JP2008182128A - Chip resistor - Google Patents

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Hiroyasu Baba
洋泰 馬場
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Taiyosha Electric Co Ltd
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Abstract

<P>PROBLEM TO BE SOLVED: To provide a chip resistor that prevents not only the disconnection of side electrode wires but also the deterioration of electrical characteristics, even in the case where the chip resistor having a sulfide resistance top electrode formed by containing palladium therein is used under high sulfide gas concentration conditions. <P>SOLUTION: In the chip resistor, the top electrode 30 contains 15-30% in weight percent of the total weight of palladium, a side electrode 60 being formed of a material having the sulfide resistance characteristics. More specifically, the side electrode 60 is formed of a resin and silver based thick film, the silver being comprised of a scaly silver powder and spherical silver powder. The average maximum width of each scaly silver powder is 13-17 μm, and the average particle diameter of each spherical silver powder is 0.5 μm or less. The proportion of the spherical silver powder to the whole silver is 60-70% in weight percent. Further, the length T in a direction between electrodes in a region where the side electrode 60 is superimposed with the top electrode is 0.2-0.3 mm. <P>COPYRIGHT: (C)2008,JPO&INPIT

Description

本発明は、チップ抵抗器に関するものであり、特に、耐硫化特性を有するチップ抵抗器に関するものである。   The present invention relates to a chip resistor, and more particularly to a chip resistor having anti-sulfur characteristics.

従来におけるチップ抵抗器は、例えば、図1に示すような構成により形成されている。つまり、チップ抵抗器105は、絶縁基板10と、電極部20と、抵抗体80と、カバーコート90と、保護膜98とを有しており、電極部20は、絶縁基板10の左右に一対設けられており、上面電極30と、下面電極40と、側面電極60と、メッキ70とを有している。このメッキ70は、ニッケルメッキ72と、錫メッキ74の2層により形成されている。ここで、メッキ70の端部は、保護膜98の端部に接する状態で固定されており、一般に腐食しやすい上面電極30が露出しないように形成されている。   A conventional chip resistor is formed by, for example, a configuration as shown in FIG. That is, the chip resistor 105 includes the insulating substrate 10, the electrode unit 20, the resistor 80, the cover coat 90, and the protective film 98, and the electrode unit 20 is paired on the left and right sides of the insulating substrate 10. The upper electrode 30, the lower electrode 40, the side electrode 60, and the plating 70 are provided. This plating 70 is formed of two layers of nickel plating 72 and tin plating 74. Here, the end portion of the plating 70 is fixed in contact with the end portion of the protective film 98, and is generally formed so as not to expose the top electrode 30 that is easily corroded.

しかし、図1の構成において、保護膜98に接するメッキ70と保護膜98との接着強度は一般に低いことから、熱ストレスなどによる収縮膨張の繰り返しにより、この保護膜98とメッキ70の間に隙間が形成される。この隙間が上面電極30まで達すると、一般に銀系厚膜で形成されている上面電極30は、硫化ガス(例えば、硫化水素)が多く存在するような腐食雰囲気で使用された場合に、上面電極30に含まれる銀と、その硫化ガスとが反応して絶縁物である硫化銀(Ag2S)が生成されて、上面電極30が腐食されてしまう。つまり、銀が硫化ガスと反応して硫化して、Ag2Sウィスカが形成され、このAg2Sウィスカの成長に伴い上面電極が部分的に消失してしまって、導体としての機能を充分果たせなくなる。つまり、上面電極30が断線状態となることにより、チップ抵抗器の抵抗値が変化してしまう等故障の原因となる可能性がある。 However, in the configuration of FIG. 1, since the adhesive strength between the plating 70 in contact with the protective film 98 and the protective film 98 is generally low, a gap is formed between the protective film 98 and the plating 70 due to repeated contraction and expansion due to thermal stress or the like. Is formed. When this gap reaches the upper surface electrode 30, the upper surface electrode 30 generally formed of a silver-based thick film is used when the upper surface electrode is used in a corrosive atmosphere in which a large amount of sulfur gas (for example, hydrogen sulfide) is present. Silver contained in 30 reacts with the sulfide gas to produce silver sulfide (Ag 2 S), which is an insulator, and the top electrode 30 is corroded. In other words, silver and sulfide react with sulfide gas, Ag 2 S whiskers are formed, the upper electrode with the growth of the Ag 2 S whiskers gone partially lost, fulfill sufficiently function as a conductor Disappear. That is, when the upper surface electrode 30 is disconnected, there is a possibility of causing a failure such as a change in the resistance value of the chip resistor.

このように、保護膜98の端部は、いわゆる硫化ポイントとなり、硫化ガスは、保護膜98とメッキ70の僅かな隙間から侵入して、その濃度と時間により上面電極30の銀を徐々に深く侵していき、硫化ガスが多く存在する雰囲気においては、1〜3年で上面電極の銀が消失して断線することがある。   As described above, the end portion of the protective film 98 becomes a so-called sulfidation point, and the sulfurized gas enters from a slight gap between the protective film 98 and the plating 70 and gradually deepens the silver of the upper surface electrode 30 depending on the concentration and time. In an atmosphere where a large amount of sulfur gas exists, the silver on the top electrode may disappear and break in 1 to 3 years.

また、特許文献1に示すように、上面電極30中にパラジウムを含有させることにより上面電極30の硫化を防止することができ、特に、上面電極30にパラジウムを銀に対して20重量%以上を含有させるとほとんど上面電極30が硫化されなくなるとされている。つまり、上面電極30の上面が硫化ガスに接することにより、上面電極30の表層の銀が硫化されて表層にはパラジウムのみが残り、このパラジウムが空気中の水蒸気等により酸化することにより酸化パラジウムが生成されて酸化パラジウム濃化層が形成される。
特開2003−68502号公報
Moreover, as shown in Patent Document 1, it is possible to prevent sulfidation of the upper surface electrode 30 by containing palladium in the upper surface electrode 30, and in particular, the upper electrode 30 contains 20% by weight or more of palladium with respect to silver. When it is contained, the upper surface electrode 30 is hardly sulfided. That is, when the upper surface of the upper surface electrode 30 is in contact with the sulfide gas, silver on the surface layer of the upper surface electrode 30 is sulfided, and only palladium remains on the surface layer. This palladium is oxidized by water vapor or the like in the air, so that palladium oxide is formed. To produce a palladium oxide concentrated layer.
JP 2003-68502 A

しかし、上面電極30にパラジウムを含有させることにより上面電極30に対して耐硫化対策を施したチップ抵抗器であっても、該チップ抵抗器を硫化ガス濃度の高い環境(例えば、硫化ガス濃度が10ppm程度の環境)で使用すると、保護膜98とメッキ70の間から侵入した硫化ガスは、酸化パラジウム濃化層により上面電極30内には侵入しにくいが、硫化ガスの濃度が高いと、硫化ガスが上面電極30とメッキ70の隙間に至り、側面電極60中の銀が硫化して、側面電極60が断線するおそれがある。側面電極60が断線状態となると、チップ抵抗器の抵抗値が変化してしまう等故障の原因となる可能性がある。   However, even if the chip resistor is made to contain sulfur in the upper surface electrode 30 by containing palladium in the upper surface electrode 30, the chip resistor is used in an environment with a high sulfur gas concentration (for example, the sulfur gas concentration is low). When used in an environment of about 10 ppm, the sulfide gas that has entered from between the protective film 98 and the plating 70 is less likely to enter the upper electrode 30 due to the palladium oxide concentrated layer. There is a possibility that the gas reaches the gap between the upper surface electrode 30 and the plating 70, the silver in the side electrode 60 is sulfided, and the side electrode 60 is disconnected. If the side electrode 60 is disconnected, it may cause a failure such as a change in the resistance value of the chip resistor.

