JP2008239854A - ミクロ相分離構造を有する高分子体の製造方法ならびにミクロ相分離構造を有する高分子体 - Google Patents
ミクロ相分離構造を有する高分子体の製造方法ならびにミクロ相分離構造を有する高分子体 Download PDFInfo
- Publication number
- JP2008239854A JP2008239854A JP2007084120A JP2007084120A JP2008239854A JP 2008239854 A JP2008239854 A JP 2008239854A JP 2007084120 A JP2007084120 A JP 2007084120A JP 2007084120 A JP2007084120 A JP 2007084120A JP 2008239854 A JP2008239854 A JP 2008239854A
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- polymer
- segment
- microphase
- copolymer
- producing
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Granted
Links
Classifications
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C08—ORGANIC MACROMOLECULAR COMPOUNDS; THEIR PREPARATION OR CHEMICAL WORKING-UP; COMPOSITIONS BASED THEREON
- C08L—COMPOSITIONS OF MACROMOLECULAR COMPOUNDS
- C08L25/00—Compositions of, homopolymers or copolymers of compounds having one or more unsaturated aliphatic radicals, each having only one carbon-to-carbon double bond, and at least one being terminated by an aromatic carbocyclic ring; Compositions of derivatives of such polymers
- C08L25/18—Homopolymers or copolymers of aromatic monomers containing elements other than carbon and hydrogen
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C08—ORGANIC MACROMOLECULAR COMPOUNDS; THEIR PREPARATION OR CHEMICAL WORKING-UP; COMPOSITIONS BASED THEREON
- C08F—MACROMOLECULAR COMPOUNDS OBTAINED BY REACTIONS ONLY INVOLVING CARBON-TO-CARBON UNSATURATED BONDS
- C08F297/00—Macromolecular compounds obtained by successively polymerising different monomer systems using a catalyst of the ionic or coordination type without deactivating the intermediate polymer
- C08F297/02—Macromolecular compounds obtained by successively polymerising different monomer systems using a catalyst of the ionic or coordination type without deactivating the intermediate polymer using a catalyst of the anionic type
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C08—ORGANIC MACROMOLECULAR COMPOUNDS; THEIR PREPARATION OR CHEMICAL WORKING-UP; COMPOSITIONS BASED THEREON
- C08L—COMPOSITIONS OF MACROMOLECULAR COMPOUNDS
- C08L53/00—Compositions of block copolymers containing at least one sequence of a polymer obtained by reactions only involving carbon-to-carbon unsaturated bonds; Compositions of derivatives of such polymers
Abstract
【解決手段】2種以上のセグメントからなり、イオン結合および/または水素結合を形成しうる第1の官能基を備えるモノマーユニットからなる第1のセグメントと、当該セグメントと非相容である第2のセグメントを有するブロックコポリマーと、第1の官能基との間でイオン結合および/または水素結合を形成しうる第2の官能基をポリマー鎖の末端以外に有するポリマーとを混合し、イオン結合および/または水素結合により第1のセグメントとポリマーとを多点で会合させるとともに、コポリマーとポリマーとの混合物をミクロ相分離させて、互いに会合した第1のセグメントおよびポリマーを含む領域と、第2のセグメントを含む領域とを含む高分子体を形成する。
【選択図】図1
Description
