JP2008190846A - 加熱調理器用ガラストッププレート及びその製造方法 - Google Patents
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Abstract
【課題】ミラー効果を発揮して意匠性に優れ、摩耗強度が高い加熱調理器用ガラストッププレート及びその製造方法を提供すること。
【解決手段】加熱調理器用のガラストッププレート１である。低膨張結晶化ガラスよりなる基板ガラス２の調理面２１に、調理面２１よりも反射率が高い高反射膜３を積層し、高反射膜３の一部を覆うように、更に絵付けガラス装飾層４を積層してなる。基板ガラス２の調理面２１は、表面粗さＲａが０．７μｍ未満である。高反射膜３は、ＴｉＯ2、ＣｅＯ2、ＺｒＯ2のうち１種以上を主成分とすると共に厚みが２０〜３００ｎｍである。絵付けガラス装飾層４は、ガラス組成物からなると共に厚みが１〜１５μｍである。
【選択図】図１
【解決手段】加熱調理器用のガラストッププレート１である。低膨張結晶化ガラスよりなる基板ガラス２の調理面２１に、調理面２１よりも反射率が高い高反射膜３を積層し、高反射膜３の一部を覆うように、更に絵付けガラス装飾層４を積層してなる。基板ガラス２の調理面２１は、表面粗さＲａが０．７μｍ未満である。高反射膜３は、ＴｉＯ2、ＣｅＯ2、ＺｒＯ2のうち１種以上を主成分とすると共に厚みが２０〜３００ｎｍである。絵付けガラス装飾層４は、ガラス組成物からなると共に厚みが１〜１５μｍである。
【選択図】図１
Description
本発明は、加熱調理器用のガラストッププレート及びその製造方法に関する。
従来より、電磁調理器やガス調理器等の調理器の上部には、ガラス板よりなる加熱調理器用ガラストッププレートが設置されている。この加熱調理器用ガラストッププレートには、ナベ等の被加熱物が設置され、該被加熱物は調理器内部の加熱装置により加熱調理できる。特に、電磁調理器は、安全性が高いため、近年ますますその需要が増加する傾向にあり、それに伴い加熱調理器用ガラストッププレートの需要も増大している。
上記加熱調理器用の需要が増加するにつれて、加熱調理器用ガラストッププレートには、耐衝撃性等の物理的特性の他に、様々な特性が要求されるようになってきた。例えば、基板ガラスの表面に様々な模様を施した意匠性に優れたガラストッププレートがある（特許文献１）。
一方、従来のガラストッププレートよりもさらに意匠性を高めるべく、調理面に鏡のような光沢（ミラー効果）を付与することが考えられたが、それを実現するための具体的構成についての提案はこれまでになかった。
本発明は、かかる従来の問題点に鑑みてなされたものであって、ミラー効果を発揮して意匠性に優れ、摩耗強度が高い加熱調理器用ガラストッププレート及びその製造方法を提供しようとするものである。
第１の発明は、加熱調理器用のガラストッププレートであって、
低膨張結晶化ガラスよりなる基板ガラスの調理面に、該調理面よりも反射率が高い高反射膜を積層し、
該高反射膜の一部を覆うように、更に絵付けガラス装飾層を積層してなり、
上記基板ガラスの調理面は、表面粗さＲａが０．７μｍ未満であり、
上記高反射膜は、ＴｉＯ2、ＣｅＯ2、ＺｒＯ2のうち１種以上を主成分とすると共に厚みが２０〜３００ｎｍであり、
上記絵付けガラス装飾層は、ガラス組成物からなると共に厚みが１〜１５μｍであることを特徴とする加熱調理器用ガラストッププレートにある（請求項１）。
低膨張結晶化ガラスよりなる基板ガラスの調理面に、該調理面よりも反射率が高い高反射膜を積層し、
該高反射膜の一部を覆うように、更に絵付けガラス装飾層を積層してなり、
上記基板ガラスの調理面は、表面粗さＲａが０．７μｍ未満であり、
上記高反射膜は、ＴｉＯ2、ＣｅＯ2、ＺｒＯ2のうち１種以上を主成分とすると共に厚みが２０〜３００ｎｍであり、
上記絵付けガラス装飾層は、ガラス組成物からなると共に厚みが１〜１５μｍであることを特徴とする加熱調理器用ガラストッププレートにある（請求項１）。
本発明の加熱調理器用ガラストッププレートの最も注目すべき点は、表面粗さの低い基板ガラスの調理面に高反射膜を形成し、その一部を覆うように、更に絵付けガラス装飾層を形成することにある。これにより、高い摩耗強度を有すると共に、優れた意匠性を有する加熱調理器用ガラストッププレートを得ることができる。
上記高反射膜は、ＴｉＯ2、ＣｅＯ2、ＺｒＯ2のうち１種以上を主成分とすると共に厚みが２０〜３００ｎｍである。
上記ＴｉＯ2、ＣｅＯ2、及びＺｒＯ2は屈折率が高いため、上記高反射膜は上記調理面よりも反射率が高くなる。また、表面粗さＲａが０．７μｍ未満の平坦な調理面を有する基板ガラスに、ＴｉＯ2、ＣｅＯ2、ＺｒＯ2のうち１種以上を主成分とする高反射膜を形成することにより、調理面に鏡のような光沢（ミラー効果）を付与することができる。
上記ＴｉＯ2、ＣｅＯ2、及びＺｒＯ2は屈折率が高いため、上記高反射膜は上記調理面よりも反射率が高くなる。また、表面粗さＲａが０．７μｍ未満の平坦な調理面を有する基板ガラスに、ＴｉＯ2、ＣｅＯ2、ＺｒＯ2のうち１種以上を主成分とする高反射膜を形成することにより、調理面に鏡のような光沢（ミラー効果）を付与することができる。
上記絵付けガラス装飾層は、ガラス組成物からなると共に厚みが１〜１５μｍである。
絵付けガラス装飾層は、高反射膜の一部を覆うように積層する。
これにより、この絵付けガラス装飾層が、調理面上では高反射膜よりも高い位置に存在することとなり、高反射膜が鍋等の被加熱物と直接接触することを抑制することができる。そのため、基板ガラス本来の強度を低下させることなく、上記高反射膜の摩耗を抑制することができる。
絵付けガラス装飾層は、高反射膜の一部を覆うように積層する。
これにより、この絵付けガラス装飾層が、調理面上では高反射膜よりも高い位置に存在することとなり、高反射膜が鍋等の被加熱物と直接接触することを抑制することができる。そのため、基板ガラス本来の強度を低下させることなく、上記高反射膜の摩耗を抑制することができる。
また、絵付けガラス装飾層がなく上記高反射膜が露出した部分は鏡のような光沢が表現され、上記高反射膜の上に絵付けガラス装飾層が形成されている部分は光沢のない表現となり、意匠に多様性を付与することができる。
このように、本発明によれば、ミラー効果を発揮して意匠性に優れ、摩耗強度が高い加熱調理器用ガラストッププレートを得ることができる。なお、上記調理面とは、加熱調理器を使用する際に、鍋などを置く面である。
第２の発明は、Ｔｉ、Ｃｅ、Ｚｒのうち１種以上の金属レジネートと有機樹脂とからなるペーストを低膨張結晶化ガラスよりなる基板ガラスの調理面に塗布し、６００〜１２００℃で焼成することにより高反射膜を形成する高反射膜形成工程と、
ガラス組成物と有機樹脂とからなるペーストを上記高反射膜の一部を覆うように塗布し、７５０〜１２００℃で焼成することにより絵付けガラス装飾層を形成する絵付けガラス装飾層形成工程とを有することを特徴とする加熱調理器用ガラストッププレートの製造方法にある（請求項７）。
ガラス組成物と有機樹脂とからなるペーストを上記高反射膜の一部を覆うように塗布し、７５０〜１２００℃で焼成することにより絵付けガラス装飾層を形成する絵付けガラス装飾層形成工程とを有することを特徴とする加熱調理器用ガラストッププレートの製造方法にある（請求項７）。
本発明の加熱調理器用ガラストッププレートの製造方法は、高反射膜形成工程において、Ｔｉ、Ｃｅ、Ｚｒのうち１種以上の金属レジネートと有機樹脂とからなるペーストを上記基板ガラスに塗布し、６００〜１２００℃で焼成する。これにより、上記基板ガラス上にＴｉＯ2、ＣｅＯ2、ＺｒＯ2のうち１種以上を主成分とする高反射膜を形成することができる。そのため、上記基板ガラスに、ミラー効果を発揮する高反射膜を形成することができる。
そして、上記高反射膜を形成した後、絵付けガラス装飾層形成工程において、ガラス組成物と有機樹脂とからなるペーストを上記高反射膜の上に該高反射膜の一部を覆うように塗布し、７５０〜１２００℃で焼成することにより、ガラス組成物からなる絵付けガラス装飾層を形成する。そのため、上記高反射膜の摩耗を抑制すると共に、意匠に多様性を付与する絵付けガラス装飾層を形成することができる。
このように、本発明によれば、ミラー効果を発揮して意匠性に優れ、摩耗強度が高い加熱調理器用ガラストッププレートを製造することができる。
このように、本発明によれば、ミラー効果を発揮して意匠性に優れ、摩耗強度が高い加熱調理器用ガラストッププレートを製造することができる。
第１の発明の加熱調理器用ガラストッププレートは、上述したように、低膨張結晶化ガラスよりなる基板ガラスの調理面に、該調理面よりも反射率が高い高反射膜を積層し、該高反射膜の一部を覆うように、更に絵付けガラス装飾層を積層してなる。
すなわち、上記加熱調理器用ガラストッププレートは、少なくとも、上記基板ガラスの調理面に上記高反射膜が積層されて、これが露出している部分と、該高反射膜上に更に絵付けガラス装飾層が積層された部分が存在することとなる。また、基板ガラスが露出した部分があってもよいし、基板ガラスの上に絵付けガラス装飾層が形成された部分があってもよい。
すなわち、上記加熱調理器用ガラストッププレートは、少なくとも、上記基板ガラスの調理面に上記高反射膜が積層されて、これが露出している部分と、該高反射膜上に更に絵付けガラス装飾層が積層された部分が存在することとなる。また、基板ガラスが露出した部分があってもよいし、基板ガラスの上に絵付けガラス装飾層が形成された部分があってもよい。
上記高反射膜の主成分をＴｉＯ2、ＣｅＯ2、ＺｒＯ2のうち１種以上とすることによって得られる上記ミラー効果は、調理面が平坦であるほど、効果を上げることができる。
