JP2008231566A - 導電性パターンの形成方法 - Google Patents
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Abstract
【解決手段】基板1a上に少なくとも一種の感光性ハロゲン化銀乳剤層2が積層された写真感光材料を有し、該写真感光材料に対し、(A)マスクフィルム4を介して画像状露光、(B)硬化現像処理、(C)未硬化部の除去を行い、(D)前記未硬化部が除去された除去部に無電解めっき処理を施すことにより無電解めっき部3を得ることを特徴とする導電性パターンの形成方法。
【選択図】図1
Description
(2)基板上に少なくとも一種の感光性ハロゲン化銀乳剤層を有する写真感光材料を、(A)画像状露光、(B)硬化現像処理、(C)未硬化部の除去、(D)前記未硬化部が除去された除去部に無電解めっき処理を行った後に、(E)硬化部の除去を施すことを特徴とする導電性パターンの形成方法。
(3)基板上に少なくとも一種の感光性ハロゲン化銀乳剤層を有する写真感光材料を、(A)画像状露光、(B)硬化現像処理、(C)未硬化部の除去、(D)基板上に無電解めっき触媒の付着、および(E)硬化部の除去を行った後に、(F)無電解金属めっきを施すことを特徴とする導電性パターンの形成方法。
(4)基板上に少なくとも一種の感光性ハロゲン化銀乳剤層を有する写真感光材料を、(A)画像状露光、(B)硬化現像処理、(C)未硬化部の除去、(D)基板上に無電解めっき触媒の付着、(E)酵素によるエッチング処理、および(F)無電解金属めっきを行った後に、(G)硬化部の除去を施すことを特徴とする導電性パターンの形成方法。
(5)基板上に少なくとも一種の感光性ハロゲン化銀乳剤層を有する写真感光材料を、(A)画像状露光、(B)硬化現像処理、(C)未硬化部の除去、(D)基板上に無電解めっき触媒の付着、(E)酵素によるエッチング処理、(F)無電解金属めっき、および(G)電解金属めっきを行った後に、(H)硬化部の除去を施すことを特徴とする導電性パターンの形成方法。
(6)無電解めっき処理が、金、銀、銅、亜鉛またはニッケルめっき処理であることを特徴とする上記(1)〜(5)の何れかに記載の導電性パターンの形成方法。
炭酸ナトリウム 30g
亜硫酸ナトリウム 1g
硫酸ナトリウム 100g
カテコール 2g
脱イオン水にて1000mlとした。
pH(25℃)=10.7
(パラジウム−錫錯体含有液/触媒付与) 室温 3分
2)メルプレートPA−360 (密着増強) 〃 〃
3)メルプレートCU−390 (銅めっき浴) 〃 15分
(パラジウム−錫錯体含有液/触媒付与) 室温 3分
2)メルプレートPA−360 (密着増強) 〃 〃
3)メルプレートNI−6522LF (ニッケルめっき浴) 80℃ 15分
1)エンプレートアクチベーター444
(パラジウム−錫錯体含有液/触媒付与) 室温 3分
2)メルプレートPA−360(密着増強) 〃 〃
3)水洗 〃 1分
1)メルプレートCU−390 (銅めっき浴) 室温 15分
2)水洗 〃 1分
3)乾燥 50℃ 1分
2)水洗 室温 1分
3)乾燥 50℃ 1分
<電解銅めっき浴1>
硫酸銅・5水和物 75g/L
硫酸 190g/L
光沢剤 適量
塩化物イオン 50mg/L
浴温 25℃
陰極電流密度 4A/dm2
光沢剤として、ローム・アンド・ハース社製、カパーグリーム CLXを用いた。
2 感光性ハロゲン化銀乳剤層
2a 硬化乳剤層(ゼラチン架橋部)
3 無電解金属めっき部
4 マスクフィルム
5 無電解めっき触媒
6 電解金属めっき部
Claims (6)
- 基板上に少なくとも一種の感光性ハロゲン化銀乳剤層を有する写真感光材料を、(A)画像状露光、(B)硬化現像処理、(C)未硬化部の除去、および(D)前記未硬化部が除去された除去部に無電解めっき処理を施すことを特徴とする導電性パターンの形成方法。
- 基板上に少なくとも一種の感光性ハロゲン化銀乳剤層を有する写真感光材料を、(A)画像状露光、(B)硬化現像処理、(C)未硬化部の除去、(D)前記未硬化部が除去された除去部に無電解めっき処理を行った後に、(E)硬化部の除去を施すことを特徴とする導電性パターンの形成方法。
- 基板上に少なくとも一種の感光性ハロゲン化銀乳剤層を有する写真感光材料を、(A)画像状露光、(B)硬化現像処理、(C)未硬化部の除去、(D)基板上に無電解めっき触媒の付着、および(E)硬化部の除去を行った後に、(F)無電解金属めっきを施すことを特徴とする導電性パターンの形成方法。
- 基板上に少なくとも一種の感光性ハロゲン化銀乳剤層を有する写真感光材料を、(A)画像状露光、(B)硬化現像処理、(C)未硬化部の除去、(D)基板上に無電解めっき触媒の付着、(E)酵素によるエッチング処理、および(F)無電解金属めっきを行った後に、(G)硬化部の除去を施すことを特徴とする導電性パターンの形成方法。
- 基板上に少なくとも一種の感光性ハロゲン化銀乳剤層を有する写真感光材料を、(A)画像状露光、(B)硬化現像処理、(C)未硬化部の除去、(D)基板上に無電解めっき触媒の付着、(E)酵素によるエッチング処理、(F)無電解金属めっき、および(G)電解金属めっきを行った後に、(H)硬化部の除去を施すことを特徴とする導電性パターンの形成方法。
- 無電解めっき処理が、金、銀、銅、亜鉛またはニッケルめっき処理であることを特徴とする請求項1〜5の何れかに記載の導電性パターンの形成方法。
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