JP2008262676A - ナノパターン化ディスクを製造するための方法及び装置 - Google Patents

ナノパターン化ディスクを製造するための方法及び装置 Download PDF

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Abstract

【課題】本発明は、本願請求項1及び10に規定された方法及び装置を提供し、また、ナノパターン化ダイの使用、定義済みのナノパターンを備えたディスク及びこの種のディスクを備えたハードディスクドライブを提供する。
【解決手段】可能な限り小さなパターンがディスクに適用されているより高速作動する装置及び対応する方法を提案するために、また、可能な限りコスト効果的なハードディスクドライブ用ディスク(このディスクはより小さなパターンを有し、これによって高速かつコスト効果的に製造可能である)を提供するために、本発明では、この種のマイクロパターン化及び/又はナノパターン化製品/基板の製造において、マイクロコンタクト印刷法μCP)を用いることを提案する。
【選択図】図1

Description

本発明は、本願請求項1及び10に規定された方法及び装置に関し、また、ナノパターン化ダイの使用、定義済みのナノパターンを備えたディスク、及び、この種のディスクを備えたハードディスクドライブに関する。
周知のハードディスクドライブは、一つ以上のディスクから成り、そのディスクの一面または両面の上には環状パターンで磁化可能材料が提供されている。ハードディスクドライブは磁化されたパターンを読み出すために少なくとも一つの読み書きユニットを備える。現在では、パターン化されていないディスクが専ら使用されている。
より大きなビット密度に対する要求が増加しているため、ディスクに適用される磁化可能層の寸法を減少させることが望まれている。
パターン化ディスク(“パターン化媒体”として知られている)用の磁化可能パターンはまた、スタンピング法によって理論的には生成可能である。ここで、スタンピング法においては、例えば、ディスクの中心穴を一般的に中心で掴むロボットアームが、ダイの上にこのディスクを配置する。上方に位置するダイが、調節の後に、下方のディスクの上に誘導されて、ディスクのスタンピングされるポリマー材料に、10N/cmから100kN/cmまでの相当な機械的圧力を印加することによって、ディスクがスタンピングされる。
石英のダイを使用する際には、材料の硬化時間が相当なものであるし、相当なスタンピング力も必要とされる。これによって、ディスクを製造する際の処理性能が大幅に制約され、よって、製造コストならびに製造時間が大幅に増加することになる。
上述の方法の更なる欠点は、ディスクに印加される大きな力が原因となるダイの調節精度である。また、ダイが汚れることも問題となる。
この種のストレージディスクでは、同心のパターンが、高い精度で、ストレージディスクの回転軸に正確に揃えられていることも重要である。回転速度は毎分7000回転を超えることが一般的であるので、非中心的な転写では、ハードディスクドライブの読取ヘッドを誘導することが不可能になる。
両面がパターン化されているストレージディスクでは、第二の面上のパターンが、可能な限り正確に第一の面上のパターンに対応していることが必要である。
従って、本発明の課題は、可能な限り小さなパターンがディスクに適用されているより高速作動する装置及び対応する方法を提案することである。
更なる課題は、可能な限りコスト効果的なハードディスクドライブ用のディスクを提供することであり、ここで、このディスクはより小さなパターンを有し、これによって高速かつコスト効果的に製造可能である。
装置に関する課題は、請求項1の特徴によって解決される。方法に関する課題は、請求項10の特徴によって解決される。提案されるディスクに関する課題は、請求項14の特徴によって解決される。
本発明の基本原理は、この種のマイクロパターン化及び/又はナノパターン化製品/基板の製造において、マイクロコンタクト印刷法(microcontact printing,μCP)を用いることである。これには、当該分野で周知の方法とは対照的に、リソグラフィ段階が必要とされる。
印刷法の利点は、パターンを高速で転写可能であり、ディスク上に与えられる圧縮力がほとんどないかまたは非常に小さなものでよい点である。必要とされる圧縮力は、0.05から5N/cmまでであり、好ましくは0.05から2N/cmまでである。よって、ダイの重量によって与えられる力で充分なこともある。ディスクを製造する際の得られる処理性能も大幅に改善される。
