JP2008176879A - 光情報記録媒体、及びその製造方法 - Google Patents
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Abstract
【課題】記録層を3層以上有する光情報記録媒体を、材料を無駄にすることなく安価に作製し、また、各層の厚みムラを最小限に抑えることができ、さらに記録層が3層以上の場合には隣接する層からの洩れこみ信号を低減させることのできる構造を有する光情報記録媒体及びその製造方法を提供する。
【解決手段】本発明による光情報記録媒体は、光案内溝または凹凸が形成された基板を少なくとも3層以上有する光情報記録媒体であって、少なくとも2つの基板の厚さが異なっている。また、少なくとも第2層目以降の複数の透明基板の光案内溝又は凹凸は、ナノインプリント法によって形成されている。
【選択図】図2
【解決手段】本発明による光情報記録媒体は、光案内溝または凹凸が形成された基板を少なくとも3層以上有する光情報記録媒体であって、少なくとも2つの基板の厚さが異なっている。また、少なくとも第2層目以降の複数の透明基板の光案内溝又は凹凸は、ナノインプリント法によって形成されている。
【選択図】図2
Description
本発明は光情報記録媒体、及びその製造方法に関し、特に記録層を3層以上有する光情報記録媒体、及びその製造方法に関するものである。
光ディスクの密度を向上させる方法としてディスク内に複数の記録層を配置し、それぞれの記録層に情報を記録する多層化技術がある。例えば、通常のDVDは4.7GBであるのに対し、片面2層DVDは8.5GBの記録容量を有している。
このような片面2層DVDを作製する際、従来の方法では、まず射出成形法によって表面に光案内溝または凹凸が形成された厚さ0.6mmのポリカーボネート基板を作製し、この基板に記録膜、反射膜を形成し第1層目の記録層が完成する。第1層目と第2層目の記録層の距離は、光の波面収差が生じない程度の距離でなければならないため、DVDでは50μm程度が一般的である。ところが、この射出成形法を用いると樹脂がキャビティー内に入り込めないので、表面に光案内溝または凹凸が形成された50μmのポリカーボネート基板を作製することができない。
そこで、現行の方法では、第2層目の記録層を、ソフトスタンパを用いて作製している(特許文献1や特許文献2を参照)。例えば、図1に示すように、まず射出成形法でゼオノアなどの樹脂でソフトスタンパを作製する。次に、ソフトスタンパにUV硬化樹脂を厚さ40μmで塗布、硬化させUV樹脂に光案内溝または凹凸が形成する。つまり、UV硬化樹脂で第2層目を形成する。そして、第1層目の記録層則にUV硬化樹脂を滴下して、ソフトスタンパの厚さ40μmの樹脂側を密着させた後、さらにUVで硬化させて、このUV樹脂と第1層目の記録層側に接着する。この場合の接着層は例えば10μmとなっている。続いて、ソフトスタンパとUV硬化樹脂を剥離すると、1層目の記録層から50μm離れたところに2層目の光案内溝を形成することができる。そして、この2層目の光案内溝の上に記録膜、反射膜を形成すれば、片側から2層の記録層に記録再生可能な光情報記録媒体を作製することができる。この方法はソフトスタンパが必須で、UV樹脂の塗布を2回行う必要がある。
ところで、上述の方法では、2層以上有する光情報記録媒体の光入射側から遠い層の光案内溝または凹凸を形成する際、1回1回使い捨てのソフトスタンパを使用する必要がある。また、上述の方法では、1つの記録層を形成するためにUV樹脂の塗布を2回行う必要がある。
しかしながら、ソフトスタンパの材料は高価であり、1回で使い捨てるため材料が無駄になり製造コストが掛かるという問題がある。また、UV樹脂をスピンコートして記録層を形成する場合、均一の厚さに制御することが難しいため、形成された層の厚みムラ(接着層の厚みは薄いのでほとんど問題ない)が大きくなる可能性があり、それによって信号を適切に記録・再生できないという問題もある。
さらに、上述の方法で3層以上の光情報記録媒体を作製した場合、2層目以上の各層の間隔はほぼ同一となるため、隣接する層からの洩れこみ信号が発生し、適切に情報の記録・再生を行えないという問題もある。
本発明はこのような状況に鑑みてなされたものであり、記録層を3層以上有する光情報記録媒体を、材料を無駄にすることなく安価に作製し、また、各層の厚みムラを最小限に抑えることができ、さらに記録層が3層以上の場合には隣接する層からの洩れこみ信号を低減させることのできる構造を有する光情報記録媒体及びその製造方法を提供するものである。
上記課題を解決するために、本発明による光情報記録媒体は、光案内溝または凹凸が形成された基板を少なくとも3層以上有する光情報記録媒体であって、少なくとも2つの基板の厚さが異なっている。
より明確には、本発明による光情報記録媒体は、光案内溝又は凹凸が形成された第1層目の透明基板の上に、光案内溝又は凹凸が形成された第2層目以降の複数の透明基板が接着層を介して積層された、少なくとも3層以上の記録層を有する光情報記録媒体であって、第1層目の透明基板の上に積層された第2層目以降の複数の透明基板の厚さが異なり、少なくとも第2層目以降の複数の透明基板の光案内溝又は凹凸は、ナノインプリント法によって形成されていることを特徴とする。第1層目の透明基板の光案内溝又は凹凸は、ナノインプリント法によって形成しなくても良く、射出成形法によって形成するようにしてもよい。
そして、最後に積層された透明基板上には保護層が形成され、この保護層によって光情報記録媒体の全体の厚さが、例えば1.2mmとなるように調整されている。また、第2層目の以降の複数の透明基板は、その厚さが全て100μm以下であり、第1層目の透明基板及び第2層目以降の複数の透明基板の厚さは、接着層の厚さよりも大きくなっている。
