JP2008173004A - リニアモータ製造方法 - Google Patents

リニアモータ製造方法 Download PDF

Info

Publication number
JP2008173004A
JP2008173004A JP2008075789A JP2008075789A JP2008173004A JP 2008173004 A JP2008173004 A JP 2008173004A JP 2008075789 A JP2008075789 A JP 2008075789A JP 2008075789 A JP2008075789 A JP 2008075789A JP 2008173004 A JP2008173004 A JP 2008173004A
Authority
JP
Japan
Prior art keywords
magnets
coil
linear motor
magnet
axis
Prior art date
Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
Granted
Application number
JP2008075789A
Other languages
English (en)
Other versions
JP4653189B2 (ja
Inventor
Nobushige Korenaga
伸茂 是永
Toshiya Asano
俊哉 浅野
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
Canon Inc
Original Assignee
Canon Inc
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by Canon Inc filed Critical Canon Inc
Priority to JP2008075789A priority Critical patent/JP4653189B2/ja
Publication of JP2008173004A publication Critical patent/JP2008173004A/ja
Application granted granted Critical
Publication of JP4653189B2 publication Critical patent/JP4653189B2/ja
Anticipated expiration legal-status Critical
Expired - Fee Related legal-status Critical Current

Links

Images

Landscapes

  • Exposure Of Semiconductors, Excluding Electron Or Ion Beam Exposure (AREA)
  • Permanent Field Magnets Of Synchronous Machinery (AREA)
  • Linear Motors (AREA)
  • Exposure And Positioning Against Photoresist Photosensitive Materials (AREA)

Abstract

【課題】 高精度な制御を可能にするリニアモータを提供する。
【解決手段】 磁石とコイルの間に生じるローレンツ力によって前記磁石と前記コイルを相対的に移動するリニアモータを製造する製造方法において、前記コイルの中心軸に沿って前記磁石を2つ設け、設計上の各磁石の着磁方向に対する、実際の各磁石の着磁方向の傾きが、前記中心軸に対して互いに逆方向に傾くように配置する。
【選択図】 図1