特に、上面電極30にパラジウムを含有させて耐硫化対策を施し、硫化ガス濃度が高い環境で使用する場合には、上面電極30内に侵入できない硫化ガスが、上面電極30とメッキ70の隙間に侵入しやすく、側面電極60が硫化しやすいという問題があった。   In particular, when the upper surface electrode 30 contains palladium and measures against sulfidation are used in an environment where the concentration of the sulfidized gas is high, the sulfurized gas that cannot enter the upper surface electrode 30 enters the gap between the upper surface electrode 30 and the plating 70. There existed a problem that it penetrate | invades easily and the side electrode 60 is easy to sulfidize.

そこで、本発明は、パラジウムを含有させて耐硫化対策を施した上面電極を有するチップ抵抗器を硫化ガス濃度の高い環境で使用した場合でも、側面電極の断線を防止して、チップ抵抗器の電気的特性を損なうことがないチップ抵抗器を提供することを目的とするものである。   Therefore, the present invention prevents the disconnection of the side electrode even when a chip resistor having a top electrode containing palladium and having anti-sulfuration measures is used in an environment with a high sulfur gas concentration. An object of the present invention is to provide a chip resistor that does not impair electrical characteristics.

本発明は上記問題点を解決するために創作されたものであって、第1には、チップ抵抗器であって、絶縁基板と、絶縁基板に設けられた一対の電極部で、絶縁基板の上面の電極間方向の両側に形成された上面電極で、上面電極に含まれる銀とパラジウムの合計重量に対して重量比で15〜30%のパラジウムを含有する上面電極と、少なくとも上面電極の上面の一部と絶縁基板の側面に形成された側面電極で、耐硫化特性を有する材料により形成された側面電極と、を有する電極部と、一対の上面電極間に接続して形成された抵抗体と、上面電極の一部と抵抗体とを被覆する保護膜と、を有することを特徴とする。   The present invention was created to solve the above problems. First, a chip resistor is an insulating substrate and a pair of electrode portions provided on the insulating substrate. An upper surface electrode formed on both sides of the upper surface between the electrodes, the upper surface electrode containing 15 to 30% palladium by weight with respect to the total weight of silver and palladium contained in the upper surface electrode, and at least the upper surface of the upper surface electrode And a side electrode formed on a side surface of the insulating substrate, a side electrode formed of a material having antisulfurization characteristics, and a resistor formed by being connected between a pair of upper surface electrodes And a protective film covering a part of the upper electrode and the resistor.

この第1の構成のチップ抵抗器においては、保護膜における端部位置硫化ポイントより硫化ガスが侵入した場合でも、上面電極には、上面電極に含まれる銀とパラジウムの合計重量に対して重量比で15〜30%のパラジウムが含有されているので、上面電極30の硫化を防ぐことができ、これにより、上面電極の断線、抵抗値の変動等チップ抵抗器の機能を低下させることがない。   In the chip resistor having the first configuration, even when the sulfurized gas enters from the end position sulfurization point in the protective film, the upper surface electrode has a weight ratio to the total weight of silver and palladium contained in the upper surface electrode. 15 to 30% of palladium is contained, it is possible to prevent sulfidation of the upper surface electrode 30, thereby preventing deterioration of the function of the chip resistor, such as disconnection of the upper surface electrode and fluctuation of the resistance value.

また、硫化ガスは、上面電極内には侵入しにくいため、上面電極の上面に沿って側面電極と接するが、側面電極は、耐硫化特性を有する材料により形成されているので、側面電極としての機能、すなわち、上面電極とハンダフィレットの電気的接合や、チップ抵抗器における機械的接合(特に、電極部における各部の機械的接合)に影響を及ぼすことがない。   In addition, since the sulfide gas does not easily penetrate into the upper surface electrode, it contacts the side electrode along the upper surface of the upper surface electrode. It does not affect the function, that is, the electrical connection between the upper surface electrode and the solder fillet or the mechanical connection in the chip resistor (particularly, the mechanical connection of each part in the electrode part).

また、第2には、上記第1の構成において、上記側面電極が樹脂・銀系厚膜により形成され、銀が、鱗状銀粉と、球状銀粉とから構成され、鱗状銀粉は、各鱗状銀粉の最大幅の平均が13〜17μmであり、球状銀粉は、平均粒径が0.5μm以下に形成され、銀全体に対する球状銀粉の割合が重量比で60〜70%であることを特徴とする。   Second, in the first configuration, the side electrode is formed of a resin / silver-based thick film, silver is composed of scaly silver powder and spherical silver powder, and the scaly silver powder is composed of each scaly silver powder. The average of the maximum width is 13 to 17 μm, the spherical silver powder is characterized in that the average particle diameter is formed to be 0.5 μm or less, and the ratio of the spherical silver powder to the whole silver is 60 to 70% by weight.

この第2の構成のチップ抵抗器によれば、側面電極においては、微細な銀粉末である球状粉が銀において60〜70%と多く含まれていて、銀粉末と銀粉末の間に樹脂が入り込んだ厚膜構造となっていることから、側面電極が硫化ガスに接触して銀粉末が硫化して絶縁物となっても、銀粉末における多くは微細な粉末(球状銀粉)であることから、銀粉末同士の接触点(接触面積)が小さく、硫化の進行は極めて遅くなる。これにより、側面電極全体に硫化が至ることはなく、側面電極としての機能に影響を及ぼすことがない。   According to the chip resistor having the second configuration, the side electrode contains a large amount of spherical powder, which is fine silver powder, of 60 to 70% in silver, and a resin is present between the silver powder and the silver powder. Because of the thick film structure that enters, even if the side electrode comes into contact with the sulfide gas and the silver powder is sulfided to become an insulator, most of the silver powder is a fine powder (spherical silver powder). The contact point (contact area) between silver powders is small, and the progress of sulfidation is extremely slow. Thereby, sulfidation does not reach the entire side electrode, and the function as the side electrode is not affected.

また、微細な銀粉末である球状銀粉が銀において60〜70%と多く含まれているので、側面電極の表面にメッキを形成する際に、メッキのピンホールの発生がなくメッキを均一に形成することができる。特に、ニッケルメッキは、硫化ガスに対して保護層としての役割を果たすが、ニッケルメッキのピンホールの発生を防止することにより、側面電極の硫化を防止することができる。   Also, since spherical silver powder, which is a fine silver powder, is contained in a large amount of 60 to 70% in silver, when plating is formed on the surface of the side electrode, the plating is uniformly formed without generating pinholes. can do. In particular, nickel plating plays a role as a protective layer against sulfur gas, but by preventing the occurrence of nickel-plated pinholes, sulfidation of the side electrodes can be prevented.

