JP2008171842A - 半導体電子デバイス - Google Patents
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Abstract
【解決手段】窒化物系化合物半導体を有する半導体電子デバイスにおいて、基板10上に窒化物系化合物半導体からなるバッファ層20及び半導体動作層30を順次積層してなり、前記バッファ層20は、第1の層22と第2の層23が積層された複合層を1層以上有し、第1の層22と第2の層23との各格子定数の差は0.2%以上であり、第1の層22の厚さは、100nm以上、1000nm以下である。
【選択図】 図1
Description
まず、本発明の実施の形態1にかかる半導体電子デバイスについて説明する。図1は、本実施の形態1にかかる半導体電子デバイスとしての電界効果トランジスタ100の構成を示す断面図である。この図に示すように、電界効果トランジスタ100は、Siからなる基板10上に窒化物系化合物半導体からなるバッファ層20、半導体動作層30を順次積層し、その上にTi/Alからなるソース電極41、Pt/Auからなるゲート電極42、Ti/Alからなるドレイン電極43が形成されている。
Δa=|1−a2/a1|×100
つぎに、本発明の実施の形態2にかかる半導体電子デバイスについて説明する。図9は、本実施の形態2にかかる半導体電子デバイスとしての電界効果トランジスタ200の構成を示す断面図である。この図に示すように、電界効果トランジスタ200は、電界効果トランジスタ100の構成をもとに、バッファ層20に替えてバッファ層20Bを備え、このバッファ層20Bは、第1の層22と第2の層23が積層された複合層と半導体動作層30との間に、厚さ5nmのAlN層/厚さ30nmのGaN層(第3の層/第4の層)を交互に10回積層した超格子層26を有している。その他の構成は、電界効果トランジスタ100と同様である。
つぎに、本発明の実施の形態3にかかる半導体電子デバイスについて説明する。上述した実施の形態1および2では、本発明にかかる半導体電子デバイスとしての電界効果トランジスタ(FET:Field Effect Transistor)が高電子移動度トランジスタ(HEMT:High Electron Mobility Transistor)であるものとして説明したが、HEMTに限定されず、MOS電界効果トランジスタ(MOSFET:Metal Oxide Semiconductor FET)とすることもできる。
20 バッファ層
21 バッファ層
22 第1の層
23 第2の層
24 歪界面
25 歪導入層
26 超格子層
30 半導体動作層
31 電子走行層
32 電子供給層
33 コンタクト層
41 ソース電極
42 ゲート電極
43 ドレイン電極
50 半導体動作層
51 p型半導体層
51a 反転層
52 n型半導体層
61 ソース電極
62 ゲート電極
62a 絶縁膜
62b 電極層
63 ドレイン電極
100,100’,101,200,300 電界効果トランジスタ
Claims (7)
- 基板上にバッファ層と、窒化物系化合物半導体からなる半導体動作層とを順次積層した半導体電子デバイスにおいて、
前記バッファ層は、第1の層と第2の層が積層された複合層を1層以上有し、前記第1の層と前記第2の層との各格子定数の差は、0.2%以上であり、前記第1の層の厚さは、100nm以上、1000nm以下であることを特徴とする半導体電子デバイス。 - 前記複合層は、前記第1の層と前記第2の層の間に、格子定数が前記第1の層の格子定数以上、前記第2の層の格子定数以下である歪導入層を有することを特徴とする請求項1に記載の半導体電子デバイス。
- 前記第2の層の厚さは、0.5nm以上、200nm以下であることを特徴とする請求項1または2に記載の半導体電子デバイス。
- 前記バッファ層は、前記複合層を4層以上有することを特徴とする請求項1〜3のいずれか一つに記載の半導体電子デバイス。
- 前記バッファ層は、前記複合層と前記半導体動作層との間に、第3の層と第4の層が交互に積層された超格子層を有することを特徴とする請求項1〜4のいずれか一つに記載の半導体電子デバイス。
- 前記第3の層と前記第4の層の厚さは、各々0.5nm以上、20nm以下であることを特徴とする請求項5に記載の半導体電子デバイス。
- 前記第1の層および前記第2の層の成長温度は、各々700℃以上、1300℃以下であることを特徴とする請求項1〜6のいずれか一つに記載の半導体電子デバイス。
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