従来、欠点が目立ちにくいという理由から、調理面の表面粗さが高い基板ガラスが用いられてきた。しかしながら、調理面の表面粗さＲａが０．７μｍ以上の場合には、反射率の高い膜を形成しても、調理面が平坦でなく光が乱反射するため十分なミラー効果を得ることができない。
より好ましくは、上記基板ガラスの調理面は、表面粗さＲａが０．２μｍ未満である。
なお、ここでいう表面粗さＲａは、ＪＩＳ Ｂ０６０１−２００１に準拠するものである。
従来、欠点が目立ちにくいという理由から、調理面の表面粗さが高い基板ガラスが用いられてきた。しかしながら、調理面の表面粗さＲａが０．７μｍ以上の場合には、反射率の高い膜を形成しても、調理面が平坦でなく光が乱反射するため十分なミラー効果を得ることができない。
より好ましくは、上記基板ガラスの調理面は、表面粗さＲａが０．２μｍ未満である。
なお、ここでいう表面粗さＲａは、ＪＩＳ Ｂ０６０１−２００１に準拠するものである。
また、上記高反射膜は、ＴｉＯ2、ＣｅＯ2、ＺｒＯ2のうち１種以上を主成分とする。
上記高反射膜において、ＴｉＯ2、ＣｅＯ2、ＺｒＯ2のうち１種以上の含有量は、焼成後の高反射膜全体の重量を１００％とすると（以下同様）、５０〜１００％の範囲であることが好ましい。
上記含有量が５０％未満の場合には、反射効果が低下し、十分なミラー効果を得ることができないおそれがある。上記ＴｉＯ2、ＣｅＯ2、ＺｒＯ2のうち１種以上の含有量は、より好ましくは、８０〜１００％である。
上記高反射膜において、ＴｉＯ2、ＣｅＯ2、ＺｒＯ2のうち１種以上の含有量は、焼成後の高反射膜全体の重量を１００％とすると（以下同様）、５０〜１００％の範囲であることが好ましい。
上記含有量が５０％未満の場合には、反射効果が低下し、十分なミラー効果を得ることができないおそれがある。上記ＴｉＯ2、ＣｅＯ2、ＺｒＯ2のうち１種以上の含有量は、より好ましくは、８０〜１００％である。
また、高反射膜は、そのミラー効果を妨げない範囲で、ＳｉＯ2、Ａｌ2Ｏ3、ＭｇＯ、Ｂｉ2Ｏ3、ＳｎＯ2、Ｉｎ2Ｏ3、Ｓｂ2Ｏ3、遷移金属元素（Ｆｅ、Ｃｏ、Ｎｉ、Ｃｕ、Ｍｎ、Ｃｒ等）の金属酸化物、貴金属元素（Ａｕ、Ｐｔ、Ｐｄ等）等のうち１種又は２種以上を含有してもよい。
また、上記高反射膜は厚みが２０〜３００ｎｍである。
上記高反射膜の厚みが２０ｎｍ未満の場合には、ミラー効果が十分に得られないという問題があり、一方、上記厚みが３００ｎｍを超える場合には、基板ガラスと反射膜の熱膨張差によりクラックが発生し、光の乱反射によりミラー効果が不十分となったり、剥離が発生するという問題がある。
また、上記高反射膜の厚みは、更に好ましくは、４０〜１１０ｎｍである。
上記高反射膜の厚みが２０ｎｍ未満の場合には、ミラー効果が十分に得られないという問題があり、一方、上記厚みが３００ｎｍを超える場合には、基板ガラスと反射膜の熱膨張差によりクラックが発生し、光の乱反射によりミラー効果が不十分となったり、剥離が発生するという問題がある。
また、上記高反射膜の厚みは、更に好ましくは、４０〜１１０ｎｍである。
また、上記絵付けガラス装飾層は、ガラス組成物からなると共に厚みが１〜１５μｍである。
上記絵付けガラス装飾層の膜厚が１μｍ未満の場合には、鍋等の被加熱物と高反射膜の位置が近くなり、直接接触により、上記高反射膜が剥がれ易くなり、耐摩耗性が低下するという問題がある。一方、上記膜厚が１５μｍを超える場合には、上記絵付けガラス装飾層が剥離するという問題がある。
また、上記絵付けガラス装飾層の厚みは、更に好ましくは４〜１２μｍである。
上記絵付けガラス装飾層の膜厚が１μｍ未満の場合には、鍋等の被加熱物と高反射膜の位置が近くなり、直接接触により、上記高反射膜が剥がれ易くなり、耐摩耗性が低下するという問題がある。一方、上記膜厚が１５μｍを超える場合には、上記絵付けガラス装飾層が剥離するという問題がある。
また、上記絵付けガラス装飾層の厚みは、更に好ましくは４〜１２μｍである。
上記ガラス組成物としては、リサイクル性などを考慮し、無鉛ガラス組成物であることが好ましい。
また、上記ガラス組成物は、軟化点が６５０℃以下であることが好ましい。また、上記ガラス組成物は、ＳｉＯ2、Ａｌ2Ｏ3、Ｂ2Ｏ3、Ｌｉ2Ｏ、Ｎａ2Ｏ、Ｋ2Ｏ、及びＺｒＯ2を必須成分として含有し、必要に応じてＣａＯ、ＳｒＯ、ＢａＯ、ＺｎＯ、ＴｉＯ2のうち１種以上を添加成分として含有し、７５０〜１２００℃で熱処理することにより熔着する無鉛ガラス組成物を用いることがより好ましい。
また、上記ガラス組成物は、軟化点が６５０℃以下であることが好ましい。また、上記ガラス組成物は、ＳｉＯ2、Ａｌ2Ｏ3、Ｂ2Ｏ3、Ｌｉ2Ｏ、Ｎａ2Ｏ、Ｋ2Ｏ、及びＺｒＯ2を必須成分として含有し、必要に応じてＣａＯ、ＳｒＯ、ＢａＯ、ＺｎＯ、ＴｉＯ2のうち１種以上を添加成分として含有し、７５０〜１２００℃で熱処理することにより熔着する無鉛ガラス組成物を用いることがより好ましい。
また、上記絵付けガラス装飾層は、ガラス組成物のほかに、無機顔料等を含有してもよい。
上記無機顔料をとしては、例えば、白色無機顔料、黒色無機顔料、灰色無機顔料、黄色無機顔料、茶色無機顔料、緑色無機顔料、青色無機顔料、桃色無機顔料、赤色無機顔料等がある。
具体的には、上記白色無機顔料としては、例えば、ＴｉＯ2、ＺｒＯ2、ＺｒＳｉＯ4、Ａｌ2Ｏ3、３Ａｌ2Ｏ3−２ＳｉＯ2、Ｌｉ2Ｏ−Ａｌ2Ｏ3−８ＳｉＯ2、Ａｌ2ＴｉＯ5等が挙げられる。
上記無機顔料をとしては、例えば、白色無機顔料、黒色無機顔料、灰色無機顔料、黄色無機顔料、茶色無機顔料、緑色無機顔料、青色無機顔料、桃色無機顔料、赤色無機顔料等がある。
具体的には、上記白色無機顔料としては、例えば、ＴｉＯ2、ＺｒＯ2、ＺｒＳｉＯ4、Ａｌ2Ｏ3、３Ａｌ2Ｏ3−２ＳｉＯ2、Ｌｉ2Ｏ−Ａｌ2Ｏ3−８ＳｉＯ2、Ａｌ2ＴｉＯ5等が挙げられる。
また、上記黒色無機顔料としては、例えば、Ｃｒ−Ｆｅ系酸化物、Ｃｏ−Ｍｎ−Ｃｒ−Ｆｅ系酸化物、Ｃｏ−Ｎｉ−Ｃｒ−Ｆｅ系酸化物、Ｃｏ−Ｎｉ−Ｃｒ−Ｆｅ−Ｍｎ系酸化物等が挙げられる。
また、上記灰色無機顔料としては、例えば、Ｓｎ−Ｓｂ系酸化物、Ｓｎ−Ｓｂ−Ｖ系酸化物等が挙げられる。
また、上記灰色無機顔料としては、例えば、Ｓｎ−Ｓｂ系酸化物、Ｓｎ−Ｓｂ−Ｖ系酸化物等が挙げられる。
また、上記黄色無機顔料としては、例えば、Ｓｎ−Ｖ系酸化物、Ｚｒ−Ｖ系酸化物、Ｚｒ−Ｓｉ−Ｐｒ系酸化物、Ｔｉ−Ｃｒ−Ｓｂ系酸化物等が挙げられる。
また、上記茶色無機顔料としては、例えば、Ｚｎ−Ａｌ−Ｃｒ−Ｆｅ系酸化物、Ｚｎｍｎ−Ａｌ−Ｃｒ−Ｆｅ系酸化物等が挙げられる。
また、上記茶色無機顔料としては、例えば、Ｚｎ−Ａｌ−Ｃｒ−Ｆｅ系酸化物、Ｚｎｍｎ−Ａｌ−Ｃｒ−Ｆｅ系酸化物等が挙げられる。
また、緑色無機顔料としては、例えば、Ｃａ−Ｃｒ−Ｓｉ系酸化物、Ｃｒ−Ａｌ系酸化物、Ｃｏ−Ｚｎ−Ａｌ−Ｃｒ系酸化物、Ｚｒ−Ｓｉ−Ｐｒ−Ｖ系酸化物等が挙げられる。
また、上記青色粉末としては、例えば、Ｃｏ−Ａｌ−Ｚｎ系酸化物、Ｃｏ−Ａｌ系酸化物、Ｚｒ−Ｓｉ系酸化物等が挙げられる。
また、上記桃色無機顔料としては、例えば、Ｍｎ−Ａｌ系酸化物、Ｃａ−Ｓｎ−Ｓｉ−
Ｃｒ系酸化物、Ｓｎ−Ｃｒ系酸化物、Ｚｒ−Ｓｉ−Ｆｅ系酸化物等が挙げられる。
また、上記赤色無機顔料としては、例えば、Ｆｅ2Ｏ3等が挙げられる。
また、上記青色粉末としては、例えば、Ｃｏ−Ａｌ−Ｚｎ系酸化物、Ｃｏ−Ａｌ系酸化物、Ｚｒ−Ｓｉ系酸化物等が挙げられる。
また、上記桃色無機顔料としては、例えば、Ｍｎ−Ａｌ系酸化物、Ｃａ−Ｓｎ−Ｓｉ−
Ｃｒ系酸化物、Ｓｎ−Ｃｒ系酸化物、Ｚｒ−Ｓｉ−Ｆｅ系酸化物等が挙げられる。
また、上記赤色無機顔料としては、例えば、Ｆｅ2Ｏ3等が挙げられる。
また、上記絵付けガラス装飾層は、任意のパターンとなるように形成されていることが好ましい。上記任意のパターンとしては、例えば、石目状、ライン状、ある面積をもったベタ等がある。
また、上記基板ガラスは、線熱膨張係数が−１０〜８０×１０-7／Ｋ（ａｔ３０〜５００℃）であることが好ましい。
上記基板ガラスの線熱膨張係数が−１０〜８０×１０-7／Ｋ（ａｔ３０〜５００℃）の範囲から外れる場合には、加熱調理器用ガラストッププレートに用いる基板ガラスとして適していないというおそれがある。
また、上記基板ガラスは、β−石英及びβ−スポジューメンの少なくとも一方を主結晶とすることが好ましい。
上記基板ガラスの線熱膨張係数が−１０〜８０×１０-7／Ｋ（ａｔ３０〜５００℃）の範囲から外れる場合には、加熱調理器用ガラストッププレートに用いる基板ガラスとして適していないというおそれがある。
また、上記基板ガラスは、β−石英及びβ−スポジューメンの少なくとも一方を主結晶とすることが好ましい。
また、上記絵付けガラス装飾層は、透明であることが好ましい（請求項６）。
この場合には、上記高反射膜の上にこの絵付けガラス層が形成されている部分は、光沢がなく、素地（基板ガラス）の色を呈するよう構成することができる。
この場合には、上記高反射膜の上にこの絵付けガラス層が形成されている部分は、光沢がなく、素地（基板ガラス）の色を呈するよう構成することができる。
次に、上記基板ガラスは白色であることが好ましい（請求項２）。
この場合には、白さを強調したミラー効果を有することができる。
ここで、上記白色とは、測色色差計で測定された白色度Ｗが７０以上である場合を言う。
この場合には、白さを強調したミラー効果を有することができる。
ここで、上記白色とは、測色色差計で測定された白色度Ｗが７０以上である場合を言う。
＜白色度＞
