形成されたN+拡散領域12と、PMOSトランジスタ11a及びNMOSトランジスタ12aにゲートを形成するためのポリシリコンからなるゲート電極13と、PMOSトランジスタ11b及びNMOSトランジスタ12bにゲートを形成するためのポリシリコンからなるゲート電極14と、ポリシリコン抵抗15、16が設けられている。
P+拡散領域11のソース側領域には、VDD配線61(図2)への接続用コンタクトを設けるためのコンタクト領域11cが形成されている。また、N+拡散領域12のソース側領域には、GND配線62(図2)への接続用コンタクトを設けるためのコンタクト領域12cが形成されている。
ゲート電極13の両端部及び中央部には、PMOSトランジスタ11a及びNMOSトランジスタ12aの各ゲートへの接続用コンタクトを設けるためのコンタクト領域13a、13b、13cが形成されている。
ゲート電極14の両端部及び中央部には、PMOSトランジスタ11b及びNMOSトランジスタ12bの各ゲートへの接続用コンタクトを設けるためのコンタクト領域14a、14b、14cが形成されている。
抵抗16の両端部はオープンで、P+拡散領域11のドレイン側領域及びN+拡散領域12のドレイン側領域は配線18により接続されている。
ゲート電極14の両端部及び中央部には、PMOSトランジスタ11b及びNMOSトランジスタ12bの各ゲートへの接続用コンタクトを設けるためのコンタクト領域14a、14b、14cが形成されている。
抵抗16の両端部はオープンで、P+拡散領域11のドレイン側領域及びN+拡散領域12のドレイン側領域は配線18により接続されている。
図2に示すように、本実施形態のゲートアレイ半導体回路装置1では、VDD配線61は、コンタクト領域11cを介してP+拡散領域11のソース側領域に接続され、コンタクト領域13aを介してゲート電極13に接続されている。
GND配線62は、コンタクト領域12cを介してN+拡散領域12のソース側領域に接続されている。
ゲート電極13とゲート電極14とは、それぞれの中央部において、コンタクト領域13c、14cとを介して配線17により接続されている。
GND配線62は、コンタクト領域12cを介してN+拡散領域12のソース側領域に接続されている。
ゲート電極13とゲート電極14とは、それぞれの中央部において、コンタクト領域13c、14cとを介して配線17により接続されている。
上述の配線を行うことにより、P+拡散領域11と、N+拡散領域12と、ゲート電極13、14によりインバータが形成され、ゲート電極13により抵抗R1が形成される。ここで、抵抗R1は、請求項1に記載の第1の抵抗に相当する。
これにより、図2(B)の等価回路に示すように、VDD配線61とインバータとの間にプルアップ抵抗としての抵抗R1を備えたインバータ論理回路を形成することができる。
この構成を用いると、ベースセル10にプルアップ用の抵抗を追加して形成する必要がないので、ベースセル10のセルサイズを増大させることなく、プルアップ抵抗としての抵抗R1を備えたインバータ論理回路を形成することができる。
これにより、図2(B)の等価回路に示すように、VDD配線61とインバータとの間にプルアップ抵抗としての抵抗R1を備えたインバータ論理回路を形成することができる。
この構成を用いると、ベースセル10にプルアップ用の抵抗を追加して形成する必要がないので、ベースセル10のセルサイズを増大させることなく、プルアップ抵抗としての抵抗R1を備えたインバータ論理回路を形成することができる。
[第1実施形態の効果]
(1)ゲート電極13により形成される抵抗R1を用いて、VDD配線61とインバータとの間にプルアップ抵抗としての抵抗R1を備えたインバータ論理回路を形成することができる。
これにより、ゲート電極13をプルアップ抵抗として兼用することができるため、ベースセル10にプルアップ用の抵抗を追加して形成する必要がないので、ベースセル10のセルサイズを増大させることなく、プルアップ抵抗を備えたインバータ論理回路を形成することができる。
(1)ゲート電極13により形成される抵抗R1を用いて、VDD配線61とインバータとの間にプルアップ抵抗としての抵抗R1を備えたインバータ論理回路を形成することができる。
これにより、ゲート電極13をプルアップ抵抗として兼用することができるため、ベースセル10にプルアップ用の抵抗を追加して形成する必要がないので、ベースセル10のセルサイズを増大させることなく、プルアップ抵抗を備えたインバータ論理回路を形成することができる。