なお、第1層目の透明基板及び第2層目以降の複数の透明基板は、ポリエチレン、ポリプロピレン、ポリ塩化ビニル、ポリ塩化ビニリデン、ポリスチレン、ポリ酢酸ビニル、アクリロニトリルブタジエンスチレン樹脂、AS樹脂、フッ素樹脂、ポリメチルメタアクリレート、ポリアミド、ポリアセタール、ポリカーボネート、変性ポリフェニレンエーテル、ポリブチレンテレフタレート、ポリエチレンテレフタレート、環状ポリオレフィン、シクロオレフィン、環状ポリオレフィン、脂環式アクリル樹脂の何れかによって構成されていることが好ましい。
また、本発明は、少なくとも3層以上の記録層を有する光情報記録媒体の製造方法も提供する。この製造方法は、光案内溝又は凹凸が形成された第1層目の透明基板を準備する第1のステップと、第1層目の透明基板とは異なる透明基板にナノインプリント法によって光案内溝又は凹凸を形成する第2のステップと、第1層目の透明基板上に、第2のステップで光案内溝又は凹凸が形成された透明基板を積層して接着する第3のステップと、積層された透明基板とは厚さが異なる透明基板にナノインプリント法によって光案内溝又は凹凸を形成する第4のステップと、第4のステップで光案内溝又は凹凸が形成された透明基板をさらに積層して接着する第5のステップと、第4及び第5のステップを、所望の回数繰り返す第6のステップと、を備えることを特徴とする。さらに、積層された最上面の透明基板の上に保護層を形成して、この保護層によって光情報記録媒体の全体の厚さを決定する第7のステップを備える。
さらなる本発明の特徴は、以下本発明を実施するための最良の形態および添付図面によって明らかになるものである。
本発明によれば、記録層を3層以上有する光情報記録媒体を、材料を無駄にすることなく安価に作製し、また、各層の厚みムラを最小限に抑えることができ、さらに記録層が3層以上の場合には隣接する層からの洩れこみ信号を低減させることのできる構造を有する光銃砲記録媒体及びその製造方法が実現される。
添付図面を参照して本発明の実施形態について説明する。ただし、本実施形態は本発明を実現するための一例に過ぎず、本発明を限定するものではないことに注意すべきである。また、各図において共通の構成については同一の参照番号が付されている。以下では、実施形態を説明した後、具体的な実施例及び比較例について説明する。
<実施形態>
図2は、本実施形態による、3層を例とした光情報記録媒体の構造を示す断面図である。図2において、本実施形態の光情報記録媒体1は、厚さT1の基板(又はシート)11と、厚さT2のシート12と、厚さT3のシート13と、シート13の記録層を保護するための保護層(基板又は保護膜)14によって構成されている。また、各基板又はシートには、光案内溝又は凹凸が後述のナノインプリント法によって形成されており、この凹凸には例えば100nm厚の反射膜が形成されている。さらに、各基板又はシートはUV硬化樹脂によって接着されている。なお、このUV硬化樹脂による接着層の厚さは、例えば約1μmとなっている。また、後述の実施例において詳述するが、基板11の厚さは100μmから0.6mmのように射出成形できる厚さとなっているが、第2層目及び第3層目の厚さは射出成形で構成することができない50μm未満となっている。
図2は、本実施形態による、3層を例とした光情報記録媒体の構造を示す断面図である。図2において、本実施形態の光情報記録媒体1は、厚さT1の基板(又はシート)11と、厚さT2のシート12と、厚さT3のシート13と、シート13の記録層を保護するための保護層(基板又は保護膜)14によって構成されている。また、各基板又はシートには、光案内溝又は凹凸が後述のナノインプリント法によって形成されており、この凹凸には例えば100nm厚の反射膜が形成されている。さらに、各基板又はシートはUV硬化樹脂によって接着されている。なお、このUV硬化樹脂による接着層の厚さは、例えば約1μmとなっている。また、後述の実施例において詳述するが、基板11の厚さは100μmから0.6mmのように射出成形できる厚さとなっているが、第2層目及び第3層目の厚さは射出成形で構成することができない50μm未満となっている。
図3は本発明による光情報記録媒体の効果を説明するための図であり、図3(a)は2層目と3層目の厚さが同一のときのレーザー光の作用の様子を示し、図3(b)は本発明による光情報記録媒体に対するレーザー光の作用の様子を示している。図3(a)に示されるように、2層目の厚さと3層目の厚さが同一の場合、レーザー光を例えば3層目に照射すると、2層目に形成された反射膜によって照射レーザー光が反射される。そして、その反射光が1層目の凹凸に焦点が合い、1層目からの信号が漏れ込んで雑音となってしまう。これに対して、図3(b)に示されるように、本発明によれば、2層目と3層目の厚さが異なるので、3層目にレーザー光を照射した場合、2層目の反射膜によって反射された光は1層目の凹凸では焦点が合わない。よって、1層目からの信号が漏れ込んで3層目からの信号に対する雑音にはならずに済むという利点が本発明にはある。
以上のような構造を有する光情報記録媒体1は、以下の工程によって製造される。図4は、光情報記録媒体1の製造方法の手順を説明するためのフローチャートである。
ステップS101において、まず厚さT1のポリカーボネートシートにナノインプリント法または射出成形法を用いて第1層目の光案内溝または凹凸を形成する。ステップS102では、第1層目の光案内溝上に第1の記録層としてアゾ色素をスピンコート法で塗布した後、反射膜としてAgをマグネトロンスパッタ法で積層する。
一方、ステップS103では、厚さT2(T2≪T1)ポリカーボネートシートにナノインプリント法を用いて第2層目の光案内溝または凹凸を形成する。
