JP2008173779A - 多層積層体及びフレキシブル銅張積層板の製造方法 - Google Patents
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Abstract
【解決手段】キャリア上に剥離層を介して極薄銅箔が形成されているキャリア付き極薄銅箔の極薄銅箔上に、厚みが10〜30μmで、引き裂き伝播抵抗が100〜400mNの範囲にあり、かつ樹脂層の熱膨張係数が30×10-6(1/K)以下の範囲である樹脂層を形成してなる多層積層板及びこの多層積層板からキャリアを剥離して得られるフレキシブル銅張積層板。
【選択図】なし
Description
本発明の多層積層体は、キャリア上に剥離層を介して極薄銅箔が形成されているキャリア付き極薄銅箔の極薄銅箔上に、少なくとも1層のポリイミド樹脂層を含む絶縁層が形成されている。
なお、ジアミンと酸無水物の組合せによっては、上記一般式(1)、(2)又は(3)で表される構造単位を与える場合があるが、この場合は、他のポリイミド樹脂層を構成するポリイミド樹脂原料とはしない。
C/R/M層/(A)層/(II)層
C/R/M層/(II)層/(A)層
C/R/M層/(II)層/(A)層/(II)層
C/R/M層/(A)層/(A)層/(A)層
C/R/M層/(A)層/(II)層/(A)層
本発明のフレキシブル銅張積層板の製造方法を次に説明する。
・PMDA :ピロメリット酸二無水物
・BPDA :3,3',4,4'-ビフェニルテトラカルボン酸二無水物
・TPE-R :1,3-ビス(4-アミノフェノキシ)ベンゼン
・APB :1,3-ビス(3-アミノフェノキシ)ベンゼン
・m-TB :2,2'-ジメチルベンジジン
・BAPP :2,2-ビス(4-アミノフェノキシフェニル)プロパン
・3,4'-DAPE:3,4'-ジアミノジフェニルエーテル
・4,4'-DAPE:4,4'-ジアミノジフェニルエーテル
・DMAc :N,N-ジメチルアセトアミド
ポリイミドフィルム(63.5mm×50mm)の試験片を準備し、試験片に長さ12.7mmの切り込みを入れ、東洋精機製の軽荷重引裂き試験機を用い測定した。
[熱膨張係数(CTE)の測定]
ポリイミドフィルム(3mm×15mm)を、熱機械分析(TMA)装置にて5gの荷重を加えながら一定の昇温速度で30℃から260℃の温度範囲で引張り試験を行った。温度に対するポリイミドフィルムの伸び量から熱膨張係数を測定した。
[ピンホールの観察]
実施例で得られたフレキシブル銅張積層板のキャリア銅箔を180°方向に50mm/分の速度で剥離したサンプルについて、下面に光源を設け、透過光を観察することで5μm以上のピンホールの発生数を計測した。
A〜Gのポリイミド前駆体樹脂(ポリアミック酸)を合成するため、窒素気流下で、表1に示したジアミンを500mlのセパラブルフラスコの中で攪拌しながら溶剤DMAc 250〜300g程度に溶解させた。次いで、表1に示したテトラカルボン酸二無水物を加えた。その後、溶液を室温で4時間攪拌を続けて重合反応を行い、ポリイミド前駆体樹脂A〜Gの黄褐色の粘稠な溶液を得た。表1中、ジアミン及び酸二無水物の数値は使用量(g)を表す。それぞれのポリイミド前駆体樹脂溶液の25℃での粘度を測定し、表1にまとめた。なお、粘度は、恒温水槽付のコーンプレート式粘度計(トキメック社製)にて、25℃で測定した。また、GPCによる測定した重量平均分子量(Mw)を表1に示した。
キャリア付極薄銅箔(日本電解製YSNAP−3B:キャリア銅箔厚み18μm、極薄銅箔厚み3μm、剥離層厚み約100nm)の極薄銅箔上に、合成例1〜3で得たポリイミド前駆体樹脂A、B又はCの溶液を、アプリケータを用いて均一に塗布し、50〜130℃で2〜60分間乾燥した後、更に130℃、160℃、200℃、230℃、280℃、320℃、360℃で各2〜60分段階的な熱処理を行い、極薄銅箔上にポリイミド層を形成し多層積層体とした。
その後、多層積層体のキャリアを剥離して、極薄銅箔と表2に示した所定厚みのポリイミド層とからなるフレキシブル銅張積層板を得た。得られたフレキシブル銅張積層板の絶縁層の引裂き伝播抵抗と熱膨張係数を測定し、極薄銅箔におけるピンホール数を数えた。結果を表2に示す。