装置によって移されなければならない圧縮力が小さいことによって、顕著に小さくて密なパターンに対しても、ダイ同士の相対的な位置とスタンピングされるディスクに対する相対的なダイの位置とに関して必要とされる精度を達成することができる。
ダイがリジッド基板から形成されていて、ダイの近接する隆起パターン間の相互作用を最大限に回避するために、ダイのパターンがリジッド基板に可能な限り直接接続されているという事実の結果として、格別な精度が達成可能である。従って、ダイのパターンとダイの基板との間の接続を可能な限り近接させるということに注意を払わなければならない。これによって、ダイのパターンを非常に正確に再現可能な方法において、スタンピング中に水平方向に作用する力及び結果としてのダイのパターンのずれが最大限回避される。この場合の調節精度は20μm未満である。
特に近接した接続は、多孔質基板材料(特にセラミック)によって達成可能である。ダイ材料は、基板から突出したダイパターンのみを備えた基板を介して設計される。
本発明では、その最も一般的な実施形態において、ディスクの上面及び/又はディスクの下面にナノパターン化ダイの定義済みのナノパターンを転写するために、少なくとも一つのナノパターン化ダイ(好ましくは、ポリジメチルシロキサン(polydimethylsiloxane,PDMS)ダイ)が備わっている。
本方法は、その最も一般的な実施形態において、以下の段階を備える。即ち、
a)ナノパターン化ディスクを製造するための装置の受入ユニットの上にディスクを配置する段階と、
b)少なくとも一つのダイ(好ましくは、ポリジメチルシロキサン(PDMS)ダイ)に対して相対的にディスクを正確に揃える段階と、
c)ディスクの下面及び/又はディスクの上面にナノパターン化ダイの定義済みのナノパターンを転写する段階とを備える。
本装置が二つの対向して揃えられたナノパターン化ダイを備え、ダイの間に揃えられるようにディスクを配置することができるという事実によって、両面にパターンを有するディスクを有利に同時に製造することができる。また、この方法は、ディスクの両面をパターン化するために加えなければならない圧縮力が一回しか加えられないということを意味する。これによって、第一に、エネルギーが節約され、第二に、製造中の運転速度が二倍になり、または、ディスクの記憶容量が二倍になる。
有利な実施形態では、それぞれのダイに対応する少なくとも一つのダイ受入ユニットを備える装置が提供される。従って、応用に応じて、ダイを取り外しまたは交換可能である。ダイ受入ユニットはそれぞれ、位置決めユニットと関連しており、これによって、ダイ受入ユニットが、このダイ受入ユニットの上に取り付けられたダイと共に、ディスクに平行な所望の位置に移動可能になる。x、y及びz方向という移動方向毎の一つのユニットへと位置決めユニットを分割することが特に有利である。x及びy方向はディスク7に平行な平面を形成し、z方向はディスクに直角に延伸する。この方法によって、ディスクに対する相対的な個々のダイの位置決め/調節/位置合わせの精度が、±5μm以下の最大ずれへと、改善される。
複数のダイの場合には、ディスク上に対向して配置されたパターンを互いに可能な限り正確に揃えるために、ダイ同士を互いに相対的に揃える追加的な位置決めユニットが提供される。個々の対応するパターン(リセス等)の重なりは調節可能であり、少なくとも30%、しかしながら好ましくは70%を超えて揃えられる。本方法では、対向するパターンは、互いに20μm未満、好ましくは5μm未満しかずれない。
ダイは、ダイホルダーによってダイ受入ユニットに対して固定される。この固定は特に、ダイ受入ユニットとダイホルダーとの間に配置された真空溝を真空に引くことによって、達成される。位置決めユニットが、ディスクの下面に関連するダイに対して相対的にディスクを正確に位置決めするためのx方向、y方向及びz方向用の個別のディスク位置決めユニットを備え、また、ディスクに対して揃えられたダイに対して相対的に、ディスクの上面に関連したダイを正確に位置決めするためのx方向、y方向及びz方向用の個別のダイ位置決めユニットを備えるという事実によって、位置決めを特に有利に達成することができる。
ディスク及びダイの互いの相対的な位置決め/位置合わせが、制御ラインによって位置決めユニット及び検出手段(好ましく光学的検出手段)に接続されている中央制御ユニットによって制御されるという事実によって、本方法に必要とされるパラメータ及び必要条件の全てを集合的に評価することが可能であり、必要であれば、対応する中央制御された方法で反応させることができる。
