JP2008218601A - ビーム照射装置、及び、ビーム照射方法 - Google Patents
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Abstract
【解決手段】 第1ミラーと第2ミラーが両端に配置され、第1ミラー側からビームを出射するレーザ発振器と、加工対象物を保持するステージと、レーザ発振器を出射したビームの光路上に配置され、入射するビームを加工対象物上に入射させるホモジナイザとを有し、ホモジナイザは、入射するビームを第1方向に沿って分割して出射する、複数のシリンドリカルレンズを含む第1アレイレンズと、第1アレイレンズで分割されたビームの各々の光路上に配置されたシリンドリカルレンズを含む第2アレイレンズと、第2アレイレンズを構成する各シリンドリカルレンズを透過したビームを、加工対象物上で重ね合わせる収束レンズとを含み、第2アレイレンズを構成する各シリンドリカルレンズと収束レンズとが、第1アレイレンズの位置の物点を、加工対象物上に結像させるビーム照射装置を提供する。
【選択図】 図1
Description
その他、種々の変更、改良、組み合わせ等が可能なことは当業者には自明であろう。
11 ダイバージェンス
12 バリアブルアッテネータ
13 アフォーカルズーム
14 ホモジナイザ
14a 第1アレイレンズ
14b 第2アレイレンズ
14c 第3アレイレンズ
14d 第4アレイレンズ
15 フォーカスレンズ
16 ステージ
17 加工対象物
20 レーザビーム
31、32 共振器ミラー
33 レーザ媒質
34 励起光源
35 ビーム出射口(出口ミラー位置)
36 レーザ共振器中間点
37、38 曲率中心
39 ビームウエスト位置
Claims (6)
- 第1のミラーと第2のミラーとが両端に配置され、前記第1のミラー側からレーザビームを出射するレーザ発振器と、
加工対象物を保持するステージと、
前記レーザ発振器を出射したレーザビームの光路上に配置され、入射するレーザビームを前記ステージに保持された加工対象物上に入射させるホモジナイザと
を有し、
前記ホモジナイザは、
入射するレーザビームを第1の方向に沿って分割して出射する、複数のシリンドリカルレンズを含む第1のアレイレンズと、
前記第1のアレイレンズで分割されたレーザビームの各々の光路上に配置されたシリンドリカルレンズを含む第2のアレイレンズと、
前記第2のアレイレンズを構成する各シリンドリカルレンズを透過したレーザビームを、前記ステージに保持された加工対象物上で重ね合わせる収束レンズと
を含み、
前記第2のアレイレンズを構成する各シリンドリカルレンズと前記収束レンズとが、前記第1のアレイレンズの位置の物点を、前記ステージに保持された加工対象物上に結像させるビーム照射装置。 - 更に、前記レーザ発振器と前記ホモジナイザとの間のレーザビームの経路上に配置された結像光学系を有し、
前記結像光学系において、前記第1のアレイレンズの配置された位置に対する共役点が、前記第1のミラーと前記第2のミラーとの中間点と、前記第1のミラーとの間に位置する請求項1に記載のビーム照射装置。 - 更に、前記レーザ発振器と前記ホモジナイザとの間のレーザビームの経路上に配置された結像光学系を有し、
前記結像光学系において、前記第1のアレイレンズの配置された位置に対する共役点が、前記第1のミラーと前記第2のミラーとの間のビームウエスト位置に位置する請求項1に記載のビーム照射装置。 - 前記第1または第2のミラーが凹面鏡であり、
更に、前記レーザ発振器と前記ホモジナイザとの間のレーザビームの経路上に配置された結像光学系を有し、
前記結像光学系において、前記第1のアレイレンズの配置された位置に対する共役点が、前記第1または第2のミラーの曲率中心の位置に位置する請求項1に記載のビーム照射装置。 - 更に、前記ホモジナイザが、
前記第1のアレイレンズと前記収束レンズとの間のレーザビームの光路上に配置され、入射するレーザビームを前記第1の方向と直交する第2の方向に沿って分割して出射する、複数のシリンドリカルレンズを含む第3のアレイレンズと、
前記第3のアレイレンズと前記収束レンズとの間のレーザビームの光路上であって、前記第3のアレイレンズで分割されたレーザビームの各々の光路上に配置されたシリンドリカルレンズを含む第4のアレイレンズと
を含み、
前記収束レンズは、前記第4のアレイレンズを透過したレーザビームを前記ステージに保持された加工対象物上で重ね合わせ、
前記第4のアレイレンズ及び前記収束レンズが、前記第3のアレイレンズの位置の物点を、前記ステージに保持された加工対象物上に結像させ、
前記ホモジナイザは、前記第1の方向が短尺方向に対応し、前記第2の方向が長尺方向に対応する長尺形状のレーザビームを、前記ステージに保持された加工対象物上に入射させる請求項1〜4のいずれか1項に記載のビーム照射装置。 - (a)第1のミラーと第2のミラーとが両端に配置され、前記第1のミラー側からレーザビームを出射するレーザ発振器を用い、前記第1及び第2のミラーの中間点と前記第1のミラーとの間のいずれかの位置、前記第1のミラーと前記第2のミラーとの間のビームウエスト位置、及び、前記第1または第2のミラーが凹面鏡であるときその曲率中心の位置のうちのいずれかより選ばれた第1の位置を、第2の位置に結像させてレーザビームを出射する工程と、
(b)前記工程(a)で出射されたレーザビームを前記第2の位置において分割し、分割位置の物点が照射面に結像するように、かつ、照射面において分割されたレーザビームが重ね合わされるように、レーザビームを加工対象物に入射させる工程と
を有するビーム照射方法。
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
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JP2007052315A JP4818958B2 (ja) | 2007-03-02 | 2007-03-02 | ビーム照射装置、及び、ビーム照射方法 |
