JP2008224790A - 試料検査装置、及び、試料検査方法 - Google Patents
試料検査装置、及び、試料検査方法 Download PDFInfo
- Publication number
- JP2008224790A JP2008224790A JP2007059499A JP2007059499A JP2008224790A JP 2008224790 A JP2008224790 A JP 2008224790A JP 2007059499 A JP2007059499 A JP 2007059499A JP 2007059499 A JP2007059499 A JP 2007059499A JP 2008224790 A JP2008224790 A JP 2008224790A
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- layer
- data
- pattern data
- pixel
- pixels
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Granted
Links
Images
Landscapes
- Length Measuring Devices By Optical Means (AREA)
- Investigating Materials By The Use Of Optical Means Adapted For Particular Applications (AREA)
- Preparing Plates And Mask In Photomechanical Process (AREA)
- Image Processing (AREA)
- Image Analysis (AREA)
Abstract
【解決手段】被検査試料からの透過光、又は反射光を検出して測定パターンデータを取得する測定パターンデータ取得装置と、被検査試料の設計データから複数層の展開パターンデータを生成する展開パターンデータ生成装置と、透過光又は反射光の画素の領域が小さい方に相当する展開パターンデータを上層とし、複数の層の展開パターンデータの中の1つの層の画素を抽出して、測定パターンデータに対応した合成パターンデータを生成する合成パターンデータ生成装置と、合成パターンデータの画素が抽出された展開パターンデータの層を示す層識別データを生成する層識別データ生成装置と、合成パターンデータと層識別データから測定パターンデータに類似する基準パターンデータを生成する基準パターンデータ生成装置と、測定パターンデータと基準パターンデータとを比較する比較装置とを備え被検査試料を検査する試料検査装置。
【選択図】図1
Description
(2)また、本発明は、展開パターンの複数の層数に依存しないで、欠陥検査処理時間を短縮することにある。
(2)また、本発明の一態様のパターンを有する被検査試料を検査する試料検査方法は、被検査試料からの透過光、又は反射光を検出して測定パターンデータを取得する測定パターンデータ取得ステップと、被検査試料の設計データから複数の層の展開パターンデータを生成する展開パターンデータ生成ステップと、透過光の画素の領域が小さい方に相当する展開パターンデータ、又は反射光の画素の領域が小さい方に相当する展開パターンデータを上層とし、複数の層の展開パターンデータの中の1つの層の画素を抽出して、測定パターンデータに対応した合成パターンデータを生成する合成パターンデータ生成ステップと、合成パターンデータの画素が抽出された展開パターンデータの層を示す層識別データを生成する層識別データ生成ステップと、合成パターンデータと層識別データから測定パターンデータに類似する基準パターンデータを生成する基準パターンデータ生成ステップと、測定パターンデータと基準パターンデータとを比較する比較ステップと、を有する。
(2)また、本発明は、展開パターンの複数の層数に依存しないで、欠陥検査処理時間を短縮することができる。
図1は、第1の実施形態の試料検査装置の構成を示すブロック図である。試料検査装置は、ホスト計算機20と、被検査試料のパターンに対応した測定パターンデータを生成する測定パターンデータ取得装置50と、設計データから複数の展開パターンデータを生成する展開パターンデータ生成装置26、複数の展開パターンデータを合成して合成パターンデータを生成する合成パターンデータ生成装置28、合成パターンデータにおける展開パターンデータの層を表す層識別データを生成する層識別データ生成装置30、合成パターンデータから検査基準となる基準パターンデータを生成する基準パターンデータ生成装置32と、測定パターンデータと基準パターンデータとを比較する比較装置70と、設計データや測定パターンデータなどを保存するデータメモリなどの記憶装置24などを備えている。試料検査装置は、測定パターンデータと基準パターンデータとを比較して、被検査試料のパターンの欠陥を検査するものである。