Description

本発明は、半導体デバイス等を製造するための露光装置等に搭載されるステージ装置の駆動源として好適なリニアモータの製造方法に関するものである。
磁石とコイルの間に生じるローレンツ力によって前記磁石と前記コイルを相対的に移動するリニアモータは、例えば特許文献1により知られている。
特許文献1のリニアモータは、極性方向が周期的に逆向きになるように配列された複数の第1磁石と、極性方向が周期的に逆向きになるように第1磁石に隣接して配列された複数の第2磁石を有する第1磁石群と、極性方向が周期的に逆向きになるように配列された複数の第3磁石と、極性方向が周期的に逆向きになるように第3磁石に隣接して配列された複数の第4磁石を有する第2磁石群を、保持部材の表面と裏面にそれぞれ一体に連結して可動子を形成している。
また、これら第1及び第2磁石群に対向して固定子となる電磁コイルを複数設け、これらのコイルに電流を流すことで可動子との間に可動子を駆動するための推力としてのローレンツ力を発生している。
特開2002−325421号公報
リニアモータは、対向して設けられている永久磁石としての磁石とコイルによって可動子の移動方向に推力としてのローレンツ力を発生するものであるが、本発明者は、リニアモータの可動子と固定子の間には推力の発生方向以外にも力が発生し、これが可動子に作用していることを発見した。この推力と異なる不要な力は、推力発生方向と交差する方向、特別には推力発生方向と直交する方向に固定子に対して可動子を移動させるよう作用し、可動子を固定子に接近または接触させてしまうという現象を生じさせる。また、この推力と異なる不要な力は、固定子に対して可動子を傾かせるという現象を生じさせる。
このような現象は、リニアモータの高精度な制御を困難にし、リニアモータを利用するステージ装置の位置決め精度を悪化させる。
そこで、本発明の課題は、高精度な制御を可能にするリニアモータを提供することにある。
なお、推力と異なる不要な力は、コイルの中心軸に対して磁石の着磁方向(N極からS極へ向かう磁束ベクトルの方向)が傾いてコイルに対する磁束密度分布が上部と下部で実質的に同一ではなくなるために生じると考えられる。
また、コイルの中心軸とは、特許文献1のように、複数のコイルをその端面が推力発生方向(可動子の移動方向)に平行もしくは実質的に平行となるように並べて配置するリニアモータの場合には、コイルの中心もしくは実質的に中心を通りコイルの端面に垂直もしくは実質的に垂直な線を含む仮想線のことである。コイルの中心におけるコイルの極性方向はコイルの中心軸に平行もしくは実質的に平行である。
従って、複数のコイルをその端面が推力発生方向(可動子の移動方向)に垂直もしくは実質的に垂直となるように重ねて配置するリニアモータの場合には、コイルの中心軸とは、コイルの中心もしくは実質的に中心を通りコイルの端面に垂直もしくは実質的に垂直な線と交差もしくは直交する線を含む仮想線を意味すると理解すべきである。
上記課題を解決するため、本発明は、磁石とコイルの間に生じるローレンツ力によって前記磁石と前記コイルを相対的に移動するリニアモータを製造する製造方法において、前記コイルの中心軸に沿って前記磁石を2つ設け、設計上の各磁石の着磁方向に対する、実際の各磁石の着磁方向の傾きが、前記中心軸に対して互いに逆方向に傾くように配置することを特徴とする。
(作用)
本発明によれば、コイルの中心軸に対して磁石の着磁方向が傾いている場合でも、可動子と固定子の間に推力の発生方向以外に発生する力を小さくもしくは発生しないようにできる。ここで、発生しないとは、文字通り可動子と固定子の間には推力の発生方向以外の力が発生しない場合と、発生はするがリニアモータの高精度な制御には影響を与えない程度である場合の両方を含む。
以上説明したように、本発明によれば、リニアモータを高精度に制御できる。
以下、添付の図面を参照して本発明の好適な実施形態を説明する。
<第1実施形態>
図1は一実施形態を示すもので、このリニアモータは、図示のXYZ座標系において、可動子10を固定子20に対して相対的にX軸方向に移動させるものである。
このリニアモータは、それぞれの極性方向が周期的に逆向きになるように配列された永久磁石としての第1磁石1a,1cと、それぞれの極性方向が周期的に逆向きになるように第1磁石1a,1cの間に交互に隣接して配列された永久磁石としての第2磁石1b,1dを有する第1磁石群1a〜1dを、磁性材もしくは非磁性材で形成された保持部材7の一方の面上でX軸方向に並べて配列して一体に連結している。第1磁石1a,1cの設計上の着磁方向(N極からS極へ向かう磁束ベクトルの方向)は可動子10の移動方向となるX軸方向と直交するY軸方向に平行とされ、第2磁石1b,1dの設計上の着磁方向はX軸方向に平行とされている。