また、第3には、上記第1又は第2の構成において、側面電極が上面電極と重なっている領域の電極間方向の長さが、0.2〜0.3mmであることを特徴とする。よって、側面電極と上面電極との断線を防止することができる。   Thirdly, in the first or second configuration, the length in the inter-electrode direction of the region where the side surface electrode overlaps the upper surface electrode is 0.2 to 0.3 mm. . Therefore, disconnection between the side electrode and the top electrode can be prevented.

また、第4には、上記第1から第3までのいずれかの構成において、保護膜が、エポキシとフェノールとを含む樹脂により形成され、保護膜全体に対するフェノールの割合が、重量比で40〜60%であることを特徴とする。よって、保護膜全体の耐薬品性を向上させるとともに、耐硫化特性も向上させることができる。   Fourthly, in any one of the first to third configurations, the protective film is formed of a resin containing epoxy and phenol, and the ratio of phenol to the entire protective film is 40 to 40 by weight. It is characterized by 60%. Therefore, it is possible to improve the chemical resistance of the entire protective film and improve the sulfidation resistance.

また、以下の構成としてもよい。すなわち、第5の構成として、上記第1から第4までのいずれかの構成において、上記樹脂・銀系厚膜における樹脂が、エポキシとフェノールとを含む樹脂であることを特徴とする。   The following configuration may also be used. That is, as a fifth configuration, in any one of the first to fourth configurations, the resin in the resin / silver-based thick film is a resin containing epoxy and phenol.

また、第6の構成として、上記第5の構成において、樹脂全体に対する比率が、重量比で、エポキシが30〜36%で、フェノールが64〜70%であることを特徴とする。   Further, as a sixth structure, in the fifth structure, the ratio to the whole resin is 30 to 36% by weight of epoxy and 64 to 70% of phenol by weight ratio.

また、第7の構成として、上記第1から第6までのいずれかの構成において、側面電極全体に対する比率が、重量比で、樹脂が10〜25%であり、銀が75〜90%であることを特徴とする。これにより、銀が重量比で75〜90%と多く含まれていることから、銀粉末同士の接触箇所が多くなり、導電経路が多く形成されることから、側面電極全体の抵抗値を低くすることができる。特に、微細な銀粉末である球状銀粉が銀において60〜70%と多くした場合には、球状銀粉の個々の抵抗値は高くなり、また、球状銀粉同士の接触点(接触面積)が小さいことから接触抵抗値も高くなるが、銀を重量比で75〜90%と多く含めることにより、側面電極全体の抵抗値を低くすることができる。   Further, as a seventh configuration, in any one of the first to sixth configurations, the ratio with respect to the entire side electrode is 10 to 25% by weight of resin and 75 to 90% of silver. It is characterized by that. Thereby, since silver contains much as 75 to 90% by weight ratio, since the contact location of silver powder increases and many conductive paths are formed, the resistance value of the whole side electrode is made low. be able to. In particular, when the spherical silver powder, which is a fine silver powder, is increased to 60 to 70% in silver, the individual resistance value of the spherical silver powder is high, and the contact point (contact area) between the spherical silver powders is small. Therefore, the contact resistance value is also increased, but the resistance value of the entire side electrode can be lowered by including silver as much as 75 to 90% by weight.

また、第8の構成として、上記第1の構成において、上記側面電極が、樹脂とニッケルとを含む樹脂・ニッケル系厚膜により形成されていることを特徴とする。   Further, as an eighth configuration, in the first configuration, the side electrode is formed of a resin / nickel-based thick film containing a resin and nickel.

本発明に基づくチップ抵抗器によれば、保護膜における端部位置硫化ポイントより硫化ガスが侵入した場合でも、上面電極には、上面電極に含まれる銀とパラジウムの合計重量に対して重量比で15〜30%のパラジウムが含有されているので、上面電極30の硫化を防ぐことができ、これにより、上面電極の断線、抵抗値の変動等チップ抵抗器の機能を低下させることがない。また、硫化ガスは、上面電極内には侵入しにくいため、上面電極の上面に沿って側面電極と接するが、側面電極は、耐硫化特性を有する材料により形成されているので、側面電極としての機能、すなわち、上面電極とハンダフィレットの電気的接合や、チップ抵抗器における機械的接合(特に、電極部における各部の機械的接合)に影響を及ぼすことがない。   According to the chip resistor according to the present invention, even when sulfurized gas enters from the end position sulfurization point in the protective film, the upper surface electrode has a weight ratio to the total weight of silver and palladium contained in the upper surface electrode. Since 15 to 30% of palladium is contained, it is possible to prevent the upper electrode 30 from being sulfided, thereby preventing deterioration of the function of the chip resistor such as disconnection of the upper electrode and fluctuation of the resistance value. In addition, since the sulfide gas does not easily penetrate into the upper surface electrode, it contacts the side electrode along the upper surface of the upper surface electrode. It does not affect the function, that is, the electrical connection between the upper surface electrode and the solder fillet or the mechanical connection in the chip resistor (particularly, the mechanical connection of each part in the electrode part).

本発明においては、パラジウムを含有させて耐硫化対策を施した上面電極を有するチップ抵抗器を硫化ガス濃度の高い環境で使用した場合でも、側面電極の断線を防止して、チップ抵抗器の電気的特性を損なうことがないチップ抵抗器を提供するという目的を以下のようにして実現した。   In the present invention, even when a chip resistor having a top electrode containing palladium and having anti-sulfuration measures is used in an environment with a high concentration of sulfur gas, disconnection of the side electrode is prevented, and the electrical resistance of the chip resistor is reduced. The purpose of providing a chip resistor that does not impair the mechanical characteristics was realized as follows.

本発明に基づくチップ抵抗器5は、図1〜図3に示すように構成され、絶縁基板10と、電極部20と、抵抗体80と、カバーコート90と、保護膜98とを有している。なお、図において、Y1−Y2方向は、X1−X2方向に直角な方向であり、Z1−Z2方向は、X1−X2方向及びY1−Y2方向に直角な方向である。   The chip resistor 5 based on this invention is comprised as shown in FIGS. 1-3, and has the insulating substrate 10, the electrode part 20, the resistor 80, the cover coat 90, and the protective film 98. Yes. In the figure, the Y1-Y2 direction is a direction perpendicular to the X1-X2 direction, and the Z1-Z2 direction is a direction perpendicular to the X1-X2 direction and the Y1-Y2 direction.

ここで、絶縁基板10は、含有率96%程度のアルミナにて形成された絶縁体である。この絶縁基板10は、全体には、略直方体形状を呈している。なお、図1に示す例では、絶縁基板10は平面視では長方形状を呈するが、他の形状、例えば、正方形状でもよい。なお、絶縁基板10の大きさは、平面視において、長辺が1.0mm〜7.0mm、短辺が0.5mm〜3.5mmとなっていて、具体的には、長辺が1mmで、短辺が0.5mm、長辺が2mmで短辺が1.2mm、長辺が6.4mmで短辺が3.2mmの場合が挙げられる。なお、長辺が1.0mm〜7.0mm、短辺が0.5mm〜3.5mmとしたが、任意の大きさとしてもよい。   Here, the insulating substrate 10 is an insulator formed of alumina having a content rate of about 96%. The insulating substrate 10 has a substantially rectangular parallelepiped shape as a whole. In the example shown in FIG. 1, the insulating substrate 10 has a rectangular shape in plan view, but may have another shape, for example, a square shape. In addition, the size of the insulating substrate 10 is 1.0 mm to 7.0 mm for the long side and 0.5 mm to 3.5 mm for the short side in plan view. Specifically, the long side is 1 mm. The short side is 0.5 mm, the long side is 2 mm, the short side is 1.2 mm, the long side is 6.4 mm, and the short side is 3.2 mm. Although the long side is 1.0 mm to 7.0 mm and the short side is 0.5 mm to 3.5 mm, any size may be used.