上記白色度Ｗとは、酸化マグネシウム標準白板の光の反射量を１００、真黒を０とし、光の反射量の割合により示される数値である。具体的には、測色色差計（例えば、日本電色工業株式会社製ＺＥ２０００）により、Ｃ２光源でＬ，ａ，ｂ値を測定し、次式Ｗ（白色度）＝１００−［（１００−Ｌ）2＋ａ2＋ｂ2］1/2より求められた値である。
上記白色度Ｗとは、酸化マグネシウム標準白板の光の反射量を１００、真黒を０とし、光の反射量の割合により示される数値である。具体的には、測色色差計（例えば、日本電色工業株式会社製ＺＥ２０００）により、Ｃ２光源でＬ，ａ，ｂ値を測定し、次式Ｗ（白色度）＝１００−［（１００−Ｌ）2＋ａ2＋ｂ2］1/2より求められた値である。
また、上記基板ガラスは半透明であることも好ましい（請求項３）。
ここで、半透明とは、測色色差計で測定された白色度Ｗが３０以上７０未満である場合をいう。
ここで、半透明とは、測色色差計で測定された白色度Ｗが３０以上７０未満である場合をいう。
また、上記基板ガラスは黒色であることも好ましい（請求項４）。
この場合には、白色や半透明である基板ガラスを用いる場合に比べて、高反射膜がより高い反射効果を発揮することができ、ミラー効果を高めることができる。
ここで、黒色とは、測色色差計で測定された白色度Ｗが３０未満であり、かつ、ＪＩＳ
Ｒ ３１０６に準拠して算出された日本工業規格「板ガラスの透過率・反射率・日射取得率試験方法」の透過率・反射率より算出した可視光吸収率が８０％より大きい場合をいう。
この場合には、白色や半透明である基板ガラスを用いる場合に比べて、高反射膜がより高い反射効果を発揮することができ、ミラー効果を高めることができる。
ここで、黒色とは、測色色差計で測定された白色度Ｗが３０未満であり、かつ、ＪＩＳ
Ｒ ３１０６に準拠して算出された日本工業規格「板ガラスの透過率・反射率・日射取得率試験方法」の透過率・反射率より算出した可視光吸収率が８０％より大きい場合をいう。
＜可視光吸収率＞
日本分光株式会社製の、紫外可視近赤外分光光度計Ｖ−５７０及び積分球装置ＩＳＮ−４７０を使用することにより透過・反射スペクトルの測定を行う。この場合の透過・反射スペクトルは積分球を使用することで、試料に入射し、あらゆる方向に透過・反射した殆どの光を取り込んで求める値である。得られた透過・反射スペクトルから日本工業規格「板ガラスの透過率・反射率・日射取得率試験方法」ＪＩＳ Ｒ ３１０６に準拠し、可視光透過率・可視光反射率を求め、次式、可視光吸収率＝１００−可視光透過率−可視光反射率より求められる値である。
日本分光株式会社製の、紫外可視近赤外分光光度計Ｖ−５７０及び積分球装置ＩＳＮ−４７０を使用することにより透過・反射スペクトルの測定を行う。この場合の透過・反射スペクトルは積分球を使用することで、試料に入射し、あらゆる方向に透過・反射した殆どの光を取り込んで求める値である。得られた透過・反射スペクトルから日本工業規格「板ガラスの透過率・反射率・日射取得率試験方法」ＪＩＳ Ｒ ３１０６に準拠し、可視光透過率・可視光反射率を求め、次式、可視光吸収率＝１００−可視光透過率−可視光反射率より求められる値である。
黒色の基板ガラスとしては、ガラス自体にＣｏ、Ｍｎ、Ｖ等の遷移金属元素の酸化着色材を含有しているものがある。この場合には、ガラス自体が紫色または茶色に着色され、反射光で見ると黒色を呈する黒色ガラスとなる。このような黒色ガラスとしては、例えば、ドイツＳｃｈｏｔｔ社製結晶化ガラス（商品名Ｃｅｒａｎ）等がある。
また、上記基板ガラスは透明であり、上記基板ガラスの調理面と反対の面である裏側面に黒薄膜を形成していることも好ましい（請求項５）。
この場合には、上記黒薄膜を形成することによって、反射光が黒色を呈するガラスとなる。そのため、上述の基板ガラスが黒色である場合と同様に、白色や半透明である基板ガラスを用いる場合に比べて、高反射膜がより高い反射効果を発揮することができ、ミラー効果を高めることができる。
ここで、裏側面とは、加熱調理器を利用する際に、鍋等を置く面である調理面とは反対の加熱装置側の面である。
この場合には、上記黒薄膜を形成することによって、反射光が黒色を呈するガラスとなる。そのため、上述の基板ガラスが黒色である場合と同様に、白色や半透明である基板ガラスを用いる場合に比べて、高反射膜がより高い反射効果を発揮することができ、ミラー効果を高めることができる。
ここで、裏側面とは、加熱調理器を利用する際に、鍋等を置く面である調理面とは反対の加熱装置側の面である。
また、透明とは、測色色差計で測定された白色度Ｗが３０未満であり、かつ、ＪＩＳ
Ｒ ３１０６に準拠して算出された日本工業規格「板ガラスの透過率・反射率・日射取得率試験方法」の透過率・反射率より算出した可視光吸収率が５０％以下の場合をいう。
Ｒ ３１０６に準拠して算出された日本工業規格「板ガラスの透過率・反射率・日射取得率試験方法」の透過率・反射率より算出した可視光吸収率が５０％以下の場合をいう。
上記黒薄膜は、ラスター彩を基板ガラスの裏側面に塗布し、熱処理により形成することが好ましい。
上記ラスター彩は、有機金属化合物の希釈溶液であり、例えば、Ａｕ、Ｐｔ、Ｐｄ、Ｒｈ、Ｒｕ、Ｂｉ、Ｓｎ、Ｎｉ、Ｆｅ、Ｃｒ、Ｔｉ、Ｃａ、Ｓｉ、Ｂａ、Ｓｒ、Ｍｇ、Ａｇ、Ｚｒ、Ｉｎ、Ｍｎ等の有機金属化合物の希釈溶液が挙げられる。これらの有機金属化合物の希釈溶液は、単体で用いても良いし、任意の割合で複数混合することもできる。
上記ラスター彩の塗布は、スクリーン印刷により行うことが好ましい。
上記ラスター彩は、有機金属化合物の希釈溶液であり、例えば、Ａｕ、Ｐｔ、Ｐｄ、Ｒｈ、Ｒｕ、Ｂｉ、Ｓｎ、Ｎｉ、Ｆｅ、Ｃｒ、Ｔｉ、Ｃａ、Ｓｉ、Ｂａ、Ｓｒ、Ｍｇ、Ａｇ、Ｚｒ、Ｉｎ、Ｍｎ等の有機金属化合物の希釈溶液が挙げられる。これらの有機金属化合物の希釈溶液は、単体で用いても良いし、任意の割合で複数混合することもできる。
上記ラスター彩の塗布は、スクリーン印刷により行うことが好ましい。
また、上記高反射膜は、上記調理面の全面又は一部に形成されていることが好ましい（請求項６）。
この場合には、スクリーン印刷法等により塗布する場合に、容易に対応することが可能である。
この場合には、スクリーン印刷法等により塗布する場合に、容易に対応することが可能である。
また、上記絵付けガラス装飾層の上記調理面に占める割合は、１０〜９０％であることが好ましい（請求項７）。
この場合には、意匠性を損なうことなく、摩耗強度を維持することができる。
この場合には、意匠性を損なうことなく、摩耗強度を維持することができる。
上記絵付けガラス装飾層の上記調理面に占める割合が１０％未満の場合には、上記高反射膜が剥がれ易くなるおそれがあり、一方、上記割合が９０％を超える場合には、上記高反射膜の露出部分が小さくなり、意匠性が低下するおそれがある。
上記絵付けガラス装飾層の上記調理面に占める割合は、より好ましくは、２０〜８０％である。
上記絵付けガラス装飾層の上記調理面に占める割合は、より好ましくは、２０〜８０％である。
第２の発明の加熱調理器用ガラストッププレートの製造方法は、Ｔｉ、Ｃｅ、Ｚｒのうち１種以上の金属レジネートと有機樹脂とからなるペーストを低膨張結晶化ガラスよりなる基板ガラスに塗布し、６００〜１２００℃で焼成することにより高反射膜を形成する高反射膜形成工程を有する。
上記ペーストを塗布する方法としては、特に限定されるものではないが、例えば、ディッピング法、スクリーン印刷法、及びバーコート印刷法等が挙げられる。
上記ペーストを塗布する方法としては、特に限定されるものではないが、例えば、ディッピング法、スクリーン印刷法、及びバーコート印刷法等が挙げられる。
上記金属レジネートは、有機金属化合物の希釈液であり、分散性が良好な液体であるため、高反射膜を形成する際に、均一な膜を形成することができる。
また、上記有機樹脂としては、例えば、アクリル系樹脂、アルキッド系樹脂、セルロース系樹脂等が挙げられる。
また、上記有機樹脂としては、例えば、アクリル系樹脂、アルキッド系樹脂、セルロース系樹脂等が挙げられる。
上記高反射膜形成工程の焼成温度が６００℃未満の場合には、密着力が十分な均一な膜が形成できないというおそれがある。一方、上記焼成温度が１２００℃を超える場合には、基板ガラス自体の軟化による変形等により、高反射膜の効果がなくなるおそれがある。
上記高反射膜形成工程の焼成温度は、より好ましくは７００〜９００℃である。
上記高反射膜形成工程の焼成温度は、より好ましくは７００〜９００℃である。
また、ガラス組成物と有機樹脂とからなるペーストを上記高反射膜の上に該高反射膜の一部を覆うように塗布し、７５０〜１２００℃で焼成することにより絵付けガラス装飾層を形成する絵付けガラス装飾層形成工程を有する。
上記ペーストを塗布する方法としては、スクリーン印刷法を行うことが好ましい。
また、上記有機樹脂としては、例えば、アクリル系樹脂、アルキッド系樹脂、セルロース系樹脂等が挙げられる。
また、上記ペーストは、必要に応じて有機溶剤を含有してもよい。
上記ペーストを塗布する方法としては、スクリーン印刷法を行うことが好ましい。
また、上記有機樹脂としては、例えば、アクリル系樹脂、アルキッド系樹脂、セルロース系樹脂等が挙げられる。
また、上記ペーストは、必要に応じて有機溶剤を含有してもよい。
上記絵付けガラス装飾層形成工程の焼成温度が７５０℃未満の場合には、絵付けガラス装飾層の焼付けが十分に行われ難く、焼付け後に絵付けガラス装飾層が高反射膜から剥離するおそれがある。一方、上記焼成温度が１２００℃を超える場合には、基板ガラス自体の軟化による変形等により、高反射膜の効果がなくなるおそれがある。
絵付けガラス装飾層形成工程の焼成温度は、より好ましくは７９０〜８９０℃である。
絵付けガラス装飾層形成工程の焼成温度は、より好ましくは７９０〜８９０℃である。
