JP2008233872A - 電気光学基板、電気光学装置、電気光学基板の設計方法及び電子機器 - Google Patents
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Abstract
【解決手段】光導波路に侵入しうる迷光の侵入深さは、第1絶縁層5の層厚をt(nm)、屈折率をn、迷光の侵入角をθとした場合、以下の式で表される。t<(0.61×λ)/(n×sinθc2)。λを可視光波長の下限400(nm)とし、遮光層端部とチャネル領域端部との距離Lc2(nm)として式変形すると、nt2<244Lc2となる。この式を満たすように第1絶縁層5の層厚と遮光層端部とチャネル領域端部との距離を制御することで斜め方向からの迷光の侵入による画質の低下を抑制する。
【選択図】図3
Description
t<(0.61×λ)/(n×sinθ)・・・(関係式5)。
この場合、λが小さい方がtに対して厳しい条件となるので、λを可視光の最短波長となる400nmとする。そしてsinθ(対辺/斜辺)を第1遮光層端部とチャネル領域端部との距離Lc(nm)を用いて表すとLcが斜辺の長さ、導光層の層厚がtと対応するため、sinθ=t/Lcとなる。この対応関係を関係式5に代入するとnt2<244Lc(関係式1)が導かれる。
t(n2t2−0.3721λ2)0.5<0.61λXc 2・・・(関係式3)。
t<(0.61×λ)/(n×sinθ)・・・(関係式5)。
この場合、λを基板に入射される最短波長とする。そしてsinθ(対辺/斜辺)を第1遮光層端部とLDD領域端部から第1遮光層に下ろした垂線との距離をXl(nm)で表すと(Xl 2+t2)0.5が斜辺、対辺が導光層の層厚がt(nm)と対応するため、sinθ=t/(Xl 2+t2)0.5となる。この対応関係を用いることで以下の式が得られる。
t(n2t2−0.3721λ2)0.5<0.61λXl 2・・・(関係式4)。
関係式3及び関係式4を満たすようにチャネル領域及びLDD領域の位置を配置することで、チャネル領域端部及びLDD領域端部を迷光の侵入限界を超えた位置に配置することができる。そのため、チャネル領域及びLDD領域への迷光の進入に由来する光リーク電流の発生を抑制することができる。迷光に由来するノイズが抑制されることで、画質の高い電気光学基板を提供することができる。
以下、第1の実施形態について図面を用いて説明する。図1は、薄膜トランジスタ205を含む電気光学基板220の平面図である。信号配線12とゲート配線6を通して薄膜トランジスタ205は駆動される。そしてドレイン電極8は例えばITOを用いた画素電極19と接続され、画素電極19の電位を制御している。
t<(0.61×λ)/(n×sinθc2)・・・(関係式5a)。
関係式5aで、sinθc2は対辺/斜辺となる。そしてこの関係は(層厚t(nm))/(距離Lc2(nm)、と記述できる。そしてλを可視光の最短波長となる400nm、層厚をt(nm))、距離をLc2(nm)とすると、Lc2が満たすべき条件は関係式1と同様の式となり、nt2<244Lc2で表すことができる。
以下、第2の実施形態について図面を用いて説明する。図4は、薄膜トランジスタ205を含む電気光学基板220の平面図である。第1の実施形態との相違は、第1絶縁層5にバッファ層と緻密層との積層構造を用いていることである。ここでは、2層の積層構造について説明しているが、これは更に多数の積層構造を用いる場合にも同様に展開することが可能である。すなわち、積層構造を構成する各層の屈折率と層厚を考慮することによって、第1の実施形態と同様に、迷光の侵入深さを超えた位置にチャネル領域200を配置することができる。以下に具体的な積層構造の例を述べる。
本実施形態においては、第1絶縁層5の屈折率nと層厚t(nm)に対し、第1遮光層4の端部とチャネル領域200端部から第1遮光層4に下ろした垂線との距離をXc(nm)と、透明基板(電気光学基板)に入射される光の最短波長λ(nm)との設計について説明する。
t<(0.61×λ)/(n×sinθc)・・・(関係式5b)。
関係式5bで、sinθcは対辺/斜辺となり、この関係は(層厚t(nm))/(距離(Xc 2+t2)0.5(nm)と記述できる。これを関係式5bに代入し、整理することで以下の式を得ることができる。ここで関係式1は、波長λを400nmとした場合の式である。
nt2<244Lc・・・(関係式1)
t(n2t2−0.3721λ2)0.5<0.61λXc 2・・・(関係式3)。
本実施の形態においては、第1絶縁層5の屈折率nと層厚t(nm)に対し、第1遮光層4の端部とLDD領域201端部から第1遮光層4に下ろした垂線との距離をXl(nm)と、透明基板(電気光学基板)に入射される光の最短波長λ(nm)との設定について説明する。