本実施例では、ブロックコポリマー(I)として、ポリスチレン−ポリ2-ビニルピリジン二成分ジブロックコポリマー(コポリマーSP)を用いた。以下にその合成方法を示す。なお、コポリマーSPにおける、スチレンをモノマーユニットとするセグメントSが第2のセグメントに、2-ビニルピリジンをモノマーユニットとするセグメントPが第1のセグメントに相当する。セグメントPは、第1の官能基としてアザフェニル基を備える。
本実施例では、ポリマー(II)として、ポリ4-ヒドロキシスチレン(ポリマーH)を用いた。以下にその合成方法を、図2に具体的な合成スキームを示す。なお、ポリマーHは、第2の官能基としてヒドロキシフェニル基を備えるモノマーユニットからなるホモポリマーである。
コポリマーSPおよびポリマーHの合成とは別に、比較例とするために、コポリマーSPのセグメントPと同種のホモポリマーであるポリ2-ビニルピリジン(ポリマーP)の合成を行った。以下にその合成方法を示す。
次に、上記のようにして作製したコポリマーSPおよびポリマーHのそれぞれをTHFに溶解させて、濃度5重量%のコポリマーSP溶液およびポリマーH溶液を作製した。次に、コポリマーSPとポリマーHとが以下の表4に示す混合比率となるように両溶液を混合した後、混合溶液を容器に流し込み、自然乾燥によりTHFを揮発、除去し、さらに真空下における乾燥(一日間)および熱処理(180℃、24時間)を経て、薄膜状の高分子体を形成した。
上記のように形成した高分子体における相分離構造の確認および観察を、透過型電子顕微鏡(TEM)により実施した。TEMによる評価を行うにあたっては、測定サンプルとして、ポリスチレンからなる領域(S領域)と、ポリ2-ビニルピリジンおよびポリ4-ヒドロキシスチレンからなる領域(P−H領域)との間のコントラストが得られるように、ヨウ素染色を行った非常に薄い切片を準備した。また、比較例である高分子体に対しても、測定サンプルとして同様の切片を準備した。
Claims (15)
- 互いに異なるモノマーユニットを有する2種以上のセグメントからなり、前記セグメントとして、イオン結合および/または水素結合を形成しうる第1の官能基を備えるモノマーユニットからなる第1のセグメントと、第1のセグメントと非相容である第2のセグメントとを有するブロックコポリマー(I)と、
第1の官能基との間でイオン結合および/または水素結合を形成しうる第2の官能基をポリマー鎖の末端以外に有するポリマー(II)とを、
熱溶融により混合した後に温度を低下させる、または、溶媒中において混合した後に溶媒を除去する、ことにより、
第1のセグメントとポリマー(II)とを、第1および第2の官能基の間に生じるイオン結合および/または水素結合により多点で会合させるとともに、コポリマー(I)とポリマー(II)との混合物をミクロ相分離させて、
互いに会合した第1のセグメントおよびポリマー(II)を含む領域と、第2のセグメントを含む領域と、を含むミクロ相分離構造を有する高分子体を形成する、ミクロ相分離構造を有する高分子体の製造方法。 - ポリマー(II)の分子量、および/または、コポリマー(I)とポリマー(II)
との混合比率を制御することにより、前記相分離構造を制御する請求項1に記載のミクロ相分離構造を有する高分子体の製造方法。 - 前記相分離構造が、柱状構造、ラメラ構造、球状構造または共連続構造である請求項1に記載のミクロ相分離構造を有する高分子体の製造方法。
- コポリマー(I)が、互いに異なるモノマーユニットを有する2種のセグメントからなるブロックコポリマーである請求項1に記載のミクロ相分離構造を有する高分子体の製造方法。
- コポリマー(I)が、前記2種のセグメントを1つずつ有するジブロックコポリマーである請求項4に記載のミクロ相分離構造を有する高分子体の製造方法。
- 1つの前記セグメントのみが第1の官能基を備える請求項1に記載のミクロ相分離構造を有する高分子体の製造方法。
- ポリマー(II)が、第2の官能基を備えるモノマーユニットからなるホモポリマーである請求項1に記載のミクロ相分離構造を有する高分子体の製造方法。
- 第1および第2の官能基の組み合わせが、窒素を含む官能基と、酸素を含む官能基との組み合わせである請求項1に記載のミクロ相分離構造を有する高分子体の製造方法。
- 第1および第2の官能基の組み合わせが、アザフェニル基、ジアルキルアミン基、シアノ基およびモルフォリン基から選ばれる少なくとも1種と、ヒドロキシフェニル基、スルホン酸基およびカルボキシル基から選ばれる少なくとも1種である請求項8に記載のミクロ相分離構造を有する高分子体の製造方法。
- 第1および第2の官能基の組み合わせが、アザフェニル基とヒドロキシフェニル基である請求項1に記載のミクロ相分離構造を有する高分子体の製造方法。
- コポリマー(I)が、(ポリスチレン−ポリ2-ビニルピリジン)ジブロックコポリマーである請求項1に記載のミクロ相分離構造を有する高分子体の製造方法。
- ポリマー(II)が、ポリ(4-ヒドロキシスチレン)である請求項1に記載のミクロ相分離構造を有する高分子体の製造方法。
- ポリマー(II)の分子量が、第1のセグメントの分子量よりも大きい請求項1に記載のミクロ相分離構造を有する高分子体の製造方法。
- 第1のセグメントに対するポリマー(II)の重量比が1.3を超えるように、コポリマー(I)とポリマー(II)とを混合する請求項1に記載のミクロ相分離構造を有する高分子体の製造方法。
- 請求項1〜14のいずれかに記載の製造方法によって得た、ミクロ相分離構造を有する高分子体。
Priority Applications (5)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP2007084120A JP5546719B2 (ja) | 2007-03-28 | 2007-03-28 | ミクロ相分離構造を有する高分子体の製造方法ならびにミクロ相分離構造を有する高分子体 |
PCT/JP2008/055470 WO2008123203A1 (ja) | 2007-03-28 | 2008-03-24 | ミクロ相分離構造を有する高分子体の製造方法ならびにミクロ相分離構造を有する高分子体 |