ディスクの位置は、少なくとも三つ、好ましくは四つの検出ユニットによって可能な限り正確に検出可能である。検出ユニットは、所定のディスク受入位置から所定の動径方向の位置に存在し、x方向及びy方向におけるディスクの正確な位置をディスクの位置の情報として検出するために提供される。ディスク受入位置は、ディスクが受入装置上に配置される位置のことであり、例えばロボットアームによって配置される。ディスクを二つのダイに対して相対的に可能な限り正確に揃えるために、または逆に、ダイをディスクに対して相対的に可能な限り正確に揃えるために、ディスクの位置の情報をラインを介して中央制御ユニットによって回収することができる。
ディスクが受入ユニットの上に正確に中心が合わされた方法で受け入れ可能であるという事実及び受入ユニットがディスクとディスク位置決めユニットとの間に配置されているという事実によって、同心状のパターンを、中心穴またはディスクの回転軸に対する相対的な精度が高く、中心が合わされた方法で、転写可能である。
受入ユニットが、ディスクの中心に対応させることができるマーキングを備えるという事実、及び、上方ダイのダイ受入ユニットに取り付けられた検出ユニットが、ディスクから上方ダイの間隔及び/又はずれをダイの位置の情報として検出するという事実によって、ディスクに対して予め揃えられた下方ダイに対して相対的に上方ダイを正確に位置決めすることが可能である。ここで、ダイの位置の情報は、ラインを介して制御ユニットによって回収可能である。
このダイの位置の情報と、ディスク及び下方ダイの既知の位置(ディスクの位置の情報)とによって、上方ダイを、ディスクの上方に非常に正確に位置決めすることまたは揃えることが可能であり、また、ディスク及びダイに対して相対的に揃えることも可能である。このプロセスは、中央制御ユニットによって制御され、以下のような方法で実施される。即ち、第一に、ダイのパターンがディスクの上面及び下面に最も正確な方法で互いに配置され/揃えられる方法で、第二に、同心のパターンが、ディスクの回転軸に対して相対的に揃えられる方法で実施される。
本発明による方法では、ディスクは初め、ロボットまたはロボットアームによって受入ユニットの上に配置され、受入ユニットの上に配置された後において、ディスクが、ダイに対して数マイクロメートルの非常に小さな距離に位置していることが好ましい。ディスクは、ダイに対して既に平行に揃えられているように受入ユニット上に受け入れられることが好ましい。ディスクが配置された後に、下方ダイに対する相対的なディスクの位置が、側方の検出手段によって検出され、中央制御ユニットによって回収され、必要であれば変換される。そして、受入ユニットを移動させる位置決めユニットによって、ディスクが、ダイの上方に正確に中心に揃えられる。下方ダイに対する相対的なディスクの位置合わせと同時にまたはその直後に、上方ダイが、対応するパターンが互いに正確に揃えられるような方法で、上方位置決めユニットによって、下方ダイに対して相対的に揃えられる。上方及び下方ダイの対応する位置合わせは、まずテスト印刷によって決定可能であり、パラメータ(較正)として中央制御ユニットに入力可能である。
ダイ及びディスクがx方向及びy方向において調節された後に、ディスクがその下の下方ダイの上に位置し、ディスクの下面がダイに接触するまで、ディスク受入ユニットが、z方向に動作する位置決めユニットによって下げられる。下げられている間に、必要であれば、x方向及びy方向の調節が行われる。これは、ダイに向けて下げる手順の間に生じ得るディスクに対して予め得られた位置の何らかの変化を補償するためである。
これと同時にまたはこの直後に、上方ダイが、上方ダイに関連しz方向に動作する位置決めユニットによって、ディスクに向かって下方に下げられる。上方ダイの正確な位置合わせは、検出手段を用いて下方ダイに対する相対的な上方ダイの所望の位置を定期的に測定することによって、また、これに対応して位置決めユニットによってx及びy方向の位置を補正することによって、確実なものになる。これは、中央コンピュータによって制御される。
例えばディスクの厚さ等の追加的に必要になり得るパラメータは、中央制御ユニットに手動で入力可能であり、または更なる検出手段によって自動検出可能である。
本発明の有利な実施形態は従属請求項に開示されている。
本発明の更なる利点及び適切な実施形態は、特許請求の範囲、図面及び明細書に記載されている。