ステップS104で、第1層目の基板の光案内溝が形成された側にUV硬化樹脂を滴下し、その上にステップS103で作製したシートの光案内溝が形成されていない側を載置して貼り合わせ(ステップS105)、両者を回転させることによりUV硬化樹脂を全面に均一に拡散させ、紫外線で露光してUV硬化樹脂を硬化させて両者を接着する(ステップS106)。そして、ステップS107において、第2層目の光案内溝上に第2の記録層としてアゾ色素をスピンコート法で塗布した後、反射膜としてAgをマグネトロンスパッタ法で積層する。
また、ステップS108では、厚さT3(T3<T2≪T1)ポリカーボネートシートにナノインプリント法を用いて第3層目の光案内溝または凹凸を形成する。
ステップS104で、第1層目の基板の光案内溝が形成された側にUV硬化樹脂を滴下し、その上にステップS103で作製したシートの光案内溝が形成されていない側を載置して貼り合わせ(ステップS105)、両者を回転させることによりUV硬化樹脂を全面に均一に拡散させ、紫外線で露光してUV硬化樹脂を硬化させて両者を接着する(ステップS106)。そして、ステップS107において、第2層目の光案内溝上に第2の記録層としてアゾ色素をスピンコート法で塗布した後、反射膜としてAgをマグネトロンスパッタ法で積層する。
また、ステップS108では、厚さT3(T3<T2≪T1)ポリカーボネートシートにナノインプリント法を用いて第3層目の光案内溝または凹凸を形成する。
続いて、ステップS109において、第2層目の基板の光案内溝が形成された側にUV硬化樹脂を滴下し、その上にステップS108で作製したシートの光案内溝が形成されていない側を載置して貼り合わせ(ステップS110)、両者を回転させることによりUV硬化樹脂を全面に均一に拡散させ、紫外線で露光してUV硬化樹脂を硬化させて両者を接着する(ステップS111)。そして、ステップS112において、第3層目の光案内溝上に第3の記録層としてアゾ色素をスピンコート法で塗布した後、反射膜としてAgをマグネトロンスパッタ法で積層する。
3層で終了する場合には、ステップS113において、第3の記録層上に所定の厚さの保護膜を形成するか、若しくは所定の厚さの基板を貼り付ける。
3層で終了する場合には、ステップS113において、第3の記録層上に所定の厚さの保護膜を形成するか、若しくは所定の厚さの基板を貼り付ける。
このように作製された光情報記録媒体は、図2で示した構造を有することになる。
なお、第1層目の基板および第2層目以降の基板の材料としてはポリカーボネートを使用したが、他の透明材料のものであってもよい。ナノインプリント法に適した材料として、例えば、ポリカーボネートの他、ポリエチレン、ポリプロピレン、ポリ塩化ビニル、ポリ塩化ビニリデン、ポリスチレン、ポリ酢酸ビニル、アクリロニトリルブタジエンスチレン樹脂、AS樹脂、フッ素樹脂、ポリメチルメタアクリレート、ポリアミド、ポリアセタール、変性ポリフェニレンエーテル、ポリブチレンテレフタレート、ポリエチレンテレフタレート、環状ポリオレフィン、シクロオレフィン、環状ポリオレフィン、脂環式アクリル樹脂が挙げられる。
なお、第1層目の基板および第2層目以降の基板の材料としてはポリカーボネートを使用したが、他の透明材料のものであってもよい。ナノインプリント法に適した材料として、例えば、ポリカーボネートの他、ポリエチレン、ポリプロピレン、ポリ塩化ビニル、ポリ塩化ビニリデン、ポリスチレン、ポリ酢酸ビニル、アクリロニトリルブタジエンスチレン樹脂、AS樹脂、フッ素樹脂、ポリメチルメタアクリレート、ポリアミド、ポリアセタール、変性ポリフェニレンエーテル、ポリブチレンテレフタレート、ポリエチレンテレフタレート、環状ポリオレフィン、シクロオレフィン、環状ポリオレフィン、脂環式アクリル樹脂が挙げられる。
以上の実施形態による光情報記録媒体の製造方法の具体例として、以下の実施例1乃至3を説明し、さらに比較例を挙げ、本発明の利点についても言及する。
<実施例1>
実施例1による光情報記録媒体は、3層の記録層を有する、厚さ300μm以下の超薄型光情報記録媒体に係るものである。
まず、厚さ67μmのポリカーボネートシートにナノインプリント法を用いて第1層目の光案内溝または凹凸を形成する。スパイラル状に溝深さが25nm、溝幅が0.18μmの案内溝が掘ってあるニッケルスタンパの上に、ガラス転移温度が170℃、厚さ40μmポリカーボネートシートを配置した状態で、180℃の温度においてスタンパと基板の間に圧縮する方向へ5tの力を加えると、ポリカーボネートのガラス転移温度は150℃であるので、180℃の温度ではポリカーボネートは流動性を有しているので、スタンパの形状に倣って変形する。次いで室温まで温度を下げた後、各スタンパと基板を剥離する。このようにすると、厚さ67μmポリカーボネートシートの表面に第1層目の光案内溝または凹凸を形成することができる。この基板に記録膜(アゾ色素)、反射膜を形成し第1層目の記録層が完成する。
実施例1による光情報記録媒体は、3層の記録層を有する、厚さ300μm以下の超薄型光情報記録媒体に係るものである。
まず、厚さ67μmのポリカーボネートシートにナノインプリント法を用いて第1層目の光案内溝または凹凸を形成する。スパイラル状に溝深さが25nm、溝幅が0.18μmの案内溝が掘ってあるニッケルスタンパの上に、ガラス転移温度が170℃、厚さ40μmポリカーボネートシートを配置した状態で、180℃の温度においてスタンパと基板の間に圧縮する方向へ5tの力を加えると、ポリカーボネートのガラス転移温度は150℃であるので、180℃の温度ではポリカーボネートは流動性を有しているので、スタンパの形状に倣って変形する。次いで室温まで温度を下げた後、各スタンパと基板を剥離する。このようにすると、厚さ67μmポリカーボネートシートの表面に第1層目の光案内溝または凹凸を形成することができる。この基板に記録膜(アゾ色素)、反射膜を形成し第1層目の記録層が完成する。