US12/593,507 US20100120985A1 (en) | 2007-03-28 | 2008-03-24 | Process for producing polymeric object having microphase-separated structure and polymeric object having microphase-separated structure |
CN200880010556.1A CN101688047B (zh) | 2007-03-28 | 2008-03-24 | 具有微相分离结构的聚合物体的制造方法及具有微相分离结构的聚合物体 |
EP08722736A EP2133391A4 (en) | 2007-03-28 | 2008-03-24 | METHOD FOR PRODUCING A MACROMOLECULLE WITH A MICROPHASE-SITUATED STRUCTURE AND A MACROMOLEKÜL WITH A MICROPHASE-SITUATED STRUCTURE |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP2007084120A JP5546719B2 (ja) | 2007-03-28 | 2007-03-28 | ミクロ相分離構造を有する高分子体の製造方法ならびにミクロ相分離構造を有する高分子体 |
Related Child Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP2013137960A Division JP2013189651A (ja) | 2013-07-01 | 2013-07-01 | ミクロ相分離構造を有する高分子体の製造方法ならびにミクロ相分離構造を有する高分子体 |
Publications (2)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JP2008239854A true JP2008239854A (ja) | 2008-10-09 |
JP5546719B2 JP5546719B2 (ja) | 2014-07-09 |
Family
ID=39830699
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP2007084120A Expired - Fee Related JP5546719B2 (ja) | 2007-03-28 | 2007-03-28 | ミクロ相分離構造を有する高分子体の製造方法ならびにミクロ相分離構造を有する高分子体 |
Country Status (5)
Country | Link |
---|---|
US (1) | US20100120985A1 (ja) |
EP (1) | EP2133391A4 (ja) |
JP (1) | JP5546719B2 (ja) |
CN (1) | CN101688047B (ja) |
WO (1) | WO2008123203A1 (ja) |
Cited By (4)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP2016089099A (ja) * | 2014-11-07 | 2016-05-23 | 国立大学法人名古屋大学 | 非共有結合性エラストマー |
WO2016181834A1 (ja) * | 2015-05-11 | 2016-11-17 | 国立大学法人名古屋大学 | 非共有結合性ソフトエラストマー及びその製法 |
JP2018070859A (ja) * | 2016-08-15 | 2018-05-10 | ポール・コーポレーションPall Corporation | フルオロポリマー及びフルオロポリマーを含む膜(ii) |
WO2023197806A1 (zh) * | 2022-04-12 | 2023-10-19 | 珠海中科先进技术研究院有限公司 | 一种多孔聚合物涂层铜电极及其制备方法和应用 |
Families Citing this family (26)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP6445975B2 (ja) * | 2013-10-17 | 2018-12-26 | リンテック株式会社 | 断熱フィルム及びその製造方法 |
EP3078693B1 (en) | 2013-12-06 | 2021-01-27 | LG Chem, Ltd. | Block copolymer |
EP3078687B1 (en) | 2013-12-06 | 2020-06-03 | LG Chem, Ltd. | Block copolymer |
CN105873968B (zh) * | 2013-12-06 | 2018-09-28 | 株式会社Lg化学 | 嵌段共聚物 |
US10227438B2 (en) | 2013-12-06 | 2019-03-12 | Lg Chem, Ltd. | Block copolymer |
CN105980342B (zh) | 2013-12-06 | 2019-02-15 | 株式会社Lg化学 | 单体和嵌段共聚物 |
EP3078685B1 (en) | 2013-12-06 | 2020-09-09 | LG Chem, Ltd. | Block copolymer |
EP3078689B1 (en) | 2013-12-06 | 2020-12-02 | LG Chem, Ltd. | Block copolymer |
WO2015084132A1 (ko) | 2013-12-06 | 2015-06-11 | 주식회사 엘지화학 | 블록 공중합체 |
WO2015084127A1 (ko) | 2013-12-06 | 2015-06-11 | 주식회사 엘지화학 | 블록 공중합체 |
JP6432847B2 (ja) | 2013-12-06 | 2018-12-05 | エルジー・ケム・リミテッド | ブロック共重合体 |
JP6410327B2 (ja) | 2013-12-06 | 2018-10-24 | エルジー・ケム・リミテッド | ブロック共重合体 |