キャリア付極薄銅箔(日本電解製YSNAP−3B:キャリア銅箔厚み18μm、極薄銅箔厚み3μm、剥離層厚み約100nm)の極薄銅箔上に、合成例1で調製したポリイミド前駆体樹脂Aの溶液を硬化後の厚みが23μmの厚みになるように均一に塗布し、70〜130℃で加熱乾燥し溶剤を除去した。次に、その上に合成例7で調製したポリイミド前駆体樹脂Gの溶液を硬化後の厚みが2μmの厚みになるように均一に塗布し、140℃で加熱乾燥し溶剤を除去した。この後、130℃、160℃、200℃、230℃、280℃、320℃、360℃で各2〜60分段階的な熱処理を行い、2層のポリイミド樹脂層からなる合計厚み25μmの絶縁樹脂層が極薄銅箔上に形成された多層積層体を得た。銅箔上の各ポリイミド樹脂層の厚みは、A/Gの順に、23μm/2μmである。
その後、多層積層体からキャリアを剥離して、極薄銅箔と表2に示した所定厚みのポリイミド層とからなるフレキシブル銅張積層板を得た。得られたフレキシブル銅張積層板につき実施例1と同様に評価した。結果を表2に示す。
実施例1と同じキャリア付極薄銅箔を使用し、その極薄銅箔上に、合成例4〜6で得たポリイミド前駆体樹脂D、E又はFの溶液を、アプリケータを用いて均一に塗布し、50〜130℃で2〜60分間乾燥した後、更に130℃、160℃、200℃、230℃、280℃、320℃、360℃で各2〜60分段階的な熱処理を行い、極薄銅箔上にポリイミド層を形成し多層積層体とした。
その後、多層積層体のキャリアを剥離して、極薄銅箔と表2に示した所定厚みのポリイミド層とからなるフレキシブル銅張積層板を得た。得られたフレキシブル銅張積層板につき実施例1と同様に評価した。結果を表2に示す。
Claims (6)
- キャリア上に剥離層を介して厚み1〜8μmの極薄銅箔が形成されているキャリア付き極薄銅箔の前記極薄銅箔上に、少なくとも1層のポリイミド樹脂層を含む絶縁層が形成された多層積層体であって、前記絶縁層の引き裂き伝播抵抗が100〜400mNの範囲にあり、かつ熱膨張係数が30×10-6(1/K)以下の範囲であることを特徴とする多層積層体。
- 絶縁層の厚みが10〜30μmの範囲である請求項1記載の多層積層体。
- 請求項1記載の多層積層体からキャリアを剥離して得られることを特徴とする極薄銅箔と絶縁層とからなるフレキシブル銅張積層板。
- キャリア上に剥離層を介して厚み1〜8μmの極薄銅箔が形成されているキャリア付き極薄銅箔の前記極薄銅箔上に、少なくとも1層のポリイミド樹脂層を含む絶縁層を形成した多層積層体とし、その後、前記キャリアを剥離して極薄銅箔と絶縁層とからなるフレキシブル銅張積層板を製造する方法であって、前記絶縁層の引裂き伝播抵抗が100〜400mNの範囲にあり、かつ熱膨張係数が30×10-6(1/K)以下の範囲であることを特徴とするフレキシブル銅張積層板の製造方法。
- 極薄銅箔上への絶縁層の形成が、ポリイミド前駆体樹脂溶液を塗工し、乾燥、熱処理して行われる請求項4記載のフレキシブル銅張積層板の製造方法。
- キャリア剥離後の極薄銅箔における直径5μm以上のピンホール数が、0〜200個/m2である請求項4又は5に記載のフレキシブル銅張積層板の製造方法。
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JP2009184131A (ja) * | 2008-02-04 | 2009-08-20 | Nippon Steel Chem Co Ltd | 多層積層体及びフレキシブル銅張積層板の製造方法 |
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JP2006306086A (ja) * | 2005-03-31 | 2006-11-09 | Nippon Steel Chem Co Ltd | 多層積層体及びフレキシブル銅張積層基板 |
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