JP2008235755A - スルーホールフィリング方法 - Google Patents
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Abstract
【解決手段】 スルーホール内に誘電体を充填し、その一部を除去することにより、第1の凹部を形成する。その第1の凹部内に金属膜を形成し、ブラインドビアホールを形成する。ブラインドビアホール内に電解メッキ法により金属を充填する。裏面側からも同様にブラインドビアホール内に金属を充填する。
【選択図】 図1
Description
Claims (6)
- 基板に形成されたスルーホールに金属を充填するスルーホールフィリング方法において、
前記スルーホール内に誘電体を充填する工程と、
前記基板の一方の面から前記スルーホール内に充填した前記誘電体の一部を除去し、第1の凹部を形成する工程と、
該第1の凹部内を第1の金属で充填する工程と、
前記基板の他方の面から前記スルーホール内に残る前記誘電体を除去し、底部に前記第1の金属を露出する第2の凹部を形成する工程と、
該第2の凹部内を第2の金属で充填する工程とを含み、
前記スルーホールを前記第1の金属と前記第2の金属によって充填することを特徴とするスルーホールフィリング方法。 - 基板に形成されたスルーホールに金属を充填するスルーホールフィリング方法において、
前記スルーホール内にフォトレジストあるいは感光性ポリイミドを充填する工程と、
前記基板の一方あるいは他方の面から前記フォトレジストあるいは前記感光性ポリイミドを露光し、該露光の結果生じた溶解度の差を利用して、前記フォトレジストあるいは前記感光性ポリイミドの一部を除去し、前記第1の凹部を形成する工程と、
該第1の凹部内を第1の金属で充填する工程と、
前記基板の他方の面から前記スルーホール内に残る前記フォトレジストあるいは前記感光性ポリイミドを除去し、底部に前記第1の金属を露出する第2の凹部を形成する工程と、
該第2の凹部内を第2の金属で充填する工程とを含み、
前記スルーホールを前記第1の金属と前記第2の金属によって充填することを特徴とするスルーホールフィリング方法。 - 基板に形成されたスルーホールに金属を充填するスルーホールフィリング方法において、
前記スルーホール内にネガ型フォトレジストあるいはネガ型ポリイミドを充填する工程と、
該スルーホール内に充填された前記ネガ型フォトレジストあるいはネガ型ポリイミドの一部が露光され、未露光部の前記ネガ型フォトレジストあるいはネガ型ポリイミドを除去することにより、少なくとも前記基板の一方の面に開口する第1の凹部を形成する工程と、
該第1の凹部内を第1の金属で充填する工程と、
前記基板の他方の面から前記スルーホール内に残る露光された前記ネガ型フォトレジストあるいはネガ型ポリイミドを除去し、底部に前記第1の金属を露出する第2の凹部を形成する工程と、
該第2の凹部内を第2の金属で充填する工程とを含み、
前記スルーホールを前記第1の金属と前記第2の金属によって充填することを特徴とするスルーホールフィリング方法。 - 基板に形成されたスルーホールに金属を充填するスルーホールフィリング方法において、
前記スルーホール内に、液状誘電体を充填させた後、該充填された前記液状誘電体を加熱することにより、体積が減少した誘電体を前記スルーホール内に残し、少なくとも前記基板の一方の面に開口する第1の凹部を形成する工程と、
該第1の凹部内を第1の金属で充填する工程と、
前記基板の他方の面から前記スルーホール内に残る前記誘電体を除去し、底部に前記第1の金属を露出する第2の凹部を形成する工程と、
該第2の凹部内を第2の金属で充填する工程とを含み、
前記スルーホールを前記第1の金属と前記第2の金属によって充填することを特徴とするスルーホールフィリング方法。 - 請求項1乃至4いずれかに記載のスルーホールフィリング方法において、
前記第1の凹部内を前記第1の金属で充填する工程は、前記第1の凹部を形成した後、前記基板の一方の面表面と前記第1の凹部内を第3の金属からなる膜で被覆した後、電解メッキ法により前記第1の凹部内に前記第4の金属を析出させる工程からなり、
前記第2の凹部内を前記第2の金属で充填する工程は、前記第2の凹部を形成した後、前記基板の他方の面表面と前記第2の凹部内を第5の金属からなる膜で被覆した後、電解メッキ法により前記第2の凹部内に前記第6の金属を析出させる工程からなることを特徴とするスルーホールフィリング方法。 - 請求項5記載のスルーホールフィリング方法において、
前記基板の一方の面及び他方の面の表面を被覆する前記第3の金属、前記第4の金属、前記第5の金属及び前記第6の金属を除去し、前記基板表面を露出する工程を含むことを特徴とするスルーホールフィリング方法。
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