JP2008205358A - Soiウエーハの製造方法 - Google Patents
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【解決手段】 シリコン単結晶ウエーハからSOIウエーハを製造する方法であって、少なくとも、前記シリコン単結晶ウエーハの表面に、溝パターンを形成する工程と、該形成した溝パターンの底部にシリコン酸化膜を形成する工程と、前記底部シリコン酸化膜が形成された溝パターンを有するシリコン単結晶ウエーハに対し、水素ガスまたは不活性ガス、あるいはこれらの混合ガス雰囲気下でRTA処理を行い、前記底部シリコン酸化膜上にシリコン単結晶薄膜を形成するとともに前記底部シリコン酸化膜を埋め込み酸化膜として部分的なSOI構造を形成する工程とを含む、部分SOI構造を有するSOIウエーハを製造するSOIウエーハの製造方法。
【選択図】 図1
Description
第一に、一般に貼り合わせ法と呼ばれる方法で、少なくとも1枚のシリコン単結晶ウエーハに酸化膜を形成し、2枚のシリコン単結晶ウエーハを貼り合わせる方法であり、特に、一方から研磨して所定の厚さのSOI層を形成する方法である(特許文献1等参照)。
その他の方法も提案されているが現在、これらが主なSOIウエーハの製造方法である。
貼り合わせ法、イオン注入剥離法を用いた場合、ウエーハ面内に部分的にSOI構造(以下、部分SOI構造と言うことがある)を形成した、部分SOIウエーハを製造することは、その製造方法の制限からして極めて困難である。さらに、貼り合わせ法は、膜厚均一性が他の方法と比較して劣り、また、膜厚がナノメートルオーダーのような薄膜になると製造自体が極めて困難である上、1枚のSOIウエーハを製造するために2枚のシリコン単結晶ウエーハを必要とするため、製造コストも高い。また、イオン注入剥離法は、高濃度に水素イオン等を注入する必要がある上、やはり1枚のSOIウエーハを製造するために2枚のシリコン単結晶ウエーハを必要とするため、製造コストも高い。
さらに、これらのいずれの方法の場合も、SOIウエーハを完成させた後にデバイス製造工程を行うことを前提としており、デバイス製造工程中でSOI構造を形成することは極めて困難であるなどの不便さもある。
また、前記溝パターンの開口部を、ストライプ状とすることができる(請求項5)。この場合、前記ストライプ状の溝パターンの開口部の幅を、5μm以下とすることが好ましい(請求項6)。
このように、RTA処理を、1050℃以上1300℃以下の温度、1秒以上600秒以下の時間で行えば、効率的に底部シリコン酸化膜上にシリコン単結晶薄膜を形成するとともに底部シリコン酸化膜を埋め込み酸化膜とし、部分SOI構造を形成することができる。
このように、前記のSOIウエーハの製造方法によるSOIウエーハの製造であれば、デバイス製造工程中においてもSOI構造を形成することができる。従って、デバイス設計上極めて有利である。
前述のように、SOIウエーハの製造方法に関して、貼り合わせ法や、イオン注入剥離法は、2枚のシリコン単結晶ウエーハを必要とし、SIMOX法は、1300℃程度以上の高温で長時間の熱処理が必要である等の理由のため、製造コストが高いなどの問題があった。また、いずれの方法も、部分的なSOI構造を形成したり、デバイス製造工程中でSOI構造を形成したりすることは困難である等の問題があった。
まず、シリコン単結晶ウエーハ11を準備する(工程a)。
このシリコン単結晶ウエーハ11は種々のものを用いることができ、用途に応じて適宜選択することができる。
この溝パターン13の形成方法は特に限定されないが、例えば、以下のようなフォトリソグラフィ法を用いて形成することができる。まず、シリコン単結晶ウエーハ11の表面12にレジスト膜によるパターンを形成する。次に、このレジスト膜をマスクとして、ドライエッチングにより溝パターン13を形成する。これにともない、溝パターン残部(凸部)14が形成される。
