JP2008211218A5

JP2008211218A5 -

Info

Publication number: JP2008211218A5
Application number: JP2008042829A
Authority: JP
Filing date: 2008-02-25
Publication date: 2013-03-28

Claims

半導体処理システムにガスを分配する装置であって、
入口ポートを夫々有する複数のガス入力ラインと、
出口ポートを夫々有する複数のガス出力ラインにおいて、前記複数の出口ポートの少なくとも第１の出口ポートが設備排気部に結合されていて、前記複数の出口ポートの少なくとも第２の出口ポートが処理チャンバに結合されている複数のガス出力ラインと、
各対のガス入力とガス出力ラインを夫々結合する複数の接続ラインにおいて、各ガス入力ラインは前記複数の接続ラインの夫々によって各ガス出力ラインに結合される複数の接続ラインと、
各接続ラインを流れるフローを制御するよう夫々配置された複数の接続バルブと、
各入口ポートへのフローを制御するよう夫々配置された複数のマスガスフローコントローラと、
前記出口ポートの１つに結合され、前記処理チャンバの入口に実質的に等しい制限を行うフロー制限部とを含む装置。
前記出口ポートの少なくとも１つを出るガスのフロー、圧力又は化学物質のうち少なくとも１つの測定を行うために配置された少なくとも１つのセンサを含む請求項１記載の装置。
前記センサにより前記コントローラに提供された測定に応答して、前記ガス入口ラインの少なくとも１つを流れるガスの特徴を調整するよう構成されたコントローラを含む請求項２記載の装置。
前記複数のガス出力ラインの少なくとも第２のガス出力ラインを、処理チャンバをバイパスする設備排気部に結合するパージラインを含み、
前記処理チャンバは前記複数のガス出力ラインの少なくとも第１のガス出力ラインに結合されている請求項１記載の装置。
前記複数の出口ポートの第２の出口ポートに結合された最終のバルブと、
前記第２の出口ポートと前記パージラインの間に結合されたバイパスバルブとを含む請求項４記載の装置。
前記パージラインを通るフローを制御するよう配置されたスロットルバルブを含む請求項４記載の装置。
前記設備排気部に接続された前記出口ポートの少なくとも１つが前記処理チャンバにも接続されている請求項１記載の装置。
前記出口ポートの第１の出口ポートに結合された少なくとも２つの調節可能なバルブであって、前記第１の出口ポートからのフローを分割するように構成された調節可能なバルブを含む請求項１記載の装置。
前記接続バルブの少なくとも１つが、２つ以上の前記出口ポート間で、前記入口ポートの１つからのフローを分割するように構成された少なくとも２つの調節可能なバルブを含む請求項１記載の装置。
臨界（超音速）フローを、前記接続バルブを通して、維持しながら、前記調節可能なバルブを通るフローを測定することにより、前記調節可能なバルブの有効開口面積を較正するために構成された較正回路を含む請求項９記載の装置。
接続バルブ又は接続ライン内に含まれる２つ以上のオリフィスであって、前記オリフィスを通る固定フローを維持するようなサイズの前記オリフィスを含み、１つ以上の入口ポートから２つ以上のオリフィスへ供給されたフローが前記２つ以上のオリフィス間で分割され、各オリフィスを通る前記フローが前記オリフィスの面積に比例する請求項１記載の装置。
各オリフィスが前記接続バルブの夫々に流体結合され、１つ以上の入口ポートからのフローが前記オリフィス間で分割され、各オリフィスを通る前記フローが前記オリフィスの前記面積に比例し、各オリフィスに結合された前記接続バルブが開いている時間の量に比例する請求項１１記載の装置。
前記入口ポートのうち１つが３つ以上のオリフィスに結合し、各オリフィスが各接続バルブに流体結合し、前記オリフィスのうち少なくとも２つが前記出口ポートのうち少なくとも１つに結合し、前記出口ポート間で分割されたフローが前記流体結合した接続バルブによりフローが可能とされる各出口ポートに流体結合された全オリフィスの開口面積の合計に比例する請求項１１記載の装置。
臨界（超音速）フローを、前記接続バルブを通して、維持しながら、前記オリフィスを通るフローを測定することにより、前記オリフィスの面積を較正するために構成された較正回路を含む請求項１１記載の装置。
半導体処理システムにガスを分配する装置であって、
入口ポートを夫々有する複数のガス入力ラインと、
出口ポートを夫々有する複数のガス出力ラインにおいて、前記複数の出口ポートの少なくとも第１の出口ポートが処理チャンバに結合されていて、前記処理チャンバのフロー抵抗に実質的に等しいフロー抵抗を有する複数のガス出力ラインと、
各対のガス入力とガス出力ラインを夫々結合する複数の接続ラインと、
各接続ラインを流れるフローを制御するよう夫々配置された複数の接続バルブと、
各入口ポートへのフローを制御するよう夫々配置された複数のマスガスフローコントローラとを含む装置。
前記出口ポートのうち少なくとも１つに結合される較正回路を含む請求項１５記載の装置。
前記出口ポートのうち少なくとも１つが設備排気部に結合されている請求項１５記載の装置。
前記出口ポートのすべてが、バルブを介して設備排気部に選択的に結合されている請求項１５記載の装置。
前記出口ポートのすべてが、バルブを介して較正回路に選択的に結合されている請求項１５記載の装置。
半導体処理システムにガスを分配する装置であって、
入力及び出力チャネルのグリッドが内部に形成された本体において、前記出力チャネルの少なくとも２つが処理チャンバに別々に結合され、各入力チャネルが各出力チャネルに結合されている本体と、
各接続バルブが各対の入力及び出力チャネルに夫々結合されている複数の接続バルブと、
前記処理チャンバをバイパスする前記出力チャネルの少なくとも１つに結合されている設備排気部と、
各入口ポートへのフローを制御するよう夫々配置された複数のマスガスフローコントローラと、
前記出口ポートの１つに結合され、前記処理チャンバの入口に実質的に等しい制限を行うフロー制限部とを含む装置。