次に、厚さ20μmのポリカーボネートシートに第1層目と同様にナノインプリント法を用いて第2層目の光案内溝または凹凸を形成する。
そして、第1層目の基板の光案内溝の形成された側と、第2層目の基板の光案内溝の形成されていない側を接着する。なお、接着は第1層目の基板の上に光透過性を有するUV硬化樹脂を滴下した後、第2層目の基板を乗せ、2つの基板を同時に回転させることによりUV硬化樹脂を全面に均一に拡散させることができる。しかる後に、UVを露光しUV硬化樹脂を硬化させる。第2層目の光案内溝または凹凸の上には上述のように記録層を形成する。なお、接着層の厚さは約1μmであり、記録層の厚さは100nm以下であるので全体からは無視できる厚さである。
また、厚さ17μmのポリカーボネートシートに第1層目と同様にナノインプリント法を用いて第3層目の光案内溝または凹凸を形成する。
次いで第2層目の基板の光案内溝の形成された側と、第3層目の基板の光案内溝の形成されていない側を接着する。接着は第2層目の基板の上に光透過性を有するUV硬化樹脂を滴下した後、第3層目の基板を乗せ、2つの基板を同時に回転させることによりUV硬化樹脂を全面に均一に拡散させることができる。しかる後に、UVを露光しUV硬化樹脂を硬化させる。第3層目の光案内溝または凹凸の上には上述のように記録層を形成する。
そして、最後に、第3層目の光案内溝側に保護膜を形成すれば、厚さ111μm(1層目67μm+接着層1μm+2層目20μm+接着層1μm+3層目17μm+保護層5μm)の、記録層を3層有する光情報記録媒体を作製できる。なお、第3層目の光案内溝側と厚さ1.1mmのポリカーボネート基板を接着すれば、厚さ1.2mmの、記録層を3層有する光情報記録媒体が作製できる。
<実施例2>
実施例2による光情報記録媒体は、3層の記録層を有する、厚さ1.2mmのBlu-ray対応の光情報記録媒体に係るものである。
まず、深さが20nm、幅が0.18μmの案内溝が半径22mmから半径58mmまでスパイラル状に掘ってある内径15mm、外径135mm、厚さ300μmのニッケルスタンパを以下のように作製した。まず、ガラスの上にシランカップリング剤、その上にレジスト剤をスピンコート法により塗布した。次いで、波長257nm、NAが0.9でレジストを感光させた後、感光部を除去した。そして、ニッケルを蒸着した後、メッキで300μm積層し、ガラスからニッケルを剥離した。
実施例2による光情報記録媒体は、3層の記録層を有する、厚さ1.2mmのBlu-ray対応の光情報記録媒体に係るものである。
まず、深さが20nm、幅が0.18μmの案内溝が半径22mmから半径58mmまでスパイラル状に掘ってある内径15mm、外径135mm、厚さ300μmのニッケルスタンパを以下のように作製した。まず、ガラスの上にシランカップリング剤、その上にレジスト剤をスピンコート法により塗布した。次いで、波長257nm、NAが0.9でレジストを感光させた後、感光部を除去した。そして、ニッケルを蒸着した後、メッキで300μm積層し、ガラスからニッケルを剥離した。
また、ナノインプリント法を用いて厚さ67μmのポリカーボネートシート上に案内溝を次のように形成した。スタンパと、厚さ67μmのポリカーボネートシートと、ステンレスの板を図5のように配置した状態で、180℃の温度においてスタンパと基板の間に圧縮する方向へ5tの力を加えた。プレス機にはヒータが内蔵されており温度をコントロールすることが可能である。ポリカーボネートのガラス転移温度は150℃であるので、180℃の温度ではポリカーボネートは流動性を有するため、スタンパの形状に倣って変形する。室温まで温度を下げた後、各スタンパと基板を剥離して、厚さ67μmポリカーボネートシートの表面に第1の光案内溝を形成した。このポリカーボネートシートの厚みムラを調べたところ、最大で0.1μm peak to peakであった。
次いで、第1の光案内溝上に第1の記録層としてアゾ色素をスピンコート法で塗布した後、反射膜としてAgをマグネトロンスパッタ法で、7nmの厚さで積層した。
次いで、ナノインプリント法を用いて厚さ20μmのポリカーボネートシート上に第一の光案内溝と同様の方法で第2の光案内溝を形成した。このポリカーボネートシートの厚みムラを調べたところ、最大で0.1μm peak to peakであった。
続いて、第1の記録層を形成した基板の光案内溝の形成されている側と、第2の光案内溝を形成した基板の光案内溝が形成されていない側を接着する。第1の記録層を形成した基板の光案内溝の形成されている側の内周部に光透過性を有する紫外線硬化樹脂を滴下し、その上にナノインプリント法で作製した基板を配置した。両基板を4000rpmで回転させて密着させた後、紫外線で露光して両基板を接着した。接着層の厚さは1μmであった。そして、第2の光案内溝上に第2の記録層としてアゾ色素をスピンコート法で塗布した後、反射膜としてAgをマグネトロンスパッタ法で、7nmの厚さで積層した。
また、ナノインプリント法を用いて厚さ15μmのポリカーボネートシート上に第一の光案内溝と同様の方法で第3の光案内溝を形成した。このポリカーボネートシートの厚みムラを調べたところ、最大で0.1μm peak to peakであった。
次いで第2の記録層を形成した基板の光案内溝の形成されている側と、第3の光案内溝を形成した基板の光案内溝が形成されていない側を接着する。その後、第3の光案内溝上に第3の記録層としてアゾ色素をスピンコート法で塗布した後、反射膜としてAgをマグネトロンスパッタ法で、100nmの厚さで積層した。