また、後述するように、溝パターン13の溝深さを調節することにより、最終的に得るSOIウエーハのSOI層の厚さ(すなわち、埋め込み酸化膜の埋め込み深さ)を調節することができる。この溝パターン13の溝深さは特に限定されず、所望とするSOI層の厚さにより適宜決定することができる。
この底部シリコン酸化膜15aの形成方法は特に限定されないが、例えば、以下のような工程を経ることによって実現できる。すなわち、まず、工程bで溝パターン13を形成したシリコン単結晶ウエーハ11を酸化性雰囲気で熱処理し、溝パターン13内の表面を含むウエーハ表面全体に酸化膜15(熱酸化膜)を形成する(工程c)。次に、溝パターンの底部13aに形成されているシリコン酸化膜上のみにレジスト膜を塗布してレジストパターンを形成し、ドライエッチングにより底部のシリコン酸化膜以外のシリコン酸化膜をエッチング除去する(工程d)。
このRTA処理により、主に溝パターンの残部14を構成していたシリコン原子の一部が底部シリコン酸化膜15a上にマイグレーション(移動)し、底部シリコン酸化膜15a上にシリコン単結晶薄膜16が形成されるとともに、底部シリコン酸化膜15aが埋め込み酸化膜17となり、部分的なSOI構造(部分SOI構造)18が形成される。すなわち、部分SOI構造18は、シリコン単結晶層上に埋め込み酸化膜17を有し、さらにその上にシリコン単結晶薄膜(部分SOI層)16を有する。また、ウエーハの表面は全面がシリコン単結晶となる。すなわち、この時点で部分SOI構造18を有するSOIウエーハ(部分SOIウエーハ)21が製造されたことになる。
基本的には、上記の工程b〜eと同様の工程を繰り返して新たに部分SOI構造を形成し、先に形成した部分SOI構造と複合して全面SOI構造を構成する。以下では、部分SOI構造の形成サイクルを2回(工程b〜eと後述する工程f〜i)行うことによって全面SOI構造を形成する場合を主に説明するが、これに限定されず、3回以上の部分SOI構造形成サイクルを行って全面SOI構造とすることもできる。
溝パターン23の形成方法は、工程bの溝パターン13の形成方法と同様である。
すなわち、例えば、工程fで溝パターン23を形成した部分SOIウエーハ21を酸化性雰囲気で熱処理し、溝パターン23内の表面を含むウエーハ表面全体に酸化膜25(熱酸化膜)を形成する(工程g)。次に、溝パターンの底部23aに形成されているシリコン酸化膜上のみにレジスト膜を塗布してレジストパターンを形成し、ドライエッチングにより溝パターン底部のシリコン酸化膜以外の、ウエーハ表面に形成されているシリコン酸化膜をエッチング除去する(工程h)。
このRTA処理により、主に溝パターン23の残部を構成していたシリコン原子が底部シリコン酸化膜25a上にマイグレーションし、底部シリコン酸化膜25a上にシリコン単結晶薄膜26が形成されるとともに、底部シリコン酸化膜25aが埋め込み酸化膜27となり、部分的なSOI構造(部分SOI構造)28が形成される。すなわち、部分SOI構造28は、シリコン単結晶層上に埋め込み酸化膜27を有し、さらにその上にシリコン単結晶薄膜(部分SOI層)26を有する。また、ウエーハの表面は全面がシリコン単結晶となっている。前述のように、2回のサイクルによって形成されるそれぞれの部分SOI構造の形成位置を重ね合わせた場合にウエーハ全面を覆うようにすれば、先に形成されている部分SOI構造18と、工程f〜iで形成された部分SOI構造28とが複合した、全面SOI構造となる。このようにして、全面にSOI構造を有するSOIウエーハ(全面SOIウエーハ)31を製造することができる。
(実施例1)
図1(a)〜(i)に示した全面SOIウエーハの製造方法に従い、以下のように全面SOIウエーハを製造した。
次に、シリコン単結晶ウエーハ11の表面12にレジスト膜によるパターンをマスクとしてドライエッチングにより、深さ300nm、幅2μm、溝間の幅2μmのストライプ状の溝パターン13をウエーハ全面に形成した(工程b)。
次に、溝パターン13を形成したシリコン単結晶ウエーハ11を酸化性雰囲気で熱処理し、ウエーハ表面に100nm厚さのシリコン酸化膜15を形成した(工程c)。次に、溝パターンの底部13aのシリコン酸化膜上のみにレジストパターンを形成し、底部のシリコン酸化膜以外のシリコン酸化膜をエッチング除去した(工程d)。