図2は、パターンを有する被検査試料を検査する試料検査方法の手順を示している。先ず、測定パターンデータ取得処理ステップ(工程S1)は、被検査試料からの透過光、又は反射光を検出して光学データの測定パターンデータを取得する。展開パターンデータ生成処理ステップ(工程S2)は、記憶装置24に格納された被検査試料の設計データ(CADデータ)から複数の層からなる展開パターンデータを生成する。合成パターンデータ生成処理ステップ(工程S3)は、透過光の画素の領域が小さい方に相当する展開パターンデータ、又は反射光の画素の領域が小さい方に相当する展開パターンデータを上層とし、複数の層の展開パターンデータの中の1つの層の画素を抽出して、測定パターンデータに対応した合成パターンデータを生成する。層識別データ生成処理ステップ(工程S4)は、合成パターンデータの画素が抽出された展開パターンデータの層を示す層識別データを生成する。基準パターンデータ生成処理ステップ(工程S5)は、合成パターンデータと層識別データから測定パターンデータに類似する基準パターンデータを生成する。詳しくは、基準パターンデータ生成処理ステップ(工程S5)は、層データ抽出処理(工程S51)と、層データに対してリサイズ処理(工程S52)、コーナー丸め処理(工程S53)、光学フィルタ処理な(工程S54)の少なくともいずれかのステップを行うことができる。比較処理ステップ(工程S6)は、測定パターンデータと基準パターンデータとを比較処理する。
測定パターンデータ取得装置50は、図1において、光源52、被検査試料56を載置する試料ステージ60、試料ステージ60を駆動するXYθモータ58、被検査試料56に光を照射する集光光学系54、被検査試料56のパターンに対応した光学像を取得する拡大光学系62、光学像を電気信号に変換する光電変換装置64、光電変換されたアナログ信号をデジタル信号からなる測定パターンデータに変換するセンサ装置66、試料ステージ60の制御を行うステージ制御装置22などから構成されている。
展開パターンデータ生成装置26は、記憶装置24のデータメモリから読み出された被検査試料56の設計データを読み出して、この設計データから複数の描画データである展開パターンデータを生成する。ここで、複数の展開パターンデータは、説明の都合上、複数の層として扱う。複数の展開パターンデータを識別するために、展開パターンデータの層が上下にあると仮定する。展開パターンデータが透過光の場合、展開パターンデータの画素において、透過光の画素の領域が小さい方に相当する程、その展開パターンデータを上層とする。小さい方に相当するとは、電子ビームの照射エリアが狭い方を示している。即ち、被検査試料のパターンの作成に当たって、電子ビームの照射エリアの狭い方が上層の展開パターンデータとなる。反射光も同様である。反射光の場合の展開パターンデータとは、透過光の場合の展開パターンデータを白黒反転したものである。なお、白黒反転とは、各画素データの明暗を反転することであり、各画素が表現可能な最大値から、展開パターンデータの各画素データを引けばよい。白黒反転の求め方の例は、段落番号0045に示されている。
合成パターンデータ生成装置28は、複数の展開パターンデータを受信して、合成パターンデータを生成するものである。合成パターンデータ生成装置28は、具体的には、複数の層の展開パターンデータの全ての画素に注目し、次のような処理を行う。各層の同座標の画素データを参照して、いずれかの層の画素データが不透過光の画素(0)でない場合には、上層の画素データを選択する。画素の値が画素データ(0)であれば、2番目に上層の画素を抽出し、更に、その画素の値が画素データ(0)であれば、3番目に上層の画素を抽出するように、繰り返して、画素の値が画素データ(0)でない画素を抽出する。透過光の画素が1層だけの場合、その層の同座標の画素を抽出する。いずれの層の画素データも不透過光の画素データ(0)である場合には、不透過光の画素データ(0)を選択する。このようにして、選択された画素データが合成パターンデータとして生成される。尚、展開パターンデータが1種類の場合には、展開パターンデータと合成パターンデータは一致する。尚、送られてくる展開パターンデータが、何層目のものであるかについては、設計データに示されており、データ転送経路、データフォーマット等から事前に知り得る情報である。
層識別データ生成装置30は、合成パターンデータ生成と同時に、合成パターンデータの画素ごとに層を示す記号を、層識別データとして生成する。層識別データは、合成パターンデータの画素が抽出された、展開パターンデータの層を示すものである。具体的には、各層の同座標の画素データを参照して、いずれかの層の画素データが不透過光の画素(0)でない場合には、透過光の画素データのうちで、上層の層番号nを選択する。いずれの層の画素データも不透過光の画素である場合には、0とする。このようにして、選択された値が層識別データとして生成される。なお、合成パターンデータと層識別データの画素ごとの位置関係は同じである。また、層番号n〜0は、例えば、1画素あたり8bitの整数(−127〜128)で表現できる。
図3は、2層構造の被検査試料56の単純化した例を示しており、一例として、基板560はQzの透明基板であり、第1層562はHt膜であり、第2層564はCr膜である。