図1に示される本発明による高精度装置では、参照符号1で示されるハウジングが装置を実質的に完全に取り囲んでいる。ハウジングは必須ではない。代わりに、上部ダイユニットと下部ダイユニットとの間の寸法的に安定な接続部(例えば、柱または片側だけの支持体(アーム))でも充分である。中央制御ユニット20は、ハウジング1の外側に配置可能であり、ライン22、23、24、25、26、27、28及び29を介して装置の対応する構成要素に接続されている。また、この中央制御ユニット20は、データ保存部、モニタ、入力キーボード及び算術論理演算ユニットを備える。
ハウジングの基部はハウジング1と一体であることが好ましく、この基部の上に、環状モールディングのダイ受入ユニット2が、一体として形成されているか、または取り付けられている。真空溝3から、真空システムに接続された真空ライン(図示せず)を介して、ダイ受入ユニットの上面を真空に引くことができる。この真空によって、ダイ受入ユニット2の上に平面状に置かれているダイホルダー4が、ダイ受入ユニットの上に保持される。
下方PDMSダイ5uがダイホルダー4に取り付けられ、ダイ受入ユニット2の表面、ダイホルダー4及び下方PDMSダイ5uは、水平且つ平行な面に配置される。
隙間領域30は、上向きに開かれていて、環状のダイ受入ユニット2及びハウジングの基部によって画定されているが、この隙間領域30内には、ディスク位置決めユニット9、10及び11が配置されている。これらディスク位置決めユニット9、10及び11のそれぞれは、これらの上に配置されるディスク用の受入ユニット8の位置決めを確実にする。一番下のディスク位置決めユニット11は、中央制御ユニット20によって制御され、y方向に(つまり、パターニング面の内外へと)受入ユニット8を移動させることができる。その上に配置されたディスク位置決めユニット10は、x方向の(つまり、パターニング面の左右に対する)移動を可能にする。ディスク位置決めユニット10の上に配置されたディスク位置決めユニット9は、z方向の(つまり、パターニング面の上下に対する)移動を可能にする。また、ディスク位置決めユニット9、10、11を所望の順番に配置してもよく、単一のユニットへと組み合わせてもよい。
受入ユニット8は、ディスク7の中心穴のエッジ7rの領域において、ディスク7を受け入れる。ディスクがこのような方法で受け入れられるので、ディスク7は、下方PDMSダイ5uの表面と平行に配置されることになる。
ディスク7が下方PDMSダイ5uに対して揃えられる前の開始位置においては、ディスク7の下面7uは、下方PDMSダイ5uの表面の数マイクロメートル上に配置されている。ディスク7によって形成された面には、4つの検出ユニット6(図2も参照)が、ディスク7からの或る横方向の距離に配置されていて、周囲に分布している。検出ユニット6はディスク7の外周までの距離を測定し、また、ディスクの位置に対する情報もこの距離から計算可能であり、ディスクの位置の情報は、4つの検出ユニット6に対するライン25を介して、中央制御ユニット20によって回収可能である。ディスクの位置の情報を計算することは、中央制御ユニット20で実施されることが好ましい。PDMSダイ5uの位置は、予め定められており、また、検出手段によっても検出される。
ディスク7は、ロボットアーム(図示せず)によって、側面のハウジング開口部12を介して、受入ユニット8の上に配置される。ハウジング開口部12は、開閉可能に形成可能である。
ディスク7の上方に、上方PDMSダイ5oが、下方PDMSダイ5uに対して鏡像になるように配置され、ダイホルダー17に取り付けられる。上方PDMSダイ5o及びダイホルダー17から構成されたユニットは、図3に示されるダイホルダー4及び下方PDMSダイ5uから構成されたモジュールに実質的に対応する。
上方PDMSダイ5oは、下方PDMSダイ5uと同じ様な方法で、真空溝16によって、ダイ受入ユニット21に固定される。ダイ受入ユニット21は、個別のダイ位置決めユニット13、14及び15によって、ディスク7に対して平行にほぼ自在に移動可能である。即ち、x方向には、ダイ位置決めユニット14によって移動可能であり、y方向には、ダイ位置決めユニット15によって移動可能であり、z方向には、好ましくはハウジング1の内壁上に誘導されているダイ位置決めユニット13によって移動可能である。
下方PDMSダイ5uに対する相対的な上方PDMSダイ5oのダイの位置の情報は、光学検出ユニット18によって、検出される。この光学検出ユニット18は、ダイ受入ユニット21の中心に取り付けられており、ライン(図示せず)を介して中央制御ユニット20に接続されている。このダイの位置の情報は、中央制御ユニット20に伝えられるか、または、中央制御ユニット20によって回収される。