最後に、第3の記録層を形成した基板の光案内溝の形成されている側と、支持基板として1.1mmのポリカーボネート基板を接着する。
このようにして3層の記録層を有するBlu-ray対応の光情報記録媒体を作製した。この3層光情報記録媒体を波長105nm、開口数0.9の対物レンズの光ヘッドで、ランダムな記録パターンの記録再生を行なったところ、ランダムな記録パターンの記録再生を確認することができた。
このようにして3層の記録層を有するBlu-ray対応の光情報記録媒体を作製した。この3層光情報記録媒体を波長105nm、開口数0.9の対物レンズの光ヘッドで、ランダムな記録パターンの記録再生を行なったところ、ランダムな記録パターンの記録再生を確認することができた。
<実施例3>
実施例3による光情報記録媒体は、3層の記録層を有する、厚さ1.2mmのDVD対応の光情報記録媒体に係るものである。
まず、深さが180nm、幅が1μmの案内溝が半径22mmから半径58mmまでスパイラル状に掘ってある、内径15mm、外径135mm、厚さ300μmのニッケルスタンパを以下のように作製した。まず、ガラスの上にシランカップリング剤をスピンコート法により塗布し、その上にレジスト剤をスピンコート法により塗布した。次に、波長405nm、開口数0.6の露光条件でレジストを感光させた後、感光部を除去した。次に、ニッケルを蒸着した後、ニッケルをメッキで300μm積層し、ガラスからニッケルを剥離した。このようにしてニッケルスタンパを作製した。
実施例3による光情報記録媒体は、3層の記録層を有する、厚さ1.2mmのDVD対応の光情報記録媒体に係るものである。
まず、深さが180nm、幅が1μmの案内溝が半径22mmから半径58mmまでスパイラル状に掘ってある、内径15mm、外径135mm、厚さ300μmのニッケルスタンパを以下のように作製した。まず、ガラスの上にシランカップリング剤をスピンコート法により塗布し、その上にレジスト剤をスピンコート法により塗布した。次に、波長405nm、開口数0.6の露光条件でレジストを感光させた後、感光部を除去した。次に、ニッケルを蒸着した後、ニッケルをメッキで300μm積層し、ガラスからニッケルを剥離した。このようにしてニッケルスタンパを作製した。
このスタンパを成形機に装着し、現行のCDやDVDを作成する場合と同様の射出成形法でニッケルスタンパのパターンが転写された厚さ0.6mmのポリカーボネート基板を作製した。
スタンパのパターンが転写された厚さ0.6mmのポリカーボネート基板オパターンの面に第1の記録層となるアゾ色素をスピンコート法で塗布した後、反射膜としてAgをマグネトロンスパッタ法で、5nmの厚さで積層した。
スタンパのパターンが転写された厚さ0.6mmのポリカーボネート基板オパターンの面に第1の記録層となるアゾ色素をスピンコート法で塗布した後、反射膜としてAgをマグネトロンスパッタ法で、5nmの厚さで積層した。
次いで、ナノインプリント法を用いて厚さ35μmのポリカーボネートシート上に案内溝を次のように形成した。厚さ0.6mmのポリカーボネート基板へのパターン転写に使用したニッケルスタンパと同様のスタンパと厚さ35μmのポリカーボネートシートとステンレスの板を図5のように配した状態で、180℃の温度においてスタンパと基板の間に圧縮する方向へ5tの力を加えた。プレス機にはヒータが内蔵されており、温度コントロールすることが可能である。ポリカーボネートのガラス転位温度は150℃であるので、180℃の温度ではポリカーボネートシートは流動性を有し、スタンパの形状に倣って変形する。室温まで温度を下げた後、各スタンパと基板を剥離して、厚さ35μmのポリカーボネートシートの表面に第2の光案内溝を形成した。このポリカーボネートシートの厚みムラを調べたところ、最大で0.1μm peak to peakであった。
次いで、第1の記録層を形成した基板の光案内溝が形成されている側と、ナノインプリント法で作製した基板(シート)の光案内溝が形成されていない側を接着する。第1の記録層を形成した基板の光案内溝が形成されている側の内周部に光透過性を有する紫外線硬化樹脂を滴下し、その上にナノインプリント法で作製した基板(シート)を配置した。両基板を4000rpmの回転速度で回転させて密着させた後、紫外線で露光して両基板を接着した。接着層の厚さは1μmである。基板を接着した後の光情報記録媒体の厚みムラは0.15μmであった。
続いて、第2の光案内溝上に第2の記録層としてアゾ色素をスピンコート法で塗布した後、反射膜としてAgをマグネトロンスパッタ法で7nmの厚さで積層した。
次に、ナノインプリント法を用いて厚さ30μmのポリカーボネートシート上に第1の光案内溝と同様の方法で第3の光案内溝を形成した。このポリカーボネートシートの厚みムラを調べたところ、最大で0.1μm peak to peakであった。
さらに、第2の記録層と形成した基板の光案内溝が形成されている側と、第3の光案内溝を形成した基板の光案内溝が形成されていない側を接着する。接着層の厚さは1μmであり、基板を接着した後の光情報記録媒体の厚みムラは0.25μmであった。
次に、第3の光案内溝上に第3の記録層としてアゾ色素をスピンコート法で塗布した後、反射膜としてAgをマグネトロンスパッタ法により、100nmの厚さで積層した。
最後に、保護コートとして紫外線硬化樹脂を反射膜の上にスピンコート法で塗布した後、紫外線を露光して硬化させた。
このようにして、3層の光情報記録媒体を作製した。この3層の光情報記録媒体を波長650nm、開口数0.6の対物レンズの光ヘッドで、ランダムな記録パターンの記録再生を実行したところ、各層でランダムな記録パターンの記録再生信号を確認することができた。