図4は、被検査試料56の複数の展開パターンデータ、合成パターンデータと層識別データを示している。図4(A)と(B)は、被検査試料56を製造するための設計データの2層の展開パターンデータを示している。展開パターンデータには、透過光の画素(図では255から64のデータ値)と不透過光の画素(0のデータ値)で示され、8bit(ビット)の整数(0〜255)で表現されている。図4(A)の展開パターンデータは、図4(B)の展開パターンデータより、透過光の画素の領域が小さいので、最上層とし、層番号2(n=2)を付する。図4(B)の展開パターンデータは、次の上層(2番目に上層)とし、層番号1(n=1)を付する。
基準パターンデータ生成装置32は、合成パターンデータから測定パターンデータに類似するパターンデータを生成する装置である。基準データ生成装置32は、図1において、層データ抽出装置320、リサイズ処理装置322、コーナー丸め処理装置324、光学フィルタ処理装置326を備えているが、すべてを備えている必要はない。基準データ生成装置32は、合成パターンデータに対して層データ抽出処理を行い、層データを用いてリサイズ処理、コーナー丸め処理、適当なフィルタ処理を施し、光学像と同等の画像に変換し、基準パターンデータを生成する。リサイズ処理は、被検査試料上に形成されたパターンの仕上がり寸法と設計値のずれを補正し、光学像の測定パターンと合うように、パターンのエッジ位置を移動する処理である。コーナー丸め処理は、光学像の測定パターンと合うように、コーナー部分を丸める処理である。
層データ抽出装置320は、合成パターンデータの全ての画素に注目し、各注目画素を中心として合成パターンデータのM×Nの画素領域と、その画素領域の同座標の層識別データのM×Nの領域とを用いて、M×Nの層データを抽出する。そのために、次のような処理を行う。M×Nの層識別データを参照して、M×Nの座標での最上層番号Uを求める。最上層番号Uである画素データのすべてを抽出する。M×Nの座標でUより下層の画素は、0とする。このようにして、抽出されたデータは配列D[M,N]に格納される。なお、Uとは、M×N内において、第1層〜第n層が存在するならばnとなり、第1層〜第2層が存在するならば2となり、第1層〜第n層が存在しなければ、0とする。
リサイズ処理装置322は、合成パターンデータと測定パターンデータのサイズを合わせる処理であり、例えば合成パターンデータを拡大し(プラスリサイズ)、又は、縮小する(マイナスリサイズ)する。ここでは、合成パターンデータを測定パターンデータのサイズに拡大して合わせる例を示す。
以上述べたように、本実施形態によれば、多層の展開パターンデータのリサイズ処理を施さなければならない画素データ量は、展開パターンデータの層数によらず、常に1層分となるので、層数によらず処理時間が一定になる。例えば、層数が2層の場合、従来方法では2層分の画素データに処理を施していたが、本実施形態では、その半分の1層分の画素データを処理するだけで、従来方法と同等の処理結果が得られる。
以上述べたように本実施形態によれば、展開パターンデータの層数によらず、リサイズ処理を施さなければならない画素データ量は、常に1層分となるので、層数によらず処理時間が一定になる。
コーナー丸め処理装置324は、コーナー丸め処理と、層識別データ再生成処理などを行うものである。コーナー丸め処理は、合成パターンデータと層識別データとから層データ抽出を行ったデータに対して行っても、又は、リサイズ処理の後の合成パターンデータと層識別データとから層データ抽出を行ったデータに対して行っても良い。コーナー丸め処理は、例えば、式(2)のようなコーナー丸め処理用のFIRフィルタh(i,j)で行われ、コーナー丸め処理後の合成パターンデータDc(s,t)が生成される。ここで、Dr(s,t)はリサイズ後の画素データであるが、リサイズ処理を行わない場合、Dr(s,t)の代わりに、D(s,t)を使用する。なお、リサイズ処理とコーナー丸め処理を1つの式で行うこともできる。
以上述べたように本実施形態によれば、展開パターンデータの層数によらず、コーナー丸め処理を施さなければならない画素データ量は、常に1層分となるので、層数によらず処理時間が一定になる。
光学フィルタ処理装置は、展開パターンデータから得られた合成パターンデータD(s,t)、リサイズ処理後の合成パターンデータDr(s,t)、コーナー丸め処理後の合成パターンデータDc(s,t)、又は、リサイズ処理とコーナー丸め処理後の合成パターンデータDrc(s,t)に対して、例えば光学系のポイントスプレッドファンクション(PSF)を模擬したフィルタ演算を行う。その結果、合成パターンデータから、光学系で取得される像と同質の画像データ(基準パターンデータ)が作成される。フィルタ演算は、例えば式(3)のようなPSF処理用のFIRフィルタg(i,j)で行われ、基準パターンデータDp(s,t)が生成される。
比較装置70では、基準パターンデータ生成装置32で生成した基準パターンデータと、測定パターンデータ取得装置50で生成した同座標の測定パターンデータとを取り込み、位置合わせをした後に比較処理用の複数のアルゴリズムに従って比較し、所定の差が認められた場合に欠陥と判定する。