CN105899559B (zh) | 2013-12-06 | 2018-05-25 | 株式会社Lg化学 | 嵌段共聚物 |
CN106459326B (zh) | 2013-12-06 | 2019-08-13 | 株式会社Lg化学 | 嵌段共聚物 |
JP6432846B2 (ja) | 2013-12-06 | 2018-12-05 | エルジー・ケム・リミテッド | ブロック共重合体 |
US10633533B2 (en) | 2014-09-30 | 2020-04-28 | Lg Chem, Ltd. | Block copolymer |
JP6451966B2 (ja) | 2014-09-30 | 2019-01-16 | エルジー・ケム・リミテッド | ブロック共重合体 |
US10281820B2 (en) | 2014-09-30 | 2019-05-07 | Lg Chem, Ltd. | Block copolymer |
US10295908B2 (en) | 2014-09-30 | 2019-05-21 | Lg Chem, Ltd. | Block copolymer |
US10310378B2 (en) | 2014-09-30 | 2019-06-04 | Lg Chem, Ltd. | Block copolymer |
US10287430B2 (en) | 2014-09-30 | 2019-05-14 | Lg Chem, Ltd. | Method of manufacturing patterned substrate |
JP6538159B2 (ja) | 2014-09-30 | 2019-07-03 | エルジー・ケム・リミテッド | ブロック共重合体 |
EP3225641B1 (en) | 2014-09-30 | 2021-11-24 | LG Chem, Ltd. | Block copolymer |
EP3203497B1 (en) | 2014-09-30 | 2023-11-29 | LG Chem, Ltd. | Method for producing patterned substrate |
CN107075028B (zh) | 2014-09-30 | 2020-04-03 | 株式会社Lg化学 | 嵌段共聚物 |
CN113621151B (zh) * | 2021-07-02 | 2022-04-29 | 东华大学 | 一种层状微相结构的线性驱动器及其制备方法 |
Citations (4)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP2004306404A (ja) * | 2003-04-07 | 2004-11-04 | Ricoh Co Ltd | 有機薄膜とその製造方法及び有機薄膜を用いた光記録媒体 |
JP2006172584A (ja) * | 2004-12-15 | 2006-06-29 | Ricoh Co Ltd | 光記録媒体 |
JP2006252613A (ja) * | 2005-03-08 | 2006-09-21 | Ricoh Co Ltd | 光記録媒体 |
JP2007138052A (ja) * | 2005-11-18 | 2007-06-07 | Kyoto Univ | 高分子薄膜、パターン基板の製造方法、パターン転写体、及び磁気記録用パターン媒体 |
Family Cites Families (6)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP3940546B2 (ja) * | 1999-06-07 | 2007-07-04 | 株式会社東芝 | パターン形成方法およびパターン形成材料 |
US7223518B2 (en) * | 2003-06-06 | 2007-05-29 | Georgia Tech Research Corporation | Compositions and methods of use thereof |
DE10359973A1 (de) * | 2003-12-18 | 2005-07-21 | Tesa Ag | Haftklebemasse auf Basis von Acrylatblockcopolymeren |
US7919110B2 (en) * | 2005-01-25 | 2011-04-05 | Boston Scientific Scimed, Inc. | Medical device drug release regions containing non-covalently bound polymers |
JP2007246600A (ja) * | 2006-03-14 | 2007-09-27 | Shin Etsu Chem Co Ltd | 自己組織化高分子膜材料、自己組織化パターン、及びパターン形成方法 |
CN101583657B (zh) * | 2007-01-11 | 2012-04-25 | 日东电工株式会社 | 聚合物多微孔体制造方法以及聚合物多微孔体及分离膜 |
-
2007
- 2007-03-28 JP JP2007084120A patent/JP5546719B2/ja not_active Expired - Fee Related
-
2008
- 2008-03-24 US US12/593,507 patent/US20100120985A1/en not_active Abandoned
- 2008-03-24 WO PCT/JP2008/055470 patent/WO2008123203A1/ja active Application Filing
- 2008-03-24 EP EP08722736A patent/EP2133391A4/en not_active Withdrawn
- 2008-03-24 CN CN200880010556.1A patent/CN101688047B/zh not_active Expired - Fee Related