t<(0.61×λ)/(n×sinθl)・・・(関係式5c)。
関係式5cで、sinθlは対辺/斜辺となり、この関係は(層厚t(nm))/(距離(Xl 2+t2)0.5(nm)と記述できる。これを関係式5cに代入し、整理すると、以下の式が得られる。ここで関係式2は、波長λを400nmとした場合の式である。
nt2<244Ll・・・(関係式2)
t(n2t2−0.3721λ2)0.5<0.61λXl 2・・・(関係式4)。
このように、入射される光の最短波長λと第1絶縁層5の屈折率nに対して、上記関係式を満たすように第1絶縁層5の層厚tと、第1遮光層4の端部とLDD領域201端部から第1遮光層4に下ろした垂線との距離Xlを制御することで、迷光のLDD領域201への侵入を防ぎ、迷光に由来するノイズが抑制されることで、画質の高い電気光学基板を提供することができる。
以下、第5の実施形態として、上記した電気光学基板を含む電気光学装置として、液晶パネルについて説明する。図7に示すように、透明基板としての石英基板1上には表示画素領域27があり、画素電極19がマトリクス状に配置される液晶パネル30が用いられている。表示画素領域27の周辺には、表示信号を処理する駆動回路が形成されている。ゲート線駆動回路21はゲート信号配線(図示せず)を順次走査し、データ線駆動回路22はソース信号配線(図示せず)に画像データに応じた画像信号を供給する。またパッド領域26を介して外部から入力される画像データを取り込む入力回路23や、これらの回路を制御するタイミング制御回路24などの回路が設けられている。
以下、第6の実施形態として、上記した電気光学装置としての液晶パネルを用いた電子機器について説明する。図9は電子機器として上記した電気光学装置としての液晶パネルを搭載したリア型プロジェクタの模式図である。リア型プロジェクタ230は、上記した液晶パネル30をライトバルブとして用いている。光源231より供給される光は液晶パネル30により画像情報が与えられる。そして、光学系232により光束を制御する。そして、反射鏡233と反射鏡234によりスクリーン235に画像が表示される。リア型プロジェクタ230に用いられる液晶パネル30に侵入する光強度は極めて高く、また高画質が要求される。光強度が極めて高いことから、その迷光の強度は高い。上記した構成を有する液晶パネル30はこの迷光の影響を抑制することができる。そのため、液晶パネル30を含む電子機器としてのリア型プロジェクタ230は迷光に由来する影響を抑えることができ、出力画像の高画質化を実現することができる。また、リア型プロジェクタ230以外の応用分野として、フロント型プロジェクタ、携帯電話、ビデオカメラ、表示機能付きファックス装置、デジタルカメラのファインダ、携帯型TV、DSP装置、PDA、電子手帳、電光掲示盤、宣伝公告用ディスプレイ、ICカードなどの電子機器にも適用することができる。
上記した実施形態では、トップゲート型の薄膜トランジスタを用いた例について説明したが、これはボトムゲート型の薄膜トランジスタを用いても良い。
Claims (10)
- 透明基板と、
前記透明基板の第1面側に、平面視にて開口部を囲う領域の少なくとも一部に配置される第1遮光層と、
平面視にて前記第1遮光層の少なくとも一部を覆い、前記第1遮光層を挟み前記透明基板と対向する位置に配置される、屈折率n、層厚t(nm)とを有する第1絶縁層と、
前記第1絶縁層を挟み前記透明基板と対向する位置に配置され、チャネル領域が平面視にて前記第1遮光層の内側に位置する薄膜トランジスタの一部を含み、かつ前記第1遮光層端部と前記チャネル領域端部との距離Lc(nm)が、
nt2<244Lc・・・(関係式1)
を満たす半導体層と、
前記チャネル領域を覆うゲート絶縁層と、
前記ゲート絶縁層を挟み、前記チャネル領域と対向する領域に配置されるゲート電極と、
少なくとも前記ゲート電極を覆う位置に配置される第2絶縁層と、
少なくとも前記チャネル領域を覆うよう、前記第2絶縁層を挟み前記半導体層と対向する位置に設けられた第2遮光層と、
を含むことを特徴とする電気光学基板。 - 前記薄膜トランジスタはLDD領域を含み、前記第1遮光層端部と前記チャネル領域端部との距離Lcが前記関係式1を満たし、かつ前記第1遮光層端部と前記LDD領域端部との距離Ll(nm)とが、
nt2<244Ll・・・(関係式2)
を満たす半導体層を含むことを特徴とする請求項1に記載の電気光学基板。 - 透明基板と、
前記透明基板の第1面側に、平面視にて開口部を囲う領域の少なくとも一部に配置される第1遮光層と、
平面視にて前記第1遮光層の少なくとも一部を覆い、前記第1遮光層を挟み前記透明基板と対向する位置に配置される、屈折率n、層厚t(nm)とを有する第1絶縁層と、