次に、本発明の第2の実施形態について説明する。特に言及していない項目については第1の実施形態に準ずるものとする。層識別データの生成では、合成パターンデータの画素ごとの層番号を示す値を、合成パターンデータの下位ビット側(LSB側)に埋め込む。具体的には次のように行う。例えば、最下位の1ビットを層識別データとして使用し、そのビットが0であれば1層を、1であれば2層目を表す場合を考える。もし、画素データが255(2進数では1111 1111)の画素は、値が255(層識別データのビットは0と考えて254とするなどしても構わない)で2層目のデータであることを示す。もし、画素データの値が254(2進数では1111 1110)の画素は、254で1層目のデータを示す。同様にして、さらに層数が増える場合は、使用する下位ビット数を増やすことで対応させる。
次に、本発明の第3の実施形態について説明する。特に言及していない項目については第1〜2の実施形態に準ずるものとする。リサイズ量がマイナスの場合(縮小の場合)の合成パターンデータ生成、層識別データ生成、および、リサイズ処理について説明する。具体的には以下のように行う。
図7は、マイナスリサイズ用の合成パターンデータ生成と層識別データ生成の手順を示している。合成パターンデータ生成装置28は、複数の層の展開パターンデータを入力する(工程S31)。マイナスリサイズ処理の場合、図7(A)のように、各層の展開パターンデータの白黒反転を行う(工程S32)。白黒反転とは、各画素データの明暗を反転することであり、各画素が表現可能な最大値から、展開パターンデータの各画素データを引けばよい。本実施形態では、画素データを8bit/pixel(0〜255)として考えているので、式(4)で行われる。なお、白黒反転後の画素データは、展開パターンデータの層の上下の関係も反転して考える。つまり、白黒反転後、複数の層の展開パターンデータは、上層と下層が反転する。例えば、白黒反転後、第1層展開パターンデータは、白黒反転後の第2層展開パターンデータよりも上層となる。以下では、このルールを前提に説明する。
層データ抽出装置320は、図5の処理フローにおいて、反転された合成パターンデータの全ての画素に注目し、各注目画素を中心として合成パターンデータのM×Nの領域と、同座標の層識別データのM×Nの領域とを用いて、M×Nの層データを抽出する(工程S12)。そのために、次のような処理を行う。M×Nの層識別データを参照して、注目画素の層番号U0と、その配列内での最上層番号Uと、Uである画素位置すべてとを求め、Uである画素はその層の画素データを抽出し、Uより下層の画素は0として抽出し、層識別データがT0となる画素は0として抽出する。このようにして、抽出されたデータは配列D[M,N]に格納される(工程S13)。
尚、本発明は上述した各実施形態に限定されるものではない。測定パターンデータ取得装置50の光電変換装置64に入射する光は、透過光に限定されず、反射光でも構わない。さらに、透過及び反射の両方の光を同時に用いても構わない。また、光電変換装置64は、単数に限らず、複数用いることができる。また、リサイズ処理装置322、コーナー丸め処理装置324、および光学フィルタ処理装置326で適用するフィルタ処理は、FIRフィルタに限らず、線形、非線形、任意のフィルタで行うことができる。また、リサイズ方法、コーナー丸め方法は、フィルタ処理に限らず、ある1種類の層に対して処理を行う方法であれば、任意の方法で行うことができる。ここで、ある1種類の層とは、例えば、処理すべき画素データのM×N領域内に含まれる層の種類が1つであることを指す。
22・・・ステージ制御装置
24・・・記憶装置
26・・・展開パターンデータ生成装置
28・・・合成パターンデータ生成装置
30・・・層識別データ生成装置
32・・・基準パターンデータ生成装置
320・・層データ抽出装置
322・・リサイズ処理装置
324・・コーナー丸め処理装置
326・・光学フィルタ処理装置
50・・・測定パターンデータ取得装置
52・・・光源
54・・・集光光学系
56・・・被検査試料
58・・・XYθモータ
60・・・試料ステージ
62・・・拡大光学系
64・・・光電変換装置
66・・・センサ装置
70・・・比較装置
Claims (15)
- パターンを有する被検査試料を検査する試料検査装置において、
被検査試料からの透過光、又は反射光を検出して測定パターンデータを取得する測定パターンデータ取得装置と、
被検査試料の設計データから複数の層の展開パターンデータを生成する展開パターンデータ生成装置と、
透過光の画素の領域が小さい方に相当する展開パターンデータ、又は反射光の画素の領域が小さい方に相当する展開パターンデータを上層とし、
複数の層の展開パターンデータの中の1つの層の画素を抽出して、測定パターンデータに対応した合成パターンデータを生成する合成パターンデータ生成装置と、
合成パターンデータの画素が抽出された、展開パターンデータの層を示す層識別データを生成する層識別データ生成装置と、
合成パターンデータと層識別データから測定パターンデータに類似する基準パターンデータを生成する基準パターンデータ生成装置と、
測定パターンデータと基準パターンデータとを比較する比較装置と、を備える、試料検査装置。 - 請求項1に記載の試料検査装置において、
