JP2008170481A - スペーサ、スペーサの形成方法、シール材、シール材の形成方法及び液晶表示装置 - Google Patents

スペーサ、スペーサの形成方法、シール材、シール材の形成方法及び液晶表示装置 Download PDF

Info

Publication number
JP2008170481A
JP2008170481A JP2007000863A JP2007000863A JP2008170481A JP 2008170481 A JP2008170481 A JP 2008170481A JP 2007000863 A JP2007000863 A JP 2007000863A JP 2007000863 A JP2007000863 A JP 2007000863A JP 2008170481 A JP2008170481 A JP 2008170481A
Authority
JP
Japan
Prior art keywords
liquid crystal
spacer
sealing material
element substrate
counter substrate
Prior art date
Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
Withdrawn
Application number
JP2007000863A
Other languages
English (en)
Inventor
Katsumi Suzuki
克己 鈴木
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
Seiko Epson Corp
Original Assignee
Seiko Epson Corp
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by Seiko Epson Corp filed Critical Seiko Epson Corp
Priority to JP2007000863A priority Critical patent/JP2008170481A/ja
Publication of JP2008170481A publication Critical patent/JP2008170481A/ja
Withdrawn legal-status Critical Current

Links

Images

Landscapes

  • Liquid Crystal (AREA)

Abstract

【課題】液晶に近い特性を有し、配向膜の配向性能を低下させず、所定の位置に容易に形
成することができる、スペーサ、スペーサ形成方法、シール材、シール材の形成方法、及
び、液晶表示装置を提供する。
【解決手段】キャビティ26に供給された、熱硬化型の樹脂及び液晶が混合された機能液
Frは、液滴吐出ヘッド20から液滴Fbとなって、対向基板110に向かって吐出され
る。液滴Fbは、対向基板110にスペーサを形成するためパターンを形成するように吐
出される。前記パターンが形成された対向基板110は、素子基板100との間にシール
材を介して液晶を配置して貼り合わされてから、加熱処理をされると、熱硬化型の樹脂が
硬化して液晶が固定されたスペーサが形成される。前記スペーサはシール材に囲まれた部
分に封止された液晶と略同様の特性を有する。
【選択図】図7

