JP2008251774A5 - - Google Patents
Download PDFInfo
- Publication number
- JP2008251774A5 JP2008251774A5 JP2007090327A JP2007090327A JP2008251774A5 JP 2008251774 A5 JP2008251774 A5 JP 2008251774A5 JP 2007090327 A JP2007090327 A JP 2007090327A JP 2007090327 A JP2007090327 A JP 2007090327A JP 2008251774 A5 JP2008251774 A5 JP 2008251774A5
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- porous silica
- silica film
- group
- alkyl group
- film according
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Granted
Links
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP2007090327A JP5165914B2 (ja) | 2007-03-30 | 2007-03-30 | 多孔質シリカフィルム及びその製造方法 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP2007090327A JP5165914B2 (ja) | 2007-03-30 | 2007-03-30 | 多孔質シリカフィルム及びその製造方法 |
Publications (3)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JP2008251774A JP2008251774A (ja) | 2008-10-16 |
| JP2008251774A5 true JP2008251774A5 (https=) | 2010-04-30 |
| JP5165914B2 JP5165914B2 (ja) | 2013-03-21 |
Family
ID=39976383
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP2007090327A Active JP5165914B2 (ja) | 2007-03-30 | 2007-03-30 | 多孔質シリカフィルム及びその製造方法 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JP5165914B2 (https=) |
Families Citing this family (3)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP5603586B2 (ja) * | 2009-11-06 | 2014-10-08 | 旭化成イーマテリアルズ株式会社 | トレンチ埋め込み用絶縁膜の形成方法 |
| JP5999593B2 (ja) * | 2012-05-22 | 2016-09-28 | 国立大学法人広島大学 | シリカゼオライト絶縁膜の製造方法 |
| WO2019049735A1 (ja) * | 2017-09-11 | 2019-03-14 | 東京エレクトロン株式会社 | 絶縁膜の成膜方法、基板処理装置及び基板処理システム |
Family Cites Families (9)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPH08236518A (ja) * | 1995-02-28 | 1996-09-13 | Hitachi Ltd | シリコン酸化膜の形成方法 |
| JP4028032B2 (ja) * | 1997-07-25 | 2007-12-26 | 日本テキサス・インスツルメンツ株式会社 | 半導体装置及びその製造方法 |
| AU2379900A (en) * | 1998-12-23 | 2000-07-31 | Battelle Memorial Institute | Mesoporous silica film from a solution containing a surfactant and methods of making same |
| US6768200B2 (en) * | 2000-10-25 | 2004-07-27 | International Business Machines Corporation | Ultralow dielectric constant material as an intralevel or interlevel dielectric in a semiconductor device |
| WO2002043119A2 (en) * | 2000-10-25 | 2002-05-30 | International Business Machines Corporation | An ultralow dielectric constant material as an intralevel or interlevel dielectric in a semiconductor device, a method for fabricating the same, and an electronic device containing the same |
| TWI240959B (en) * | 2003-03-04 | 2005-10-01 | Air Prod & Chem | Mechanical enhancement of dense and porous organosilicate materials by UV exposure |
| JP2005133060A (ja) * | 2003-10-29 | 2005-05-26 | Rohm & Haas Electronic Materials Llc | 多孔性材料 |
| US7202564B2 (en) * | 2005-02-16 | 2007-04-10 | International Business Machines Corporation | Advanced low dielectric constant organosilicon plasma chemical vapor deposition films |
| KR20080033542A (ko) * | 2005-08-12 | 2008-04-16 | 미쓰이 가가쿠 가부시키가이샤 | 다공질 실리카의 제조 방법 및 제조 장치 |
-
2007
- 2007-03-30 JP JP2007090327A patent/JP5165914B2/ja active Active
Similar Documents
| Publication | Publication Date | Title |
|---|---|---|
| JP2010090389A5 (https=) | ||
| JP4778087B2 (ja) | 組成物、及び、多孔質材料の形成方法 | |
| JP2013511389A5 (https=) | ||
| CN1389591A (zh) | 低介电常数材料以及通过cvd的加工方法 | |
| KR20150068986A (ko) | 규소질 치밀막의 형성 방법 | |
| CN103936349B (zh) | 疏水型气相SiO2纳米孔绝热材料及其制备方法 | |
| WO2008035820A1 (en) | Silicone resin composition and method for forming trench isolation | |
| CN1657530A (zh) | 硅氧烷化合物及其聚合物和用该聚合物制备介电膜的方法 | |
| CN1360559A (zh) | 具有低介电常数的多孔硅石涂层、半导体设备和涂料组合物 | |
| JPWO2019039541A1 (ja) | 低密度ゲル体とその製造方法 | |
| JP2008251774A5 (https=) | ||
| JP2010149002A (ja) | 浸透気化分離膜およびその製造方法 | |
| JPH10150033A (ja) | 層間絶縁膜形成用材料及び層間絶縁膜 | |
| JP2013253223A (ja) | ポリシルセスキオキサン液体及びポリシルセスキオキサンガラスならびにその製造方法 | |
| CN103055770A (zh) | 多面体低聚倍半硅氧烷—二氧化钛复合气凝胶的制备方法 | |
| CN1572816A (zh) | 硅氧烷基的树脂和使用其制造的半导体器件的层间绝缘膜 | |
| JP2016181567A5 (ja) | 半導体記憶装置及び半導体記憶装置の製造方法 | |
| CN1535300A (zh) | 硅氧烷树脂 | |
| JP5158358B2 (ja) | 加水分解性基含有オルガノハイドロジェンポリシロキサンの製造方法 | |
| CN102774842B (zh) | 一种多孔有机无机复合材料及其制备方法 | |
| JP6404324B2 (ja) | 光触媒コーティングを付着させる方法および関連するコーティング、テキスタイル材料および光触媒反応における使用 | |
| JP2012104616A (ja) | 低誘電率膜の前駆体組成物及びこれを用いた低誘電率膜の製造方法 | |
| JP5165914B2 (ja) | 多孔質シリカフィルム及びその製造方法 | |
| JP5826012B2 (ja) | ポリシロキサン縮合物を含有する絶縁材料及び該絶縁材料を用いた硬化膜の製造方法 | |
| CN110952074B (zh) | 硅化合物和使用硅化合物沉积膜的方法 |