[第2実施形態]
第2実施形態に係るゲートアレイ半導体回路装置について図3を参照して説明する。第2実施形態に係るゲートアレイ半導体回路装置は、プルアップ抵抗の構成において、第1実施形態と異なっている。
なお、第1実施形態と同様の構成については、同じ符号を使用するとともに説明を省略する。
第2実施形態に係るゲートアレイ半導体回路装置について図3を参照して説明する。第2実施形態に係るゲートアレイ半導体回路装置は、プルアップ抵抗の構成において、第1実施形態と異なっている。
なお、第1実施形態と同様の構成については、同じ符号を使用するとともに説明を省略する。
図3(A)に示すように、本実施形態のゲートアレイ半導体回路装置2では、コンタクト領域13aにおいて、VDD配線61はゲート電極13に接続されている。
P+拡散領域11のドレイン側領域には、コンタクト領域11d、11eが形成されている。P+拡散領域11のドレイン側領域は、コンタクト領域11dを介して、VDD配線61に接続されており、コンタクト領域11dとコンタクト領域11eとの間には、P+拡散領域11の抵抗を用いた抵抗R5が形成される。ここで、抵抗R5は、請求項1に記載の第4の抵抗に相当する。
P+拡散領域11のドレイン側領域には、コンタクト領域11d、11eが形成されている。P+拡散領域11のドレイン側領域は、コンタクト領域11dを介して、VDD配線61に接続されており、コンタクト領域11dとコンタクト領域11eとの間には、P+拡散領域11の抵抗を用いた抵抗R5が形成される。ここで、抵抗R5は、請求項1に記載の第4の抵抗に相当する。
ポリシリコン抵抗15は、配線21により抵抗R2と直列に接続されており、配線22によりコンタクト領域14cにおいてゲート電極14に接続されている。
なお、ポリシリコン抵抗15は、等価回路においては抵抗R2で表されており、請求項1に記載の第2の抵抗に相当する。
なお、ポリシリコン抵抗15は、等価回路においては抵抗R2で表されており、請求項1に記載の第2の抵抗に相当する。
これにより、図3(B)の等価回路に示すように、VDD配線61とインバータとの間に、プルアップ抵抗として抵抗R5と抵抗R2とが直列に接続されたインバータ論理回路を形成することができる。
この構成を用いる場合においても、ベースセル10にプルアップ用の抵抗を追加して形成する必要がないので、ベースセル10のセルサイズを増大させることなく、プルアップ抵抗としての抵抗R5、R2を備えたインバータ論理回路を形成することができる。
また、第1実施形態と同じベースセル10を用いて、抵抗値の異なるプルアップ抵抗を形成することができる。
この構成を用いる場合においても、ベースセル10にプルアップ用の抵抗を追加して形成する必要がないので、ベースセル10のセルサイズを増大させることなく、プルアップ抵抗としての抵抗R5、R2を備えたインバータ論理回路を形成することができる。
また、第1実施形態と同じベースセル10を用いて、抵抗値の異なるプルアップ抵抗を形成することができる。
[第2実施形態の効果]
第1実施形態と同様に、ベースセル10のセルサイズを増大させることなく、プルアップ抵抗を備えたインバータ論理回路を形成することができる。
また、第1実施形態と同じベースセル10を用いて、抵抗値の異なるプルアップ抵抗を形成することができる。
第1実施形態と同様に、ベースセル10のセルサイズを増大させることなく、プルアップ抵抗を備えたインバータ論理回路を形成することができる。
また、第1実施形態と同じベースセル10を用いて、抵抗値の異なるプルアップ抵抗を形成することができる。
[第3実施形態]
第3実施形態に係るゲートアレイ半導体回路装置について図4を参照して説明する。第3実施形態に係るゲートアレイ半導体回路装置は、プルアップ抵抗の構成において、上述の各実施形態と異なっている。
第3実施形態に係るゲートアレイ半導体回路装置について図4を参照して説明する。第3実施形態に係るゲートアレイ半導体回路装置は、プルアップ抵抗の構成において、上述の各実施形態と異なっている。
図4(A)に示すように、本実施形態のゲートアレイ半導体回路装置3では、VDD配線61はコンタクト領域13aを介してゲート電極13に接続されている。
P+拡散領域11のドレイン側領域は、コンタクト領域11dを介して、VDD配線61に接続されており、コンタクト領域11dとコンタクト領域11eとの間には、P+拡散領域11の抵抗を用いた抵抗R5が形成される。