Description

本発明は、スペーサ、スペーサの形成方法、シール材、シール材の形成方法、及び、液
晶表示装置に関する。
液晶表示装置は、薄膜トランジスタが形成された素子基板と、対向電極が形成された対
向基板との間に液晶が封入されている。この液晶の封入方法の1つとして、素子基板上に
形成した四角枠状のシール材に囲まれた部分に液晶を供給した後に、同素子基板と対向基
板とを貼り合わせて液晶表示装置を製造する方法が提案されている。
液晶表示装置の表示品位を好適に維持するには、貼り合わされた素子基板と対向基板と
の間隔を一定に保つ必要がある。しかし、素子基板と対向基板との間隔は、両基板の間に
液晶を封入しただけでは一定に保つことはできないため、両基板の間には、スペーサ、例
えば、所定の粒径を有するビーズなどが配置されていた。ビーズは、基板上に略均一に撒
かれるが、配置位置を規定できないので、液晶表示装置の表示領域内にも配置される。液
晶表示装置の表示領域内に配置されたビーズは、画像のコントラストの低下などが生じさ
せて、液晶表示装置の表示品位を低下させていた。そこで、スペーサを、非表示領域に形
成する方法、例えば、フォトリソグラフィー法などが知られている。
また、素子基板と対向基板の液晶に接する面には、液晶の配向を規制するためにラビン
グ処理の行なわれた配向膜が、それぞれ形成されている。ところが、前記基板に配向膜を
形成してから、スペーサをフォトリソグラフィー法で形成した場合は、スペーサを形成す
るための感光や現像の工程において、配向膜が変質されて液晶の配向不良を生じさせる場
合があった。一方、スペーサを形成してから配向膜にラビング処理を行なうと、スペーサ
によるラビング不良が生じる虞や、ラビング処理によってスペーサに欠損が生じる虞があ
った。
そこで、スペーサをフォトリソグラフィー法で形成する際に、配向膜を変質させる虞を
抑制したスペーサ用の材料が提案されている(特許文献1)。特許文献1は、水で現像で
きる感光性樹脂による樹脂被膜をスペーサあるいはシール材の材料として用いて、有機溶
剤やアルカリを該材料の現像に使用することによる液晶の配向不良や電気特性の低下を防
いでいる。
しかし、特許文献1の材料を用いても、該材料を感光させる光によって生じる配向膜の
配向不良や、ラビング処理によるスペーサの欠損は避けられなかった。
そこで、ラビング処理に優れた耐性を備えるスペーサ用の材料が提案されている(特許
文献2)。特許文献2は、感放射線性樹脂組成物の溶液を用いて、ラビング耐性に優れ、
配向性能を低下させない液晶表示装置用のスペーサを形成した。
しかし、特許文献2のスペーサの形成方法は、材料を感光や現像する際に配向膜を変質
させて液晶の配向不良を生じさせる虞や、スペーサ形成してからラビング処理を行なうと
スペーサによるラビング不良を生じさせる虞があった。
一方、液晶表示装置の小型化や解像度向上に伴って、微小なスペーサを形成する方法も
提案されている(特許文献3)。特許文献3は、フォトリソグラフィー法によるスペーサ
の形成方法において、感光材層の各スペーサ形成領域に、露光用マスクの所定の開口幅の
第1のマスク開口による第1の露光と、前記所定の開口幅よりも小さい開口幅の第2のマ
スク開口による第2の露光を相前後して行なう。そして、第1の露光によりスペーサの幅
を決定し、第1の露光と第2の露光とが重なる部分の露光量によりスペーサの高さを決定
する。
特開平10−168134号公報 特開平11−133600号公報 特開2006−195096号公報
しかし、特許文献3のスペーサの形成方法では、工程が増えて製造に要する時間を増加
させるとともに、スペーサを形成する位置は露光マスクによって規定されるので自由に変
更することができなかった。
本発明は、上記問題を解決するためになされたものであり、その目的は、液晶に近い特
性を有し、配向膜の配向性能を低下させず、所定の位置に容易に形成することができる、
スペーサ、スペーサ形成方法、シール材、シール材の形成方法、及び、液晶表示装置を提
供することにある。
本発明のスペーサは、素子基板と、対向基板とを貼り合わせて、前記素子基板と前記対
向基板との間に配置された液晶の間隔を保持するスペーサであって、前記スペーサは、液
晶分子を硬化型樹脂にて固めて形成した。
本発明のスペーサによれば、液晶分子でできたスペーサは、その特性、例えば熱膨張率
を、素子基板と対向基板との間に配置された液晶と略同様にすることができる。従って、
温度変化に伴う、素子基板と対向基板との間に配置された液晶とスペーサとの間の物理的
な変化を相対的に小さくすることができる。
このスペーサは、前記硬化型樹脂は、熱硬化型の樹脂であると好適である。
このスペーサによれば、硬化型樹脂を硬化させるために露光する必要がないため、露光
に伴う素子基板及び対向基板にそれぞれ形成されている配向膜の配向不良を防ぐことがで
きる。
このスペーサは、前記スペーサは、微粒子状に成形されてもよい。
このスペーサによれば、微粒子状のスペーサは、その特性、例えば熱膨張率を、素子基
板と対向基板との間に配置された液晶と略同様にすることができる。
本発明のシール材は、素子基板と、対向基板とを貼り合わせて、前記素子基板と前記対
向基板との間に配置された液晶を封止するシール材であって、前記シール材は、液晶分子
を硬化型樹脂にて固めて形成した。
本発明のシール材によれば、液晶分子でできたシール材は、その特性、例えば熱膨張率
を、素子基板と対向基板との間に配置された液晶と略同様にすることができる。従って、
温度変化に伴う、液晶とシール材との間の物理的な変化を相対的に小さくすることができ
る。
このシール材は、前記硬化型樹脂は、熱硬化型の樹脂であると好適である。
このシール材によれば、硬化型樹脂を硬化させるために露光する必要がないため、露光
に伴う素子基板及び対向基板にそれぞれ形成されている配向膜の配向不良を防ぐことがで
きる。
本発明の液晶表示装置のスペーサの形成方法は、素子基板と、対向基板とを貼り合わせ
て、前記素子基板と前記対向基板との間に配置された液晶の間隔を保持する液晶表示装置
のスペーサの形成方法であって、液晶分子と硬化型樹脂を含む機能液を、液滴吐出ヘッド
にて前記素子基板と前記対向基板のいずれかに吐出した後、硬化させた。
本発明の液晶表示装置のスペーサの形成方法によれば、スペーサの形成に、例えば、フ
ォトリソグラフィー法で形成する場合のように、露光や現像を行なう必要がない。その結
果、露光や現像に伴う素子基板及び対向基板にそれぞれ形成されている配向膜の配向不良
を防ぐことができる。
この液晶表示装置のスペーサの形成方法は、前記液滴吐出ヘッドは、光を遮断する遮光
部分と対峙する位置に、機能液の液滴を吐出してスペーサを形成するとなおよい。
この液晶表示装置のスペーサの形成方法によれば、スペーサが遮光部分と対峙する位置
に配置されるため、スペーサが画像のコントラストの低下などを生じさせない。その結果
、液晶表示装置の表示品位を低下させる虞のないスペーサを形成することができる。
本発明の液晶表示装置のシール材の形成方法は、素子基板と、対向基板とを貼り合わせ
て、前記素子基板と前記対向基板との間に配置された液晶を封止する液晶表示装置のシー
ル材の形成方法であって、液晶分子と硬化型樹脂を含む機能液を、液滴吐出ヘッドにて前
記素子基板に吐出した後、硬化させた。
本発明の液晶表示装置のシール材の形成方法によれば、シール材の形成に、例えば、フ
ォトリソグラフィー法で形成する場合のように、露光や現像を行なう必要がない。その結
果、露光や現像に伴う素子基板に形成されている配向膜の配向不良を防ぐことができる。
本発明の液晶表示装置は、素子基板と、対向基板とを貼り合わせて、前記素子基板と前
記対向基板との間に配置された液晶の間隔を保持するスペーサを備えた液晶表示装置であ
って、前記スペーサを、上記のスペーサで形成した。
本発明の液晶表示装置によれば、液晶と相対的に特性の違いの小さいスペーサを備える
。従って、液晶とスペーサの熱膨張率が略同様になるので、温度変化に伴う液晶の部分と
スペーサの部分との物理的な変化を相対的に小さくなり、液晶表示装置の強度の低下を防
ぐことができる。また、フォトリソグラフィー法で形成する場合に必要な露光や現像に伴