保持部材7の他方の面上には第2磁石群5a〜5dが同様にX軸方向に並べて配列されている。第2磁石群も第1磁石群と同様に、それぞれの極性方向が周期的に逆向きになるように配列された永久磁石としての第3磁石5a,5cと、それぞれの極性方向が周期的に逆向きになるように第3磁石5a,5cの間に交互に隣接して配列された永久磁石としての第4磁石5b,5dを有する。第3磁石5a,5cの設計上の着磁方向(N極からS極へ向かう磁束ベクトルの方向)は可動子10の移動方向となるX軸方向と直交するY軸方向に平行とされ、第4磁石5b,5dの設計上の着磁方向はX軸方向に平行とされている。
第1磁石1a,1cと第3磁石5a,5cは、設計上では互いに極性方向(N極からS極へ向かう磁束ベクトル)が同じ向きになるように配列され、第2磁石1b,1dと第4磁石5b,5dは、設計上では互いに極性方向が逆向きになるように配列される。
リニアモータの可動子10は、第1磁石群1a〜1d、第2磁石群5a〜5d、及び保持部材7を有している。一方、リニアモータ20の固定子20は、コイルとしての電磁コイル2a,2b、及び電磁コイル2a,2bをそれぞれ固定保持するヨーク3a,3bを有している。電磁コイル2a,2bはXZ面に沿って巻き回されたコイルを有している。コイル中心軸8は、コイル2a,2bの中心もしくは実質的に中心を通りコイルの端面(XZ面に平行もしくは実質的に平行である)に垂直もしくは実質的に垂直な線を含む仮想線のことであり、コイル2a,2bの中心におけるコイルの極性方向はコイルの中心軸に平行もしくは実質的に平行である。
複数の上部電磁コイル2aは、第1磁石群1a〜1dに対向するように設けられ、複数の下部電磁コイル2bは、第2磁石群5a〜5dに対向するように設けられている。ヨーク3aは電磁コイル2aの反磁石側に設けられ、ヨーク3bは電磁コイル2bの反磁石側には設けられる。ヨーク3aに固定された複数の電磁コイル2aは、それぞれ電気角で90度、180度、270度、360度ずれて配置され、ヨーク3bに固定された複数の電磁コイル2bは、それぞれ電気角で90度、180度、270度、360度ずれて配置されている。
固定子20側の電磁コイル2a,2bに電流を流すことで、可動子10側の磁石群1a〜1d,5a〜5dとの間に稼動し移動方向としてのX軸方向に推力としてのローレンツ力を発生する。
なお、本実施形態は、磁石1a〜1d,5a〜5d側をリニアモータの固定子とし、電磁コイル2a,2b側を可動子にしてもよい。また、本発明は、磁石1a〜1d,5a〜5dの両側にコイル2a,2bを配置するのではなく、磁石1a〜1dと磁石5a〜5dをY軸方向に離して配置し、その間にコイル2a(または2b)を配置するようなリニアモータに適用しても良い。
ところで、本実施形態でも、第1磁石1a,1cや第3磁石5a,5cの着磁方向、換言するとN極からS極へ向かうベクトルの方向は、Y軸方向つまりコイル中心軸8と平行になるように設計される。しかし、実際は設計通りにはならず、その着磁方向はY軸方向に対して任意の方向に傾いていることが、本発明者により発見された。
この場合、上部電磁コイル2aの存在領域における磁束密度分布と下部電磁コイル2bの存在領域における磁束密度分布に差が生じ、X軸方向の推力以外にY方向の推力やZ軸回りの回転力が発生することになる。
本実施形態は、この可動子10への推力とは異なる不要な力の発生を抑える、小さくする、もしくは発生させないために図2に示す構成を有する。図2において、磁石1cの着磁方向は、コイル中心軸8(Y軸方向)に平行もしくは実質的に平行な設計上の着磁方向からXY面上で反時計回りにある傾きを持っている。また、磁石5cの着磁方向は、コイル中心軸8(Y軸方向)に平行もしくは実質的に平行な設計上の着磁方向からXY面上で時計回りにある傾きを持ち、コイル中心軸8に対する磁石1c,5cの着磁方向の傾きが異なり、もしくは傾きを異ならせている。
このように配置することで、電磁コイル2aの存在領域における磁束密度分布と電磁コイル2bの存在領域における磁束密度分布を一致もしくは実質的に一致するように調整することができる。この調整によれば、X軸方向以外にY方向の推力やZ軸回りの回転力が電磁コイル2a側と電磁コイル2b側の一方で発生したとしても、他方側の磁石の着磁方向を傾けてそれを完全に相殺もしくは実質的に相殺することが可能となる。ここで実質的に相殺とは、可動子10のX軸方向の移動に影響を与えない程度にY方向の推力やZ軸回りの回転力を小さくすることである。