Patent Citations (4)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP2004306404A (ja) * | 2003-04-07 | 2004-11-04 | Ricoh Co Ltd | 有機薄膜とその製造方法及び有機薄膜を用いた光記録媒体 |
JP2006172584A (ja) * | 2004-12-15 | 2006-06-29 | Ricoh Co Ltd | 光記録媒体 |
JP2006252613A (ja) * | 2005-03-08 | 2006-09-21 | Ricoh Co Ltd | 光記録媒体 |
JP2007138052A (ja) * | 2005-11-18 | 2007-06-07 | Kyoto Univ | 高分子薄膜、パターン基板の製造方法、パターン転写体、及び磁気記録用パターン媒体 |
Non-Patent Citations (2)
Title |
---|
JPN6012058163; DAI J, GOH S H, LEE S Y, SIOW K S: 'Interpolymer Complexation between Poly(p-vinylphenol) and Pyridine-Containing Polymers.' Polym J Vol.26 No.8, 199408, Page.905-911 * |
JPN6012058165; Polymer Preprints, Japan vol.56, No.1, 2007, p.735 * |
Cited By (6)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP2016089099A (ja) * | 2014-11-07 | 2016-05-23 | 国立大学法人名古屋大学 | 非共有結合性エラストマー |
WO2016181834A1 (ja) * | 2015-05-11 | 2016-11-17 | 国立大学法人名古屋大学 | 非共有結合性ソフトエラストマー及びその製法 |
JPWO2016181834A1 (ja) * | 2015-05-11 | 2018-03-15 | 国立大学法人名古屋大学 | 非共有結合性ソフトエラストマー及びその製法 |
US10829580B2 (en) | 2015-05-11 | 2020-11-10 | National University Corporation Tokai National Higher Education And Research System | Noncovalent soft elastomer and method for manufacturing the same |
JP2018070859A (ja) * | 2016-08-15 | 2018-05-10 | ポール・コーポレーションPall Corporation | フルオロポリマー及びフルオロポリマーを含む膜(ii) |
WO2023197806A1 (zh) * | 2022-04-12 | 2023-10-19 | 珠海中科先进技术研究院有限公司 | 一种多孔聚合物涂层铜电极及其制备方法和应用 |
Also Published As
Publication number | Publication date |
---|---|
JP5546719B2 (ja) | 2014-07-09 |
CN101688047A (zh) | 2010-03-31 |
EP2133391A1 (en) | 2009-12-16 |
WO2008123203A1 (ja) | 2008-10-16 |
US20100120985A1 (en) | 2010-05-13 |
EP2133391A4 (en) | 2010-12-08 |
CN101688047B (zh) | 2012-11-28 |
Similar Documents
Publication | Publication Date | Title |
---|---|---|
JP5546719B2 (ja) | ミクロ相分離構造を有する高分子体の製造方法ならびにミクロ相分離構造を有する高分子体 | |
Zhang et al. | Cylindrical polymer brushes | |
US10532546B2 (en) | Composite for neutral layer | |
JP5058827B2 (ja) | 高分子微多孔体の製造方法ならびに高分子微多孔体および分離膜 | |
Lu et al. | Remarkable effect of molecular architecture on chain exchange in triblock copolymer micelles | |
KR101990187B1 (ko) | 블록 공중합체의 자가-어셈블리에 의한 나노계측 구조의 제조를 가능하게 하는 방법 | |
KR20160038700A (ko) | 중성층 조성물 | |
CN106125504A (zh) | 用于定向自组装的共聚物配制品、其制造方法以及包含其的物件 | |
CN106125503A (zh) | 用于定向自组装的共聚物配制品、其制造方法以及包含其的物件 | |
CN106117950A (zh) | 用于定向自组装的共聚物配制品、其制造方法以及包含其的物件 | |
CN106117951A (zh) | 用于定向自组装的共聚物配制品、其制造方法以及包含其的物件 | |
St Thomas et al. | Alkoxyamine-functionalized latex nanoparticles through RAFT polymerization-induced self-assembly in water | |
RU2459839C1 (ru) | Композиция модификатора асфальта и композиция асфальта, содержащая такой модификатор | |
Gurr et al. | Synthesis, characterization, and direct observation of star microgels | |