また、電極部20は、図1に示すように、絶縁基板10の相対する辺部に沿って計一対設けられている。具体的には、絶縁基板10の一方の短手辺(Y1−Y2方向の辺)に沿って電極部20が設けられているとともに、他方の短手辺に沿って電極部20が設けられている。なお、電極部20は、短手辺に沿って形成されているとしたが、長手辺に沿って形成されたものとしてもよい。   Further, as shown in FIG. 1, a total of a pair of electrode portions 20 are provided along the opposing side portions of the insulating substrate 10. Specifically, the electrode part 20 is provided along one short side (side in the Y1-Y2 direction) of the insulating substrate 10, and the electrode part 20 is provided along the other short side. Yes. In addition, although the electrode part 20 was formed along the short side, it may be formed along the long side.

ここで、電極部20は、図1に示すように、絶縁基板10の左右に一対設けられており、上面電極30と、下面電極40と、側面電極60と、メッキ70とを有している。   Here, as shown in FIG. 1, a pair of electrode portions 20 are provided on the left and right sides of the insulating substrate 10, and includes an upper surface electrode 30, a lower surface electrode 40, a side surface electrode 60, and a plating 70. .

上面電極30は、絶縁基板10の上面の長手方向(X1−X2方向(図1参照))の両端部領域に一対形成されていて、平面視において略方形状を呈している。つまり、一方の上面電極30は、絶縁基板10の上面のX1側の端部から所定の長さに形成されているとともに、他方の上面電極30は、絶縁基板10の上面のX2側の端部から所定長さに形成されている。また、上面電極30のY1−Y2方向(幅方向)の幅は、抵抗体80のY1−Y2方向の幅よりも若干大きく形成されていて、絶縁基板10のY1−Y2方向の幅よりも小さく形成されている。また、Y1−Y2方向には、上面電極30と絶縁基板10の端部には隙間が形成されている。   A pair of upper surface electrodes 30 are formed at both end regions in the longitudinal direction (X1-X2 direction (see FIG. 1)) of the upper surface of the insulating substrate 10 and have a substantially rectangular shape in plan view. That is, one upper surface electrode 30 is formed to have a predetermined length from the end portion on the X1 side of the upper surface of the insulating substrate 10, and the other upper surface electrode 30 is an end portion on the X2 side of the upper surface of the insulating substrate 10. To a predetermined length. The width of the upper electrode 30 in the Y1-Y2 direction (width direction) is slightly larger than the width of the resistor 80 in the Y1-Y2 direction, and smaller than the width of the insulating substrate 10 in the Y1-Y2 direction. Is formed. Further, a gap is formed between the upper surface electrode 30 and the end portion of the insulating substrate 10 in the Y1-Y2 direction.

この上面電極30は、具体的には、銀系厚膜(銀系メタルグレーズ厚膜)により形成されていて、銀(Ag)とパラジウム(Pd)が含有されていて、銀とパラジウムの合計重量に対してパラジウムが重量比で15〜30%(好適には19〜25%)含有されている。つまり、上面電極30は、銀・パラジウム系厚膜(銀・パラジウム系メタルグレーズ厚膜)であるといえる。また、この上面電極30は、840〜860℃で焼成されていて、これにより、銀とパラジウムとが十分合金化されている。   Specifically, the upper surface electrode 30 is formed of a silver-based thick film (silver-based metal glaze thick film), contains silver (Ag) and palladium (Pd), and has a total weight of silver and palladium. Palladium is contained in an amount of 15 to 30% (preferably 19 to 25%) by weight. That is, it can be said that the upper electrode 30 is a silver / palladium thick film (silver / palladium metal glaze thick film). Moreover, this upper surface electrode 30 is baked at 840-860 degreeC, and silver and palladium are fully alloyed by this.

また、下面電極40は、図1に示すように、上記絶縁基板10の下面の長手方向(X1−X2方向(図1参照))の両端部領域に一対形成されていて、底面視において略方形状を呈している。この下面電極40の長さ(X1−X2方向の長さ)は、上面電極30と略同一の長さに形成されているが、下面電極40の長さは任意である。また、下面電極40のY1−Y2方向の幅は、絶縁基板10のY1−Y2方向の幅と略同一に形成されている。この下面電極40は、銀系厚膜(銀系メタルグレーズ厚膜)により形成されている。   Further, as shown in FIG. 1, a pair of lower surface electrodes 40 are formed in both end regions in the longitudinal direction (X1-X2 direction (see FIG. 1)) of the lower surface of the insulating substrate 10, and are substantially rectangular in bottom view. It has a shape. The length of the lower surface electrode 40 (the length in the X1-X2 direction) is substantially the same as that of the upper surface electrode 30, but the length of the lower surface electrode 40 is arbitrary. Further, the width of the lower surface electrode 40 in the Y1-Y2 direction is formed substantially the same as the width of the insulating substrate 10 in the Y1-Y2 direction. The lower surface electrode 40 is formed of a silver-based thick film (silver-based metal glaze thick film).

また、側面電極60は、上面電極30の一部と、下面電極40の一部と、絶縁基板10の側面(つまり、X1側の側面と、X2側の側面)を被覆するように断面略コ字状に層状に形成されている。この側面電極60は、X1側の端部とX2側の端部にそれぞれ設けられている。   In addition, the side electrode 60 has a substantially cross-sectional shape so as to cover a part of the upper electrode 30, a part of the lower electrode 40, and the side surfaces of the insulating substrate 10 (that is, the X1 side surface and the X2 side surface). It is formed in a layer shape in a letter shape. The side electrodes 60 are provided at the end on the X1 side and the end on the X2 side, respectively.

この側面電極60は、樹脂と銀粉末とを含む樹脂・銀系厚膜であり、具体的には、エポキシとフェノールとを含む樹脂と、銀粉末とを均一に混練してなる側面電極用ペーストにより構成された熱硬化型の樹脂・銀系厚膜である。   The side electrode 60 is a resin / silver-based thick film containing a resin and silver powder. Specifically, the side electrode paste is obtained by uniformly kneading a resin containing epoxy and phenol and silver powder. Is a thermosetting resin / silver-based thick film.

ここで、側面電極60全体における樹脂と銀との比率は、重量比で、樹脂が10〜25%(好適には、14〜16%)で、銀粉末が75〜90%(好適には84〜86%)であり、容積比では、樹脂が55〜65%で、銀粉末が35〜45%となっている。   Here, the ratio of the resin and silver in the entire side electrode 60 is 10 to 25% (preferably 14 to 16%) of resin and 75 to 90% (preferably 84) of silver powder in terms of weight ratio. In the volume ratio, the resin is 55 to 65% and the silver powder is 35 to 45%.