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JP2008218601A true JP2008218601A (ja) | 2008-09-18 |
JP4818958B2 JP4818958B2 (ja) | 2011-11-16 |
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Country Status (1)
Country | Link |
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JP (1) | JP4818958B2 (ja) |
Cited By (2)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP2014041909A (ja) * | 2012-08-22 | 2014-03-06 | Sumitomo Heavy Ind Ltd | レーザ照射装置 |
CN103644967A (zh) * | 2013-11-29 | 2014-03-19 | 西北核技术研究所 | 一种高能激光匀化腔衰减器 |
Citations (7)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPH07185861A (ja) * | 1993-12-27 | 1995-07-25 | Matsushita Electric Ind Co Ltd | レーザ加工装置 |
JPH11214306A (ja) * | 1998-01-27 | 1999-08-06 | Toshiba Corp | 多結晶半導体膜の製造方法、液晶表示装置の製造方法及びレーザアニール装置 |
JP2000321524A (ja) * | 1999-05-10 | 2000-11-24 | Canon Inc | 照明装置及びそれを用いた光加工機 |
JP2003112280A (ja) * | 2001-09-28 | 2003-04-15 | Matsushita Electric Ind Co Ltd | 光照射装置と光加工装置およびその加工方法並びに電子部品 |
JP2005338735A (ja) * | 2004-05-31 | 2005-12-08 | Sumitomo Heavy Ind Ltd | ビーム整形光学装置及びアナモルフィック光学系 |
JP2006309207A (ja) * | 2005-04-01 | 2006-11-09 | Semiconductor Energy Lab Co Ltd | ビームホモジナイザ及びレーザ照射装置 |
JP2007150272A (ja) * | 2005-10-26 | 2007-06-14 | Semiconductor Energy Lab Co Ltd | レーザ照射装置及び半導体装置の製造方法 |
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Patent Citations (7)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPH07185861A (ja) * | 1993-12-27 | 1995-07-25 | Matsushita Electric Ind Co Ltd | レーザ加工装置 |
JPH11214306A (ja) * | 1998-01-27 | 1999-08-06 | Toshiba Corp | 多結晶半導体膜の製造方法、液晶表示装置の製造方法及びレーザアニール装置 |
JP2000321524A (ja) * | 1999-05-10 | 2000-11-24 | Canon Inc | 照明装置及びそれを用いた光加工機 |
JP2003112280A (ja) * | 2001-09-28 | 2003-04-15 | Matsushita Electric Ind Co Ltd | 光照射装置と光加工装置およびその加工方法並びに電子部品 |
JP2005338735A (ja) * | 2004-05-31 | 2005-12-08 | Sumitomo Heavy Ind Ltd | ビーム整形光学装置及びアナモルフィック光学系 |
JP2006309207A (ja) * | 2005-04-01 | 2006-11-09 | Semiconductor Energy Lab Co Ltd | ビームホモジナイザ及びレーザ照射装置 |
JP2007150272A (ja) * | 2005-10-26 | 2007-06-14 | Semiconductor Energy Lab Co Ltd | レーザ照射装置及び半導体装置の製造方法 |
Cited By (5)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP2014041909A (ja) * | 2012-08-22 | 2014-03-06 | Sumitomo Heavy Ind Ltd | レーザ照射装置 |
KR20140143455A (ko) * | 2012-08-22 | 2014-12-16 | 스미도모쥬기가이고교 가부시키가이샤 | 레이저 조사장치 |
KR101718429B1 (ko) * | 2012-08-22 | 2017-03-21 | 스미도모쥬기가이고교 가부시키가이샤 | 레이저 조사장치 |
CN103644967A (zh) * | 2013-11-29 | 2014-03-19 | 西北核技术研究所 | 一种高能激光匀化腔衰减器 |
CN103644967B (zh) * | 2013-11-29 | 2016-02-10 | 西北核技术研究所 | 一种高能激光匀化腔衰减器 |
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