なお、本実施形態では、磁石1c,5cのコイル中心軸8に対する着磁方向の傾きの総和が略ゼロになるように配置すると好ましく、更にXY面において、コイル中心軸8に対する磁石1cの着磁方向の傾きを△θ1、コイル中心軸8に対する磁石5cの着磁方向の傾きを(−△θ5)とするとき、傾き△θ1と傾き(−△θ5)の和がゼロもしくは略ゼロとなるようにするのが好ましい。
磁石1c,5cのコイル中心軸8に対する着磁方向の傾きの調整は、保持部材7に設けられた調整機構(不図示)もしくは保持部材7と磁石1c,5cの間に調整部材を挟み込むことによって、磁石1c,5cの少なくとも一方をX,Y,Zの少なくとも一つの軸回りに回転もしくは傾けることにより行う。好ましくはZ軸回りに回転もしくは傾けることにより行う。磁石1a,5aも同様な関係に調整することが好ましい。
<第2実施形態>
図3に第2実施形態を示す。この実施形態は、実施形態1に対して磁石1b,5bの組と、磁石1d,5dの組に関しても着磁方向の調整を行うようにした点が異なっている。実施形態1と同様な部分の説明は繰り返さない。
本実施形態は、可動子10への推力とは異なる不要な力の発生を抑える、小さくする、もしくは発生させないために図3に示す構成を有する。図3において、磁石1bの着磁方向は、コイル中心軸8(Y軸方向)と直交する方向(X軸方向)に平行もしくは実質的に平行な設計上の着磁方向からXY面上で時計回りにある傾きを持っている。また、磁石5bの着磁方向は、コイル中心軸8(Y軸方向)と直交する方向(X軸方向)に平行もしくは実質的に平行な設計上の着磁方向からXY面上で反時計回りにある傾きを持ち、コイル中心軸8に対する磁石1b,5bの着磁方向の傾きが異なり、もしくは傾きを異ならせている。
換言すれば、磁石1b,5bの着磁方向は、コイル中心軸8(Y軸方向)に平行もしくは実質的に平行な方向からXY面上でそれぞれ逆方向にある傾きを持って、着磁方向を異ならせている。
このように配置することで、電磁コイル2aの存在領域における磁束密度分布と電磁コイル2bの存在領域における磁束密度分布を一致もしくは実質的に一致するように調整することができる。この調整によれば、X軸方向以外にY方向の推力やZ軸回りの回転力が電磁コイル2a側と電磁コイル2b側の一方で発生したとしても、他方側の磁石の着磁方向を傾けてそれを完全に相殺もしくは実質的に相殺することが可能となる。ここで実質的に相殺とは、可動子10のX軸方向の移動に影響を与えない程度にY方向の推力やZ軸回りの回転力を小さくすることである。
なお、本実施形態では、磁石1b,5bのコイル中心軸8に対する着磁方向の傾きの総和が略ゼロになるように配置すると好ましく、更にXY面において、コイル中心軸8に対する磁石1bの着磁方向の傾きを△θ1、コイル中心軸8に対する磁石5bの着磁方向の傾きを(−△θ5)とするとき、傾きΔθ1と傾き(−△θ5)の和がゼロもしくは略ゼロとなるようにするのが好ましい。
磁石1b,5bのコイル中心軸8に対する着磁方向の傾きの調整は、保持部材7に設けられた調整機構(不図示)もしくは保持部材7と磁石1b,5bの間に調整部材を挟み込むことによって、磁石1b,5bの少なくとも一方をX,Y,Zの各軸回りに回転もしくは傾けることにより行う。好ましくはZ軸回りに回転もしくは傾けることにより行う。磁石1d,5dも同様な関係に調整することが好ましい。
<第3実施形態>
上述の実施形態では、2つの磁石をコイル中心軸に沿って並べ、各磁石の着磁方向の傾きが異なるように配置する例を示したが、3つ以上の磁石をコイル中心軸に沿って並べてY方向の推力やZ軸回りの回転力を小さくする調整を行うようにしても良い。
<第4実施形態>
図4は、上記と同様のリニアモータM1,M2を駆動部とするステージ装置をウエハステージとする半導体デバイス製造用の露光装置を示す。
この露光装置は、半導体集積回路等の半導体デバイスや、マイクロマシン、薄膜磁気ヘッド等の微細なパターンが形成されたデバイスの製造に利用され、原版であるレチクルRを介して基板としての半導体ウエハW上に光源61からの露光エネルギーとしての露光光(この用語は、可視光、紫外光、EUV光、X線、電子線、荷電粒子線等の総称である)を投影系としての投影レンズ(この用語は、屈折レンズ、反射レンズ、反射屈折レンズシステム、荷電粒子レンズ等の総称である)62を介して照射することによって、基板上に所望のパターンを形成している。