上記加熱調理器用ガラストッププレートの製造方法は、上記基板ガラスが黒色である場合には、上記高反射膜形成工程の焼成温度は６００〜９００℃であり、上記ガラス装飾層形成工程の焼成温度は７５０〜９００℃であることが好ましい（請求項１０）。
この場合には、特にミラー効果の高い加熱調理器用ガラストッププレートを得ることができる。
この場合には、特にミラー効果の高い加熱調理器用ガラストッププレートを得ることができる。
上記高反射膜形成工程の焼成温度が６００℃未満の場合には、上記反射膜の焼き付けが十分に行われ難く、焼き付け後に高反射膜が剥離するおそれがある。一方、上記焼成温度が９００℃を上回る場合には、基板ガラスの結晶化が進行して白濁し、基板ガラスが黒色でなくなり、ミラー効果を高める効果が得難くなるおそれがある。より好ましくは、上記高反射膜形成工程の焼成温度は７００〜９００℃である。
また、上記ガラス装飾層形成工程の焼成温度が７５０℃未満の場合には、ガラス装飾層の焼き付けが十分に行われ難く、焼き付け後に絵付けガラス装飾層が高反射膜から剥離するおそれがある。一方、上記焼成温度が９００℃を上回る場合には、基板ガラスの結晶化が進行して白濁し、基板ガラスが黒色でなくなり、ミラー効果を高める効果が得難くなるおそれがある。より好ましくは、上記ガラス装飾層形成工程の焼成温度は７９０〜８９０℃である。
また、上記高反射膜形成工程の前に、透明である基板ガラスの調理面と反対の面である裏側面に有機金属化合物の希釈溶液からなるラスター彩を塗布し、６００〜９００℃で焼成することにより黒薄膜を形成する黒薄膜形成工程を有し、上記高反射膜形成工程の焼成温度は６００〜９００℃であり、上記ガラス装飾層形成工程の焼成温度は７５０〜９００℃であることも好ましい（請求項１１）。
この場合には、特にミラー効果の高い加熱調理器用ガラストッププレートを得ることができる。
この場合には、特にミラー効果の高い加熱調理器用ガラストッププレートを得ることができる。
上記黒薄膜形成工程の上記焼成温度が６００℃未満の場合には、上記黒薄膜の焼き付けが十分に行われ難く、焼き付け後に黒薄膜が剥離するおそれがある。一方、上記焼成温度が９００℃を超える場合には、基板ガラスの低膨張結晶化ガラスの結晶化が進行し、基板ガラスが白濁し、黒薄膜を形成しても、黒薄膜によるミラー効果を高める効果が得難くなるおそれがある。上記焼成温度は、７００〜９００℃がより好ましい。
また、上記高反射膜形成工程の焼成温度が６００℃未満の場合には、上記反射膜の焼き付けが十分に行われ難く、焼き付け後に高反射膜が剥離するおそれがある。一方、上記焼成温度が９００℃を上回る場合には、基板ガラスの結晶化が進行して白濁し、黒薄膜によるミラー効果を高める効果が得難くなるおそれがある。より好ましくは、上記高反射膜形成工程の焼成温度は７００〜９００℃である。
また、上記ガラス装飾層形成工程の焼成温度が７５０℃未満の場合には、ガラス装飾層の焼き付けが十分に行われ難く、焼き付け後に絵付けガラス装飾層が高反射膜から剥離するおそれがある。一方、上記焼成温度が９００℃を上回る場合には、黒薄膜によるミラー効果を高める効果が得難くなるおそれがある。より好ましくは、上記ガラス装飾層形成工程の焼成温度は７９０〜８９０℃である。
（実施例１）
本例では、本発明の加熱調理器用ガラストッププレートの実施例として、加熱調理器用ガラストッププレート（試料Ｅ１）を作製した。
図１に示すように、本例の加熱調理器用ガラストッププレート１は、低膨張結晶化ガラスよりなる基板ガラス２の調理面２１に、該調理面２１よりも反射率が高い高反射膜３を積層し、該高反射膜３の一部を覆うように、更に絵付けガラス装飾層４を積層している。
以下、これを詳説する。
本例では、本発明の加熱調理器用ガラストッププレートの実施例として、加熱調理器用ガラストッププレート（試料Ｅ１）を作製した。
図１に示すように、本例の加熱調理器用ガラストッププレート１は、低膨張結晶化ガラスよりなる基板ガラス２の調理面２１に、該調理面２１よりも反射率が高い高反射膜３を積層し、該高反射膜３の一部を覆うように、更に絵付けガラス装飾層４を積層している。
以下、これを詳説する。
上記基板ガラス２としては、熱膨張係数が１０×１０-7／Ｋで、表面粗さＲａが０．０６μｍの白色低膨張結晶化ガラスを用いた。
高反射膜３用のペーストとしては、チタンレジネートと有機樹脂（セルロース系樹脂）とから構成されるＴｉ濃度１％のペーストを用意した。
また、絵付けガラス装飾層４用のペーストとしては、ＳｉＯ2：５５重量％、Ａｌ2Ｏ3：１０重量％、Ｂ2Ｏ3：２０重量％、Ｌｉ2Ｏ：３重量％、Ｎａ2Ｏ：３重量％、Ｋ2Ｏ：３重量％、ＺｒＯ2：５重量％、ＣａＯ：１重量％からなるガラス組成物９７％と白色顔料Ａｌ2Ｏ3からなる添加剤３％を含有し、外掛けでアクリル樹脂１００％を加えたペーストを用意した。
また、絵付けガラス装飾層４用のペーストとしては、ＳｉＯ2：５５重量％、Ａｌ2Ｏ3：１０重量％、Ｂ2Ｏ3：２０重量％、Ｌｉ2Ｏ：３重量％、Ｎａ2Ｏ：３重量％、Ｋ2Ｏ：３重量％、ＺｒＯ2：５重量％、ＣａＯ：１重量％からなるガラス組成物９７％と白色顔料Ａｌ2Ｏ3からなる添加剤３％を含有し、外掛けでアクリル樹脂１００％を加えたペーストを用意した。
次に、製造方法を説明する。
まず、高反射膜形成工程として、上記基板ガラス２の調理面２１全面に、ステンレス２５０メッシュのスクリーンを使用して上記高反射膜用のペーストを塗布し、８５０℃で焼成を行った。これにより、膜厚１００ｎｍの高反射膜３を形成した。
まず、高反射膜形成工程として、上記基板ガラス２の調理面２１全面に、ステンレス２５０メッシュのスクリーンを使用して上記高反射膜用のペーストを塗布し、８５０℃で焼成を行った。これにより、膜厚１００ｎｍの高反射膜３を形成した。
次に、絵付けガラス装飾層形成工程として、上記高反射膜３上に、テトロン２５５メッシュのスクリーンを使用して、上記絵付けガラス装飾層用のペーストを塗布し、８２０℃で焼成を行った。これにより、膜厚が８μｍであり、調理面２１の５０％を占める絵付けガラス装飾層４を形成した。絵付けガラス装飾層４が存在しない部分は、上記高反射膜３によるミラー効果が発揮され、絵付けガラス装飾層４が存在する部分は、マット調白色の表現となっている。
また、本例において、上記高反射層３は基板ガラス２の調理面２１全面に形成したが、一部分でもよい。
また、本例において、上記高反射層３は基板ガラス２の調理面２１全面に形成したが、一部分でもよい。
（実施例２）
本例では、本発明の実施例として、加熱調理器用ガラストッププレート（試料Ｅ２）を作製した。
ガラス基板としては、熱膨張係数が１１×１０-7／Ｋ、表面粗さＲａが０．２０μｍの白色低膨張ガラスを用意した。
本例では、本発明の実施例として、加熱調理器用ガラストッププレート（試料Ｅ２）を作製した。
ガラス基板としては、熱膨張係数が１１×１０-7／Ｋ、表面粗さＲａが０．２０μｍの白色低膨張ガラスを用意した。
高反射膜用のペーストとしては、チタンレジネートと有機樹脂（アクリル系樹脂）とから構成されるＴｉ濃度０．７５％のペーストを用意した。
絵付けガラス装飾層用のペーストとしては、ＳｉＯ2：６０重量％、Ａｌ2Ｏ3：８重量％、Ｂ2Ｏ3：２０重量％、Ｌｉ2Ｏ：３重量％、Ｎａ2Ｏ：２重量％、Ｋ2Ｏ：２重量％、ＺｒＯ2：５重量％からなるガラス組成物１００％を含有し、外掛けでアクリル樹脂１００％を加えたペーストを用意した。
絵付けガラス装飾層用のペーストとしては、ＳｉＯ2：６０重量％、Ａｌ2Ｏ3：８重量％、Ｂ2Ｏ3：２０重量％、Ｌｉ2Ｏ：３重量％、Ｎａ2Ｏ：２重量％、Ｋ2Ｏ：２重量％、ＺｒＯ2：５重量％からなるガラス組成物１００％を含有し、外掛けでアクリル樹脂１００％を加えたペーストを用意した。
そして、高反射膜形成工程として、上記基板ガラスの調理面全面に、ステンレス２５０メッシュのスクリーンを使用して上記高反射膜用のペーストを塗布し、７００℃で焼成を行った。これにより、膜厚６０ｎｍの高反射膜を形成した。
次に、絵付けガラス装飾層形成工程として、上記高反射膜上に、ステンレス２５０メッシュのスクリーンを使用して、上記絵付けガラス装飾層用のペーストを塗布し、７９０℃で焼成を行った。これにより、膜厚が１２μｍであり、調理面の２０％を占める絵付けガラス装飾層を形成した。絵付けガラス装飾層が存在しない部分は、上記高反射膜によるミラー効果が発揮され、絵付けガラス装飾層が存在する部分は、白色の表現となっている。
（実施例３）
本例では、本発明の実施例として、加熱調理器用ガラストッププレート（試料Ｅ３）を作製した。
ガラス基板としては、熱膨張係数が１５×１０-7／Ｋ、表面粗さＲａが０．０５μｍの半透明低膨張ガラスを用意した。
本例では、本発明の実施例として、加熱調理器用ガラストッププレート（試料Ｅ３）を作製した。
ガラス基板としては、熱膨張係数が１５×１０-7／Ｋ、表面粗さＲａが０．０５μｍの半透明低膨張ガラスを用意した。
高反射膜用のペーストとしては、チタンレジネートと有機樹脂（セルロース系樹脂）とから構成されるＴｉ濃度０．５％のペーストを用意した。
絵付けガラス装飾層用のペーストとしては、ＳｉＯ2：５５重量％、Ａｌ2Ｏ3：７重量％、Ｂ2Ｏ3：２０重量％、Ｌｉ2Ｏ：３重量％、Ｎａ2Ｏ：４重量％、Ｋ2Ｏ：２重量％、ＺｒＯ2：５重量％、ＢａＯ：２重量％、ＣａＯ：２重量％からなるガラス組成物９７％と白色顔料ＴｉＯ2からなる添加剤３％を含有し、外掛けで、アクリル樹脂１００％を加えたペーストを用意した。
絵付けガラス装飾層用のペーストとしては、ＳｉＯ2：５５重量％、Ａｌ2Ｏ3：７重量％、Ｂ2Ｏ3：２０重量％、Ｌｉ2Ｏ：３重量％、Ｎａ2Ｏ：４重量％、Ｋ2Ｏ：２重量％、ＺｒＯ2：５重量％、ＢａＯ：２重量％、ＣａＯ：２重量％からなるガラス組成物９７％と白色顔料ＴｉＯ2からなる添加剤３％を含有し、外掛けで、アクリル樹脂１００％を加えたペーストを用意した。