う素子基板及び対向基板にそれぞれ形成されている配向膜の配向不良を防ぐことができる
ので表示品位の低下を防ぐことができる。
本発明の液晶表示装置は、素子基板と、対向基板とを貼り合わせて、前記素子基板と前
記対向基板との間に配置された液晶を封止するシール材を備えた液晶表示装置であって、
前記シール材を、上記のシール材で形成した。
本発明の液晶表示装置によれば、液晶と相対的に特性の違いの小さいシール材を備える
。従って、熱膨張率を、液晶と略同様にすることができて、温度変化に伴う液晶の部分と
シール材の部分との物理的な変化を相対的に小さくできるので、液晶表示装置の強度の低
下を防ぐことができる。また、フォトリソグラフィー法で形成する場合に必要な露光や現
像に伴う素子基板及び対向基板にそれぞれ形成されている配向膜の配向不良を防ぐことが
でき
るので表示品位の低下を防ぐことができる。
以下、本発明を具体化した一実施形態について説明する。
まず、貼り合わせ前の、液晶表示装置の素子基板と対向基板について説明する。
図2において、素子基板100は、ガラス基板よりなり、その上面の表示領域となる部
分には、マトリクス状に画素Pが区画形成され、その区画形成される各画素Pにそれぞれ
赤用、緑用、青用の画素電極P1、薄膜トランジスタ、走査線、データ線等が形成されて
いる。また、素子基板100の上面には、各画素Pの画素電極P1、薄膜トランジスタを
覆うように、ラビング処理した配向膜102が形成されている。また、素子基板100の
上面には、各画素Pを囲むように、四角枠状のシール材103が形成され、そのシール材
103で囲まれた部分Zに液晶Fが配置されるようになる。
シール材103は、液晶分子としての液晶Fと硬化型樹脂としての熱硬化型の樹脂Sを
混合した機能液であって、図1に示すパターン形成装置としての液滴吐出装置10から液
滴Fb(図5参照)にして吐出し、四角枠状に形成される。シール材103に含まれる液
晶Fは、本実施形態では、該シール材103で囲まれた部分Zに配置される液晶F(図1
0参照)と同じものからなる。
従って、シール材103の膨張率は、該シール材103で囲まれた部分Zに配置される
液晶Fと同じ液晶Fを混合したものを使用したので、該部分Zに配置される液晶Fと略同
じにすることができる。
図3において、対向基板110は、ガラス基板よりなる。対向基板110の上面には、
前記素子基板100と貼り合わせたとき、前記シール材103と囲まれた部分Zと対峙す
る位置に、図4に示すように、カラーフィルタ120が形成されている。カラーフィルタ
120は、素子基板100の各画素Pと対応する矩形状の赤色フィルタ層R、緑色フィル
タ層G及び青色フィルタ層Bがマトリクス状に配置形成されている。そして、各画素P間
及び画素P毎に形成された各フィルタ層R,G,Bの間には、図4に示すように、各フィ
ルタ層R,G,Bを区切るようにブラックマトリクスKが形成されている。
カラーフィルタ120の上面は、透明性を有する保護膜121が形成され、該保護膜1
21の上面には、対向電極122が形成されている。対向電極122は、酸化インジウム
錫(Indium Tin Oxide:ITO)などからなる透明電極である。対向電極122の上面に
は、ラビング処理した配向膜123が積層されている。
図4において、配向膜123の上面において、ブラックマトリクスKの形成された部分
と相対向する予め定めた複数の位置に、それぞれ予め定めた大きさの略半球状のスペーサ
124が形成されている。スペーサ124は、前記シール材103と同じものであって液
晶Fと熱硬化型の樹脂Sを混合した機能液であって、図1に示す液滴吐出装置10と同様
な液滴吐出装置から液滴にして吐出し形成される。各スペーサ124は、いずれも略所定
の高さ、例えば、5マイクロメートルの高さに形成されている。
これにより、素子基板100と対向基板110とを貼り合わせた時、シール材103で
囲まれた部分Zに配置される液晶Fのギャップを保持するようになっている。
次に、素子基板100に四角枠状のシール材103を形成する液滴吐出装置10につい
て説明する。
図1は、液滴吐出装置10を説明するための全体斜視図を示す。図1において、液滴吐
出装置10は、直方体形状に形成された基台11を有している。基台11の表面には、そ
の長手方向(Y矢印方向)に沿って延びる一対の案内溝12が形成されている。案内溝1
2の上方には、案内溝12に沿って主走査方向(Y矢印方向及び反Y矢印方向)に移動す
るステージ13が備えられている。ステージ13の上面には、載置部14が形成されて、
素子基板100が載置される。素子基板100は、載置部14において位置決め固定され
てY矢印方向及び反Y矢印方向に搬送される。
載置部14において位置決め固定された素子基板100は、上面にマトリクス状に画素
Pが区画形成され、その区画形成される各画素Pにそれぞれ赤用、緑用、青用の画素電極
P1、薄膜トランジスタ、走査線、データ線などが形成されているとともにラビング処理
した配向膜102が形成されている。
基台11には、主走査方向と直交する副走査方向(X矢印方向及び反X矢印方向)に跨
ぐ門型のガイド部材15が架設されている。ガイド部材15の上側には、X矢印方向に延
びるタンク16が配設され、タンク16には、シール材103を形成するための機能液F
rが収容されている。
タンク16に収容された機能液Frは、熱硬化型の樹脂S及び液晶Fが混合された機能
液であって、液滴吐出ヘッド20から、図5に示すような液滴Fbとなって、吐出可能で
ある。尚、本実施形態では、熱硬化型の樹脂Sとしては、熱硬化性のアクリル樹脂が用い
られる。そして、熱硬化型の樹脂Sに対して液晶Fは、10重量パーセントから90重量
パーセントの割合で混合されていて、特に、30重量パーセントから70重量パーセント
の割合で混合されると好適である。
タンク16に収容された機能液Frは、該タンク16に接続された供給チューブT(図
7参照)を介して液滴吐出ヘッド20に所定の圧力で供給されるようになっている。そし
て、液滴吐出ヘッド20に供給された機能液Frは、該液滴吐出ヘッド20から液滴Fb
(図7参照)となって載置部14に載置された素子基板100に向かって吐出されるよう
になっている。
ガイド部材15には、そのX矢印方向略全長にわたって、X矢印方向に延びる上下一対
のガイドレール18が形成されている。上下一対のガイドレール18には、キャリッジ1
9が取り付けられている。キャリッジ19は、ガイドレール18に案内されてX矢印方向
及び反X矢印方向に移動する。キャリッジ19には、液滴吐出ヘッド20(以下単に、吐
出ヘッドという。)が搭載されている。
図6は、吐出ヘッド20を素子基板100から見た図である。吐出ヘッド20のノズル
プレート25は、一対のノズル列NLを備えている。一対のノズル列NLでは、X矢印方
向から見て、一方のノズル列NLの各ノズルNが、他方のノズル列NLの各ノズルNの間
を補完する。
図7において、吐出ヘッド20の上部には、供給チューブTが連結されている。供給チ
ューブTは、タンク16の機能液Frを吐出ヘッド20に供給する。ノズルプレート25
の各ノズルの上側には、供給チューブTから連通するキャビティ26が形成されている。
キャビティ26は、供給チューブTからの機能液Frを収容して、対応するノズルNに機
能液Frを供給する。キャビティ26の上側には、上下方向に振動してキャビティ26内
の容積を拡大及び縮小する振動板27が貼り付けられている。振動板27の上側には、ノ
ズルNに対応する圧電素子PZが配設されている。圧電素子PZは、上下方向に収縮及び
伸張して振動板27を上下方向に振動させる。
上下方向に振動する振動板27は、機能液Frを所定サイズの液滴Fbにして対応する
ノズルNから吐出させる。吐出された液滴Fbは、対応するノズルNの反Z矢印方向に飛
行して、直下を通過する素子基板100の吐出面100aに対して着弾するようになって
いる。
また、図6及び図7に示すように、吐出ヘッド20のY矢印側の側面には、ラバーヒー
タHが取着され、キャビティ26に収容された機能液Frを予め定めた目標温度に加熱す
る。ここで、目標温度とは、機能液Fr中の樹脂Sが熱硬化することなく、しかも、吐出