この露光装置は、定盤51上にガイド52とリニアモータ固定子21を固設している。前述と同様に、リニアモータ固定子21は多相電磁コイルを、リニアモータ可動子11は永久磁石群を有している。リニアモータ可動子11を可動部53として、ステージである可動ガイド54に接続し、リニアモータM1の駆動によって可動ガイド54を紙面法線方向に移動させる。可動部53は、定盤51の上面を基準に静圧軸受55で、ガイド52の側面を基準に静圧軸受56で支持される。
可動ガイド54を跨ぐようにして配置したステージである移動ステージ57は静圧軸受58によって支持されている。この移動ステージ57は、上記と同様のリニアモータM2によって駆動され、可動ガイド54を基準に移動ステージ57が紙面左右方向に移動する。移動ステージ57の動きは、移動ステージ57に固設したミラー59および干渉計60を用いて計測する。
移動ステージ57に搭載したチャック上に基板であるウエハWを保持し、光源61、投影光学系62によって、原版であるレチクルRのパターンをウエハW上の各領域にステップアンドリピートもしくはステップアンドスキャンで縮小転写する。
なお、本発明のリニアモータは、マスクを使用せずに半導体ウエハ上に回路パターンを直接描画してレジストを露光するタイプの露光装置にも、同様に適用できる。
<第5実施形態>
次に、この露光装置を利用した半導体デバイスの製造プロセスを説明する。図5は半導体デバイスの全体的な製造プロセスのフローを示す図である。ステップ1(回路設計)では半導体デバイスの回路設計を行う。ステップ2(マスク作製)では設計した回路パターンに基づいてマスクを作製する。
一方、ステップ3(ウエハ製造)ではシリコン等の材料を用いてウエハを製造する。ステップ4(ウエハプロセス)は前工程と呼ばれ、上記のマスクとウエハを用いて、上記の露光装置によりリソグラフィ技術を利用してウエハ上に実際の回路を形成する。次のステップ5(組み立て)は後工程と呼ばれ、ステップ5によって作製されたウエハを用いて半導体チップ化する工程であり、アッセンブリ工程(ダイシング、ボンディング)、パッケージング工程(チップ封入)等の組み立て工程を含む。ステップ6(検査)ではステップ5で作製された半導体デバイスの動作確認テスト、耐久性テスト等の検査を行う。こうした工程を経て半導体デバイスが完成し、ステップ7でこれを出荷する。
上記ステップ4のウエハプロセスは以下のステップを有する。ウエハの表面を酸化させる酸化ステップ、ウエハ表面に絶縁膜を成膜するCVDステップ、ウエハ上に電極を蒸着によって形成する電極形成ステップ、ウエハにイオンを打ち込むイオン打ち込みステップ、ウエハに感光剤を塗布するレジスト処理ステップ、上記の露光装置によって回路パターンをレジスト処理ステップ後のウエハに転写する露光ステップ、露光ステップで露光したウエハを現像する現像ステップ、現像ステップで現像したレジスト像以外の部分を削り取るエッチングステップ、エッチングが済んで不要となったレジストを取り除くレジスト剥離ステップ。これらのステップを繰り返し行うことによって、ウエハ上に多重に回路パターンを形成する。
<実施態様の例>
本発明の実施態様の例を以下に列挙する。
[実施態様1]
磁石とコイルの間に生じるローレンツ力によって前記磁石と前記コイルを相対的に移動するリニアモータにおいて、前記コイルの中心軸に沿って前記磁石を複数設け、前記中心軸に対する各磁石の着磁方向の傾きが異なるようにしたことを特徴とするリニアモータ。
[実施態様2]
前記磁石のそれぞれの着磁方向は前記中心軸に対して逆方向に傾いていることを特徴とする実施態様1のリニアモータ。
[実施態様3]
前記磁石の前記中心軸に対する着磁方向の傾きの総和が略ゼロになるように配置されることを特徴とする実施態様2のリニアモータ。
[実施態様4]
実施態様1〜3のいずれか1つのリニアモータと、前記リニアモータにより駆動されるステージとを備え、前記コイルに通電して前記ステージを移動させることを特徴とするステージ装置。
[実施態様5]
実施態様4のステージ装置によって基板または原版あるいはその双方を位置決めすることを特徴とする露光装置。
[実施態様6]
実施態様5の露光装置によってデバイスを製造する工程を有するデバイス製造方法。
本発明のリニアモータの第1実施形態を示す図。 第1実施形態の要部を示す図。 第2実施形態の要部を示す図。 本発明のリニアモータが適用される露光装置の一例を示す図。 デバイス製造プロセスを示すフローチャート。
符号の説明
1a〜1d,5a〜5d 永久磁石
2a,2b 電磁コイル
3a,3b ヨーク
7 保持部材
8 コイル中心軸
10 リニアモータ可動子
20 リニアモータ固定子