P+拡散領域11のドレイン側領域は、コンタクト領域11dを介して、VDD配線61に接続されており、コンタクト領域11dとコンタクト領域11eとの間には、P+拡散領域11の抵抗を用いた抵抗R5が形成される。
ポリシリコン抵抗15は、配線21により抵抗R5と直列に接続されており、配線23によりコンタクト領域13cにおいてゲート電極13に接続され、続いて配線24によりコンタクト領域14cにおいてゲート電極14に接続されている。
なお、ゲート電極14は、ゲート電極13と同様に等価回路においては抵抗R1で表す。
なお、ゲート電極14は、ゲート電極13と同様に等価回路においては抵抗R1で表す。
これにより、図4(B)の等価回路に示すように、VDD配線61とインバータとの間に、直列に接続された抵抗R5及び抵抗R2と、抵抗R1とが、プルアップ抵抗として並列に接続されたインバータ論理回路を形成することができる。
この構成を用いる場合においても、ベースセル10にプルアップ用の抵抗を追加して形成する必要がないので、ベースセル10のセルサイズを増大させることなく、プルアップ抵抗としての抵抗R1、R2、R5を備えたインバータ論理回路を形成することができる。
また、上述の各実施形態と同じベースセル10を用いて、抵抗値の異なるプルアップ抵抗を形成することができる。
この構成を用いる場合においても、ベースセル10にプルアップ用の抵抗を追加して形成する必要がないので、ベースセル10のセルサイズを増大させることなく、プルアップ抵抗としての抵抗R1、R2、R5を備えたインバータ論理回路を形成することができる。
また、上述の各実施形態と同じベースセル10を用いて、抵抗値の異なるプルアップ抵抗を形成することができる。
[第3実施形態の効果]
上述の各実施形態と同様に、ベースセル10のセルサイズを増大させることなく、プルアップ抵抗を備えたインバータ論理回路を形成することができる。
また、上述の各実施形態と同じベースセル10を用いて、抵抗値の異なるプルアップ抵抗を形成することができる。
上述の各実施形態と同様に、ベースセル10のセルサイズを増大させることなく、プルアップ抵抗を備えたインバータ論理回路を形成することができる。
また、上述の各実施形態と同じベースセル10を用いて、抵抗値の異なるプルアップ抵抗を形成することができる。
[第4実施形態]
第4実施形態に係るゲートアレイ半導体回路装置について図5を参照して説明する。第4実施形態に係るゲートアレイ半導体回路装置は、プルアップ抵抗の構成において、上述の各実施形態と異なっている。
第4実施形態に係るゲートアレイ半導体回路装置について図5を参照して説明する。第4実施形態に係るゲートアレイ半導体回路装置は、プルアップ抵抗の構成において、上述の各実施形態と異なっている。
図5(A)に示すように、本実施形態のゲートアレイ半導体回路装置4では、VDD配線61は、コンタクト領域13aにおいてゲート電極13に接続されていない。これに代わり、GND配線62が、コンタクト領域13bを介してゲート電極13に接続されている。
P+拡散領域11のソース側領域は、コンタクト領域11cを介してVDD配線61に接続されており、コンタクト領域11cとコンタクト領域11eとの間には、PMOSトランジスタ11aのON抵抗を用いた抵抗R4が形成される。ここで、抵抗R4は、請求項1に記載の第3の抵抗に相当する。
ポリシリコン抵抗15は、配線21により抵抗R4と直列に接続されており、配線25によりコンタクト領域14cにおいてゲート電極14に接続されている。
これにより、図5(B)の等価回路に示すように、VDD配線61とインバータとの間に、プルアップ抵抗として抵抗R4と抵抗R2とが直列に接続されたインバータ論理回路を形成することができる。
この構成を用いる場合においても、ベースセル10にプルアップ用の抵抗を追加して形成する必要がないので、ベースセル10のセルサイズを増大させることなく、プルアップ抵抗としての抵抗R4、R2を備えたインバータ論理回路を形成することができる。
また、上述の各実施形態と同じベースセル10を用いて、抵抗値の異なるプルアップ抵抗を形成することができる。
この構成を用いる場合においても、ベースセル10にプルアップ用の抵抗を追加して形成する必要がないので、ベースセル10のセルサイズを増大させることなく、プルアップ抵抗としての抵抗R4、R2を備えたインバータ論理回路を形成することができる。