対向して配置されている受入ユニット8上に適用されたマーキング19によって、x及びy方向の位置が検出される。マーキング19は、x及びy方向における側方変位に関する結論が得られるように光学的構成されている。特に、二本の交差するラインまたはリセスによって構成されており、二本のライン/リセスの交差角度α及びβは等しくない(図2を参照)。
逆に、マーキング19の代わりに、位置センサを提供してもよく、例えば、位置検出装置(Position Sensitive Device,PSD)や、四象限センサが挙げられる。そうして、この位置センサによって検出されるレーザが、光学検出ユニット18の代わりに適用される。
図1では、中央制御ユニットは、ライン22を介してマーキング19に接続され、ライン23、24及び29を介してディスク位置決めユニット11、10及び9に接続され、ライン26、27及び28を介してダイ位置決めユニット13、14及び15に接続されている。
完成したマイクロパターン化及び/又はナノパターン化ディスク7は、対向する個々のパターン/リセス/高さが互いに正確に揃って向かい合うので、ハードディスクドライブ用のストレージディスクとして使用可能である。結果として、ハードディスクドライブの読取ヘッドをほとんど誘導する必要がなく、理想的には全く誘導する必要がない。よって、ハードディスクドライブに対してより高速な回転速度を用いることができ、ハードディスクドライブの読取速度及びアクセス時間が改善される。ディスク7の個々のパターン/リセス/高さは、本発明によると、少なくとも30%の対向して揃えられたパターンの重なりを達成する。しかしながら、好ましくは、70%を超える。パターンのずれは20μm未満であり、好ましくは、5μm未満である。
光学的な位置決め/調節に代えて、または、これに加えて、ディスク7の外径に関して機械的に位置決め/調節を実施することもできる。これによっても位置決めに関しては略同じ精度が達成され、また、この位置決めはより高速に実施される。
代わりに、検出ユニット6を、集積位置測定システムを備えた機械的アクチュエータとして構成することもできる。この場合には、少なくとも三つのアクチュエータが互いに向かって対称的に(チャックとして)移動し、ディスクの周囲においてディスク7を機械的に中心に合わせる。
本発明による装置の概略的な側断面図である。 本発明による装置の概略的な水平断面図である。 ダイホルダーを備えた本発明によるダイの正面図及び側断面図を示す。
符号の説明
1 ハウジング
2 環状のダイ受入ユニット
3 真空溝
4 ダイホルダー
5u 下方ダイ
5o 上方ダイ
6 検出ユニット
7 ディスク
7u ディスクの下面
7o ディスクの上面
7r 中心穴のエッジ
8 受入ユニット
9 位置決めユニット(z方向)
10 位置決めユニット(x方向)
11 位置決めユニット(y方向)
12 ハウジング開口部
13 位置決めユニット(z方向)
14 位置決めユニット(x方向)
15 位置決めユニット(y方向)
16 真空溝
17 ダイホルダー
18 検出ユニット
19 マーキング
20 中央制御ユニット
21 ダイ受入ユニット
22 ライン
23 ライン
24 ライン
25 ライン
26 ライン
27 ライン
28 ライン
29 ライン
30 隙間領域

Claims (16)

  1. 上面(7o)及び下面(7u)を有するナノパターン化ディスク(7)、特にハードディスクドライブ用のストレージディスクを製造するための装置であり、
    ディスクの上面(7o)及び/又は下面(7u)に定義済みのナノパターンを転写するための少なくとも一つのナノパターン化ダイ(5u、5o)、好ましくはポリジメチルシロキサン(PDMS)ダイを備えることを特徴とする装置。
  2. 二つの対向して揃えられた、好ましくは互いに平行に揃えられたナノパターン化ダイ(5u、5o)を備え、前記ディスク(7)が、前記ダイ(5u、5o)との間に揃えられて、好ましくは前記ダイ(5u、5o)に平行に、配置可能であることを特徴とする請求項1に記載の装置。
  3. 前記ダイ(5u、5o)のそれぞれに対応する少なくとも一つのダイ受入ユニット(2、21)を備え、前記ダイのそれぞれに対して、前記ダイ(5u、5o)に対して相対的に前記ディスク(7)を正確に位置決めするための位置決めユニット(9、10、11、13、14、15)が対応していることを特徴とする請求項1または請求項2のいずれかに記載の装置。
  4. 前記ダイ(5u、5o)がダイホルダー(4、17)によってダイ受入ユニット(2、21)に固定可能であり、特に、前記ダイ受入ユニット(2、21)と前記ダイホルダー(4、17)との間に配置された真空溝(3、16)を真空に引くことによって固定可能であることを特徴とする請求項2に記載の装置。