ヘッド20が機能液Frを液滴Fbとして吐出することができる粘性になる機能液Frの
温度であって、本実施形態では、70℃としている。吐出ヘッド20の反Y矢印側の側面
には、温度検出手段としての温度検出センサSEが取着され、吐出ヘッド20を介してキ
ャビティ26に収容された機能液Frの温度を検出するようになっている。
尚、対向基板110にスペーサ124を形成する液滴吐出装置は、前記シール材103
を形成する液滴吐出装置10と同じ構成なので、説明の便宜上、省略する。
次に、上記のように構成した液滴吐出装置10の電気的構成を図12に従って説明する
図12において、制御装置50は、CPU50A、ROM50B、RAM50Cなどを
有している。CPU50Aは、ROM50Bに記憶された各種データ及び各種制御プログ
ラムに従って、ステージ13の搬送処理、キャリッジ19の搬送処理、吐出ヘッド20の
液滴吐出処理を実行する。また、制御装置50は、同様に、ラバーヒータHの駆動制御を
実行する。
制御装置50には、各種操作スイッチとディスプレイを有した入出力装置51が接続さ
れている。入出力装置51は、液滴吐出装置10が実行する各種処理の処理状況を表示す
る。入出力装置51は、素子基板100上に液滴Fbでシール材103を形成するための
第1のビットマップデータBD1を生成し、その第1のビットマップデータBD1を制御
装置50に入力する。
第1のビットマップデータBD1は、各ビットの値(0あるいは1)に応じて各圧電素
子PZのオンあるいはオフを規定したデータである。第1のビットマップデータBD1は
、吐出ヘッド20(各ノズルN)の通過する素子基板100の所定のパターンが配置され
る位置に、液滴Fbを吐出するか否かを規定したデータである。すなわち、第1のビット
マップデータBD1は、素子基板100の上面に、予め定めた形状のパターンを形成する
ための目標形成位置に液滴Fbを吐出させるためのデータである。
そして、本実施形態の第1のビットマップデータBD1は、図2に示すように、素子基
板100にシール材103を形成するために、シール材103を形成する位置に予め定め
た量の機能液Frを配置するようにしたデータである。
制御装置50には、X軸モータ駆動回路52が接続されている。制御装置50は、駆動
制御信号をX軸モータ駆動回路52に出力する。X軸モータ駆動回路52は、制御装置5
0からの駆動制御信号に応答して、キャリッジ19を移動させるためのX軸モータMXを
正転又は逆転させる。制御装置50には、Y軸モータ駆動回路53が接続されている。制
御装置50は、駆動制御信号をY軸モータ駆動回路53に出力する。Y軸モータ駆動回路
53は、制御装置50からの駆動制御信号に応答して、ステージ13を移動させるための
Y軸モータMYを正転又は逆転させる。
制御装置50には、ヘッド駆動回路54が接続されている。制御装置50は、所定の吐
出周波数に同期させた吐出タイミング信号LTaをヘッド駆動回路54に出力する。制御
装置50は、各圧電素子PZを駆動するための駆動電圧COMaを吐出周波数に同期させ
てヘッド駆動回路54に出力する。
制御装置50は、ビットマップデータBD1を利用して所定の周波数に同期したパター
ン形成用制御信号SIaを生成し、パターン形成用制御信号SIaをヘッド駆動回路54
にシリアル転送する。ヘッド駆動回路54は、制御装置50からのパターン形成用制御信
号SIaを各圧電素子PZに対応させて順次シリアル/パラレル変換する。ヘッド駆動回
路54は、制御装置50からの吐出タイミング信号LTaを受けるたびに、シリアル/パ
ラレル変換したパターン形成用制御信号SIaをラッチし、パターン形成用制御信号SI
aによって選択される圧電素子PZにそれぞれ駆動電圧COMaを供給する。
制御装置50には、ラバーヒータ駆動回路55が接続されている。制御装置50は、ラ
バーヒータ駆動回路55に駆動制御信号を出力する。ラバーヒータ駆動回路55は、制御
装置50からの駆動制御信号に応答して、ラバーヒータHを駆動制御する。そして、吐出
ヘッド20に取着したラバーヒータHは、吐出ヘッド20内の機能液Frを予め定めた目
標温度にまで加熱する。即ち、ラバーヒータHによって、吐出ヘッド20に供給された機
能液Frは、予め定めた目標温度(本実施形態では70℃)に加熱されるようになってい
る。
制御装置50には、温度検出センサSEが接続されている。制御装置50は、温度検出
センサSEからの検出信号を入力して、その時々の吐出ヘッド20内の機能液Frの温度
を求めるようになっている。制御装置50は、求めた機能液Frの温度と前記予め設定し
た目標温度と比較し、機能液Frの温度が目標温度になるように、ラバーヒータ駆動回路
55を介してラバーヒータHを駆動制御するようになっている。
尚、対向基板110にスペーサ124を形成する液滴吐出装置の電気的構成は、前記シ
ール材103を形成する液滴吐出装置10の電気的構成と同じ構成である。そして、対向
基板110であってブラックマトリクスKと相対向する予め定めた位置に、スペーサ12
4を形成するための第2のビットマップデータBD2(図12にかっこで表示)に基づい
て、対向基板110に液滴Fbが配置される点が相違するだけなので、説明の便宜上省略
する。
次に、上記液滴吐出装置10を利用して素子基板100に、シール材103を形成する
ための機能液Frを配置する方法について説明する。
いま、図1で示すように、吐出ヘッド20は、ステージ13から離間した反X矢印方向
の待機位置で待機している。この待機状態において、制御装置50は、温度検出センサS
Eからの検出信号を入力し、吐出ヘッド20内の機能液Frが目標温度になるように、ラ
バーヒータ駆動回路55を介してラバーヒータHを駆動して、加熱制御している。
また、素子基板100に液滴Fbによるパターンによってシール材103を形成するた
めのビットマップデータBD1が入出力装置51から制御装置50に入力されている。従
って、制御装置50は、入出力装置51からビットマップデータBD1を格納している。
そして、素子基板100をステージ13に載置する。このとき、素子基板100は、ス
テージ13の載置部14上の反Y矢印方向側に配置され、入出力装置51から、制御装置
50へ作業開始の指令信号が出力される。
制御装置50は、X軸モータ駆動回路52を介してX軸モータMXを駆動して吐出ヘッ
ド20を待機位置からX矢印方向に移動(フィード)させる。そして、吐出ヘッド20が
、素子基板100の最も反X矢印方向側がその直下をY矢印方向に通過する位置まで移動
する。吐出ヘッド20が、素子基板100の最も反X矢印方向側がその直下をY矢印方向
に通過する位置まで移動すると、制御装置50は、X軸モータ駆動回路52を介してX軸
モータMXを停止させるとともに、Y軸モータ駆動回路53を介してY軸モータMYを駆
動して、素子基板100をY矢印方向移動(スキャン)させる。
素子基板100をY矢印方向に移動させると、制御装置50は、ビットマップデータB
D1に基づいてパターン形成用制御信号SIaを生成して、パターン形成用制御信号SI
aと駆動電圧COMaをヘッド駆動回路54に出力する。すなわち、制御装置50は、ヘ
ッド駆動回路54を介して各圧電素子PZを駆動制御して、素子基板100が吐出ヘッド
20の直下を通過するとき、該素子基板100にシール材103を形成するために選択さ
れたノズルNから液滴Fbを吐出させる。
素子基板100の最も反X矢印方向側の列に機能液Fr(液滴Fb)の供給が終了する
と、制御装置50は、Y軸モータ駆動回路53を介してY軸モータMYを停止させるとと
もに、X軸モータ駆動回路52を介してX軸モータMXを駆動する。制御装置50はX軸
モータMXを駆動させて、吐出ヘッド20を、素子基板100の次のX矢印方向側に、そ
の直下を反Y矢印方向に通過する位置まで、移動(フィード)させる。
吐出ヘッド20がフィードされると、制御装置50は、Y軸モータ駆動回路53を介し
てY軸モータMYを駆動して、ステージ13を反Y矢印方向に移動(スキャン)させる。
ステージ13の反Y矢印方向に移動を開始させると、制御装置50は、ビットマップデー
タBD1に基づいてパターン形成用制御信号SIaを生成して、パターン形成用制御信号
