JP5024464B2 - パターン形成方法およびモールド - Google Patents
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t(n−1)=λ/2(1+a) (n:モールドの屈折率、t:パターン深さ、λ:照 射光波長)
の関係を満たすことにより、より高い検出信号強度をうる事ができるため特に好ましい。また、本発明のアライメントマークは円弧状であることが好ましい。円弧状にすることでディスク状基板中心部の円形開口部と位置合わせする際に、円形開口部端部との形状が相似形になるためにより高精度に認知できる。円弧の中心角θは0°<θ≦360°の範囲のものを用いることができる。
図8では長さ2μmの十字による位置合わせ用マークが、転写パターンのある領域の外周に位置しており、8つの対称的な位置に配置してある。位置合わせ用マークは転写パターンと同じ面上に同一工程で形成されており、パターン転写の際にウエハに押し付けられるために機械的接触に伴う損傷を生じる恐れがある。例えばマークの欠損であり、樹脂の付着である。合わせマークが損傷するとアライメント精度が劣化し、歩留まりに大きな影響を与える。本実施例では8つのマークの位置の測定結果の中で2つが500nm以上設計値からずれており、損傷を受けたものと考えられた。これに対して残りの6つのマークは30nmから50nmのずれに留まっていた。欠損,樹脂の付着した位置合わせ用マーク802,803を除いてアライメントを行った結果、精度の良い転写を行うことが出来た。アライメント精度は300nmから70nmへと改善された。
Claims (3)
- 微細な凹凸形状パターンが形成されたモールドを基板に押し付けて、該微細な凹凸パターンを基板表面に転写するパターン形成方法において、前記モールドは、基板とモールドとの相対位置関係を決定するための複数のアライメントマークを有し、相対位置を決定する際に前記アライメントマークの破損の有無を検出する工程を有し、前記検出工程で破損したアライメントマークが検出された場合には、破損部を除くアライメントマークにより位置合わせすることを特徴とするパターン形成方法。
- 請求項1に記載のパターン形成方法において、破損したアライメントマークの検出を、前記モールドに形成された初期の前記アライメントマークの位置情報と前記アライメントマークの位置を測定した結果を参照することにより検出することを特徴とするパターン形成方法。
- 請求項1に記載のパターン形成方法において、破損したアライメントマークの検出を、前記アライメントマークのパターン形状を比較することにより検出することを特徴とするパターン形成方法。
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