Gao et al. | Observation of double gyroid and hexagonally perforated lamellar phases in ABCBA pentablock terpolymers | |
TWI629234B (zh) | 控制含有至少一非極性嵌段及至少一極性嵌段的嵌段共聚物之合成的方法及該嵌段共聚物藉由直接自組裝而應用於奈米微影術的用途 | |
KR101884102B1 (ko) | 블록 공중합체의 자가-어셈블리에 의한 나노계측 구조의 제조를 가능하게 하는 방법 | |
Appold et al. | Anionic Grafting to Strategies for Functional Polymethacrylates: Convenient Preparation of Stimuli‐Responsive Block Copolymer Architectures | |
JP2013189651A (ja) | ミクロ相分離構造を有する高分子体の製造方法ならびにミクロ相分離構造を有する高分子体 | |
Theodosopoulos et al. | Block copolymers by anionic polymerization: recent synthetic routes and developments | |
EP3736302B1 (en) | Block copolymer comprising photo-sensitive group | |
Arnold et al. | Synthesis, dynamic‐mechanical and morphological behavior of styrene/butyl methacrylate diblock copolymers | |
JP3676247B2 (ja) | 3成分トリブロック共重合体からミクロ相分離ポリマー構造体を製造する方法 | |
Stenert et al. | Poly (methyl methacrylate)-block-polystyrene and polystyrene-block-poly (n-butyl acrylate) as compatibilizers in PMMA/PnBA blends | |
Whicher et al. | Block copolymers of n‐propyl p‐styrene sulfonate with isoprene and styrene: Synthesis, characterization, and phase separation behavior |
Legal Events
Date | Code | Title | Description |
---|---|---|---|
A621 | Written request for application examination |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A621 Effective date: 20091116 |
|
A131 | Notification of reasons for refusal |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A131 Effective date: 20121113 |
|
A521 | Request for written amendment filed |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A523 Effective date: 20130115 |
|
A02 | Decision of refusal |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A02 Effective date: 20130402 |
|
A521 | Request for written amendment filed |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A523 Effective date: 20130701 |
|
A911 | Transfer to examiner for re-examination before appeal (zenchi) |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A911 Effective date: 20130708 |
|
A912 | Re-examination (zenchi) completed and case transferred to appeal board |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A912 Effective date: 20130726 |
|
A61 | First payment of annual fees (during grant procedure) |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A61 Effective date: 20140514 |
|
R150 | Certificate of patent or registration of utility model |
Ref document number: 5546719 Country of ref document: JP Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R150 |
|
R250 | Receipt of annual fees |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250 |
|
LAPS | Cancellation because of no payment of annual fees |