SIaと駆動電圧COMaをヘッド駆動回路54に出力する。すなわち、制御装置50は
、ヘッド駆動回路54を介して各圧電素子PZを駆動制御して、素子基板100が吐出ヘ
ッド20の直下を通過するとき、該素子基板100にシール材103を形成するために選
択されたノズルNから液滴Fbを吐出させる。
以後、同様な動作を繰り返して、図8に示すように、吐出ヘッド20を、始点101S
から破線の矢印で示すように終点101nまで、素子基板100に対して相対移動させる
。そして、吐出ヘッド20は、素子基板100の所定の位置に四角枠状のシール材103
を形成するための所定の量の機能液Frを配置して、一つの素子基板100に対する機能
液Frの供給が完了する。
次に、液滴吐出装置を利用して対向基板110に、スペーサ124を形成するための機
能液Frを配置する方法について説明する。尚、説明の便宜上、スペーサ124を形成す
る液滴吐出装置について、図1及び図12に示す、素子基板100に機能液Frを配置す
る液滴吐出装置10の符号を使って説明する。
いま、図1で示すように、吐出ヘッド20は、ステージ13から離間した反X矢印方向
の待機位置で待機している。この待機状態において、制御装置50は、吐出ヘッド20内
の機能液Frが目標温度になるように、加熱制御している。
また、対向基板110に液滴Fbによるパターンによってスペーサ124を形成するた
めのビットマップデータBD2が入出力装置51から制御装置50に入力されている。従
って、制御装置50は、入出力装置51からビットマップデータBD2を格納している。
そして、対向基板110をステージ13に載置する。このとき、対向基板110は、ス
テージ13の載置部14上の反Y矢印方向側に配置され、入出力装置51から、制御装置
50へ作業開始の指令信号が出力される。
制御装置50は、吐出ヘッド20を待機位置から、吐出ヘッド20が対向基板110の
最も反X矢印方向側がその直下をY矢印方向に通過する位置まで移動(フィード)させて
から、対向基板110をY矢印方向移動(スキャン)させる。
対向基板110をY矢印方向に移動させると、制御装置50は、ビットマップデータB
D2に基づいてパターン形成用制御信号SIaを生成して、パターン形成用制御信号SI
aと駆動電圧COMaをヘッド駆動回路54に出力する。すなわち、制御装置50は、ヘ
ッド駆動回路54を介して各圧電素子PZを駆動制御して、対向基板110が吐出ヘッド
20の直下を通過するとき、該対向基板110にスペーサ124を形成するために選択さ
れたノズルNから液滴Fbを吐出させる。
対向基板110の最も反X矢印方向側の列に機能液Fr(液滴Fb)の供給が終了する
と、制御装置50は、対向基板110のY矢印方向の移動を停止させる。対向基板110
の移動が停止したら、制御装置50は、吐出ヘッド20を、対向基板110の次のX矢印
方向側に、その直下を反Y矢印方向に通過する位置まで、移動(フィード)させる。
吐出ヘッド20がフィードされると、制御装置50は、対向基板110を反Y矢印方向
に移動(スキャン)させる。対向基板110を反Y矢印方向に移動開始させると、制御装
置50は、ビットマップデータBD2に基づいてパターン形成用制御信号SIaを生成し
て、パターン形成用制御信号SIaと駆動電圧COMaをヘッド駆動回路54に出力する
。すなわち、制御装置50は、ヘッド駆動回路54を介して各圧電素子PZを駆動制御し
て、対向基板110が吐出ヘッド20の直下を通過するとき、該対向基板110にスペー
サ124を形成するために選択されたノズルNから液滴Fbを吐出させる。
以後、同様な動作を繰り返して、図9に示すように、吐出ヘッド20を、始点111S
から破線の矢印で示すように終点111nまで、対向基板110に対して相対移動させる
。そして、吐出ヘッド20は、対向基板110の所定の個所に、スペーサ124を形成す
るための所定の量の機能液Frを配置して、一つの対向基板110に対する機能液Frの
供給が完了する。
素子基板100に機能液Frによってシール材103が形成されて、対向基板110に
機能液Frによってスペーサが形成されると、素子基板100のシール材103に囲まれ
た部分Zに液晶Fを配置した状態で、両基板100,110の貼り合わせが行なわれる。
図10は、素子基板100と対向基板110との貼り合わせるときの、シール材103
の状態を示す図である。図11は、素子基板100と対向基板110との貼り合わせると
きの、一画素分の部分のスペーサ124の状態を示す図である。
まず、貼り合わせは、図10(a)に示すように、素子基板100のシール材103で
囲まれた部分Zに所定の量の液晶Fを配置する。
次に、図10(b)に示すように、液晶Fの配置された素子基板100に、対向基板1
10を相対向させる。図11(a)は、このときの、一画素分の部分の素子基板100及
び対向基板110が相対向した状態を示す。
図10(c)に示すように、素子基板100と対向基板110とを相対向させたまま近
づけると、素子基板100内に配置された液晶Fは、素子基板100と対向基板110と
に押されて広がる。また、素子基板100のシール材103は、対向基板110に接する
。このとき、図11(b)に示すように、一画素分の部分では、素子基板100の配向膜
102に対向基板110のスペーサ124が接近する。
そして、図10(d)に示すように、液晶Fがシール材103で囲まれた部分に均一に
配置された状態で、シール材103は、両基板100,110の間に確実に液晶Fを封止
する。このとき、図11(c)に示すように、対向基板110のスペーサ124は、素子
基板100に当接する。
それから、貼り合わされた両基板100,110は、液晶Fを保持した状態で熱処理が
行なわれる。そして、シール材103及びスペーサ124は、熱硬化型の樹脂Sが硬化し
て該樹脂Sと混合している液晶Fが固定された状態となり貼り合わせを完了する。その結
果、素子基板100と対向基板110との間であってシール材103に囲まれた部分Zに
配置された液晶Fは、確実に封止されるとともに、硬化したスペーサ124によって、所
定の間隔に保たれる。
本実施形態によれば以下のような効果を得ることができる。
(1)本実施形態によれば、シール材103は、熱硬化型の樹脂S及び液晶Fが混合さ
れた機能液Frによって形成した。従って、シール材103の特性を、シール材103で
囲まれた部分Zに封止された液晶Fの熱膨張率や機械的特性などと略均等にすることがで
きた。従って、シール材103と、シール材103で囲まれた部分Zに封止された液晶F
との熱膨張率の違いによって、素子基板100と対向基板110との間隔が不均一になる
ことが抑制できるとともに、それぞれの基板100,110自体が撓むことも抑制できる
。その結果、温度変化によって液晶表示装置の強度が低下する虞などを抑制することがで
きる。
(2)本実施形態によれば、スペーサ124は、熱硬化型の樹脂S及び液晶Fが混合さ
れた機能液Frによって形成した。従って、スペーサ124の特性を、シール材103で
囲まれた部分Zに封止された液晶Fの熱膨張率や機械的特性などと略均等にすることがで
きた。従って、スペーサ124と、素子基板100と対向基板110とのシール材103
で囲まれた部分Zに封止された液晶Fとの熱膨張率の違いによって、素子基板100と対
向基板110との間隔が不均一になることが抑制できるとともに、それぞれの基板100
,110自体が撓むことも抑制できる。その結果、温度変化によって液晶表示装置の強度
が低下する虞などを抑制することができる。
(3)本実施形態によれば、スペーサ124は、対向基板110においてブラックマト
リクスKの形成された部分と相対向する位置に形成した。従って、スペーサ124は、液
晶表示装置の表示領域内に配置されることがなく、スペーサ124によって液晶表示装置
の表示品位を低下する虞を防ぐことができる。
(4)本実施形態によれば、シール材103は、機能液Frを液滴吐出装置10によっ
て素子基板100に配置して形成した。従って、フォトリゾグラフィ法のように露光や現
像を行なわずに、シール材103を素子基板100の配向膜102上に形成することがで
