JP2008181952A - 基板処理装置 - Google Patents
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Abstract
【解決手段】処理位置における基板Wに対する処理の後、供給口27からドライエアdaを供給させつつ、リフタ15を処理位置から乾燥位置へ上昇させて基板Wを乾燥させるにあたり、供給口27から供給されているドライエアdaの周辺に第1の補助供給口31及び第2の補助供給口33から補助ドライエアpdaを供給させる。したがって、供給口27から供給されているドライエアdaより露点が高い気体がチャンバ30の周囲から流入しても、補助ドライエアpdaの作用により、基板Wに供給されるドライエアdaの露点が悪化するのを防止することができる。その結果、基板Wの乾燥効率を向上させることができる。
【選択図】図2
Description
すなわち、従来の装置は、チャンバ内部が完全に周囲から閉塞されていないので、周囲からチャンバ内に空気が流入し、乾燥位置におけるドライエアの露点が悪くなる現象が生じる。したがって、基板の乾燥効率が低下するという問題がある。
すなわち、請求項1に記載の発明は、処理液で基板を処理した後、基板を処理液から引き上げつつ乾燥気体で乾燥処理を行う基板処理装置において、処理液を貯留する処理槽と、前記処理槽の上部に、上部空間を囲うように配設されたチャンバと、前記処理槽の上部にて、前記処理槽内に貯留する処理液面に沿って乾燥気体を供給する供給口と、前記処理槽を挟んで前記供給口に対向配置され、乾燥気体を前記チャンバ外へ排出する排出口と、供給された乾燥気体の周辺に補助乾燥気体を供給する補助供給口と、基板を支持し、前記処理槽内の処理位置と前記処理槽上方の乾燥位置にわたって昇降自在に構成された支持手段と、処理位置における基板に対する処理の後、前記供給口から乾燥気体を供給させるとともに、前記排出口から乾燥気体を排出させつつ、前記支持手段を処理位置から乾燥位置へ上昇させて基板を乾燥させるにあたり、前記補助供給口から補助乾燥気体を供給させる制御手段と、を備えていることを特徴とするものである。
図1は、実施例に係る基板処理装置の概略構成を示すブロック図である。
3 … 内槽
5 … 外槽
7 … 噴出管
11 … 筐体
15 … リフタ
23 … 供給部
25 … 排出部
27 … 供給口
29 … 排出口
30 … チャンバ
31 … 第1の補助供給口
33 … 第2の補助供給口
35 … ドライエア供給装置
41 … 制御部
Claims (4)
- 処理液で基板を処理した後、基板を処理液から引き上げつつ乾燥気体で乾燥処理を行う基板処理装置において、
処理液を貯留する処理槽と、
前記処理槽の上部に、上部空間を囲うように配設されたチャンバと、
前記処理槽の上部にて、前記処理槽内に貯留する処理液面に沿って乾燥気体を供給する供給口と、
前記処理槽を挟んで前記供給口に対向配置され、乾燥気体を前記チャンバ外へ排出する排出口と、
供給された乾燥気体の周辺に補助乾燥気体を供給する補助供給口と、
基板を支持し、前記処理槽内の処理位置と前記処理槽上方の乾燥位置にわたって昇降自在に構成された支持手段と、
処理位置における基板に対する処理の後、前記供給口から乾燥気体を供給させるとともに、前記排出口から乾燥気体を排出させつつ、前記支持手段を処理位置から乾燥位置へ上昇させて基板を乾燥させるにあたり、前記補助供給口から補助乾燥気体を供給させる制御手段と、
を備えていることを特徴とする基板処理装置 - 請求項1に記載の基板処理装置において、
前記チャンバ及び前記処理槽の周囲を囲う筐体をさらに備え、
前記補助供給口は、前記筐体に配設され、前記チャンバの外側面と前記筐体の内側面の間に補助乾燥気体を供給することを特徴とする基板処理装置。 - 請求項1または2に記載の基板処理装置において、
前記補助供給口は、前記供給口の上部及び下部、あるいは上部または下部に配設されていることを特徴とする基板処理装置。 - 請求項1から3のいずれかに記載の基板処理装置において、
前記排出口の下部には、前記補助供給口から供給された補助乾燥気体を排出する補助排出口を備えていることを特徴とする基板処理装置。
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JP2006310759A (ja) * | 2005-03-29 | 2006-11-09 | Dainippon Screen Mfg Co Ltd | 基板処理装置 |
JP2006332244A (ja) * | 2005-05-25 | 2006-12-07 | Dainippon Screen Mfg Co Ltd | 基板処理装置および基板処理方法 |
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