このようにして、3層の光情報記録媒体を作製した。この3層の光情報記録媒体を波長650nm、開口数0.6の対物レンズの光ヘッドで、ランダムな記録パターンの記録再生を実行したところ、各層でランダムな記録パターンの記録再生信号を確認することができた。
<比較例>
比較例による光情報記録媒体は、3層の記録層を有する、厚さ1.2mmのDVD対応の光情報記録媒体に係るものである。第2層と第3層の厚さは、本発明とは異なり、同一となっている。
まず、深さが180nm、幅が1μmの案内溝が半径22mmから半径58mmまでスパイラル状に掘ってある、内径15mm、外径135mm、厚さ300μmのニッケルスタンパを以下のように作製した。まず、ガラスの上にシランカップリング剤をスピンコート法により塗布し、その上にレジスト剤をスピンコート法により塗布した。次に、波長405nm、開口数0.6の露光条件でレジストを感光させた後、感光部を除去した。次に、ニッケルを蒸着した後、ニッケルをメッキで300μm積層し、ガラスからニッケルを剥離してニッケルスタンパを作製した。
比較例による光情報記録媒体は、3層の記録層を有する、厚さ1.2mmのDVD対応の光情報記録媒体に係るものである。第2層と第3層の厚さは、本発明とは異なり、同一となっている。
まず、深さが180nm、幅が1μmの案内溝が半径22mmから半径58mmまでスパイラル状に掘ってある、内径15mm、外径135mm、厚さ300μmのニッケルスタンパを以下のように作製した。まず、ガラスの上にシランカップリング剤をスピンコート法により塗布し、その上にレジスト剤をスピンコート法により塗布した。次に、波長405nm、開口数0.6の露光条件でレジストを感光させた後、感光部を除去した。次に、ニッケルを蒸着した後、ニッケルをメッキで300μm積層し、ガラスからニッケルを剥離してニッケルスタンパを作製した。
このスタンパを成形機に装着し、現行のCDやDVDを作成する場合と同様の射出成形法でニッケルスタンパのパターンが転写された厚さ0.6mmのポリカーボネート基板を作製した。
スタンパのパターンが転写された厚さ0.6mmのポリカーボネート基板オパターンの面に第1の記録層となるアゾ色素をスピンコート法で塗布した後、反射膜としてAgをマグネトロンスパッタ法で、5nmの厚さで積層した。
スタンパのパターンが転写された厚さ0.6mmのポリカーボネート基板オパターンの面に第1の記録層となるアゾ色素をスピンコート法で塗布した後、反射膜としてAgをマグネトロンスパッタ法で、5nmの厚さで積層した。
次いで、ナノインプリント法を用いて厚さ30μmのポリカーボネートシート上に案内溝を次のように形成した。厚さ0.6mmのポリカーボネート基板へのパターン転写に使用したニッケルスタンパと同様のスタンパと厚さ30μmのポリカーボネートシートとステンレスの板を図5のように配した状態で、180℃の温度においてスタンパと基板の間に圧縮する方向へ5tの力を加えた。プレス機にはヒータが内蔵されており、温度コントロールすることが可能である。ポリカーボネートのガラス転位温度は150℃であるので、180℃の温度ではポリカーボネートシートは流動性を有し、スタンパの形状に倣って変形する。室温まで温度を下げた後、各スタンパと基板を剥離して、厚さ30μmのポリカーボネートシートの表面に第2の光案内溝を形成した。
次いで、第1の記録層を形成した基板の光案内溝が形成されている側と、ナノインプリント法で作製した基板(シート)の光案内溝が形成されていない側を接着する。第1の記録層を形成した基板の光案内溝が形成されている側の内周部に光透過性を有する紫外線硬化樹脂を滴下し、その上にナノインプリント法で作製した基板(シート)を配置した。両基板を4000rpmの回転速度で回転させて密着させた後、紫外線で露光して両基板を接着した。接着層の厚さは1μmである。
続いて、第2の光案内溝上に第2の記録層としてアゾ色素をスピンコート法で塗布した後、反射膜としてAgをマグネトロンスパッタ法で7nmの厚さで積層した。
次に、ナノインプリント法を用いて厚さ30μmのポリカーボネートシート上に第1の光案内溝と同様の方法で第3の光案内溝を形成した。このポリカーボネートシートの厚みムラを調べたところ、最大で0.1μm peak to peakであった。
さらに、第2の記録層と形成した基板の光案内溝が形成されている側と、第3の光案内溝を形成した基板の光案内溝が形成されていない側を接着する。接着層の厚さは1μmであり、基板を接着した後の光情報記録媒体の厚みムラは0.25μmであった。
次に、第3の光案内溝上に第3の記録層としてアゾ色素をスピンコート法で塗布した後、反射膜としてAgをマグネトロンスパッタ法により、100nmの厚さで積層した。
最後に、保護コートとして紫外線硬化樹脂を反射膜の上にスピンコート法で塗布した後、紫外線を露光して硬化させた。
このようにして、各層の間隔が等しい3層の光情報記録媒体を作製した。
この3層の光情報記録媒体を波長650nm、開口数0.6の対物レンズの光ヘッドで、次のように情報を記録した。つまり、第3の記録層に周波数5MHzの記録波形で記録を行った後、第3の記録層の再生を行うと、周波数5MHzの正弦波信号が得られた。半径の違う位置に第1の記録層に3MHzの記録波形で記録を行った後、第1の記録層の再生を行うと、周波数3MHzの正弦波が得られた。
このようにして、各層の間隔が等しい3層の光情報記録媒体を作製した。
この3層の光情報記録媒体を波長650nm、開口数0.6の対物レンズの光ヘッドで、次のように情報を記録した。つまり、第3の記録層に周波数5MHzの記録波形で記録を行った後、第3の記録層の再生を行うと、周波数5MHzの正弦波信号が得られた。半径の違う位置に第1の記録層に3MHzの記録波形で記録を行った後、第1の記録層の再生を行うと、周波数3MHzの正弦波が得られた。