きた。その結果、配向膜102の形成後にシール材103を形成しても、配向膜102の
配向性能を低下させる虞がない。また、配向性能の低下を考慮して、配向膜102の形成
前にシール材103を形成することによって、ラビング不良を生じさせる虞や、シール材
103がラビング処理によって欠損する虞を無くすことができる。
また、フォトリソグラフィー法に比較して工程数を減らすことができるとともに、機能
液Frを配置する位置もビットマップデータBD1を変更するだけで容易に変更すること
ができる。その結果、シール材103の形成が容易になる。
(5)本実施形態によれば、スペーサ124は、機能液Frを液滴吐出装置によって対
向基板110に配置して形成した。従って、フォトリゾグラフィ法のように露光や現像を
行なわずに、スペーサ124を対向基板110の配向膜123の上に形成することができ
た。その結果、配向膜123の形成後にスペーサ124を形成しても、配向膜123の配
向性能を低下させる虞がない。また、配向性能の低下を考慮して、配向膜123の形成前
にスペーサ124を形成することによって、ラビング不良を生じさせる虞や、スペーサ1
24がラビング処理によって欠損する虞を無くすことができる。
また、フォトリソグラフィー法に比較して工程数を減らすことができるとともに、機能
液Frを配置する位置もビットマップデータBD2を変更するだけで容易に変更すること
ができる。その結果、スペーサ124の形成が容易になる。
(6)本実施形態によれば、シール材103は、熱硬化型の樹脂Sが混合された機能液
Frによって形成した。従って、シール材103を硬化させるときに、露光させる必要が
なく、露光に伴って生じる配向膜102の配向特性の劣化を防ぐことができる。
(7)本実施形態によれば、スペーサ124は、熱硬化型の樹脂Sが混合された機能液
Frによって形成した。従って、スペーサ124を硬化させるときに、露光させる必要が
なく、露光に伴って生じる配向膜123の配向特性の劣化を防ぐことができる。
(8)本実施形態によれば、シール材103が形成された素子基板100とスペーサ1
24が形成された対向基板110とを貼り合わせて、液晶表示装置を形成した。従って、
液晶表示装置を熱処理することで、シール材103及びスペーサ124を同時に熱硬化型
の樹脂Sを硬化させて液晶Fを固定した状態にできる。その結果、シール材103及びス
ペーサ124を形成する工程及び時間を減らすことができる。
尚、上記実施形態は以下のように変更してもよい。
・上記実施形態では、機能液Frに混合された熱硬化型の樹脂Sは、熱硬化型のアクリ
ル樹脂であった。しかし、これに限らず、熱硬化型の樹脂Sは、ポリエチレン樹脂、ポリ
プロピレン樹脂、ポリ塩化ビニル樹脂、ポリ塩化ビニリデン樹脂、ポリスチレン樹脂、ポ
リ酢酸ビニル樹脂、ABS樹脂、テフロン(登録商標)樹脂、フェノール樹脂、エポキシ樹
脂、メラニン樹脂、尿素樹脂、不飽和ポリエステル樹脂、アルキド樹脂、ポリウレタン樹
脂、ポリイミド樹脂もしくはポリアミドやポリカーボネートのようなエンジニアプラスチ
ックでもよい。
尚、これらには、液晶Fは、10重量パーセントから90重量パーセントの割合で混合
されると好ましい。
・上記実施形態では、機能液Frに熱硬化型の樹脂Sを混合した。しかし、これに限ら
ず、熱硬化型の樹脂Sは、光硬化型の樹脂(例えば、アクリル、エポキシ)などでもよい
。そうすれば、製造に好適な硬化型の樹脂を用いることができる。
・上記実施形態では、機能液Frには液晶Fを混合した。しかし、これに限らず、液晶
Fは、液晶モノマーでも良い。また、複数の液晶分子をブレンドしたものを機能液Frに
混合してもよい。
尚、液晶モノマーの場合は、熱硬化型の樹脂Sに対して、10重量パーセントから90
重量パーセントの割合で混合されると好ましい。
また、シール材103又はスペーサ124に使用される液晶Fは、シール材103で囲
まれた部分Zに封止された液晶Fと同じものであったが、互いに相違してもよい。
・上記実施形態では、スペーサ124は、対向基板110に液滴吐出装置にて配置した
。しかし、これに限らず、スペーサ124は、素子基板100に配置されても良い。そう
すれば、シール材103とスペーサ124を同時に形成することができる。
また、素子基板100に形成されたスペーサは、回路などの透光性を有しない部分の上
方に形成すれば、表示品位を低下させる虞がなく、好適である。
・上記実施形態では、シール材103は素子基板100に、スペーサ124は対向基板
110に、それぞれ機能液Frにより形成した。しかし、これに限らず、シール材103
もしくはスペーサ124のいずれか一方だけを機能液Frによって形成してもよい。
・上記実施形態では、素子基板100と対向基板110を貼り合わせてから、熱処理を
行い、シール材103及びスペーサ124を、一回の加熱処理によって同時に熱硬化型の
樹脂Sが硬化して液晶Fが固定された状態に形成した。しかし、これに限らず、シール材
103又はスペーサ124は、それぞれ別々の加熱処理によって、熱硬化型の樹脂Sが硬
化して液晶Fが固定された状態に形成されてもよい。
・上記実施形態では、スペーサ124は、配向膜123の上面に形成した。しかし、こ
れに限らず、配向膜123の下である対向電極122や保護膜121の上面に形成しても
よい。
・上記実施形態では、スペーサ124は、液滴吐出装置にて配置形成した。しかし、こ
れに限らず、スプレードライ法、再沈法、乳化法などの微粒子を形成する方法によって、
機能液Frから微粒子状のスペーサを形成してもよい。そして、形成された微粒子状のス
ペーサ、例えばビーズを、液晶Fを配置する基板、例えば、素子基板100上に撒くよう
に配置して実施してもよい。尚、機能液Frに含まれる熱硬化型の樹脂Sは、前記方法に
よって微粒子状のスペーサを形成する際に好適な材料、例えば接着性のある材料、それを
含む材料に変更するとよい。
そうすれば、従来からの微粒子、例えばビーズを用いた液晶表示装置に、液晶Fの熱膨
張率や機械的特性などと略均等な特性を有する微粒子状のスペーサを用いて、温度変化な
どの影響を抑止して、好適に素子基板と対向基板の間隔を保持することができる液晶表示
装置を製造することができる。
・上記実施形態では、スペーサ124の高さは、5マイクロメートルとした。しかし、
スペーサ124の高さは、5マイクロメートルに限定されない。
・上記実施形態では、素子基板100と対向基板110を貼り合わせて一つの液晶表示
装置を製造した。しかし、これに限らず、基板上に多数の素子基板(セル)を区画形成し
た大判のガラス基板(マザーガラス基板)と、同じく基板上に多数の対向基板(セル)を
区画形成した大判のガラス基板(マザーガラス基板)とを貼り合わせてから、カットして
多数の液晶表示装置を製造してもよい。
液滴吐出装置の全体斜視図。 素子基板を説明するための平面図。 対向基板を説明するための平面図。 図3のA−A線から見た対向基板の要部断面図。 機能液を説明する模式図。 液滴吐出ヘッドを対向基板側から見た下面図。 液滴吐出ヘッドの要部側断面図。 素子基板に機能液を配置する順番を示す平面図。 対向基板に機能液を配置する順番を示す平面図。 素子基板と対向基板との貼り合わせを説明する図であって、(a)はシール材の形成された素子基板に液晶を配置した状態を示す図、(b)は対向基板を相対向させた状態を示す図、(c)は貼り合わせを開始した状態を示す図、(d)は貼り合わせが完了した状態を示す図。 素子基板と対向基板との貼り合わせを説明する図であって、(a)はスペーサの形成された対向基板と素子基板とが相対向した状態を示す図、(b)は貼り合わせを開始した状態を示す図、(c)は貼り合わせが完了した状態を示す図。 液滴吐出装置の電気的構成を説明するための電気ブロック図。
符号の説明
F…液晶、10…液滴吐出装置、11…基台、12…案内溝、13…ステージ、14…
載置部、15…ガイド部材、16…タンク、18…ガイドレール、19…キャリッジ、2
0…液滴吐出ヘッド、50…制御装置、100…素子基板、102…第1の配向膜、10
3…シール材、110…対向基板、120…カラーフィルタ、121…保護膜、122…
対向電極、123…第2の配向膜、124…スペーサ。