また、樹脂全体におけるエポキシとフェノールの比率は、重量比で、エポキシが30〜36%(好適には、32〜34%)で、フェノールが64〜70%(好適には66〜68%)となっている。   Moreover, the ratio of epoxy to phenol in the whole resin is 30 to 36% (preferably 32 to 34%) of epoxy and 64 to 70% (preferably 66 to 68%) of phenol as weight ratio. It has become.

また、銀粉末は、鱗状粉(フレーク状粉としてもよい)(鱗状銀粉)(図3参照)と、球状粉(球状銀粉)とから構成され、銀粉末全体における鱗状粉と球状粉の比率は、重量比で、鱗状粉が30〜40%(好適には35%)で、球状粉が60〜70%(好適には65%)となっている。この鱗状粉は、略薄板状を呈し、その最大幅の平均径が13〜17μmとなっている。ここでいう最大幅は、図3に示すように、鱗状粉において一方の端部から他方の端部までの幅が最大の部分の幅Uをいう。また、球状粉は、平均粒径が0.5μm以下(好適には、0.1〜0.4μm)となっている。   The silver powder is composed of scaly powder (may be flaky powder) (scaly silver powder) (see FIG. 3) and spherical powder (spherical silver powder). The ratio of the scaly powder to the spherical powder in the entire silver powder is In terms of weight ratio, the scale powder is 30 to 40% (preferably 35%) and the spherical powder is 60 to 70% (preferably 65%). This scaly powder has a substantially thin plate shape, and the average diameter of its maximum width is 13 to 17 μm. As shown in FIG. 3, the maximum width here refers to the width U of the portion having the maximum width from one end portion to the other end portion in the scaly powder. The spherical powder has an average particle size of 0.5 μm or less (preferably 0.1 to 0.4 μm).

また、側面電極60は、図1に示すように、断面略コ字状を呈し、側面電極60の一部が上面電極30の上面に積層して形成されているが、この上面電極30に積層している部分の長さ(X1−X2方向の長さ)Tは、0.2〜0.3mmに形成されている。つまり、側面電極60のはみ出し寸法が、0.2〜0.3mmに形成されている。   Further, as shown in FIG. 1, the side electrode 60 has a substantially U-shaped cross section, and a part of the side electrode 60 is laminated on the upper surface of the upper surface electrode 30. The length of the portion (the length in the X1-X2 direction) T is formed to be 0.2 to 0.3 mm. That is, the protruding dimension of the side electrode 60 is 0.2 to 0.3 mm.

また、メッキ70は、ニッケルメッキ(Niメッキ)72と、錫メッキ74とから構成されていて、X1側の端部領域とX2側の端部領域にそれぞれ設けられている。つまり、チップ抵抗器の接続用の電極部の表面にメッキ70が設けられていて、内側層がニッケルメッキ72で、外側層が錫メッキ74となっている。   The plating 70 includes a nickel plating (Ni plating) 72 and a tin plating 74, and is provided in an end region on the X1 side and an end region on the X2 side, respectively. That is, the plating 70 is provided on the surface of the electrode portion for connecting the chip resistor, the inner layer is the nickel plating 72, and the outer layer is the tin plating 74.

ここで、ニッケルメッキ72は、上面電極30の一部と、側面電極60と、下面電極40の一部とを被覆するように形成されている。つまり、上面電極30と側面電極60と下面電極40の露出部分を被覆するように形成されている。このニッケルメッキ72は、電気メッキにより略均一の膜厚で形成されている。このニッケルメッキ72は、ニッケルにて形成されており、上面電極30等の内部電極のはんだ食われを防止するために形成されている。このニッケルメッキは、ニッケル以外にも銅メッキが用いられる場合もある。   Here, the nickel plating 72 is formed so as to cover a part of the upper surface electrode 30, the side surface electrode 60, and a part of the lower surface electrode 40. That is, it is formed so as to cover the exposed portions of the upper surface electrode 30, the side surface electrode 60, and the lower surface electrode 40. The nickel plating 72 is formed with a substantially uniform film thickness by electroplating. The nickel plating 72 is made of nickel and is formed to prevent solder erosion of internal electrodes such as the upper surface electrode 30. In addition to nickel, this nickel plating may use copper plating.

また、錫メッキ74は、ニッケルメッキ72の表面を被覆するように略均一の膜厚で配設されている。なお、錫メッキ以外にはんだメッキが用いられる場合もある。   Further, the tin plating 74 is disposed with a substantially uniform film thickness so as to cover the surface of the nickel plating 72. Note that solder plating may be used in addition to tin plating.

また、抵抗体80は、図1に示すように、基本的に上記絶縁基板10の上面に設けられていて、X1−X2方向の両端部は上面電極30の上面に接続して形成されている。つまり、抵抗体80は、長手方向(電極間方向、通電方向としてもよい))に帯状に形成されていて、平面視において略長方形状に形成されている。抵抗体80のY1−Y2方向の幅は、上面電極30のY1−Y2方向の幅よりも小さく形成されている。また、抵抗体80は、酸化ルテニウム系メタルグレーズ厚膜により形成されている。   As shown in FIG. 1, the resistor 80 is basically provided on the upper surface of the insulating substrate 10, and both end portions in the X1-X2 direction are connected to the upper surface of the upper electrode 30. . That is, the resistor 80 is formed in a strip shape in the longitudinal direction (inter-electrode direction or energization direction), and is formed in a substantially rectangular shape in plan view. The width of the resistor 80 in the Y1-Y2 direction is smaller than the width of the upper surface electrode 30 in the Y1-Y2 direction. The resistor 80 is formed of a ruthenium oxide-based metal glaze thick film.

また、カバーコート90は、抵抗体80の上面に形成され、抵抗体80へのトリミング時の熱衝撃を緩和するために形成されている。このカバーコート90は、ガラス系材料により形成されていて、具体的には、ホウ珪酸鉛ガラス系厚膜により形成されている。   Further, the cover coat 90 is formed on the upper surface of the resistor 80 and is formed to alleviate the thermal shock during trimming of the resistor 80. The cover coat 90 is made of a glass-based material, specifically, a lead borosilicate glass thick film.

また、保護膜98は、図1に示すように、主に、カバーコート90と抵抗体80を被覆するように設けられている。すなわち、この保護膜98の形成位置をさらに詳しく説明すると、Y1−Y2方向には、上記絶縁基板10の幅と略同一に形成され(絶縁基板10の幅よりも短く形成されていてもよい)、さらに、X1−X2方向には、抵抗体80と上面電極30の一部を被覆するように設けられている。これにより、保護膜98は、平面視において、抵抗体80の平面領域を全て含むように形成されている。   Further, as shown in FIG. 1, the protective film 98 is mainly provided so as to cover the cover coat 90 and the resistor 80. That is, the formation position of the protective film 98 will be described in more detail. The protective film 98 is formed in the Y1-Y2 direction so as to be substantially the same as the width of the insulating substrate 10 (may be formed shorter than the width of the insulating substrate 10). Furthermore, in the X1-X2 direction, the resistor 80 and a part of the upper surface electrode 30 are provided so as to be covered. Thereby, the protective film 98 is formed so as to include the entire planar region of the resistor 80 in plan view.