また、上述の各実施形態と同じベースセル10を用いて、抵抗値の異なるプルアップ抵抗を形成することができる。
[第4実施形態の効果]
上述の各実施形態と同様に、ベースセル10のセルサイズを増大させることなく、プルアップ抵抗を備えたインバータ論理回路を形成することができる。
また、上述の各実施形態と同じベースセル10を用いて、抵抗値の異なるプルアップ抵抗を形成することができる。
上述の各実施形態と同様に、ベースセル10のセルサイズを増大させることなく、プルアップ抵抗を備えたインバータ論理回路を形成することができる。
また、上述の各実施形態と同じベースセル10を用いて、抵抗値の異なるプルアップ抵抗を形成することができる。
[その他の実施形態]
(1)上述の各実施形態において、プルアップ抵抗を備えたインバータ論理回路について示したが、図中上下方向に対称に同様の配線を行うことにより、それぞれプルダウン抵抗を備えたインバータ論理回路を形成することもできる。
例えば、図6(A)に示す構成により、プルダウン抵抗を備えたインバータ論理回路を形成することができる。
(1)上述の各実施形態において、プルアップ抵抗を備えたインバータ論理回路について示したが、図中上下方向に対称に同様の配線を行うことにより、それぞれプルダウン抵抗を備えたインバータ論理回路を形成することもできる。
例えば、図6(A)に示す構成により、プルダウン抵抗を備えたインバータ論理回路を形成することができる。
ゲートアレイ半導体回路装置5では、コンタクト領域13aにおいて、VDD配線61は、コンタクト領域13bを介してゲート電極13に接続されている。
N+拡散領域12のドレイン側領域には、コンタクト領域12eが形成されている。N+拡散領域12のソース側領域は、コンタクト領域12cを介して、GND配線62に接続されており、コンタクト領域12cとコンタクト領域12eとの間には、NMOSトランジスタ12aのON抵抗を用いた抵抗R3が形成されている。ここで、抵抗R5は、請求項1に記載の第3の抵抗に相当する。
ポリシリコン抵抗15は、配線26により抵抗R3と直列に接続されており、配線27によりコンタクト領域14cにおいてゲート電極14に接続されている。
N+拡散領域12のドレイン側領域には、コンタクト領域12eが形成されている。N+拡散領域12のソース側領域は、コンタクト領域12cを介して、GND配線62に接続されており、コンタクト領域12cとコンタクト領域12eとの間には、NMOSトランジスタ12aのON抵抗を用いた抵抗R3が形成されている。ここで、抵抗R5は、請求項1に記載の第3の抵抗に相当する。
ポリシリコン抵抗15は、配線26により抵抗R3と直列に接続されており、配線27によりコンタクト領域14cにおいてゲート電極14に接続されている。
これにより、図6(B)の等価回路に示すように、GND配線62とインバータとの間に、プルダウン抵抗として抵抗R3と抵抗R2とが直列に接続されたインバータ論理回路を形成することができる。
この構成を用いる場合においても、ベースセル10にプルダウン用の抵抗を追加して形成する必要がないので、ベースセル10のセルサイズを増大させることなく、プルダウン抵抗としての抵抗R3、R2を備えたインバータ論理回路を形成することができる。
また、ベースセル10を用いて、抵抗R1、R2、R3、R5の組合せにより抵抗値の異なるプルダウン抵抗を形成することができる。
この構成を用いる場合においても、ベースセル10にプルダウン用の抵抗を追加して形成する必要がないので、ベースセル10のセルサイズを増大させることなく、プルダウン抵抗としての抵抗R3、R2を備えたインバータ論理回路を形成することができる。
また、ベースセル10を用いて、抵抗R1、R2、R3、R5の組合せにより抵抗値の異なるプルダウン抵抗を形成することができる。
(2)上述の各実施形態において、プルアップ抵抗またはプルダウン抵抗を備えた論理回路としてインバータ論理回路を示したが、これに限定されるものではなく、例えば、NANDゲート回路などの各種機能回路を用いることができる。