Claims (10)

  1. 素子基板と、対向基板とを貼り合わせて、前記素子基板と前記対向基板との間に配置さ
    れた液晶の間隔を保持するスペーサであって、
    前記スペーサは、液晶分子を硬化型樹脂にて固めて形成したことを特徴とするスペーサ
  2. 請求項1に記載のスペーサにおいて、
    前記硬化型樹脂は、熱硬化型の樹脂であることを特徴とするスペーサ。
  3. 請求項1又は2に記載のスペーサにおいて、
    前記スペーサは、微粒子状に成形されることを特徴とするスペーサ。
  4. 素子基板と、対向基板とを貼り合わせて、前記素子基板と前記対向基板との間に配置さ
    れた液晶を封止するシール材であって、
    前記シール材は、液晶分子を硬化型樹脂にて固めて形成したことを特徴とするシール材
  5. 請求項4に記載のシール材において、
    前記硬化型樹脂は、熱硬化型の樹脂であることを特徴とするシール材。
  6. 素子基板と、対向基板とを貼り合わせて、前記素子基板と前記対向基板との間に配置さ
    れた液晶の間隔を保持する液晶表示装置のスペーサの形成方法であって、
    液晶分子と硬化型樹脂を含む機能液を、液滴吐出ヘッドにて前記素子基板と前記対向基
    板のいずれかに吐出した後、硬化させたことを特徴とする液晶表示装置のスペーサの形成
    方法。
  7. 請求項6に記載の液晶表示装置のスペーサの形成方法において、
    前記液滴吐出ヘッドは、光を遮断する遮光部分と対峙する位置に、機能液の液滴を吐出
    してスペーサを形成する事を特徴とする液晶表示装置のスペーサの形成方法。
  8. 素子基板と、対向基板とを貼り合わせて、前記素子基板と前記対向基板との間に配置さ
    れた液晶を封止する液晶表示装置のシール材の形成方法であって、
    液晶分子と硬化型樹脂を含む機能液を、液滴吐出ヘッドにて前記素子基板に吐出した後
    、硬化させたことを特徴とする液晶表示装置のシール材の形成方法。
  9. 素子基板と、対向基板とを貼り合わせて、前記素子基板と前記対向基板との間に配置さ
    れた液晶の間隔を保持するスペーサを備えた液晶表示装置であって、
    前記スペーサを、請求項1〜3のいずれか1つに記載のスペーサで形成したことを特徴
    とする液晶表示装置。
  10. 素子基板と、対向基板とを貼り合わせて、前記素子基板と前記対向基板との間に配置さ
    れた液晶を封止するシール材を備えた液晶表示装置であって、
    前記シール材を、請求項4又は5に記載のシール材で形成したことを特徴とする液晶表
    示装置。
JP2007000863A 2007-01-06 2007-01-06 スペーサ、スペーサの形成方法、シール材、シール材の形成方法及び液晶表示装置 Withdrawn JP2008170481A (ja)