基準パターンデータ生成装置は、合成パターンデータから特定の層の画素を抽出して層データとする層データ抽出装置と、層データをリサイズ処理し、リサイズ処理後の合成パターンデータと層識別データを生成するリサイズ処理装置と、を備える、試料検査装置。 - 請求項1に記載の試料検査装置において、
基準パターンデータ生成装置は、合成パターンデータから特定の層の画素を抽出して層データとする層データ抽出装置と、層データをコーナー丸め処理し、コーナー丸め処理後の合成パターンデータと層識別データを生成するコーナー丸め処理装置と、を備える、試料検査装置。 - 請求項1に記載の試料検査装置において、
基準パターンデータ生成装置は、合成パターンデータから特定の層の画素を抽出して層データとする層データ抽出装置と、層データをリサイズ処理し、リサイズ処理後の合成パターンデータと層識別データを生成するリサイズ処理装置と、リサイズ処理後の合成パターンデータから特定の層の画素を抽出して、リサイズ処理後の層データとする層データ抽出装置と、リサイズ処理後の層データをコーナー丸め処理し、コーナー丸め処理後の合成パターンデータと層識別データを生成するコーナー丸め処理装置と、を備える、試料検査装置。 - 請求項1に記載の試料検査装置において、
合成パターンデータ生成装置は、展開パターンデータの特定座標の画素において、透過光の画素が複数の層にある場合、最上層の同座標の画素を抽出し、透過光の画素が1層だけの場合、該層の同座標の画素を抽出し、合成パターンデータを生成する、試料検査装置。 - 請求項1に記載の試料検査装置において、
合成パターンデータ生成装置は、展開パターンデータの特定座標の画素において、透過光の画素が複数の層にある場合、上層の同座標の画素を抽出し、その画素の値が0であれば、2番目に上層の画素を抽出し、その画素の値が0であれば、3番目に上層の画素を抽出し、この手順を繰り返して、画素の値が0でない画素を抽出し、透過光の画素が1層だけの場合、該層の同座標の画素を抽出し、合成パターンデータを生成する、試料検査装置。 - 請求項2又は3に記載の試料検査装置において、
層データ抽出装置は、合成パターンの特定の画素を中心にM×Nの画素について、特定の画素の層より上層の画素があれば、これらの画素の中で上層の画素データを抽出し、該上層より下層の画素は不透過光の画素データとし、特定の画素の層より上層の画素がなければ、該層の画素データを抽出し、該層より下層の画素は不透過光の画素データとし、特定の画素の層の層データを生成する、試料検査装置。 - 請求項1に記載の試料検査装置において、
層識別データ生成装置は、合成パターンデータの層識別データを合成パターンデータの下位ビットに埋め込む、試料検査装置。 - 請求項1に記載の試料検査装置において、
合成パターンデータ生成装置は、複数の層の展開パターンデータの各画素の明暗を逆にした反転パターンデータの特定座標の画素において、複数の層の反転パターンデータに重なりがある場合、上層の反転パターンデータから同座標の画素データを選び、重なりがない1層だけの場合には、その層の反転パターンデータから同座標の画素データを選ぶことで、合成パターンデータを生成する、試料検査装置。 - パターンを有する被検査試料を検査する試料検査方法において、
被検査試料からの透過光、又は反射光を検出して測定パターンデータを取得する測定パターンデータ取得ステップと、
被検査試料の設計データから複数の層の展開パターンデータを生成する展開パターンデータ生成ステップと、
透過光の画素の領域が小さい方に相当する展開パターンデータ、又は反射光の画素の領域が小さい方に相当する展開パターンデータを上層とし、
複数の層の展開パターンデータの中の1つの層の画素を抽出して、測定パターンデータに対応した合成パターンデータを生成する合成パターンデータ生成ステップと、
合成パターンデータの画素が抽出された展開パターンデータの層を示す層識別データを生成する層識別データ生成ステップと、
合成パターンデータと層識別データから測定パターンデータに類似する基準パターンデータを生成する基準パターンデータ生成ステップと、
測定パターンデータと基準パターンデータとを比較する比較ステップと、を有する、試料検査方法。 - 請求項10に記載の試料検査方法において、
合成パターンデータ生成ステップは、展開パターンデータの特定座標の画素において、透過光の画素が複数の層にある場合、最上層の同座標の画素を抽出し、透過光の画素が1層だけの場合、該層の同座標の画素を抽出し、合成パターンデータを生成する、試料検査方法。 - 請求項10に記載の試料検査方法において、
合成パターンデータ生成ステップは、展開パターンデータの特定座標の画素において、透過光の画素が複数の層にある場合、上層の同座標の画素を抽出し、その画素の値が0であれば、2番目に上層の画素を抽出し、その画素の値が0であれば、3番目に上層の画素を抽出し、この手順を繰り返して、画素の値が0でない画素を抽出し、透過光の画素が1層だけの場合、該層の同座標の画素を抽出し、合成パターンデータを生成する、試料検査方法。 - 請求項10に記載の試料検査方法において、