  5. 前記位置決めユニット(9、10、11、13、14、15)が、前記ディスクの下面(7u)に関連した前記ダイ(5u)に対して相対的に前記ディスクを正確に位置決めするためのx方向(10)、y方向(11)及びz方向(9)用の個別のディスク位置決めユニット(9、10、11)と、前記ディスク(7)に揃えられた前記ダイ(5u)に対して相対的に前記ディスクの上面(7o)に関連した前記ダイ(5o)を正確に位置決めするためのx方向(14)、y方向(15)及びz方向(13)用の個別のディスク位置決めユニット(13、14,15)とを備えることを特徴とする請求項3に記載の装置。
  6. 前記ディスク(7)及び前記ダイ(5u、5o)が、中央制御ユニット(20)を介して、互いに位置決め/位置合わせされ、前記中央制御ユニット(20)が、制御ラインによって前記位置決めユニット(9、10、11、13、14、15)及び検出手段(好ましくは光学的検出手段)(6、18)に接続されていることを特徴とする請求項5に記載の装置。
  7. 所定のディスク受入位置に対して所定の動径方法の距離に位置している少なくとも三つ好ましくは四つの検出ユニット(6)が、x方向及びy方向の前記ディスク(7)の正確な位置を、ディスクの位置の情報として検出するために提供されており、前記ディスクの位置の情報がラインを介して前記制御ユニット(20)によって回収可能であることを特徴とする請求項6に記載の装置。
  8. 前記ディスク(7)を受入ユニット(8)の中心に受け入れることが可能であり、前記受入ユニット(8)が前記ディスク(7)とディスク位置決めユニット(9、10、11)との間に配置されていることを特徴とする請求項5から請求項7のいずれか一項に記載の装置。
  9. 前記受入ユニット(8)が前記ディスク(7)の中心に対応可能なマーキング(19)を備えて、上方の前記ダイ(5o)の前記ダイ受入ユニット(21)に取り付けられた検出ユニット(18)が、前記ディスク(7)に対する相対的な上方の前記ダイ(5o)のずれ及び/又は距離をダイの位置の情報として検出し、前記ダイの位置の情報が、ラインを介して制御ユニット(20)によって回収可能であることを特徴とする請求項8に記載の装置。
  10. 特に請求項1から請求項9のいずれか一項に記載の装置を用いて、ナノパターン化ディスク(7)、特にハードディスクドライブ用のストレージディスクを製造するための方法であり、
    a)ナノパターン化ディスク(7)を製造するための装置の受入ユニット(8)の上にディスク(7)を配置する段階と、
    b)少なくとも一つのダイ(5u、5o)、好ましくはポリジメチルシロキサン(PDMS)ダイに対して相対的に前記ディスク(7)を正確に揃える段階と、
    c)前記ディスク(7)の下面(7u)及び/又は前記ディスク(7)の上面(7o)にナノパターン化ダイ(5u、5o)の定義済みのナノパターンを転写する段階とを備えた方法。
  11. 前記ディスク(7)が、二つの対向して揃えられた、好ましくは互いに平行な、ナノパターン化ダイ(5u、5o)の間に、好ましくは前記ダイ(5u、5o)に平行に、揃えられることを特徴とする請求項10に記載の方法。
  12. 前記ダイ(5u、5o)に対する前記ディスク(7)の位置合わせが中央制御ユニット(20)によって制御され、前記中央制御ユニット(20)が、前記ディスク(7)及び前記ダイ(5u、5o)の相対的な位置を検出する検出手段(6、18)によって、位置決めユニット(9、10、11、13、14、15)を制御することを特徴とする請求項10または請求項11のいずれかに記載の方法。
  13. 特に請求項1から請求項9のいずれか一項に記載の装置のナノパターン化ダイの定義済みのナノパターンを、ディスク(7)、特にハードディスクドライブ用のストレージディスクの上面(7o)及び/又は下面(7u)に転写するための、少なくとも一つのナノパターン化ダイ(5u、5o)好ましくはポリジメチルシロキサン(PDMS)ダイの使用。
  14. 好ましくは請求項1から請求項9のいずれか一項に記載の装置によって与えられ、及び/又は、請求項10から請求項12のいずれか一項に記載の方法によって与えられた定義済みのナノパターンを備えた、特にハードディスクドライブ用のストレージディスクであるディスク(7)。
  15. 両面に定義済みのナノパターンが提供されており、該両面のナノパターンが好ましくは互いに正確に揃っていることを特徴とする請求項14に記載のディスク(7)。