そして、高反射膜形成工程として、上記基板ガラスの調理面全面に、ステンレス２５０メッシュのスクリーンを使用して上記高反射膜用のペーストを塗布し、９００℃で焼成を行った。これにより、膜厚４０ｎｍの高反射膜を形成した。
次に、絵付けガラス装飾層形成工程として、上記高反射膜上に、ステンレス４００メッシュのスクリーンを使用して、上記絵付けガラス装飾層用のペーストを塗布し、８９０℃で焼成を行った。これにより、膜厚が４μｍであり、調理面の８０％を占める絵付けガラス装飾層を形成した。絵付けガラス装飾層が存在しない部分は、上記高反射膜によるミラー効果が発揮され、絵付けガラス装飾層が存在する部分は、マット調白色の表現となっている。
（実施例４）
本例では、本発明の実施例として、加熱調理器用ガラストッププレート（試料Ｅ４）を作製した。
ガラス基板としては、熱膨張係数が１１×１０-7／Ｋ、表面粗さＲａが０．６８μｍの白色低膨張ガラスを用意した。
本例では、本発明の実施例として、加熱調理器用ガラストッププレート（試料Ｅ４）を作製した。
ガラス基板としては、熱膨張係数が１１×１０-7／Ｋ、表面粗さＲａが０．６８μｍの白色低膨張ガラスを用意した。
高反射膜用のペーストとしては、チタンレジネートと有機樹脂（セルロース系樹脂）とから構成されるＴｉ濃度１．５％のペーストを用意した。
絵付けガラス装飾層用のペーストとしては、実施例１と同一のガラス組成物９７％と、白色顔料Ａｌ2Ｏ3からなる添加剤３％を含有し、外掛けでアクリル樹脂２００％を加えたペーストを用意した。
絵付けガラス装飾層用のペーストとしては、実施例１と同一のガラス組成物９７％と、白色顔料Ａｌ2Ｏ3からなる添加剤３％を含有し、外掛けでアクリル樹脂２００％を加えたペーストを用意した。
そして、高反射膜形成工程として、上記基板ガラスの調理面全面に、ステンレス２００メッシュのスクリーンを使用して上記高反射膜用のペーストを塗布し、１０５０℃で焼成を行った。これにより、膜厚１５０ｎｍの高反射膜を形成した。
次に、絵付けガラス装飾層形成工程として、上記高反射膜上に、テトロン３８０メッシュのスクリーンを使用して、上記絵付けガラス装飾層用のペーストを塗布し、９２０℃で焼成を行った。これにより、膜厚が１μｍであり、調理面の５０％を占める絵付けガラス装飾層を形成した。絵付けガラス装飾層が存在しない部分は、上記高反射膜によるミラー効果が発揮され、絵付けガラス装飾層が存在する部分は、マット調白色の表現となっている。
（実施例５）
本例では、本発明の実施例として、加熱調理器用ガラストッププレート（試料Ｅ５）を作製した。
ガラス基板としては、熱膨張係数が１４×１０-7／Ｋ、表面粗さＲａが０．５０μｍの半透明低膨張ガラスを用意した。
本例では、本発明の実施例として、加熱調理器用ガラストッププレート（試料Ｅ５）を作製した。
ガラス基板としては、熱膨張係数が１４×１０-7／Ｋ、表面粗さＲａが０．５０μｍの半透明低膨張ガラスを用意した。
高反射膜用のペーストとしては、ジルコニウムレジネートと有機樹脂（アクリル系樹脂）とから構成されるＺｒ濃度２．５％のペーストを用意した。
絵付けガラス装飾層用のペーストは、実施例２と同一のものを用意した。
絵付けガラス装飾層用のペーストは、実施例２と同一のものを用意した。
そして、高反射膜形成工程として、上記基板ガラスの調理面全面に、ステンレス２００メッシュのスクリーンを使用して上記高反射膜用のペーストを塗布し、６００℃で焼成を行った。これにより、膜厚３００ｎｍの高反射膜を形成した。
次に、絵付けガラス装飾層形成工程として、上記高反射膜上に、ステンレス２５０メッシュのスクリーンを使用して、上記絵付けガラス装飾層用のペーストを塗布し、９５０℃で焼成を行った。これにより、膜厚が８μｍであり、調理面の９０％を占める絵付けガラス装飾層を形成した。絵付けガラス装飾層が存在しない部分は、上記高反射膜によるミラー効果が発揮され、絵付けガラス装飾層が存在する部分は、白色の表現となっている。
（実施例６）
本例では、本発明の実施例として、加熱調理器用ガラストッププレート（試料Ｅ６）を作製した。
ガラス基板としては、熱膨張係数が１５×１０-7／Ｋ、表面粗さＲａが０．１５μｍの半透明低膨張ガラスを用意した。
本例では、本発明の実施例として、加熱調理器用ガラストッププレート（試料Ｅ６）を作製した。
ガラス基板としては、熱膨張係数が１５×１０-7／Ｋ、表面粗さＲａが０．１５μｍの半透明低膨張ガラスを用意した。
高反射膜用のペーストとしては、セリウムレジネートと有機樹脂（セルロース系樹脂）とから構成されるＣｅ濃度０．５％のペーストを用意した。
絵付けガラス装飾層用のペーストとしては、実施例３と同一のペーストを用意した。
絵付けガラス装飾層用のペーストとしては、実施例３と同一のペーストを用意した。
そして、高反射膜形成工程として、上記基板ガラスの調理面全面に、ステンレス３５０メッシュのスクリーンを使用して上記高反射膜用のペーストを塗布し、９００℃で焼成を行った。これにより、膜厚が２０ｎｍの高反射膜を形成した。
次に、絵付けガラス装飾層形成工程として、上記高反射膜上に、ステンレス２００メッシュのスクリーンを使用して、上記絵付けガラス装飾層用のペーストを塗布し、８９０℃で焼成を行った。これにより、膜厚が１５μｍであり、調理面の１０％を占める絵付けガラス装飾層を形成した。絵付けガラス装飾層が存在しない部分は、上記高反射膜によるミラー効果が発揮され、絵付けガラス装飾層が存在する部分は、マット調白色の表現となっている。
（実施例７）
本例では、本発明の加熱調理器用ガラストッププレートの実施例として、加熱調理器用ガラストッププレート（試料Ｅ７）を作製した。
上記基板ガラスとしては、熱膨張係数が−７×１０-7／Ｋで、表面粗さＲａが０．２３μｍの黒色低膨張結晶化ガラスを用いた。
高反射膜用のペーストとしては、チタンレジネートと有機樹脂（セルロース系樹脂）とから構成されるＴｉ濃度０．５％のペーストを用意した。
本例では、本発明の加熱調理器用ガラストッププレートの実施例として、加熱調理器用ガラストッププレート（試料Ｅ７）を作製した。
上記基板ガラスとしては、熱膨張係数が−７×１０-7／Ｋで、表面粗さＲａが０．２３μｍの黒色低膨張結晶化ガラスを用いた。
高反射膜用のペーストとしては、チタンレジネートと有機樹脂（セルロース系樹脂）とから構成されるＴｉ濃度０．５％のペーストを用意した。
また、絵付けガラス装飾層用のペーストとしては、ＳｉＯ2：６５重量％、Ａｌ2Ｏ3：６重量％、Ｂ2Ｏ3：２２重量％、Ｌｉ2Ｏ：１重量％、Ｎａ2Ｏ：３重量％、Ｋ2Ｏ：２重量％、ＺｒＯ2：１重量％からなるガラス組成物８７％と、白色顔料ＴｉＯ2からなる添加剤１０％と、白色顔料Ａｌ2Ｏ3からなる添加剤３％を含有し、外掛けでアクリル樹脂１２０％を加えたペーストを用意した。
そして、高反射膜形成工程として、上記基板ガラスの調理面全面に、ステンレス２５０メッシュのスクリーンを使用して上記高反射膜用のペーストを塗布し、８７０℃で焼成を行った。これにより膜厚４０ｎｍの高反射膜を形成した。
次に、絵付けガラス装飾層形成工程として、上記高反射膜上に、ステンレス４００メッシュのスクリーンを使用して、上記絵付けガラス装飾層用のペーストを塗布し、８５０℃で焼成を行った。これにより、膜厚が４μｍであり、調理面の３０％を占める絵付けガラス装飾層を形成した。
絵付けガラス装飾層が存在しない部分は、上記高反射膜によるミラー効果が発揮され、絵付けガラス装飾層が存在する部分は、マット調白色の表現となっている。
次に、絵付けガラス装飾層形成工程として、上記高反射膜上に、ステンレス４００メッシュのスクリーンを使用して、上記絵付けガラス装飾層用のペーストを塗布し、８５０℃で焼成を行った。これにより、膜厚が４μｍであり、調理面の３０％を占める絵付けガラス装飾層を形成した。
絵付けガラス装飾層が存在しない部分は、上記高反射膜によるミラー効果が発揮され、絵付けガラス装飾層が存在する部分は、マット調白色の表現となっている。
（実施例８）
本例では、本発明の加熱調理器用ガラストッププレートの実施例として、加熱調理器用ガラストッププレート（試料Ｅ８）を作製した。
上記基板ガラスとしては、熱膨張係数が−２×１０-7／Ｋで、表面粗さＲａが０．１７μｍの黒色低膨張結晶化ガラスを用いた。
本例では、本発明の加熱調理器用ガラストッププレートの実施例として、加熱調理器用ガラストッププレート（試料Ｅ８）を作製した。
上記基板ガラスとしては、熱膨張係数が−２×１０-7／Ｋで、表面粗さＲａが０．１７μｍの黒色低膨張結晶化ガラスを用いた。
高反射膜用のペーストとしては、ジルコニアレジネートと有機樹脂（セルロース系樹脂）とから構成されるＺｒ濃度３．０％のペーストを用意した。
また、絵付けガラス装飾層用のペーストは、実施例７と同一のものを用意した。
また、絵付けガラス装飾層用のペーストは、実施例７と同一のものを用意した。
そして、高反射膜形成工程として、上記基板ガラスの調理面全面に、ステンレス２００メッシュのスクリーンを使用して上記高反射膜用のペーストを塗布し、６００℃で焼成を行った。これにより膜厚３００ｎｍの高反射膜を形成した。
次に、絵付けガラス装飾層形成工程として、上記高反射膜上にテトロン２５５メッシュのスクリーンを使用して上記絵付けガラス装飾層用のペーストを塗布し８２０℃で焼成を行った。これにより、膜厚が８μｍであり、調理面の５０％を占める絵付けガラス装飾層を形成した。絵付けガラス装飾層が存在しない部分は、上記高反射膜によるミラー効果が発揮され、絵付けガラス装飾層が存在する部分は、マット調白色の表現となっている。