ところが、第3の記録層に周波数5MHzの記録波形で記録を行った場所と同じ半径位置で第1の記録層に3MHzの記録波形で記録を行った後、第3の記録層の再生を行うと周波数5MHzと周波数3MHzが重畳された信号が観測された。これは、図3(a)に示されるように、各層の間隔が同じであるために、第3の記録層に再生光のフォーカスをあわせると第2層目で反射した光が第1の層でも焦点を結んでしまうからである。このように、各層の間隔が同じであると層の間のクロストークが発生する。一方、本発明の実施例2ようにポリカーボネート基板(シート)の厚さを変えれば、各層の間隔のムラが少なく、精度良く層の間隔を決定することができる。
<まとめ>
本実施形態の光情報記録媒体では、光案内溝又は凹凸が形成された第1層目の透明基板の上に、光案内溝又は凹凸が形成された複数の透明基板が接着層を介して積層され、少なくとも3層以上の記録層が形成されている。ここで、第1層目の透明基板の上に積層された複数の透明基板の厚さが異なっている。例えば、3層目を記録再生する際に記録再生のためのレーザー光は、1層目の基板、接着層、2層目の基板、接着層を通過して3層目にフォーカスする。このとき、1層目の記録層と2層目の記録層の間隔と2層目の記録層と3層目の記録層の間隔が同じであると図3(a)に示すように1層目にもフォーカスがあってしまいクロストークが発生するが、2層目と3層目の間隔を変えることにより、クロストークの発生を防止することができる(図3(b)参照)。
本実施形態の光情報記録媒体では、光案内溝又は凹凸が形成された第1層目の透明基板の上に、光案内溝又は凹凸が形成された複数の透明基板が接着層を介して積層され、少なくとも3層以上の記録層が形成されている。ここで、第1層目の透明基板の上に積層された複数の透明基板の厚さが異なっている。例えば、3層目を記録再生する際に記録再生のためのレーザー光は、1層目の基板、接着層、2層目の基板、接着層を通過して3層目にフォーカスする。このとき、1層目の記録層と2層目の記録層の間隔と2層目の記録層と3層目の記録層の間隔が同じであると図3(a)に示すように1層目にもフォーカスがあってしまいクロストークが発生するが、2層目と3層目の間隔を変えることにより、クロストークの発生を防止することができる(図3(b)参照)。
また、少なくとも2層目以降の透明基板の光案内溝又は凹凸は、ナノインプリント法によって形成されている。これにより、ソフトスタンパを用いることないので、材料を無駄にせず安価な媒体を提供できる。またこれにより、2層目以降の各基板の厚さを均一にすることができる。各基板の厚さにムラがあるとフォーカスやトラッキングなどのサーボが追従できず、光に収差が発生し、記録再生に悪影響を及ぼすためであり、従来のようにUV硬化樹脂で2層目以降を形成すると厚さを均一に制御することが難しいからである(射出成形を用いれば均一にすることが可能であるが、2層目以降が射出成形できないほど薄い層、例えば50μm以下の場合にはUV硬化樹脂を用いるしかない)。本実施形態のようにナノインプリント法によって凹凸を形成すれば、基板(プラスチックシート)の厚みムラは0.1μm程度に抑えることができると共に、事前に厚みを調べた後にその基板を使用するか否かを決定することができる。一方、従来の方法ではスピンコート法で塗布するため塗布ムラが発生する上に、貼り合わせる前に厚みを調査することが出来ない。
第1層目の透明基板の光案内溝又は凹凸は、ナノインプリント法によって形成しなくても良く、射出成形法によって形成するようにしてもよい。第1層目の基板は射出成形によって凹凸が形成するに十分な厚みを備えているからである。
上記光情報記録媒体においては、最後に積層された透明基板上にはダミー基板が貼り付けられ、このダミー基板によって光情報記録媒体の全体の厚さが例えば1.2mmとなるように調整される。これにより、様々な記録再生方式に対応できる光情報記録媒体を提供することができる。例えば、全体として1.2mmの厚さになるようにすれば、DVDにも対応できるようになる。
また、第1の透明基板以外の複数の透明基板は、その厚さが全て100μm以下である。各層の間の距離は、光の波面収差が生じない程度の距離でなければならないため、2層目に相当する最表面及び最深面以外の光案内溝または凹凸が形成された該プラスチック基板の厚さは100μm以下であることが望ましい。
そして、第1の透明基板及び積層された複数の透明基板の厚さは、接着層の厚さよりも大きくなっている。つまり、従来技術のPhoto Polymer法では透明基板の作製及び接着層はスピンコート法で行うのに対し、本発明では、プラスチックシートの厚さを厚くして、接着層の厚さを薄くすることが可能である。例えば、接着材としてはUV硬化樹脂を用いるが、その厚さは1μmであり、各層を構成する基板の厚さからすれば十分薄い厚さである。従って、接着層に多少の厚みムラがあったとしても全体としての影響は少ない。例えば、スピンコートによる厚みムラが5%であったとすると、層と層の間のスペースが20μmである場合1.0μmも厚さムラが発生してしまう。本発明の場合はプラスチックシートを19μm、接着層の厚さを1μmにすると、層と層の間隔のムラを0.15μm程度に抑えることができる。
なお、第1層目の透明基板及び積層された第2層目以降の透明基板は、ポリエチレン、ポリプロピレン、ポリ塩化ビニル、ポリ塩化ビニリデン、ポリスチレン、ポリ酢酸ビニル、アクリロニトリルブタジエンスチレン樹脂、AS樹脂、フッ素樹脂、ポリメチルメタアクリレート、ポリアミド、ポリアセタール、ポリカーボネート、変性ポリフェニレンエーテル、ポリブチレンテレフタレート、ポリエチレンテレフタレート、環状ポリオレフィン、シクロオレフィン、環状ポリオレフィン、脂環式アクリル樹脂の何れかによって構成されていることが好ましい。これらを用いれば、ナノインプリント法を適用して光案内溝又は凹凸を基板表面に形成することができる。
