JP2008255419A - 直流プラズマを用いた成膜装置 - Google Patents
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Abstract
【解決手段】成膜空間7とプラズマ発生源1とアノード26とを有し、アノード26はアノード空間25に配置され、成膜空間7とアノード空間25とはフランジ21,22により隔絶されている。フランジには、開口18,19と、プラズマを収束させる磁場発生手段23,24が備えられている。開口28、29は、成膜空間からアノード空間に向かって段階的または連続的に狭められている。これにより、成膜室に対するアノード空間の圧力の比を3桁以上大きくすることが可能になり、アノードへのプラズマ生成物の堆積を防ぐことができる。
【選択図】図1
Description
実施例の成膜装置は、図1および図2の構造である。フランジ21の開口28の径は、図2に示したように、成膜室7側の径を16mm、アノード室25側の径を12mmとした。フランジ22の開口29の径は、8mmとした。これにより、成膜室7からアノード室25に向かって3段階で開口径が狭まる構成とした。
Claims (4)
- 成膜空間と、直流プラズマを発生するプラズマ発生源と、前記プラズマが到達するアノードとを有し、
前記アノードは、アノード空間に配置され、前記成膜空間と前記アノード空間とはフランジにより隔絶され、
該フランジには、前記プラズマを通過させる開口と、該開口を通過するプラズマを収束させる磁場発生手段が備えられ、
前記開口は、前記成膜空間から前記アノード空間に向かって段階的または連続的に狭められていることを特徴とする直流プラズマを用いた成膜装置。 - 請求項1に記載の直流プラズマを用いた成膜装置において、前記フランジは、少なくとも前記開口の内壁部分が、高融点材料によって構成されていることを特徴とする直流プラズマを用いた成膜装置。
- 請求項1または2に記載の直流プラズマを用いた成膜装置において、前記フランジは、前記プラズマ軸方向に沿って配置された2以上のフランジ部材に分かれ、該2以上のフランジ部材には、それぞれ前記開口が備えられ、前記アノード空間側のフランジ部材の開口径を、前記成膜空間側のフランジ部材の開口径よりも小さくすることにより、少なくとも2段階に開口径を狭めていることを特徴とする直流プラズマを用いた成膜装置。
- 請求項1に記載の直流プラズマを用いた成膜装置において、前記開口は、前記成膜室の圧力に対する前記アノード室の圧力を100倍以上の陽圧に保つことができる大きさに設定されていることを特徴とする直流プラズマを用いた成膜装置。
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