次に、絵付けガラス装飾層形成工程として、上記高反射膜上にテトロン２５５メッシュのスクリーンを使用して上記絵付けガラス装飾層用のペーストを塗布し８２０℃で焼成を行った。これにより、膜厚が８μｍであり、調理面の５０％を占める絵付けガラス装飾層を形成した。絵付けガラス装飾層が存在しない部分は、上記高反射膜によるミラー効果が発揮され、絵付けガラス装飾層が存在する部分は、マット調白色の表現となっている。
（実施例９）
本例では、本発明の加熱調理器用ガラストッププレートの実施例として、加熱調理器用ガラストッププレート（試料Ｅ９）を作製した。
基板ガラスとしては、熱膨張係数が−７×１０-7／Ｋで、表面粗さＲａが０．０６μｍの透明低膨張結晶化ガラスを用いた。
黒薄膜用のラスター彩としては、黒色ラスター絵付け材料を用意した。
本例では、本発明の加熱調理器用ガラストッププレートの実施例として、加熱調理器用ガラストッププレート（試料Ｅ９）を作製した。
基板ガラスとしては、熱膨張係数が−７×１０-7／Ｋで、表面粗さＲａが０．０６μｍの透明低膨張結晶化ガラスを用いた。
黒薄膜用のラスター彩としては、黒色ラスター絵付け材料を用意した。
高反射膜用のペーストとしては、チタンレジネートと有機樹脂（セルロース系樹脂）とから構成されるＴｉ濃度１．０％のペーストを用意した。
また、絵付けガラス装飾層用のペーストは、実施例７と同一のものを用意した。
また、絵付けガラス装飾層用のペーストは、実施例７と同一のものを用意した。
そして、黒薄膜形成工程として、上記基板ガラスの裏側面全面に、ステンレス３５０メッシュのスクリーンを用いて、上記黒薄膜用のラスター彩を塗布し、８３０℃で焼成を行った。これにより、黒薄膜を形成した。
次に、高反射膜形成工程として、上記基板ガラスの調理面全面に、ステンレス２５０メッシュのスクリーンを使用して上記高反射膜用のペーストを塗布し、８５０℃で焼成を行った。これにより膜厚１００ｎｍの高反射膜を形成した。
次に、高反射膜形成工程として、上記基板ガラスの調理面全面に、ステンレス２５０メッシュのスクリーンを使用して上記高反射膜用のペーストを塗布し、８５０℃で焼成を行った。これにより膜厚１００ｎｍの高反射膜を形成した。
次に、絵付けガラス装飾層形成工程として、上記高反射膜上にテトロン３８０メッシュのスクリーンを使用して上記絵付けガラス装飾層用のペーストを塗布し８３０℃で焼成を行った。これにより、膜厚が１μｍであり、調理面の４０％を占める絵付けガラス装飾層を形成した。絵付けガラス装飾層が存在しない部分は、上記高反射膜によるミラー効果が発揮され、絵付けガラス装飾層が存在する部分は、マット調白色の表現となっている。
（実施例１０）
本例では、本発明の加熱調理器用ガラストッププレートの実施例として、加熱調理器用ガラストッププレート（実施例１０）を作製した。
基板ガラスとしては、熱膨張係数が−７×１０-7／Ｋで、表面粗さＲａが０．５５μｍの透明低膨張結晶化ガラスを用いた。
本例では、本発明の加熱調理器用ガラストッププレートの実施例として、加熱調理器用ガラストッププレート（実施例１０）を作製した。
基板ガラスとしては、熱膨張係数が−７×１０-7／Ｋで、表面粗さＲａが０．５５μｍの透明低膨張結晶化ガラスを用いた。
黒薄膜用のラスター彩としては、黒色ラスター絵付け材料を用意した。
高反射膜用のペーストとしては、チタンレジネートと有機樹脂（セルロース系樹脂）とから構成されるＴｉ濃度１．５％のペーストを用意した。
また、絵付けガラス装飾層用のペーストは、実施例７と同一のものを用意した。
高反射膜用のペーストとしては、チタンレジネートと有機樹脂（セルロース系樹脂）とから構成されるＴｉ濃度１．５％のペーストを用意した。
また、絵付けガラス装飾層用のペーストは、実施例７と同一のものを用意した。
そして、黒薄膜形成工程として、上記基板ガラスの裏側面全面に、ステンレス３５０メッシュのスクリーンを用いて、上記黒薄膜用のラスター彩を塗布し、８２０℃で焼成を行った。これにより、黒薄膜を形成した。
次に、高反射膜形成工程として、上記基板ガラスの調理面全面に、テトロン３００メッシュのスクリーンを使用して上記高反射膜用のペーストを塗布し、７５０℃で焼成を行った。これにより膜厚６０ｎｍの高反射膜を形成した。
次に、高反射膜形成工程として、上記基板ガラスの調理面全面に、テトロン３００メッシュのスクリーンを使用して上記高反射膜用のペーストを塗布し、７５０℃で焼成を行った。これにより膜厚６０ｎｍの高反射膜を形成した。
次に、絵付けガラス装飾層形成工程として、上記高反射膜上に、ステンレス２５０メッシュのスクリーンを使用して、上記絵付けガラス装飾層用のペーストを塗布し７９０℃で焼成を行った。これにより、膜厚が１２μｍであり調理面の６０％を占める絵付けガラス装飾層を形成した。
絵付けガラス装飾層が存在しない部分は、上記高反射膜によるミラー効果が発揮され、絵付けガラス装飾層が存在する部分は、マット調白色の表現となっている。
絵付けガラス装飾層が存在しない部分は、上記高反射膜によるミラー効果が発揮され、絵付けガラス装飾層が存在する部分は、マット調白色の表現となっている。
（比較例１）
本例では、本発明の比較例として、加熱調理器用ガラストッププレート（試料Ｃ１）を用意した。
基板ガラスとしては、熱膨張係数が１０×１０-7／Ｋ、表面粗さＲａが０．０７μｍの白色低膨張結晶化ガラスを用意した。これをそのまま加熱調理器用ガラストッププレートとした。すなわち、基板ガラスの調理面には、高反射膜及び絵付けガラス装飾層は形成しなかった。
本例では、本発明の比較例として、加熱調理器用ガラストッププレート（試料Ｃ１）を用意した。
基板ガラスとしては、熱膨張係数が１０×１０-7／Ｋ、表面粗さＲａが０．０７μｍの白色低膨張結晶化ガラスを用意した。これをそのまま加熱調理器用ガラストッププレートとした。すなわち、基板ガラスの調理面には、高反射膜及び絵付けガラス装飾層は形成しなかった。
（比較例２）
本例では、本発明の比較例として、加熱調理器用ガラストッププレート（試料Ｃ２）を作製した。
ガラス基板としては、熱膨張係数が１１×１０-7／Ｋ、表面粗さＲａが０．７μｍの白色低膨張ガラスを用意した。
本例では、本発明の比較例として、加熱調理器用ガラストッププレート（試料Ｃ２）を作製した。
ガラス基板としては、熱膨張係数が１１×１０-7／Ｋ、表面粗さＲａが０．７μｍの白色低膨張ガラスを用意した。
高反射膜用のペーストとしては、チタンレジネートと有機樹脂（アクリル系樹脂）とから構成されるＴｉ濃度１％のペーストを用意した。
絵付けガラス装飾層用のペーストとしては、ＳｉＯ2：５０重量％、Ａｌ2Ｏ3：８重量％、Ｂ2Ｏ3：２３重量％、Ｌｉ2Ｏ：３重量％、Ｎａ2Ｏ：２重量％、Ｋ2Ｏ：３重量％、ＺｒＯ2：７重量％、ＺｎＯ：２重量％、ＢａＯ：２重量％からなるガラス組成物９７％と白色顔料ＴｉＯ2からなる添加剤３％を含有し、外掛けで、アクリル樹脂１００％を加えたペーストを用意した。
絵付けガラス装飾層用のペーストとしては、ＳｉＯ2：５０重量％、Ａｌ2Ｏ3：８重量％、Ｂ2Ｏ3：２３重量％、Ｌｉ2Ｏ：３重量％、Ｎａ2Ｏ：２重量％、Ｋ2Ｏ：３重量％、ＺｒＯ2：７重量％、ＺｎＯ：２重量％、ＢａＯ：２重量％からなるガラス組成物９７％と白色顔料ＴｉＯ2からなる添加剤３％を含有し、外掛けで、アクリル樹脂１００％を加えたペーストを用意した。
そして、高反射膜形成工程として、上記基板ガラスの調理面全面に、ステンレス２５０メッシュのスクリーンを使用して上記高反射膜用のペーストを塗布し、８００℃で焼成を行った。これにより、膜厚１００ｎｍの高反射膜を形成した。
次に、絵付けガラス装飾層形成工程として、上記高反射膜上に、ステンレス１６５メッシュのスクリーンを使用して、上記絵付けガラス装飾層用のペーストを塗布し、８３０℃で焼成を行った。これにより、膜厚が２０μｍであり、調理面の５０％を占める絵付けガラス装飾層を形成した。絵付けガラス装飾層が存在しない部分は、上記高反射膜によるミラー効果が発揮され、絵付けガラス装飾層が存在する部分は、マット調白色の表現となっている。
（比較例３）
本例では、本発明の比較例として、加熱調理器用ガラストッププレート（試料Ｃ３）を作製した。
ガラス基板としては、熱膨張係数が１１×１０-7／Ｋ、表面粗さＲａが０．０６μｍの白色低膨張ガラスを用意した。
高反射膜用のペーストとしては、チタンレジネートと有機樹脂（セルロース系樹脂）とから構成されるＴｉ濃度０．７５％のペーストを用意した。
本例では、本発明の比較例として、加熱調理器用ガラストッププレート（試料Ｃ３）を作製した。
ガラス基板としては、熱膨張係数が１１×１０-7／Ｋ、表面粗さＲａが０．０６μｍの白色低膨張ガラスを用意した。
高反射膜用のペーストとしては、チタンレジネートと有機樹脂（セルロース系樹脂）とから構成されるＴｉ濃度０．７５％のペーストを用意した。
そして、高反射膜形成工程として、上記基板ガラスの調理面全面に、ステンレス２５０メッシュのスクリーンを使用して上記高反射膜用のペーストを塗布し、７５０℃で焼成を行った。これにより、膜厚６０ｎｍの高反射膜を形成した。
絵付けガラス装飾層は形成しなかった。
絵付けガラス装飾層は形成しなかった。
（比較例４）
本例では、本発明の比較例として、加熱調理器用ガラストッププレート（試料Ｃ４）を作製した。
ガラス基板としては、熱膨張係数が１４×１０-7／Ｋ、表面粗さＲａが０．５５μｍの半透明低膨張ガラスを用意した。
本例では、本発明の比較例として、加熱調理器用ガラストッププレート（試料Ｃ４）を作製した。
ガラス基板としては、熱膨張係数が１４×１０-7／Ｋ、表面粗さＲａが０．５５μｍの半透明低膨張ガラスを用意した。
