JP2008208008A - 石英ガラス部材のエッチング方法 - Google Patents
石英ガラス部材のエッチング方法 Download PDFInfo
- Publication number
- JP2008208008A JP2008208008A JP2007048233A JP2007048233A JP2008208008A JP 2008208008 A JP2008208008 A JP 2008208008A JP 2007048233 A JP2007048233 A JP 2007048233A JP 2007048233 A JP2007048233 A JP 2007048233A JP 2008208008 A JP2008208008 A JP 2008208008A
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- quartz glass
- etching
- glass member
- hydrogen fluoride
- etching method
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Pending
Links
Landscapes
- Surface Treatment Of Glass (AREA)
Abstract
【解決手段】石英ガラス部材のエッチング方法において、石英ガラス部材の外表面の少なくとも一部にポリ塩化ビニル塗布液を塗布し、乾燥したのち、フッ化水素を主成分とするエッチング液で処理する。フッ化水素を主成分とするエッチング液がフッ化アンモニウム,酢酸を含有する。含有量を調節することで任意の大きさの凹凸を形成する。
【選択図】なし
Description
本発明は、任意の位置に不透明部と透明平滑部とを有する石英ガラス部材を簡便に製造するためのエッチング方法を提供することを目的とする。
直径250mm石英ガラス円板の両面を火炎研磨し、その表面の半分に円盤状にポリ塩化ビニル液(古藤工業製、商品名フロンマスク)を塗布し乾燥させて、厚さ130μmのポリ塩化ビニル塗布膜を有する石英ガラス円板を得た。その石英ガラス円板をフッ化水素15重量%、フッ化アンモニウム15重量%、酢酸35重量%を含むエッチング処理液に常温で30分浸漬しエッチング処理をした。処理後部材を純水で洗浄し、溶剤でポリ塩化ビニル塗布膜を剥がした。エッチング処理液はポリ塩化ビニル塗布膜の端部から1mm以内に浸み込むにとどまった。
実施例1の石英ガラス円板に光硬化性レジストを塗布し、加熱炉で硬化させたのち、実施例1と同じエッチング処理液に浸漬したところ、暫くして光硬化性レジストが剥がれ、エッチング処理で部材全体が不透明化した。
比較例1において光硬化性レジストの代わりに加熱し溶解したワックスを塗布し、冷却固化した以外、比較例1と同様にしてエッチング処理を行った。塗布したワックスは溶解し、エッチング処理液がワックスの色を呈した。
Claims (3)
- 石英ガラス部材のエッチング方法において、石英ガラス部材の外表面の少なくとも一部にポリ塩化ビニル塗布液を塗布し、乾燥したのち、フッ化水素を主成分とするエッチング液で処理することを特徴とする石英ガラス部材のエッチング方法。
- フッ化水素を主成分とするエッチング液がフッ化水素に加えてフッ化アンモニウム及び有機カルボン酸を含有することを特徴とする請求項1記載の石英ガラス部材のエッチング方法。
- 有機カルボン酸が酢酸であることを特徴とする請求項2記載の石英ガラス部材のエッチング方法。
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP2007048233A JP2008208008A (ja) | 2007-02-28 | 2007-02-28 | 石英ガラス部材のエッチング方法 |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP2007048233A JP2008208008A (ja) | 2007-02-28 | 2007-02-28 | 石英ガラス部材のエッチング方法 |
Publications (1)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JP2008208008A true JP2008208008A (ja) | 2008-09-11 |
Family
ID=39784648
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP2007048233A Pending JP2008208008A (ja) | 2007-02-28 | 2007-02-28 | 石英ガラス部材のエッチング方法 |
Country Status (1)
Country | Link |
---|---|
JP (1) | JP2008208008A (ja) |
Cited By (1)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
WO2021112113A1 (ja) * | 2019-12-04 | 2021-06-10 | 信越石英株式会社 | 石英ガラスの製造方法 |
Citations (4)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPS491609A (ja) * | 1972-04-18 | 1974-01-09 | ||
JPS58185453A (ja) * | 1982-04-23 | 1983-10-29 | Nippon Electric Glass Co Ltd | ガラス管の加工方法 |
JP2002110554A (ja) * | 2000-09-28 | 2002-04-12 | Shinetsu Quartz Prod Co Ltd | 半導体工業用シリカガラス治具およびその製造方法 |
JP2004339036A (ja) * | 2003-05-19 | 2004-12-02 | Nishiyama Stainless Chem Kk | 高強度ガラス板及びガラスの強化方法。 |