1 光情報記録媒体
11 第1層目の基板
12 第2層目の基板
13 第3層目の基板
14 保護層
15 第1層目の基板上で記録再生する際のレーザー光
16 第2層目の基板上で記録再生する際のレーザー光
11 第1層目の基板
12 第2層目の基板
13 第3層目の基板
14 保護層
15 第1層目の基板上で記録再生する際のレーザー光
16 第2層目の基板上で記録再生する際のレーザー光
Claims (8)
- 光案内溝又は凹凸が形成された第1層目の透明基板の上に、光案内溝又は凹凸が形成された2層目以降の複数の透明基板が接着層を介して積層された、少なくとも3層以上の記録層を有する光情報記録媒体であって、
前記第1層目の透明基板の上に積層された前記2層目以降の複数の透明基板の厚さが異なり、
少なくとも前記積層された2層目以降の複数の透明基板の光案内溝又は凹凸は、ナノインプリント法によって形成されていることを特徴とする光情報記録媒体。 - 前記第1層目の透明基板の光案内溝又は凹凸は、射出成形法又はナノインプリント法によって形成されていることを特徴とする請求項1に記載の光情報記録媒体。
- 最後に積層された透明基板上には保護層が形成され、
前記保護層によって、前記光情報記録媒体の全体の厚さが調整されていることを特徴とする請求項1又は2に記載の光情報記録媒体。 - 前記第2層目以降の複数の透明基板は、その厚さが全て100μm以下であることを特徴とする請求項1乃至3の何れか1項に記載の光情報記録媒体。
- 前記第1層目の透明基板及び前記第2層目以降の複数の透明基板の厚さは、前記接着層の厚さよりも大きいことを特徴とする請求項1乃至4の何れか1項に記載の光情報記録媒体。
- 前記第1層目の透明基板及び前記第2層目以降の複数の透明基板は、ポリエチレン、ポリプロピレン、ポリ塩化ビニル、ポリ塩化ビニリデン、ポリスチレン、ポリ酢酸ビニル、アクリロニトリルブタジエンスチレン樹脂、AS樹脂、フッ素樹脂、ポリメチルメタアクリレート、ポリアミド、ポリアセタール、ポリカーボネート、変性ポリフェニレンエーテル、ポリブチレンテレフタレート、ポリエチレンテレフタレート、環状ポリオレフィン、シクロオレフィン、環状ポリオレフィン、脂環式アクリル樹脂の何れかによって構成されていることを特徴とする請求項1乃至5の何れか1項に記載の光情報記録媒体。
- 少なくとも3層以上の記録層を有する光情報記録媒体の製造方法であって、
光案内溝又は凹凸が形成された第1層目の透明基板を準備する第1のステップと、
第1層目の透明基板とは異なる透明基板にナノインプリント法によって光案内溝又は凹凸を形成する第2のステップと、
前記第1層目の透明基板上に、前記第2のステップで光案内溝又は凹凸が形成された透明基板を積層して接着する第3のステップと、
前記積層された透明基板とは厚さが異なる透明基板にナノインプリント法によって光案内溝又は凹凸を形成する第4のステップと、
前記第4のステップで光案内溝又は凹凸が形成された透明基板をさらに積層して接着する第5のステップと、
前記第4及び第5のステップを、所望の回数繰り返す第6のステップと、
を備えることを特徴とする光情報記録媒体の製造方法。 - さらに、積層された最上面の透明基板の上に保護層を形成して、この保護層によって光情報記録媒体の全体の厚さを決定する第7のステップを備えることを特徴とする請求項7に記載の光情報記録媒体の製造方法。
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
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JP2007010512A JP2008176879A (ja) | 2007-01-19 | 2007-01-19 | 光情報記録媒体、及びその製造方法 |
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ID=39703785
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Cited By (1)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
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US8524347B2 (en) | 2008-10-22 | 2013-09-03 | Nec Corporation | Optical information recording medium and method of manufacturing the same |
-
2007
- 2007-01-19 JP JP2007010512A patent/JP2008176879A/ja active Pending
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US8524347B2 (en) | 2008-10-22 | 2013-09-03 | Nec Corporation | Optical information recording medium and method of manufacturing the same |
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