高反射膜用のペーストとしては、セリウムレジネートと有機樹脂（セルロース系樹脂）とから構成されるＣｅ濃度１．５％のペーストを用意した。
また、絵付けガラス装飾層用のペーストとしては、実施例４と同一のペーストを用意した。
また、絵付けガラス装飾層用のペーストとしては、実施例４と同一のペーストを用意した。
そして、高反射膜形成工程として、上記基板ガラスの調理面全面に、ステンレス２００メッシュのスクリーンを使用して上記高反射膜用のペーストを塗布し、８５０℃で焼成を行った。これにより、膜厚１６０ｎｍの高反射膜を形成した。
次に、絵付けガラス装飾層形成工程として、上記高反射膜上に、テトロン４２０メッシュのスクリーンを使用して、上記絵付けガラス装飾層用のペーストを塗布し、８２０℃で焼成を行った。これにより、膜厚が０．８μｍであり、調理面の８０％を占める絵付けガラス装飾層を形成した。絵付けガラス装飾層が存在しない部分は、上記高反射膜によるミラー効果が発揮され、絵付けガラス装飾層が存在する部分は、マット調白色の表現となっている。
（比較例５）
本例では、本発明の比較例として、加熱調理器用ガラストッププレート（試料Ｃ５）を作製した。
ガラス基板としては、熱膨張係数が１５×１０-7／Ｋ、表面粗さＲａが０．０７μｍの半透明低膨張ガラスを用意した。
本例では、本発明の比較例として、加熱調理器用ガラストッププレート（試料Ｃ５）を作製した。
ガラス基板としては、熱膨張係数が１５×１０-7／Ｋ、表面粗さＲａが０．０７μｍの半透明低膨張ガラスを用意した。
高反射膜用のペーストとしては、ジルコニウムレジネートと有機樹脂（セルロース系樹脂）とから構成されるＺｒ濃度４．０％のペーストを用意した。
絵付けガラス装飾層用のペーストは、実施例３と同一のペーストを用意した。
絵付けガラス装飾層用のペーストは、実施例３と同一のペーストを用意した。
そして、高反射膜形成工程として、上記基板ガラスの調理面全面に、ステンレス１８０メッシュのスクリーンを使用して上記高反射膜用のペーストを塗布し、９００℃で焼成を行った。これにより、膜厚３２０ｎｍの高反射膜を形成した。
次に、絵付けガラス装飾層形成工程として、上記高反射膜上に、ステンレス１８０メッシュのスクリーンを使用して、上記絵付けガラス装飾層用のペーストを塗布し、８９０℃で焼成を行った。これにより、膜厚が１６μｍであり、調理面の２０％を占める絵付けガラス装飾層を形成した。
（比較例６）
本例では、本発明の比較例として、加熱調理器用ガラストッププレート（試料Ｃ６）を作製した。
ガラス基板としては、熱膨張係数が１０×１０-7／Ｋ、表面粗さＲａが０．７５μｍの白色低膨張ガラスを用意した。
本例では、本発明の比較例として、加熱調理器用ガラストッププレート（試料Ｃ６）を作製した。
ガラス基板としては、熱膨張係数が１０×１０-7／Ｋ、表面粗さＲａが０．７５μｍの白色低膨張ガラスを用意した。
高反射膜用のペーストとしては、チタンレジネートと有機樹脂（アクリル系樹脂）とから構成されるＴｉ濃度０．２％のペーストを用意した。
絵付けガラス装飾層用のペーストとしては、比較例２と同様のものを用意した。
絵付けガラス装飾層用のペーストとしては、比較例２と同様のものを用意した。
そして、高反射膜形成工程として、上記基板ガラスの調理面全面に、ステンレス３５０メッシュのスクリーンを使用して上記高反射膜用のペーストを塗布し、８００℃で焼成を行った。これにより、膜厚１０ｎｍの高反射膜を形成した。
次に、絵付けガラス装飾層形成工程として、上記高反射膜上に、テトロン２００メッシュのスクリーンを使用して、上記絵付けガラス装飾層用のペーストを塗布し、８３０℃で焼成を行った。これにより、膜厚が１０μｍであり、調理面の５０％を占める絵付けガラス装飾層を形成した。
（比較例７）
本例では、本発明の加熱調理器用ガラストッププレートの比較例として、加熱調理器用ガラストッププレート（試料Ｃ７）を作製した。
上記基板ガラスとして、熱膨張係数が−７×１０-7／Ｋで、表面粗さＲａが０．２３μｍの黒色低膨張結晶化ガラスを用いた。
本例では、本発明の加熱調理器用ガラストッププレートの比較例として、加熱調理器用ガラストッププレート（試料Ｃ７）を作製した。
上記基板ガラスとして、熱膨張係数が−７×１０-7／Ｋで、表面粗さＲａが０．２３μｍの黒色低膨張結晶化ガラスを用いた。
高反射膜用のペーストとしては、チタンレジネートと有機樹脂（セルロース系樹脂）とから構成されるＴｉ濃度０．５％のペーストを用意した。
また、絵付けガラス装飾層用のペーストは、実施例７と同一のものを用意した。
また、絵付けガラス装飾層用のペーストは、実施例７と同一のものを用意した。
そして、高反射膜形成工程として、上記基板ガラスの調理面全面に、ステンレス３５０メッシュのスクリーンを使用して上記高反射膜用のペーストを塗布し、８００℃で焼成を行った。これにより膜厚１０ｎｍの高反射膜を形成した。
次に、絵付けガラス装飾層形成工程として、上記高反射膜上にテトロン２００メッシュのスクリーンを使用して上記絵付けガラス装飾層用のペーストを塗布し８３０℃で焼成を行った。これにより、膜厚が１０μｍであり、調理面の３０％を占める絵付けガラス装飾層を形成した。
次に、絵付けガラス装飾層形成工程として、上記高反射膜上にテトロン２００メッシュのスクリーンを使用して上記絵付けガラス装飾層用のペーストを塗布し８３０℃で焼成を行った。これにより、膜厚が１０μｍであり、調理面の３０％を占める絵付けガラス装飾層を形成した。
（比較例８）
本例では、本発明の加熱調理器用ガラストッププレートの比較例として、加熱調理器用ガラストッププレート（試料Ｃ８）を作製した。
基板ガラスとしては、熱膨張係数が−７×１０-7／Ｋで、表面粗さＲａが０．０６μｍの透明低膨張結晶化ガラスを用いた。
本例では、本発明の加熱調理器用ガラストッププレートの比較例として、加熱調理器用ガラストッププレート（試料Ｃ８）を作製した。
基板ガラスとしては、熱膨張係数が−７×１０-7／Ｋで、表面粗さＲａが０．０６μｍの透明低膨張結晶化ガラスを用いた。
黒薄膜用のラスター彩としては、黒色ラスター絵付け材料を用意した。
高反射膜用のペーストとしては、ジルコニアレジネートと有機樹脂（セルロース系樹脂）とから構成されるＺｒ濃度４．０％のペーストを用意した。
また、絵付けガラス装飾層用のペーストは、実施例７と同一のものを用意した。
高反射膜用のペーストとしては、ジルコニアレジネートと有機樹脂（セルロース系樹脂）とから構成されるＺｒ濃度４．０％のペーストを用意した。
また、絵付けガラス装飾層用のペーストは、実施例７と同一のものを用意した。
そして、黒薄膜形成工程として、上記基板ガラスの裏側面全面に、ステンレス３２５メッシュのスクリーンを用いて、上記黒薄膜用のラスター彩を塗布し、８１０℃で焼成を行った。これにより、黒薄膜を形成した。
次に、高反射膜形成工程として、上記基板ガラスの調理面全面に、ステンレス１８０メッシュのスクリーンを使用して上記高反射膜用のペーストを塗布し、９００℃で焼成を行った。これにより膜厚３２０ｎｍの高反射膜を形成した。
次に、高反射膜形成工程として、上記基板ガラスの調理面全面に、ステンレス１８０メッシュのスクリーンを使用して上記高反射膜用のペーストを塗布し、９００℃で焼成を行った。これにより膜厚３２０ｎｍの高反射膜を形成した。
次に、絵付けガラス装飾層形成工程として、上記高反射膜上に、ステンレス１８０メッシュのスクリーンを使用して、上記絵付けガラス装飾層用のペーストを塗布し、８９０℃で焼成を行った。これにより膜厚が１６μｍであり調理面の６０％を占める絵付けガラス装飾層を形成した
ここで、表１に上記実施例１〜１０の加熱調理器用ガラストッププレート（試料Ｅ１〜試料Ｅ１０）、表２に比較例１〜８の加熱調理器用ガラストッププレート（試料Ｃ１〜試料Ｃ８）について、基板ガラスの材料、熱膨張係数、表面粗さ、高反射膜形成前の可視光反射率、高反射膜の主成分、膜厚、可視光反射率、及び絵付けガラス装飾層の膜厚を示す。表面粗さ及び可視光反射率の測定は以下のようにして行った。
＜表面粗さ＞
株式会社東京精密製ＳＵＲＦＣＯＭ１３０を用いて、基板ガラスの表面の表面粗さＲａを測定した。
株式会社東京精密製ＳＵＲＦＣＯＭ１３０を用いて、基板ガラスの表面の表面粗さＲａを測定した。
＜可視光反射率＞
日本分光株式会社製の、紫外可視近赤外分光光度計Ｖ−５７０、及び一回反射測定装置ＳＬＭ−４６８を使用することにより反射スペクトルの測定を行った。この場合の反射スペクトルは鏡面反射するアルミ蒸着鏡に対する相対反射スペクトルである。可視光反射率は、得られた相対反射スペクトルから日本工業規格「板ガラスの透過率・反射率・日射取得率試験方法」ＪＩＳＲ３１０６に準拠し、可視光反射率として求められた値である。
日本分光株式会社製の、紫外可視近赤外分光光度計Ｖ−５７０、及び一回反射測定装置ＳＬＭ−４６８を使用することにより反射スペクトルの測定を行った。この場合の反射スペクトルは鏡面反射するアルミ蒸着鏡に対する相対反射スペクトルである。可視光反射率は、得られた相対反射スペクトルから日本工業規格「板ガラスの透過率・反射率・日射取得率試験方法」ＪＩＳＲ３１０６に準拠し、可視光反射率として求められた値である。
また、実施例７〜実施例１０、比較例７、比較例８において用いた基板ガラス、及び実施例９、実施例１０、比較例８における、黒薄膜形成後の白色度Ｗ、及び可視光吸収率の測定結果を表３に示す。
表３より知られるごとく、上述したように、白色度Ｗと可視光吸収率により、黒色と透明の判別を行うことができることがわかる。
（実験例）
本例では、上記実施例１〜１０、及び比較例１〜８の加熱調理器用ガラストッププレート（試料Ｅ１〜試料Ｅ１０、及び試料Ｃ１〜試料Ｃ８）について、以下の項目を評価した。結果を表４に示す。