  16. 請求項14または請求項15のいずれかに記載のディスク(7)を少なくとも一つ備えたハードディスクドライブ。
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Families Citing this family (3)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
US8231821B2 (en) * 2008-11-04 2012-07-31 Molecular Imprints, Inc. Substrate alignment
DE102013102984B4 (de) * 2013-03-22 2015-01-22 Leonhard Kurz Stiftung & Co. Kg Folienprägeeinrichtung
CN104991416B (zh) * 2015-07-23 2021-05-25 太原理工大学 一种基于光盘的二维周期性微纳结构的热压印方法

Citations (6)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2001209978A (ja) * 1999-11-16 2001-08-03 Matsushita Electric Ind Co Ltd ディスクの位置決め方法
US6757116B1 (en) * 2001-08-16 2004-06-29 Seagate Technology Llc Disk biasing for manufacture of servo patterned media
JP2005178384A (ja) * 2003-12-19 2005-07-07 Komag Inc 間接流体圧力インプリンティング
JP2005183985A (ja) * 2003-12-19 2005-07-07 Komag Inc インプリント・リソグラフィのための複合スタンパ
JP2005537656A (ja) * 2002-08-27 2005-12-08 オブデュキャット、アクチボラグ 対象物にパターンを転写するための装置
JP2005539396A (ja) * 2002-09-17 2005-12-22 ザ ボード オブ トラスティーズ オブ ザ リーランド スタンフォード ジュニア ユニバーシティ マイクロ構造及びナノ構造の複製及び転写

Family Cites Families (18)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
US5512131A (en) * 1993-10-04 1996-04-30 President And Fellows Of Harvard College Formation of microstamped patterns on surfaces and derivative articles
AU2001271799A1 (en) 2000-06-30 2002-01-14 President And Fellows Of Harvard College Electric microcontact printing method and apparatus
US7717696B2 (en) * 2000-07-18 2010-05-18 Nanonex Corp. Apparatus for double-sided imprint lithography
US6814898B1 (en) 2000-10-17 2004-11-09 Seagate Technology Llc Imprint lithography utilizing room temperature embossing
US6949199B1 (en) 2001-08-16 2005-09-27 Seagate Technology Llc Heat-transfer-stamp process for thermal imprint lithography
US7117790B2 (en) 2002-01-11 2006-10-10 Massachusetts Institute Of Technology Microcontact printing
US6869557B1 (en) 2002-03-29 2005-03-22 Seagate Technology Llc Multi-level stamper for improved thermal imprint lithography