Priority Applications (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP2007000863A JP2008170481A (ja) 2007-01-06 2007-01-06 スペーサ、スペーサの形成方法、シール材、シール材の形成方法及び液晶表示装置

Applications Claiming Priority (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP2007000863A JP2008170481A (ja) 2007-01-06 2007-01-06 スペーサ、スペーサの形成方法、シール材、シール材の形成方法及び液晶表示装置

Publications (1)

Publication Number Publication Date
JP2008170481A true JP2008170481A (ja) 2008-07-24

Family

ID=39698665

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
JP2007000863A Withdrawn JP2008170481A (ja) 2007-01-06 2007-01-06 スペーサ、スペーサの形成方法、シール材、シール材の形成方法及び液晶表示装置

Country Status (1)

Country Link
JP (1) JP2008170481A (ja)

Similar Documents

Publication Publication Date Title
US7518702B2 (en) Electrooptical manufacturing apparatus, electrooptical apparatus, and electronic device
JP2009109562A (ja) 液晶表示装置
WO2006126512A1 (ja) 液滴吐出装置、電気光学パネル及び電子機器
JP2008221697A (ja) シール印刷用スクリーン版、シール印刷方法及びこれらを用いて製造された液晶パネル
JP2008094023A (ja) スクリーン印刷装置、及び前記スクリーン印刷装置を用いて製造された液晶パネル
JP2004347837A (ja) 電気光学パネルの製造方法、電気光学パネルの製造プログラム及び電気光学パネルの製造装置、並びに電子機器の製造方法
JP2008170481A (ja) スペーサ、スペーサの形成方法、シール材、シール材の形成方法及び液晶表示装置
JP4146398B2 (ja) 液晶表示パネルのディスペンサ装置及びディスペンシング方法
JP4385631B2 (ja) 液滴の塗布方法、コンピュータプログラム、有機elパネルの製造方法、電気光学パネルの製造方法及び電子機器の製造方法、並びに液滴の塗布装置、電気光学パネル、電気光学装置及び電子機器
JP4145729B2 (ja) 液晶装置の製造方法
JP2004272087A (ja) 電気光学装置の製造方法、電子光学装置及び電子機器
JP4415638B2 (ja) 液滴吐出装置、液滴吐出方法
JP4023092B2 (ja) 液晶表示装置の製造方法
JP2008229527A (ja) 液滴吐出ヘッド及び液滴吐出装置
JP2008287062A (ja) 液晶パネルの製造方法
JP4126612B2 (ja) 液晶表示パネルのディスペンサ
JP2008287060A (ja) 液晶表示パネルの製造方法
JP2008229479A (ja) 液滴吐出方法及び液晶パネルの製造方法
KR100983583B1 (ko) 액정표시패널의 디스펜싱 장비 및 이를 이용한 실 패턴형성방법
JP2009172524A (ja) 液滴吐出装置、及び液状体の配置方法、並びにカラーフィルタの製造装置、カラーフィルタの製造方法、電気光学装置の製造装置、及び電気光学装置の製造方法
JP2010036551A (ja) スクリーン印刷装置、スクリーン印刷方法及び液晶パネルの製造方法
JP2008168587A (ja) スクリーン印刷装置、スクリーン印刷方法、及び表示装置の製造方法
JP2008286822A (ja) 液晶表示パネルの製造方法
JP2008164938A (ja) 液晶パネルの製造方法、及び液晶パネル
JP2007275805A (ja) パターン形成方法、液滴吐出装置及び液晶表示装置

Legal Events

Date Code Title Description
A300 Withdrawal of application because of no request for examination

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A300

Effective date: 20100406