本例では、上記実施例１〜１０、及び比較例１〜８の加熱調理器用ガラストッププレート（試料Ｅ１〜試料Ｅ１０、及び試料Ｃ１〜試料Ｃ８）について、以下の項目を評価した。結果を表４に示す。
＜ミラー効果＞
高反射膜部に蛍光灯の光を反射させ、目視により、蛍光灯の形状が明確に見えるかどうかを観察し、ミラー効果を評価した。評価が○の場合を合格、評価が×の場合を不合格とする。
高反射膜部に蛍光灯の光を反射させ、目視により、蛍光灯の形状が明確に見えるかどうかを観察し、ミラー効果を評価した。評価が○の場合を合格、評価が×の場合を不合格とする。
（評価基準）
○：蛍光灯の形状が明確に見える場合。
×：蛍光灯の形状が明確に見えない場合。
○：蛍光灯の形状が明確に見える場合。
×：蛍光灯の形状が明確に見えない場合。
＜高反射膜の摩耗強度＞
高反射膜の摩耗強度は、実際に調理する場合を想定して、フライパンで調理面を所定回数擦った時の削れ具合を観察することにより評価した。
まず、鍋擦れ試験機に試料を置き、その上に、２６ｃｍフライパンを設置し、更に調理物を想定した１ｋｇ荷重のおもりをのせ、１２ｃｍのストロークで４０回／分の速度で、７時間（１６８００往復）往復運動を行い、試験終了後、表面の汚れを水で軽く洗浄し、目視により、調理面表面を観察し、高反射膜の摩耗強度を評価した。評価が○の場合を合格、評価が×の場合を不合格とする。
高反射膜の摩耗強度は、実際に調理する場合を想定して、フライパンで調理面を所定回数擦った時の削れ具合を観察することにより評価した。
まず、鍋擦れ試験機に試料を置き、その上に、２６ｃｍフライパンを設置し、更に調理物を想定した１ｋｇ荷重のおもりをのせ、１２ｃｍのストロークで４０回／分の速度で、７時間（１６８００往復）往復運動を行い、試験終了後、表面の汚れを水で軽く洗浄し、目視により、調理面表面を観察し、高反射膜の摩耗強度を評価した。評価が○の場合を合格、評価が×の場合を不合格とする。
（評価基準）
○：高反射膜が剥がれた痕跡が全く認められない場合。
×：高反射膜が剥がれた痕跡が認められた場合。
○：高反射膜が剥がれた痕跡が全く認められない場合。
×：高反射膜が剥がれた痕跡が認められた場合。
＜絵付けガラス装飾層の剥離強度＞
市販のセロハン粘着テープを絵付けガラス装飾層表面に貼り付け、爪等で強くこすりつけた後、斜め４５°方向に勢いよくはがし、絵付けガラス装飾層の剥離強度を評価した。評価が○の場合を合格、評価が×の場合を不合格とする。
市販のセロハン粘着テープを絵付けガラス装飾層表面に貼り付け、爪等で強くこすりつけた後、斜め４５°方向に勢いよくはがし、絵付けガラス装飾層の剥離強度を評価した。評価が○の場合を合格、評価が×の場合を不合格とする。
（評価基準）
○：絵付けガラス装飾層の剥離が認められない場合。
×：絵付けガラス装飾層の剥離が認められた場合。
○：絵付けガラス装飾層の剥離が認められない場合。
×：絵付けガラス装飾層の剥離が認められた場合。
表４より知られるごとく、本発明の実施例としての試料Ｅ１〜試料Ｅ１０は、ミラー効果、高反射膜の摩耗強度、及び絵付けガラス装飾層の剥離強度のいずれの項目においても、良好な結果を示した。
これにより、本発明によれば、ミラー効果を発揮して意匠性に優れ、摩耗強度が高い加熱調理器用ガラストッププレートを得ることができる。
これにより、本発明によれば、ミラー効果を発揮して意匠性に優れ、摩耗強度が高い加熱調理器用ガラストッププレートを得ることができる。
また、高反射膜の主成分及び膜厚が同じである試料Ｅ１と試料Ｅ９、試料Ｅ２と試料Ｅ１０、試料Ｅ３と試料Ｅ７をそれぞれ比較すると、黒色の基板ガラスを用いた場合、あるいは透明な基板ガラス裏側面に黒薄膜を形成している場合には、白色又は半透明の基板ガラスを用いた場合よりも高反射膜がより高い反射効果を発揮し、高いミラー効果が得られることが分かる。
また、表４より知られるごとく、本発明の比較例としての試料Ｃ１は、高反射膜及び絵付けガラス装飾層を形成していないため、ミラー効果が不合格であった。
また、本発明の比較例としての試料Ｃ２は、基板ガラスの調理面の表面粗さが本発明の上限を上回り、また、絵付けガラス装飾層の厚みが本発明の上限を上回るため、ミラー効果及び絵付けガラス装飾層の剥離強度が不合格であった。
また、本発明の比較例としての試料Ｃ２は、基板ガラスの調理面の表面粗さが本発明の上限を上回り、また、絵付けガラス装飾層の厚みが本発明の上限を上回るため、ミラー効果及び絵付けガラス装飾層の剥離強度が不合格であった。
また、本発明の比較例としての試料Ｃ３は、絵付けガラス装飾層を形成していないため、高反射膜の摩耗強度が不合格であった。
また、本発明の比較例としての試料Ｃ４は、絵付けガラス装飾層の膜厚が本発明の下限を下回るため、フライパンと高反射膜との位置が近く、直接接触することにより、高反射膜が剥がれ、高反射膜の摩耗強度が不合格であった。
また、本発明の比較例としての試料Ｃ４は、絵付けガラス装飾層の膜厚が本発明の下限を下回るため、フライパンと高反射膜との位置が近く、直接接触することにより、高反射膜が剥がれ、高反射膜の摩耗強度が不合格であった。
また、本発明の比較例としての試料Ｃ５は、高反射膜の膜厚が本発明の上限を上回るため、基板ガラスと高反射膜との熱膨張差でクラックが発生したため、ミラー効果が不合格であった。また、絵付けガラス装飾層の膜厚が本発明の上限を上回るため、絵付けガラス装飾層の剥離強度が不合格であった。
また、本発明の比較例としての試料Ｃ６は、基板ガラスの表面粗さが本発明の上限を上回るため、ミラー効果が不合格であった。
また、本発明の比較例としての試料Ｃ６は、基板ガラスの表面粗さが本発明の上限を上回るため、ミラー効果が不合格であった。
また、比較例としての試料Ｃ７は、高反射膜の膜厚が本発明の下限を下回るため、ミラー効果が十分に得られず不合格であった。
また、比較例としての試料Ｃ８は、高反射膜の膜厚が本発明の上限を上回るため、基板ガラスと高反射膜との熱膨張差でクラックが発生したため、ミラー効果が不合格であった。また、絵付けガラス装飾層の膜厚が本発明の上限を上回るため、絵付けガラス装飾層の剥離強度が不合格であった。
また、比較例としての試料Ｃ８は、高反射膜の膜厚が本発明の上限を上回るため、基板ガラスと高反射膜との熱膨張差でクラックが発生したため、ミラー効果が不合格であった。また、絵付けガラス装飾層の膜厚が本発明の上限を上回るため、絵付けガラス装飾層の剥離強度が不合格であった。
１ 加熱調理器用ガラストッププレート
２ 基板ガラス
２１ 調理面
３ 高反射膜
４ 絵付けガラス装飾層
２ 基板ガラス
２１ 調理面
３ 高反射膜
４ 絵付けガラス装飾層
Claims (11)
- 加熱調理器用のガラストッププレートであって、
低膨張結晶化ガラスよりなる基板ガラスの調理面に、該調理面よりも反射率が高い高反射膜を積層し、
該高反射膜の一部を覆うように、更に絵付けガラス装飾層を積層してなり、
上記基板ガラスの調理面は、表面粗さＲａが０．７μｍ未満であり、
上記高反射膜は、ＴｉＯ2、ＣｅＯ2、ＺｒＯ2のうち１種以上を主成分とすると共に厚みが２０〜３００ｎｍであり、
上記絵付けガラス装飾層は、ガラス組成物からなると共に厚みが１〜１５μｍであることを特徴とする加熱調理器用ガラストッププレート。 - 請求項１において、上記基板ガラスは白色であることを特徴とする加熱調理器用ガラストッププレート。
- 請求項１において、上記基板ガラスは半透明であることを特徴とする加熱調理器用ガラストッププレート。
- 請求項１において、上記基板ガラスは黒色であることを特徴とする加熱調理器用ガラストッププレート。
- 請求項１において、上記基板ガラスは透明であり、上記基板ガラスの調理面と反対の面である裏側面に黒薄膜を形成していることを特徴とする加熱調理器用ガラストッププレート。
- 請求項１〜５のいずれか一項において、上記高反射膜は、上記調理面の全面又は一部に形成されていることを特徴とする加熱調理器用ガラストッププレート。
- 請求項１〜６のいずれか一項において、上記絵付けガラス装飾層の上記調理面に占める割合は、１０〜９０％であることを特徴とする加熱調理器用ガラストッププレート。
- 請求項１〜７のいずれか一項において、上記絵付けガラス装飾層は、透明であることを特徴とする加熱調理器用ガラストッププレート。
- Ｔｉ、Ｃｅ、Ｚｒのうち１種以上の金属レジネートと有機樹脂とからなるペーストを低膨張結晶化ガラスよりなる基板ガラスの調理面に塗布し、６００〜１２００℃で焼成することにより高反射膜を形成する高反射膜形成工程と、
ガラス組成物と有機樹脂とからなるペーストを上記高反射膜の一部を覆うように塗布し、７５０〜１２００℃で焼成することにより絵付けガラス装飾層を形成する絵付けガラス装飾層形成工程とを有することを特徴とする加熱調理器用ガラストッププレートの製造方法。 - 請求項９において、上記基板ガラスが黒色であり、上記高反射膜形成工程の焼成温度は６００〜９００℃であり、上記ガラス装飾層形成工程の焼成温度は７５０〜９００℃であることを特徴とする加熱調理器用ガラストッププレートの製造方法。
- 請求項９において、上記高反射膜形成工程の前に、透明である上記基板ガラスの調理面と反対の面である裏側面に有機金属化合物の希釈溶液からなるラスター彩を塗布し、６００〜９００℃で焼成することにより黒薄膜を形成する黒薄膜形成工程を有し、上記高反射膜形成工程の焼成温度は６００〜９００℃であり、上記ガラス装飾層形成工程の焼成温度は７５０〜９００℃であることを特徴とする加熱調理器用ガラストッププレートの製造方法。
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