Claims (2)

  1. 磁石とコイルの間に生じるローレンツ力によって前記磁石と前記コイルを相対的に移動するリニアモータを製造する製造方法において、前記コイルの中心軸に沿って前記磁石を2つ設け、設計上の各磁石の着磁方向に対する、実際の各磁石の着磁方向の傾きが、前記中心軸に対して互いに逆方向に傾くように配置することを特徴とするリニアモータ製造方法。
  2. 前記磁石の前記中心軸に対する着磁方向の傾きの総和が実質的にゼロになるように配置することを特徴とする請求項1に記載のリニアモータ製造方法。
JP2008075789A 2008-03-24 2008-03-24 リニアモータ製造方法 Expired - Fee Related JP4653189B2 (ja)

Priority Applications (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP2008075789A JP4653189B2 (ja) 2008-03-24 2008-03-24 リニアモータ製造方法

Applications Claiming Priority (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP2008075789A JP4653189B2 (ja) 2008-03-24 2008-03-24 リニアモータ製造方法

Related Parent Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
JP2003035268A Division JP4194383B2 (ja) 2003-02-13 2003-02-13 リニアモータ

Publications (2)

Publication Number Publication Date
JP2008173004A true JP2008173004A (ja) 2008-07-24
JP4653189B2 JP4653189B2 (ja) 2011-03-16

Family

ID=39700535

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
JP2008075789A Expired - Fee Related JP4653189B2 (ja) 2008-03-24 2008-03-24 リニアモータ製造方法

Country Status (1)

Country Link
JP (1) JP4653189B2 (ja)

Cited By (1)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2010158140A (ja) * 2009-01-05 2010-07-15 Toshiba Mach Co Ltd リニアモータ

Citations (3)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2002238241A (ja) * 2001-02-09 2002-08-23 Yaskawa Electric Corp リニアモータ
JP2002325421A (ja) * 2001-02-23 2002-11-08 Canon Inc リニアモータ、およびこれを用いたステージ装置、露光装置ならびにデバイス製造方法
JP2002369492A (ja) * 2001-06-06 2002-12-20 Hitachi Metals Ltd 永久磁石及びこれを用いた磁場発生用磁気回路並びにリニアアクチュエータ