前記第1絶縁層を挟み前記透明基板と対向する位置に配置され、チャネル領域が平面視にて前記第1遮光層の内側に位置する薄膜トランジスタの一部を含み、かつ前記第1遮光層端部と前記チャネル領域端部から前記第1遮光層に下ろした垂線との距離をXc(nm)とし、前記透明基板に入射される光の最短波長をλ(nm)とした場合、
t(n2t2−0.3721λ2)0.5<0.61λXc 2・・・(関係式3)
を満たす半導体層と、
前記チャネル領域を覆うゲート絶縁層と、
前記ゲート絶縁層を挟み、前記チャネル領域と対向する領域に配置されるゲート電極と、
少なくとも前記ゲート電極を覆う位置に配置される第2絶縁層と、
少なくとも前記チャネル領域を覆うよう、前記第2絶縁層を挟み前記半導体層と対向する位置に設けられた第2遮光層と、
を含むことを特徴とする電気光学基板。 - 前記薄膜トランジスタはLDD領域を含み、前記第1遮光層端部と前記チャネル領域端部との距離Lcが前記関係式3を満たし、かつ前記第1遮光層端部と前記LDD領域端部から前記第1遮光層に下ろした垂線との距離をXl(nm)とし、前記透明基板に入射される光の最短波長をλ(nm)とした場合、
t(n2t2−0.3721λ2)0.5<0.61λXl 2・・・(関係式4)
を満たす半導体層を含むことを特徴とする請求項3に記載の電気光学基板。 - 透明基板と、
前記透明基板の第1面側に、平面視にて開口部を囲う領域の少なくとも一部に配置される第1遮光層と、
平面視にて前記第1遮光層の少なくとも一部を覆い、前記第1遮光層を挟み前記透明基板と対向する位置に配置される、屈折率n、層厚t(nm)とを有する第1絶縁層と、
前記第1絶縁層を挟み前記透明基板と対向する位置に配置され、チャネル領域が平面視にて前記第1遮光層の内側に位置する薄膜トランジスタを含む電気光学基板の設計方法であって、
前記第1遮光層端部と前記チャネル領域端部との距離Lc(nm)が、
nt2<244Lc・・・(関係式1)
を満たすよう設計することを特徴とする電気光学基板の設計方法。 - 透明基板と、
前記透明基板の第1面側に、平面視にて開口部を囲う領域の少なくとも一部に配置される第1遮光層と、
平面視にて前記第1遮光層の少なくとも一部を覆い、前記第1遮光層を挟み前記透明基板と対向する位置に配置される、屈折率n、層厚t(nm)とを有する第1絶縁層と、
前記第1絶縁層を挟み前記透明基板と対向する位置に配置され、チャネル領域が平面視にて前記第1遮光層の内側に位置する薄膜トランジスタの一部を含む電気光学基板の設計方法であって、
前記第1遮光層端部と前記チャネル領域端部から前記第1遮光層に下ろした垂線との距離をXc(nm)とし、前記透明基板に入射される光の最短波長をλ(nm)とした場合、
t(n2t2−0.3721λ2)0.5<0.61λXc 2・・・(関係式3)
を満たすよう設計することを特徴とする電気光学基板の設計方法。 - 透明基板と、
前記透明基板の第1面側に、平面視にて開口部を囲う領域の少なくとも一部に配置される第1遮光層と、
平面視にて前記第1遮光層の少なくとも一部を覆い、前記第1遮光層を挟み前記透明基板と対向する位置に配置される、屈折率n、層厚t(nm)とを有する第1絶縁層と、
前記第1絶縁層を挟み前記透明基板と対向する位置に配置され、LDD領域が平面視にて前記第1遮光層の内側に位置する薄膜トランジスタを含む電気光学基板の設計方法であって、
前記第1遮光層端部と前記LDD領域端部との距離Ll(nm)が、
nt2<244Ll・・・(関係式2)
を満たすよう設計することを特徴とする電気光学基板の設計方法。 - 透明基板と、
前記透明基板の第1面側に、平面視にて開口部を囲う領域の少なくとも一部に配置される第1遮光層と、
平面視にて前記第1遮光層の少なくとも一部を覆い、前記第1遮光層を挟み前記透明基板と対向する位置に配置される、屈折率n、層厚t(nm)とを有する第1絶縁層と、
前記第1絶縁層を挟み前記透明基板と対向する位置に配置され、LDD領域が平面視にて前記第1遮光層の内側に位置する薄膜トランジスタの一部を含む電気光学基板の設計方法であって、
前記第1遮光層端部と前記LDD領域端部から前記第1遮光層に下ろした垂線との距離をXl(nm)とし、前記透明基板に入射される光の最短波長をλ(nm)とした場合、
t(n2t2−0.3721λ2)0.5<0.61λXl 2・・・(関係式4)
を満たすよう設計することを特徴とする電気光学基板の設計方法。 - 請求項1乃至4のいずれか一項に記載の電気光学基板を含むことを特徴とする電気光学装置。
- 請求項9に記載の電気光学装置を含むことを特徴とする電子機器。
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