次に、このウエーハをRTA処理した(工程e)。RTAの条件は加熱温度が1200℃、加熱時間60秒、雰囲気ガスはH2:6L/min、Ar:14L/minの混合ガスとした。その後、全ての溝パターンの底部のシリコン酸化膜がシリコンの単結晶で覆われたことを確認した。すなわち、この時点で部分SOIウエーハ21が完成した。
次に、このウエーハを酸化性雰囲気で熱処理し、ウエーハ表面に100nm厚さのシリコン酸化膜25を形成した(工程g)。
次に、新たに形成した溝パターンの底部23aのシリコン酸化膜上のみにレジストパターンを形成し、溝パターン残部の表面(部分SOI構造18の表面)上に形成されているシリコン酸化膜をエッチング除去した(工程h)。
次に、再度このウエーハをRTA処理した(工程i)。RTA条件は工程eのRTA処理と同様に加熱温度1200℃、加熱時間60秒、雰囲気ガスはH2:6L/min、Ar:14L/minとした。
このようにして、膜厚約100nmの埋め込み酸化膜上に膜厚平均48nmのSOI層を全面に有するSOIウエーハが製造することができた。
まず、実施例1と同様に、ただし、工程bにおける溝パターン13の形成を、深さ300nm、縦横2μmの溝パターン13を市松模様(長方形状の溝パターンと溝パターン残部を互い違いに面内に敷き詰めたような分布)のようにウエーハ全面に形成し、工程eの雰囲気ガスをH2:20L/minとして工程a〜eを行い、部分SOI構造18が面内に市松模様状に分布する部分SOIウエーハを製造した。
次に、実施例1と同様に、ただし、工程fにおいて、部分SOI構造18が形成されていない領域に、深さを埋め込み酸化膜17の位置と同一にした、縦横2μmの溝のパターン23を市松模様のようにウエーハ全面に形成し、工程iの雰囲気ガスをH2:20L/minとして工程f〜iを行い、全面SOIウエーハを製造した。
このようにして、SOI層の膜厚平均が53nmである全面SOIウエーハを製造することができた。
実施例2と同様に、ただし、工程b、工程fの溝パターン形成を、ともに縦横4μmの市松模様とし、工程e、iの雰囲気ガスをAr:20L/minとして全面SOIウエーハの製造を行った。SOI層の膜厚を測定したところ、平均34nmであった。
13…溝パターン、 13a…溝パターン底部、
14…溝パターン残部(凸部)、
15…シリコン酸化膜、 15a…底部シリコン酸化膜、
16…シリコン単結晶薄膜(部分SOI層)、 17…埋め込み酸化膜、
18…部分SOI構造、 21…部分SOIウエーハ、
23…溝パターン、 23a…溝パターン底部、
25…シリコン酸化膜、 25a…底部シリコン酸化膜、
26…シリコン単結晶薄膜(部分SOI層)、 27…埋め込み酸化膜、
28…部分SOI構造、 31…全面SOIウエーハ。
Claims (8)
- シリコン単結晶ウエーハからSOIウエーハを製造する方法であって、少なくとも、
前記シリコン単結晶ウエーハの表面に、溝パターンを形成する工程と、
該形成した溝パターンの底部にシリコン酸化膜を形成する工程と、
前記底部シリコン酸化膜が形成された溝パターンを有するシリコン単結晶ウエーハに対し、水素ガスまたは不活性ガス、あるいはこれらの混合ガス雰囲気下でRTA処理を行い、前記底部シリコン酸化膜上にシリコン単結晶薄膜を形成するとともに前記底部シリコン酸化膜を埋め込み酸化膜として部分的なSOI構造を形成する工程と
を含む、部分SOI構造を有するSOIウエーハを製造することを特徴とするSOIウエーハの製造方法。 - 請求項1に記載のSOIウエーハの製造方法により製造された、部分SOI構造を有するSOIウエーハから、全面SOI構造を有するSOIウエーハを製造する方法であって、
前記部分SOI構造を有するSOIウエーハの、少なくとも前記埋め込み酸化膜が形成されていない領域の表面に、溝パターンを形成する工程と、
該形成した溝パターンの底部にシリコン酸化膜を形成する工程と、