基準パターンデータ生成ステップは、合成パターンの特定の画素を中心にM×Nの画素について、特定の画素の層より上層の画素があれば、上層の画素の中で最上層の画素データを抽出し、該最上層より下層の画素は不透過光の画素データとし、特定の画素の層より上層の画素がなければ、該層の画素データを抽出し、該層より下層の画素は不透過光の画素データとし、特定の画素の層の層データを生成する、層データ生成ステップと、層データをリサイズ処理し、リサイズ処理後の合成パターンデータと層識別データを生成するリサイズ処理ステップと、を有する、試料検査方法。 - 請求項10に記載の試料検査方法において、
基準パターンデータ生成ステップは、合成パターンの特定の画素を中心にM×Nの画素について、特定の画素の層より上層の画素があれば、上層の画素の中で最上層の画素データを抽出し、最上層より下層の画素は0の画素データとし、特定の画素の層より上層の画素がなければ、該層の画素データを抽出し、該層より下層の画素は0の画素データとし、特定の画素の層の層データを生成する、層データ生成ステップと、層データをリサイズ処理し、特定の画素のリサイズ結果が0となる場合は、2番目に上層の層を取り出すために再度層データの生成を行い、リサイズ処理し、その際、2番目に上層の層より上層の層を255とし、再びリサイズ量が小さく特定の画素のリサイズ結果が0となる場合は、3番目に上層の層を取り出すために再度層データの生成を行い、リサイズ処理し、この手順を繰り返して、リサイズ結果が0でない場合にリサイズ処理後の合成パターンデータと層識別データを生成し、特定の画素の層より上層の画素がなければ、特定の画素のリサイズ結果が0であっても、リサイズ処理後の合成パターンデータと層識別データを生成するリサイズ処理ステップと、を有する、試料検査方法。 - 請求項10に記載の試料検査方法において、
基準パターンデータ生成ステップは、合成パターンの特定の画素を中心にM×Nの画素について、特定の画素の層より上層の画素があれば、上層の画素の中で最上層の画素データを抽出し、該最上層より下層の画素は不透過光の画素データとし、特定の画素の層より上層の画素がなければ、該層の画素データを抽出し、該層より下層の画素は不透過光の画素データとし、特定の画素の層の層データを生成する、層データ生成ステップと、層データをコーナー丸め処理し、コーナー丸め処理後の合成パターンデータと層識別データを生成するコーナー丸め処理ステップと、を有する、試料検査方法。
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP2007059499A JP4467591B2 (ja) | 2007-03-09 | 2007-03-09 | 試料検査装置、及び、試料検査方法 |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP2007059499A JP4467591B2 (ja) | 2007-03-09 | 2007-03-09 | 試料検査装置、及び、試料検査方法 |
Publications (2)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JP2008224790A true JP2008224790A (ja) | 2008-09-25 |
JP4467591B2 JP4467591B2 (ja) | 2010-05-26 |
Family
ID=39843530
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP2007059499A Active JP4467591B2 (ja) | 2007-03-09 | 2007-03-09 | 試料検査装置、及び、試料検査方法 |
Country Status (1)
Country | Link |
---|---|
JP (1) | JP4467591B2 (ja) |
Cited By (1)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP2017011277A (ja) * | 2010-09-29 | 2017-01-12 | クラーナ ニーラジKHURANA, Neeraj | サブ光学解像度によるcadレイアウトへのチップの自動配向システムおよび方法 |
-
2007
- 2007-03-09 JP JP2007059499A patent/JP4467591B2/ja active Active
Cited By (1)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP2017011277A (ja) * | 2010-09-29 | 2017-01-12 | クラーナ ニーラジKHURANA, Neeraj | サブ光学解像度によるcadレイアウトへのチップの自動配向システムおよび方法 |
Also Published As
Publication number | Publication date |
---|---|
JP4467591B2 (ja) | 2010-05-26 |
Similar Documents
Publication | Publication Date | Title |
---|---|---|