Patent Citations (3)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2002238241A (ja) * 2001-02-09 2002-08-23 Yaskawa Electric Corp リニアモータ
JP2002325421A (ja) * 2001-02-23 2002-11-08 Canon Inc リニアモータ、およびこれを用いたステージ装置、露光装置ならびにデバイス製造方法
JP2002369492A (ja) * 2001-06-06 2002-12-20 Hitachi Metals Ltd 永久磁石及びこれを用いた磁場発生用磁気回路並びにリニアアクチュエータ

Cited By (1)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2010158140A (ja) * 2009-01-05 2010-07-15 Toshiba Mach Co Ltd リニアモータ

Also Published As

Publication number Publication date
JP4653189B2 (ja) 2011-03-16

Similar Documents

Publication Publication Date Title
JP4194383B2 (ja) リニアモータ
US6870284B2 (en) Linear motor and stage apparatus, exposure apparatus, and device manufacturing method using the same
US7656062B2 (en) Split coil linear motor for z force
US20100167556A1 (en) Three degree of movement mover and method for controlling a three degree of movement mover
US7157722B2 (en) Positioning device and method of initializing a positioning device
JP2005046941A (ja) ケーブル微動ユニット付きステージ装置
JP3215362B2 (ja) リニアモータ、ステージ装置および露光装置
JP4298547B2 (ja) 位置決め装置およびそれを用いた露光装置
US20080285005A1 (en) System and method for measuring and mapping a sideforce for a mover
JP2004364392A (ja) リニアモータ、及びこれを備えるステージ装置、露光装置並びにデバイス製造方法
JP4528260B2 (ja) リソグラフィ装置およびアクチュエータ
JP5726794B2 (ja) 平面モータおよび平面モータを備えるリソグラフィ装置
JP4566697B2 (ja) 位置決め装置およびそれを用いた露光装置、デバイス製造方法
JP2007258356A (ja) ステージ装置
JP2005209670A (ja) 磁気浮上装置
JP2004153151A (ja) 位置決め装置
JP2008193056A (ja) ステージ装置、露光装置及びデバイス製造方法
JP2005295762A (ja) ステージ装置および露光装置
JP2008228406A (ja) 平面モータ、位置決め装置、露光装置及びデバイス製造方法
JP4653189B2 (ja) リニアモータ製造方法
JP2004134456A (ja) 移動装置及び露光装置並びにデバイスの製造方法
KR20040073996A (ko) 균형 질량을 사용하여 스테이지에 대한 반력의 영향을감소시키는 시스템 및 방법
JP2007124799A (ja) リニアモータ、ステージ装置、露光装置、デバイス製造方法およびリニアモータの位相補正方法
JP2004281654A (ja) 駆動機構及びそれを用いた露光装置、デバイスの製造方法
JP2005204407A (ja) 多相型リニアモータならびにその駆動方法、およびそれを用いたステージ装置、露光装置、デバイス製造方法

Legal Events

Date Code Title Description
RD04 Notification of resignation of power of attorney

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A7424

Effective date: 20100201

RD01 Notification of change of attorney

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A7421

Effective date: 20100630

TRDD Decision of grant or rejection written
A01 Written decision to grant a patent or to grant a registration (utility model)

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A01

Effective date: 20101214

A01 Written decision to grant a patent or to grant a registration (utility model)

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A01

A61 First payment of annual fees (during grant procedure)

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A61

Effective date: 20101216

R150 Certificate of patent or registration of utility model

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R150

Ref document number: 4653189

Country of ref document: JP

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R150

FPAY Renewal fee payment (event date is renewal date of database)

Free format text: PAYMENT UNTIL: 20131224

Year of fee payment: 3

LAPS Cancellation because of no payment of annual fees