前記埋め込み酸化膜が形成されていない領域に、底部シリコン酸化膜が形成された溝パターンを有するSOIウエーハに対し、水素ガスまたは不活性ガス、あるいはこれらの混合ガス雰囲気下でRTA処理を行い、前記底部シリコン酸化膜上にシリコン単結晶薄膜を形成するとともに前記底部シリコン酸化膜を埋め込み酸化膜として新たに部分SOI構造を形成する工程と
を少なくとも1回以上繰り返し、前記複数の部分SOI構造が複合して構成される全面SOI構造を有するSOIウエーハを製造することを特徴とするSOIウエーハの製造方法。 - 前記溝パターンの開口部を、長方形状とすることを特徴とする請求項1または請求項2に記載のSOIウエーハの製造方法。
- 前記長方形状の溝パターンの開口部の少なくとも一方の辺の長さを、5μm以下とすることを特徴とする請求項3に記載のSOIウエーハの製造方法。
- 前記溝パターンの開口部を、ストライプ状とすることを特徴とする請求項1または請求項2に記載のSOIウエーハの製造方法。
- 前記ストライプ状の溝パターンの開口部の幅を、5μm以下とすることを特徴とする請求項5に記載のSOIウエーハの製造方法。
- 前記RTA処理を、1050℃以上1300℃以下の温度、1秒以上600秒以下の時間で行うことを特徴とする請求項1ないし請求項6のいずれか一項に記載のSOIウエーハの製造方法。
- 請求項1ないし請求項7のいずれか一項に記載のSOIウエーハの製造方法によるSOIウエーハの製造を、デバイス製造工程中に行うことを特徴とするSOIウエーハの製造方法。
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---|---|---|---|---|
JPS6052016A (ja) * | 1983-08-12 | 1985-03-23 | Yokogawa Hewlett Packard Ltd | 半導体素子の製造方法 |
JPS60119742A (ja) * | 1983-12-02 | 1985-06-27 | Hitachi Ltd | 半導体装置ならびにその製造方法 |
JPS6388821A (ja) * | 1986-10-02 | 1988-04-19 | Sony Corp | 気相成長方法 |
JPH07254653A (ja) * | 1992-05-15 | 1995-10-03 | Internatl Business Mach Corp <Ibm> | Soi型集積回路及びその形成方法 |
JP2007311607A (ja) * | 2006-05-19 | 2007-11-29 | Renesas Technology Corp | 半導体装置の製造方法 |
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Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPS6052016A (ja) * | 1983-08-12 | 1985-03-23 | Yokogawa Hewlett Packard Ltd | 半導体素子の製造方法 |
JPS60119742A (ja) * | 1983-12-02 | 1985-06-27 | Hitachi Ltd | 半導体装置ならびにその製造方法 |
JPS6388821A (ja) * | 1986-10-02 | 1988-04-19 | Sony Corp | 気相成長方法 |
JPH07254653A (ja) * | 1992-05-15 | 1995-10-03 | Internatl Business Mach Corp <Ibm> | Soi型集積回路及びその形成方法 |
JP2007311607A (ja) * | 2006-05-19 | 2007-11-29 | Renesas Technology Corp | 半導体装置の製造方法 |
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