AU2002243021A1 (en) * 2002-04-01 2003-10-13 Fujitsu Limited Method for duplicating shape
SE522237C2 (sv) 2002-06-07 2004-01-27 Obducat Ab Förfarande och anordning för överföring av ett mönster, centrering av ett substrat och ett tryckorgan samt användning av en konisk dorn
US7252492B2 (en) * 2002-06-20 2007-08-07 Obducat Ab Devices and methods for aligning a stamp and a substrate
US7074341B1 (en) * 2002-07-01 2006-07-11 Seagate Technology Llc Method for protecting surface of stamper/imprinter during manufacture thereof
US6900881B2 (en) * 2002-07-11 2005-05-31 Molecular Imprints, Inc. Step and repeat imprint lithography systems
US7147790B2 (en) 2002-11-27 2006-12-12 Komag, Inc. Perpendicular magnetic discrete track recording disk
KR100911421B1 (ko) * 2003-05-16 2009-08-11 엘지디스플레이 주식회사 몰드를 이용한 컬러필터 형성방법과 이를 포함한액정표시장치 제조방법
US7329114B2 (en) * 2004-01-20 2008-02-12 Komag, Inc. Isothermal imprint embossing system
AU2005263016A1 (en) 2004-07-13 2006-01-19 Stichting Dutch Polymer Institute Microstructuring of mesogens using contact printing
ATE396048T1 (de) * 2004-12-10 2008-06-15 Essilor Int Stempel zum auftragen eines motivs, verfahren zur stempelherstellung und verfahren zur herstellung eines objekts anhand von diesem stempel
EP1957249B1 (en) * 2005-12-08 2014-11-12 Canon Nanotechnologies, Inc. Method and system for double-sided patterning of substrates

Patent Citations (6)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2001209978A (ja) * 1999-11-16 2001-08-03 Matsushita Electric Ind Co Ltd ディスクの位置決め方法
US6757116B1 (en) * 2001-08-16 2004-06-29 Seagate Technology Llc Disk biasing for manufacture of servo patterned media
JP2005537656A (ja) * 2002-08-27 2005-12-08 オブデュキャット、アクチボラグ 対象物にパターンを転写するための装置
JP2005539396A (ja) * 2002-09-17 2005-12-22 ザ ボード オブ トラスティーズ オブ ザ リーランド スタンフォード ジュニア ユニバーシティ マイクロ構造及びナノ構造の複製及び転写
JP2005178384A (ja) * 2003-12-19 2005-07-07 Komag Inc 間接流体圧力インプリンティング
JP2005183985A (ja) * 2003-12-19 2005-07-07 Komag Inc インプリント・リソグラフィのための複合スタンパ

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