JP2008248239A5 - - Google Patents

Download PDF

Info

Publication number
JP2008248239A5
JP2008248239A5 JP2008055918A JP2008055918A JP2008248239A5 JP 2008248239 A5 JP2008248239 A5 JP 2008248239A5 JP 2008055918 A JP2008055918 A JP 2008055918A JP 2008055918 A JP2008055918 A JP 2008055918A JP 2008248239 A5 JP2008248239 A5 JP 2008248239A5
Authority
JP
Japan
Prior art keywords
group
resin composition
siloxane resin
radical polymerizable
polymerizable organic
Prior art date
Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
Pending
Application number
JP2008055918A
Other languages
English (en)
Japanese (ja)
Other versions
JP2008248239A (ja
Filing date
Publication date
Application filed filed Critical
Priority to JP2008055918A priority Critical patent/JP2008248239A/ja
Priority claimed from JP2008055918A external-priority patent/JP2008248239A/ja
Publication of JP2008248239A publication Critical patent/JP2008248239A/ja
Publication of JP2008248239A5 publication Critical patent/JP2008248239A5/ja
Pending legal-status Critical Current

Links

JP2008055918A 2007-03-08 2008-03-06 シロキサン樹脂組成物、それを用いた硬化膜および光学デバイス Pending JP2008248239A (ja)

Priority Applications (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP2008055918A JP2008248239A (ja) 2007-03-08 2008-03-06 シロキサン樹脂組成物、それを用いた硬化膜および光学デバイス

Applications Claiming Priority (2)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP2007058163 2007-03-08
JP2008055918A JP2008248239A (ja) 2007-03-08 2008-03-06 シロキサン樹脂組成物、それを用いた硬化膜および光学デバイス

Publications (2)

Publication Number Publication Date
JP2008248239A JP2008248239A (ja) 2008-10-16
JP2008248239A5 true JP2008248239A5 (fr) 2010-09-16

Family

ID=39973554

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
JP2008055918A Pending JP2008248239A (ja) 2007-03-08 2008-03-06 シロキサン樹脂組成物、それを用いた硬化膜および光学デバイス

Country Status (1)

Country Link
JP (1) JP2008248239A (fr)

Families Citing this family (14)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
US8901268B2 (en) * 2004-08-03 2014-12-02 Ahila Krishnamoorthy Compositions, layers and films for optoelectronic devices, methods of production and uses thereof
WO2010013816A1 (fr) * 2008-08-01 2010-02-04 旭硝子株式会社 Composition photosensible négative, paroi de séparation pour élément optique utilisant la composition photosensible négative, et élément optique comprenant la paroi de séparation
EP2507316A1 (fr) * 2009-12-04 2012-10-10 Dow Corning Corporation Stabilisation de résines de silsesquioxane
JP2012082393A (ja) * 2010-09-17 2012-04-26 Jsr Corp ポリシロキサン組成物、並びにその硬化膜及びその形成方法
CN103119691B (zh) * 2010-10-20 2016-01-13 株式会社德山 光固化性纳米压印用组合物、使用该组合物的图案的形成方法及具有该组合物的固化体的纳米压印用复制模具
WO2013047131A1 (fr) 2011-09-30 2013-04-04 Fujifilm Corporation Composition de résine durcissable, ensemble d'éléments optiques, son procédé de fabrication et imageur à semi-conducteurs l'utilisant
WO2013115191A1 (fr) * 2012-01-31 2013-08-08 旭硝子株式会社 Agent pour la prévention de l'accumulation d'empreintes, son procédé de production, composition pour revêtements durs, base comprenant une couche de revêtement dur et panneau tactile
JP2016040353A (ja) * 2014-08-12 2016-03-24 日本曹達株式会社 有機無機複合体及びその形成用組成物
JP2016056256A (ja) * 2014-09-08 2016-04-21 セイコーインスツル株式会社 コーティング剤、コーティング膜、およびコーティング剤の製造方法
US11561472B2 (en) 2015-06-11 2023-01-24 Nissan Chemical Industries, Ltd. Radiation sensitive composition
KR20180059751A (ko) * 2015-09-28 2018-06-05 도레이 카부시키가이샤 고분자 화합물, 수지 조성물, 막, 고체 촬상 소자, 고분자 화합물의 제조 방법, 고체 촬상 소자의 제조 방법 및 광학 디바이스
JP7033259B2 (ja) * 2016-11-28 2022-03-10 国立大学法人 奈良先端科学技術大学院大学 保護膜を具備する薄膜トランジスタ基板およびその製造方法
CN111373325B (zh) * 2017-11-21 2023-10-17 东丽株式会社 硅氧烷树脂组合物、固化膜及显示装置
CN113631601B (zh) * 2019-03-28 2024-10-11 株式会社钟化 有机无机复合树脂及其制造方法

Family Cites Families (4)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPH0681774B2 (ja) * 1988-10-18 1994-10-19 信越化学工業株式会社 紫外線硬化性組成物
JP2005036051A (ja) * 2003-07-17 2005-02-10 Shin Etsu Chem Co Ltd 放射線硬化性シリコーンゴム組成物および電気・電子装置
WO2005085922A1 (fr) * 2004-03-09 2005-09-15 Jsr Corporation Procédé de fabrication de puce de guide d’onde optique
JP4671338B2 (ja) * 2005-06-27 2011-04-13 日本化薬株式会社 フッ素含有ポリシロキサン、それを用いる感光性樹脂組成物及びその硬化物

Similar Documents

Publication Publication Date Title
JP2008248239A5 (fr)
JP5589387B2 (ja) シロキサン樹脂組成物およびそれを用いたタッチパネル用保護膜
JP5212571B2 (ja) タッチパネル部材
JP2017219850A5 (fr)
KR102300782B1 (ko) 네거티브형 감광성 수지 조성물, 그것을 경화시켜서 이루어지는 경화막과 그 제조 방법 및 그것을 구비하는 광학 디바이스, 그리고 이면 조사형 cmos 이미지 센서
JP5407210B2 (ja) シロキサン樹脂組成物およびそれを用いた硬化膜
JP2009509007A5 (fr)
JP2008248239A (ja) シロキサン樹脂組成物、それを用いた硬化膜および光学デバイス
JP2009052010A5 (fr)
JP5671936B2 (ja) ネガ型感光性樹脂組成物およびそれを用いた硬化膜
JP6379390B2 (ja) 無溶剤型光硬化性樹脂組成物
JP2007301970A5 (fr)
JP2008156609A5 (ja) 反射防止膜
JP2010230957A5 (fr)
CN109071742B (zh) 树脂组合物、其固化膜及其制造方法以及固体摄像器件
JP2012088699A5 (fr)
JPWO2022059492A5 (fr)
JP2008121011A5 (ja) 無機微粒子、塗布組成物、硬化物、光学フィルム、反射防止フィルム、偏光板、及び画像表示装置
JP2008106190A5 (fr)
JP2007046008A5 (fr)
TWI456006B (zh) 光硬化性樹脂組成物、以及使用其之施水構件及功能性面板(二)
TW200736828A (en) Photosensitive resin composition and photoresist film using the same
US11859034B2 (en) Curable composition, method of preparing curable composition, cured material of curable composition, method of preparing cured material, and electronic device including cured material
JP2016216646A (ja) 重合体の製造方法およびその重合体
JP2003313386A5 (fr)