KR100954703B1 (ko) | 결함을 검출하는 방법 및 시스템 | |
KR102090846B1 (ko) | 처리된 이미지를 사용한 레티클 검사 동안 선택적 감도를 위한 세선의 검출 | |
JP4095621B2 (ja) | 光学画像取得装置、光学画像取得方法、及びマスク検査装置 | |
JP2984633B2 (ja) | 参照画像作成方法およびパターン検査装置 | |
JP7118678B2 (ja) | 欠陥検査装置および欠陥検査方法 | |
US7359546B2 (en) | Defect inspection apparatus and defect inspection method | |
US20090238441A1 (en) | Pattern inspection apparatus, pattern inspection method, and computer-readable recording medium storing a program | |
JP4617970B2 (ja) | 欠陥検査装置及び欠陥検査方法 | |
JP2008112178A (ja) | マスク検査装置 | |
JPH10104168A (ja) | 設計データに基づく図形データ展開装置 | |
US20070055467A1 (en) | Workpiece inspection apparatus assisting device, workpiece inspection method and computer-readable recording media storing program therefor | |
JP2007086617A (ja) | 試料検査装置、試料検査方法及びプログラム | |
JP2012251785A (ja) | 検査装置および検査方法 | |
US8755599B2 (en) | Review apparatus and inspection system | |
JP3154802B2 (ja) | パターン欠陥検査装置 | |
JP4915166B2 (ja) | ぼかしフィルタ設計方法 | |
JP4467591B2 (ja) | 試料検査装置、及び、試料検査方法 | |
JP4405407B2 (ja) | 欠陥検査装置 | |
JP2006266943A (ja) | 欠陥検査装置及び欠陥検査方法 | |
JP2009294027A (ja) | パターン検査装置及び方法 | |
JP4074624B2 (ja) | パターン検査方法 | |
JP4431591B2 (ja) | 試料検査装置、及び試料検査方法 | |
JP2005195403A (ja) | 参照データ生成方法、パターン欠陥検査装置、パターン欠陥検査方法、及び参照データ生成プログラム | |
JP4428112B2 (ja) | 外観検査方法及び外観検査装置 | |
JPH11242746A (ja) | 画像の欠陥検出装置及びその欠陥検出方法 |
Legal Events
Date | Code | Title | Description |
---|---|---|---|
A977 | Report on retrieval |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A971007 Effective date: 20091222 |
|
TRDD | Decision of grant or rejection written | ||
A01 | Written decision to grant a patent or to grant a registration (utility model) |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A01 Effective date: 20100202 |
|
A01 | Written decision to grant a patent or to grant a registration (utility model) |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A01 |
|
A61 | First payment of annual fees (during grant procedure) |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A61 Effective date: 20100223 |
|
R150 | Certificate of patent or registration of utility model |
Ref document number: 4467591 Country of ref document: JP Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R150 Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R150 |
|