この保護膜98は、エポキシ・フェノール系樹脂により形成されていて、保護膜98全体におけるエポキシとフェノールの比率は、重量比で、エポキシが40〜60%で、フェノールが40〜60%となっている。   The protective film 98 is formed of an epoxy / phenolic resin, and the ratio of epoxy to phenol in the entire protective film 98 is 40 to 60% of epoxy and 40 to 60% of phenol by weight. Yes.

上記構成のチップ抵抗器5の製造方法について、簡単に説明すると、まず、表面と裏面の両面に一次スリットと二次スリットが形成されている無垢のアルミナ基板(このアルミナ基板は、複数のチップ抵抗器の絶縁基板の大きさを少なくとも有する大判のものである)を用意し、このアルミナ基板の裏面(すなわち、底面)に下面電極を形成する。つまり、下面電極用のペースト(例えば、銀系メタルグレーズ等の銀系ペースト)を印刷し、乾燥・焼成する。なお、この下面電極の形成に際しては、隣接するチップ抵抗器について同時に下面電極を形成する。さらには、電極間方向に直角な方向には、帯状に連続して下面電極を形成する。   The manufacturing method of the chip resistor 5 having the above configuration will be briefly described. First, a solid alumina substrate in which primary and secondary slits are formed on both the front and back surfaces (this alumina substrate has a plurality of chip resistors). And a bottom electrode is formed on the back surface (that is, the bottom surface) of the alumina substrate. That is, a paste for the lower surface electrode (for example, a silver-based paste such as silver-based metal glaze) is printed, dried and fired. In forming the lower surface electrode, the lower surface electrode is simultaneously formed for adjacent chip resistors. Furthermore, in the direction perpendicular to the inter-electrode direction, a bottom electrode is formed continuously in a strip shape.

次に、アルミナ基板の表側の面(すなわち、上面)に上面電極を形成する。すなわち、上面電極ペーストを印刷し、乾燥・焼成する。この場合の上面電極ペーストは、銀パラジウムペーストであり、具体的には、銀とパラジウムの合計重量に対して重量比で15〜30%(好適には19〜25%)のパラジウムが含有された上面電極ペーストとする。なお、チップ抵抗器となった場合に隣接するチップ抵抗器の上面電極で互いに隣接し合う上面電極については1つの印刷領域で形成する。   Next, an upper surface electrode is formed on the front surface (that is, the upper surface) of the alumina substrate. That is, the top electrode paste is printed, dried and fired. The upper surface electrode paste in this case was a silver palladium paste, and specifically, 15 to 30% (preferably 19 to 25%) palladium was contained in a weight ratio with respect to the total weight of silver and palladium. A top electrode paste is used. In addition, when it becomes a chip resistor, the upper surface electrode which adjoins mutually by the upper surface electrode of an adjacent chip resistor is formed in one printing area | region.

次に、上記アルミナ基板の上面に抵抗体80を形成する。つまり、抵抗体80の抵抗体ペーストを印刷した後に乾燥・焼成して抵抗体を形成する。なお、この抵抗体ペーストは、酸化ルテニウム系ペースト(例えば、酸化ルテニウム系メタルグレーズ)である。   Next, the resistor 80 is formed on the upper surface of the alumina substrate. That is, after the resistor paste of the resistor 80 is printed, it is dried and fired to form the resistor. The resistor paste is a ruthenium oxide paste (for example, ruthenium oxide metal glaze).

次に、抵抗体80の上面と、上面電極の上面に、ホウ珪酸鉛ガラス系のガラスペーストを印刷して焼成し、カバーコート90とカバーコート92とを形成する。つまり、カバーコート90とカバーコート92とは同時に形成する。   Next, a lead borosilicate glass-based glass paste is printed and fired on the upper surface of the resistor 80 and the upper surface of the upper electrode to form a cover coat 90 and a cover coat 92. That is, the cover coat 90 and the cover coat 92 are formed simultaneously.

次に、抵抗体80にトリミング溝を形成して抵抗値を調整する。つまり、レーザートリミングにより抵抗体80にトリミング溝を形成する。   Next, a trimming groove is formed in the resistor 80 to adjust the resistance value. That is, a trimming groove is formed in the resistor 80 by laser trimming.

次に、少なくとも抵抗体80及びカバーコート90を覆うように保護膜を形成する。つまり、樹脂ペーストを帯状に印刷し、乾燥・硬化させる。その後は、一次スリットに沿って一次分割する。   Next, a protective film is formed so as to cover at least the resistor 80 and the cover coat 90. That is, the resin paste is printed in a strip shape, dried and cured. Thereafter, primary division is performed along the primary slit.

次に、上記短冊状基板に対して、側面電極60を形成する。つまり、側面電極用ペーストを印刷し、乾燥・硬化する。この側面電極用ペーストは、エポキシとフェノールとを含む樹脂と、銀粉末とを均一に混練してなる側面電極用ペーストであり、側面電極における樹脂と銀との比率は、重量比で、樹脂が10〜25%(好適には、14〜16%)で、銀粉末が75〜90%(好適には84〜86%)であり、樹脂におけるエポキシとフェノールの比率は、重量比で、エポキシが30〜36%(好適には、32〜34%)で、フェノールが64〜70%(好適には66〜68%)であり、また、銀粉末は、鱗状粉(フレーク状粉としてもよい)と、球状粉とから構成され、鱗状粉と球状粉の比率は、重量比で、鱗状粉が30〜40%(好適には35%)で、球状粉が60〜70%(好適には65%)となっている。なお、側面電極用ペーストを印刷し、乾燥・焼成する方法としてもよい。   Next, the side electrode 60 is formed on the strip-shaped substrate. That is, the side electrode paste is printed, dried and cured. This side electrode paste is a side electrode paste obtained by uniformly kneading a resin containing epoxy and phenol and silver powder, and the ratio of resin to silver in the side electrode is expressed by weight ratio. 10 to 25% (preferably 14 to 16%), silver powder is 75 to 90% (preferably 84 to 86%), and the ratio of epoxy to phenol in the resin is weight ratio, 30 to 36% (preferably 32 to 34%), phenol is 64 to 70% (preferably 66 to 68%), and silver powder is scaly powder (may be flaky powder) And the ratio of the scaly powder to the spherical powder is 30 to 40% (preferably 35%) for the scaly powder and 60 to 70% (preferably 65%) for the spherical powder. %). Alternatively, the side electrode paste may be printed, dried, and fired.

その後、二次スリットに沿って二次分割する。次に、ニッケルメッキを形成し、その後、錫メッキを形成する。   Thereafter, secondary division is performed along the secondary slit. Next, nickel plating is formed, and then tin plating is formed.

チップ抵抗器5の使用状態について説明すると、配線基板(プリント基板としてもよい)に実装して使用する。配線基板への実装においては、図4に示すように、チップ抵抗器5は、配線基板100上に形成されたランド102にハンダフィレット110を介して実装される。   The usage state of the chip resistor 5 will be described. The chip resistor 5 is used by being mounted on a wiring board (or a printed board). In mounting on the wiring board, the chip resistor 5 is mounted on the land 102 formed on the wiring board 100 via the solder fillet 110 as shown in FIG.