-
2007
- 2007-02-28 JP JP2007048233A patent/JP2008208008A/ja active Pending
Patent Citations (4)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPS491609A (ja) * | 1972-04-18 | 1974-01-09 | ||
JPS58185453A (ja) * | 1982-04-23 | 1983-10-29 | Nippon Electric Glass Co Ltd | ガラス管の加工方法 |
JP2002110554A (ja) * | 2000-09-28 | 2002-04-12 | Shinetsu Quartz Prod Co Ltd | 半導体工業用シリカガラス治具およびその製造方法 |
JP2004339036A (ja) * | 2003-05-19 | 2004-12-02 | Nishiyama Stainless Chem Kk | 高強度ガラス板及びガラスの強化方法。 |
Cited By (1)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
WO2021112113A1 (ja) * | 2019-12-04 | 2021-06-10 | 信越石英株式会社 | 石英ガラスの製造方法 |
Similar Documents
Publication | Publication Date | Title |
---|---|---|
TWI721216B (zh) | 用於電漿處理裝置中的腔室部件、包含其之裝置及製造其之方法 | |
JP4985928B2 (ja) | 多層コート耐食性部材 | |
KR20160114177A (ko) | 챔버 코팅들 | |
JP4827587B2 (ja) | シリコンウェーハの製造方法 | |
JP3613472B2 (ja) | プラズマエッチング装置用部材及びその製造方法 | |
JP2006231134A (ja) | 有機材料膜の形成方法 | |
JP2009054984A (ja) | 成膜装置部品及びその製造方法 | |
TW200416294A (en) | Corrosion-resistant member and method for producing same | |
JP2008208008A (ja) | 石英ガラス部材のエッチング方法 | |
JP5277722B2 (ja) | 炭化珪素単結晶ウェハ表面の研磨方法 | |
JP2008311660A (ja) | 半導体ウェハを洗浄、乾燥及び親水化する方法 | |
JPH08213370A (ja) | ドライエッチング方法及び装置 | |
TWI700742B (zh) | 用於塗敷石英表面的石英表面處理方法 | |
JP2010116275A (ja) | 炭化珪素単結晶の製造方法 | |
TW200522191A (en) | Method for removing a composite coating containing tantalum deposition and arc sprayed aluminum from ceramic substrates | |
WO2021112113A1 (ja) | 石英ガラスの製造方法 | |
JP4813400B2 (ja) | 石英ガラス部材のエッチング方法 | |
EP1193327B1 (en) | Silica glass apparatus for semiconductor industry and method for producing the same | |
JPH09129557A (ja) | 薄膜の製造方法 | |
JP2821212B2 (ja) | 耐火材料及びその製造方法 | |
TW438731B (en) | Quartz glass jig for semiconductor heat treatment apparatus and a method of producing thereof | |
JP2010248032A (ja) | 合成石英ガラス基板の微細加工方法 | |
JPH11106225A (ja) | 表面に凹凸を有する石英ガラスおよびその製造方法 | |
JP3262696B2 (ja) | ガラス状カーボン被膜を有するシリカガラス部材 | |
JP3908291B2 (ja) | 耐ハロゲン系ガス腐食性及び耐ハロゲン系プラズマ腐食性に優れたコーティング膜並びに該コーティング膜を施した積層構造体 |
Legal Events
Date | Code | Title | Description |
---|---|---|---|
A621 | Written request for application examination |
Effective date: 20091211 Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A621 |
|
A521 | Written amendment |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A523 Effective date: 20110118 |
|
A977 | Report on retrieval |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A971007 Effective date: 20110512 |
|
A131 | Notification of reasons for refusal |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A131 Effective date: 20110516 |
|
A02 | Decision of refusal |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A02 Effective date: 20110927 |