FPAY | Renewal fee payment (event date is renewal date of database) |
Free format text: PAYMENT UNTIL: 20130305 Year of fee payment: 3 |
|
FPAY | Renewal fee payment (event date is renewal date of database) |
Free format text: PAYMENT UNTIL: 20130305 Year of fee payment: 3 |
|
S111 | Request for change of ownership or part of ownership |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R313113 |
|
FPAY | Renewal fee payment (event date is renewal date of database) |
Free format text: PAYMENT UNTIL: 20130305 Year of fee payment: 3 |
|
R360 | Written notification for declining of transfer of rights |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R360 |
|
FPAY | Renewal fee payment (event date is renewal date of database) |
Free format text: PAYMENT UNTIL: 20130305 Year of fee payment: 3 |
|
R360 | Written notification for declining of transfer of rights |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R360 |
|
R371 | Transfer withdrawn |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R371 |
|
FPAY | Renewal fee payment (event date is renewal date of database) |
Free format text: PAYMENT UNTIL: 20130305 Year of fee payment: 3 |
|
S111 | Request for change of ownership or part of ownership |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R313113 |
|
FPAY | Renewal fee payment (event date is renewal date of database) |
Free format text: PAYMENT UNTIL: 20130305 Year of fee payment: 3 |
|
R350 | Written notification of registration of transfer |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R350 |
|
FPAY | Renewal fee payment (event date is renewal date of database) |
Free format text: PAYMENT UNTIL: 20130305 Year of fee payment: 3 |
|
FPAY | Renewal fee payment (event date is renewal date of database) |
Free format text: PAYMENT UNTIL: 20140305 Year of fee payment: 4 |
|
S111 | Request for change of ownership or part of ownership |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R313115 |
|
R350 | Written notification of registration of transfer |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R350 |
|
S111 | Request for change of ownership or part of ownership |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R313115 |
|
R350 | Written notification of registration of transfer |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R350 |