本実施例のチップ抵抗器5においては、保護膜98の長手方向における端部、すなわち、保護膜98とメッキ70の境界位置である硫化ポイントより硫化ガスが侵入した場合でも、上面電極30には、銀とパラジウムの合計重量に対して重量比で15〜30%のパラジウムが含有されているので、上面電極30の硫化を防ぐことができる。つまり、銀とパラジウムの合計重量に対して重量比で15〜30%のパラジウムが含有されているので、上面電極30の上面の表層に酸化パラジウム濃化層が形成され、これにより、銀の硫化が上面側の数十nmの表層で停止し、この数十nmは、厚膜の通常の厚さである5〜20μmに対して十分小さいので、上面電極の断線、抵抗値の変動等チップ抵抗器の機能を低下させることがない。   In the chip resistor 5 of the present embodiment, even when the sulfide gas enters from the end portion in the longitudinal direction of the protective film 98, that is, the sulfide point that is the boundary position between the protective film 98 and the plating 70, Further, since 15 to 30% of palladium is contained in a weight ratio with respect to the total weight of silver and palladium, sulfidation of the upper surface electrode 30 can be prevented. That is, since 15 to 30% of palladium is contained in a weight ratio with respect to the total weight of silver and palladium, a palladium oxide concentrated layer is formed on the surface layer of the upper surface of the upper surface electrode 30, whereby silver sulfide is obtained. Stops at the surface layer of several tens of nm on the upper surface side, and this tens of nm is sufficiently smaller than 5 to 20 μm, which is the normal thickness of the thick film. The function of the vessel is not degraded.

また、パラジウムの比率を銀とパラジウムの合計重量に対して重量比で15〜30%とすることにより上面電極の硫化防止に十分の効果があり、パラジウムを必要以上に含有させて必要以上にコストを掛けることがない。また、パラジウムの含有比率を増加させると上面電極の抵抗値が上昇して低抵抗のチップ抵抗器には適さないが、パラジウムの比率を銀とパラジウムの合計重量に対して重量比で15〜30%とすることにより、低抵抗値のチップ抵抗器にも適することができる。さらに、パラジウムは、金(Au)よりも低価であるので、コストが大きく増大することがない。   Moreover, by setting the ratio of palladium to 15 to 30% by weight with respect to the total weight of silver and palladium, there is a sufficient effect for preventing sulfidation of the upper surface electrode, and the palladium is contained more than necessary and the cost is more than necessary. It is not multiplied. Further, when the content ratio of palladium is increased, the resistance value of the upper surface electrode is increased, which is not suitable for a low-resistance chip resistor, but the palladium ratio is 15 to 30 by weight with respect to the total weight of silver and palladium. By setting it as%, it can also be suitable for a low-resistance chip resistor. Furthermore, since palladium is less expensive than gold (Au), the cost does not increase significantly.

保護膜98とメッキ70の間から侵入した硫化ガスは上面電極30内には侵入しにくいため、特に、硫化ガス濃度が高い環境でチップ抵抗器5を使用した場合に、硫化ガスは、上面電極30とメッキ70の隙間に至り、側面電極60と接するが、側面電極60が上記の構成となっているので、側面電極60の硫化を防止することができる。   Since the sulfurized gas that has entered from between the protective film 98 and the plating 70 does not easily enter the upper surface electrode 30, particularly when the chip resistor 5 is used in an environment with a high concentration of sulfurized gas, Although it reaches the gap between 30 and the plating 70 and is in contact with the side electrode 60, since the side electrode 60 has the above-described configuration, sulfuration of the side electrode 60 can be prevented.

つまり、側面電極60においては、銀粉末が75〜90%(好適には84〜86%)と多く含まれ、特に、微細な銀粉末である球状粉が銀粉末中において60〜70%(好適には65%)と多く含まれていて、銀粉末と銀粉末の間に樹脂が入り込んだ厚膜構造となっていることから、側面電極が硫化ガスに接触して銀粉末が硫化して絶縁物となっても、銀粉末における多くは微細な粉末であることから、銀粉末同士の接触点(接触面積)が小さく、硫化の進行は極めて遅くなる。これにより、側面電極60全体に硫化が至ることはなく、側面電極としての機能、すなわち、上面電極30とハンダフィレット110の電気的接合や、チップ抵抗器における機械的接合(特に、電極部20における各部の機械的接合)に影響を及ぼすことがない。   That is, the side electrode 60 contains a large amount of silver powder of 75 to 90% (preferably 84 to 86%), and in particular, spherical powder that is a fine silver powder is 60 to 70% (preferably). Is contained in a thick film structure in which resin enters between silver powder and silver powder, so that the side electrode comes into contact with the sulfide gas and the silver powder is sulfided to insulate. Even if it becomes a thing, since most in silver powder is fine powder, the contact point (contact area) between silver powder is small, and progress of sulfidation becomes very slow. As a result, the entire side electrode 60 is not sulfided, and functions as a side electrode, that is, electrical connection between the upper surface electrode 30 and the solder fillet 110, mechanical connection in the chip resistor (particularly in the electrode portion 20). It does not affect the mechanical connection of each part.

また、微細な銀粉末である球状粉が銀粉末中において60〜70%(好適には65%)と多く含まれているので、ニッケルメッキ72を電気メッキにより形成する際に、ニッケルメッキのピンホールの発生がなく、ニッケルメッキを均一に形成することができる。ニッケルメッキ72は、硫化ガスに対して保護層としての役割を果たすが、ニッケルメッキのピンホールの発生を防止することにより、側面電極の硫化を防止することができる。   Further, since the spherical powder, which is a fine silver powder, is contained in a large amount of 60 to 70% (preferably 65%) in the silver powder, when the nickel plating 72 is formed by electroplating, a nickel plating pin is used. There is no generation of holes, and nickel plating can be formed uniformly. The nickel plating 72 serves as a protective layer against the sulfide gas, but by preventing the nickel plated pinholes from occurring, the side electrodes can be prevented from being sulfided.

また、微細な銀粉末である球状粉が銀粉末中において60〜70%(好適には65%)と多く含まれているので、球状粉の個々の抵抗値は高くなり、また、球状粉同士の接触点(接触面積)が小さいことから接触抵抗値も高くなるが、銀粉末が重量比で75〜90%(好適には84〜86%)と多く含まれていることから、銀粉末同士の接触箇所が多くなり、導電経路が多く形成されることから、側面電極全体の抵抗値を低くすることができる。   Further, since the spherical powder which is fine silver powder is contained in a large amount of 60 to 70% (preferably 65%) in the silver powder, the individual resistance value of the spherical powder becomes high, and the spherical powders Since the contact point (contact area) is small, the contact resistance value is also high, but since silver powder is contained in a large amount of 75 to 90% (preferably 84 to 86%) by weight, Since the number of contact points increases and a large number of conductive paths are formed, the resistance value of the entire side electrode can be lowered.

また、側面電極60のはみ出し寸法が0.2〜0.3mmに形成されているので、側面電極60と上面電極30との断線を防止することができる。   Moreover, since the protruding dimension of the side electrode 60 is 0.2 to 0.3 mm, the disconnection between the side electrode 60 and the upper surface electrode 30 can be prevented.