(3)以上、述べたように、本発明に係るゲートアレイ半導体回路装置は、ゲート電極13により形成される抵抗R1と、ポリシリコン抵抗として形成される抵抗R2と、PMOSトランジスタ11aまたはNMOSトランジスタ12aのON抵抗としてそれぞれ形成される抵抗R3、R4と、P+拡散領域11またはN+拡散領域12に存在する抵抗を利用して形成される抵抗R5と、を形成可能に構成されており、論理回路と、電極(VDD)配線61または接地(GND)配線62との間に、抵抗R1〜R5から選ばれる少なくとも1つの抵抗を挿入することにより、プルアップ抵抗またはプルダウン抵抗を形成することができるため、ベースセル10にプルアップまたはプルダウン用の抵抗を追加して形成する必要がない。これにより、ベースセル10のセルサイズを増大させることなく、プルアップ抵抗またはプルダウン抵抗を備えた論理回路を形成することができる。
1 ゲートアレイ半導体回路装置
10 ベースセル
11 P+拡散領域
11a、11b PMOSトランジスタ
12 N+拡散領域
12a、12b NMOSトランジスタ
13 ゲート電極
13a〜13c コンタクト領域
14 ゲート電極
14a〜14c コンタクト領域
15 ポリシリコン抵抗
61 電源(VDD)配線
62 接地(GND)配線
R1 抵抗(第1の抵抗)
R2 抵抗(第2の抵抗)
R3 抵抗(第3の抵抗)
R4 抵抗(第3の抵抗)
R5 抵抗(第4の抵抗)
10 ベースセル
11 P+拡散領域
11a、11b PMOSトランジスタ
12 N+拡散領域
12a、12b NMOSトランジスタ
13 ゲート電極
13a〜13c コンタクト領域
14 ゲート電極
14a〜14c コンタクト領域
15 ポリシリコン抵抗
61 電源(VDD)配線
62 接地(GND)配線
R1 抵抗(第1の抵抗)
R2 抵抗(第2の抵抗)
R3 抵抗(第3の抵抗)
R4 抵抗(第3の抵抗)
R5 抵抗(第4の抵抗)
Claims (4)
- ベースセルに、P+拡散領域に形成されたPチャネル型MOSトランジスタと、N+拡散領域に形成されたNチャネル型MOSトランジスタと、を備えたゲートアレイ半導体回路装置において、
電極(VDD)配線及び接地(GND)配線と接続可能なコンタクト領域を備え、前記P+拡散領域及び前記N+拡散領域に共通に形成されたゲート電極と、
前記Pチャネル型MOSトランジスタ及び前記NチャネルMOSトランジスタを用いて形成された論理回路と、
前記ベースセルに設けられたポリシリコン抵抗と、を備え、
前記ゲート電極により形成される第1の抵抗と、
前記ポリシリコン抵抗として形成される第2の抵抗と、
前記Pチャネル型MOSトランジスタまたは前記NチャネルMOSトランジスタのON抵抗として形成される第3の抵抗と、
前記P+拡散領域または前記N+拡散領域に存在する抵抗を利用して形成される第4の抵抗と、を形成可能に構成されており、
前記論理回路と、前記電極(VDD)配線または前記接地(GND)配線との間に、前記第1ないし第4の抵抗から選ばれる少なくとも1つの抵抗を挿入することにより、プルアップ抵抗またはプルダウン抵抗を形成することを特徴とするゲートアレイ半導体回路装置。 - 前記プルアップ抵抗またはプルダウン抵抗は、前記第1の抵抗を用いて形成されていることを特徴とする請求項1に記載のゲートアレイ半導体回路装置。
- 前記プルアップ抵抗またはプルダウン抵抗は、前記第2の抵抗と、前記第3の抵抗または前記第4の抵抗と、が直列に接続されて形成されていることを特徴とする請求項1に記載のゲートアレイ半導体回路装置。
- 前記論理回路は、インバータ回路であることを特徴とする請求項1ないし請求項3のいずれか1つに記載のゲートアレイ半導体回路装置。
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JP2007105635A JP2008263109A (ja) | 2007-04-13 | 2007-04-13 | ゲートアレイ半導体回路装置 |
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Cited By (1)
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JP2018088627A (ja) * | 2016-11-29 | 2018-06-07 | 株式会社ユーシン | 入力装置 |
-
2007
- 2007-04-13 JP JP2007105635A patent/JP2008263109A/ja active Pending
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