すなわち、高濃度の硫黄が含有されるオイルを高温にしてチップ抵抗器を浸漬する、極めて過酷な硫化加速試験を行ったところ、側面電極60がX1−X2方向に50μm硫化される場合があった。また、側面電極60のはみ出し寸法は、側面電極としての機能(上面電極30とハンダフィレット110の電気的接合や、チップ抵抗器における機械的接合(特に、電極部20における各部の機械的接合))を果たすために、0.1mm分設けるのが通常であることから、50μm硫化しても機能を果たすことができるように、側面電極60のはみ出し寸法を0.2〜0.3mmとした。なお、0.15μmを超える分は、信頼性向上のためであり、また、0.3mmを超える長さとしないのは、側面電極ペーストのコストを抑えるためである。   That is, when an extremely severe sulfur acceleration test was performed in which a chip resistor was immersed in oil containing high-concentration sulfur at a high temperature, the side electrode 60 was sometimes sulfided by 50 μm in the X1-X2 direction. . Further, the protruding dimension of the side electrode 60 is a function as a side electrode (electrical bonding of the upper surface electrode 30 and the solder fillet 110 and mechanical bonding in a chip resistor (particularly, mechanical bonding of each part in the electrode unit 20)). In order to achieve the above, it is usual to provide 0.1 mm, so that the protruding dimension of the side electrode 60 is set to 0.2 to 0.3 mm so that the function can be achieved even when 50 μm is sulfurized. The portion exceeding 0.15 μm is for improving the reliability, and the length not exceeding 0.3 mm is for suppressing the cost of the side electrode paste.

また、保護膜98をエポキシ・フェノール系樹脂により形成することにより、保護膜98の下の上面電極30に硫化ガスが侵入して接触するおそれを極端に小さくすることができる。特に、エポキシとフェノールの比率は、重量比で、エポキシが40〜60%で、フェノールが40〜60%とすることにより、保護膜全体の耐薬品性が向上するとともに、耐硫化特性も向上させることができる。   In addition, by forming the protective film 98 from an epoxy / phenolic resin, the risk of sulfur gas entering and contacting the upper electrode 30 under the protective film 98 can be extremely reduced. In particular, the weight ratio of epoxy to phenol is 40 to 60% for epoxy and 40 to 60% for phenol, thereby improving the chemical resistance of the entire protective film and improving the sulfur resistance. be able to.

なお、上記の説明において、側面電極60は、樹脂と銀粉末とを含む材料により形成されているとして説明したが、これには限られず、樹脂とニッケル粉とを含む材料により形成されたものとしてもよい。すなわち、側面電極60を樹脂・ニッケル系厚膜としてもよい。すなわち、ニッケルは硫化しないので、側面電極60を樹脂・ニッケル系厚膜とすることにより側面電極60の耐硫化を図ることができる。なお、この樹脂・ニッケル系厚膜における樹脂は、フェノール樹脂、エポキシとフェノールとを含む樹脂等が挙げられる。   In the above description, the side electrode 60 is described as being formed of a material containing resin and silver powder. However, the present invention is not limited to this, and the side electrode 60 is formed of a material containing resin and nickel powder. Also good. That is, the side electrode 60 may be a resin / nickel thick film. In other words, since nickel is not sulfided, the side electrode 60 can be made to be sulfide resistant by making the side electrode 60 a resin / nickel thick film. Examples of the resin in the resin / nickel-based thick film include a phenol resin and a resin containing epoxy and phenol.

本発明の実施例に基づくチップ抵抗器の構成を示す断面図であり、図2におけるA−A断面図である。It is sectional drawing which shows the structure of the chip resistor based on the Example of this invention, and is AA sectional drawing in FIG. 本発明の実施例に基づくチップ抵抗器の構成を示す平面図である。It is a top view which shows the structure of the chip resistor based on the Example of this invention. 鱗状粉の例を示す斜視図である。It is a perspective view which shows the example of a scaly powder. 本発明の実施例に基づくチップ抵抗器の使用状態を示す断面図である。It is sectional drawing which shows the use condition of the chip resistor based on the Example of this invention.

符号の説明Explanation of symbols

5,105 チップ抵抗器
10 絶縁基板
20 電極部
30 上面電極
40 下面電極
60 側面電極
70 メッキ
80 抵抗体
90 カバーコート
98 保護膜
5,105 Chip resistor 10 Insulating substrate 20 Electrode part 30 Upper surface electrode 40 Lower surface electrode 60 Side electrode 70 Plating 80 Resistor 90 Cover coat 98 Protective film

Claims (4)

チップ抵抗器であって、
絶縁基板と、
絶縁基板に設けられた一対の電極部で、
絶縁基板の上面の電極間方向の両側に形成された上面電極で、上面電極に含まれる銀とパラジウムの合計重量に対して重量比で15〜30%のパラジウムを含有する上面電極と、
少なくとも上面電極の上面の一部と絶縁基板の側面に形成された側面電極で、耐硫化特性を有する材料により形成された側面電極と、を有する電極部と、
一対の上面電極間に接続して形成された抵抗体と、
上面電極の一部と抵抗体とを被覆する保護膜と、
を有することを特徴とするチップ抵抗器。
A chip resistor,
An insulating substrate;
In a pair of electrode parts provided on an insulating substrate,
An upper surface electrode formed on both sides of the upper surface of the insulating substrate in the inter-electrode direction, the upper surface electrode containing 15-30% palladium by weight with respect to the total weight of silver and palladium contained in the upper surface electrode;
An electrode portion having at least a part of the upper surface of the upper surface electrode and a side surface electrode formed on a side surface of the insulating substrate, and a side surface electrode formed of a material having sulfuration resistance;
A resistor formed between a pair of upper surface electrodes;
A protective film covering a part of the upper surface electrode and the resistor;
A chip resistor comprising:
上記側面電極が樹脂・銀系厚膜により形成され、銀が、鱗状銀粉と、球状銀粉とから構成され、鱗状銀粉は、各鱗状銀粉の最大幅の平均が13〜17μmであり、球状銀粉は、平均粒径が0.5μm以下に形成され、銀全体に対する球状銀粉の割合が重量比で60〜70%であることを特徴とする請求項1に記載のチップ抵抗器。 The side electrode is formed of a resin / silver thick film, and the silver is composed of scaly silver powder and spherical silver powder. The scaly silver powder has an average maximum width of each scaly silver powder of 13 to 17 μm. 2. The chip resistor according to claim 1, wherein the average particle size is 0.5 μm or less, and the ratio of the spherical silver powder to the whole silver is 60 to 70% by weight. 側面電極が上面電極と重なっている領域の電極間方向の長さが、0.2〜0.3mmであることを特徴とする請求項1又は2に記載のチップ抵抗器。 3. The chip resistor according to claim 1, wherein a length in a direction between the electrodes in a region where the side electrode overlaps with the top electrode is 0.2 to 0.3 mm. 保護膜が、エポキシとフェノールとを含む樹脂により形成され、保護膜全体に対するフェノールの割合が、重量比で40〜60%であることを特徴とする請求項1又は2又は3に記載のチップ抵抗器。 4. The chip resistor according to claim 1, wherein the protective film is formed of a resin containing epoxy and phenol, and the ratio of phenol to the entire protective film is 40 to 60% by weight. vessel.
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