JP2008159204A

JP2008159204A - 垂直磁気記録ヘッド装置

Info

Publication number: JP2008159204A
Application number: JP2006349329A
Authority: JP
Inventors: Masaaki Fujima; 優亮藤間; Hiroshi Kameda; 博史亀田; Kiyoshi Kobayashi; 潔小林; Toru Takahashi; 亨高橋
Original assignee: TDK Corp
Current assignee: TDK Corp
Priority date: 2006-12-26
Filing date: 2006-12-26
Publication date: 2008-07-10
Also published as: US8018680B2; US20080152951A1

Abstract

【課題】Edge Write磁界を低く抑えて外部磁界耐性を向上させることができる垂直磁気記録ヘッド装置を提供すること。
【解決手段】本発明の垂直磁気ヘッド装置は、記録媒体Ｍとの対向面で露出する主磁極を有する磁性層２４と、前記磁性層２４上に非磁性層を介して設けられたリターンヨーク層２７と、前記磁性層２４及び前記リターンヨーク層２７に記録磁界を与えるためのコイル層１８，２３と、を具備し、リターンヨーク層２７は、トラック幅方向におけるエッジ領域においてハイト方向に沿って延在する相対的に厚い厚膜部２７ｄを有する。
【選択図】図３

Description

本発明は、記録媒体の媒体面に対して垂直方向に磁界を与えて記録を行う垂直磁気記録ヘッド装置に関する。

垂直磁気記録ヘッド装置は、記録媒体に対向する面（媒体対向面）に、主磁極層上に対して非磁性絶縁層を介してリターンヨーク層を設けてなる積層構造を有する。主磁極層とリターンヨーク層とは、媒体対向面よりもハイト方向における奥部で磁気的に接続されている。また、非磁性絶縁層内には、主磁極層及びリターンヨーク層に記録磁界を与えるためのコイル層が埋設されている。このような構成を有する磁気ヘッド装置において、コイル層に通電することにより、主磁極層とリターンヨーク層との間に記録磁界が誘導され、この記録磁界が主磁極層の媒体対向面から記録媒体のハード膜に垂直に入射し、記録媒体のソフト膜を通ってリターンヨーク層に帰還する。これにより、記録媒体における主磁極層と対向する領域に情報記録される（特許文献１）。
特開２００５−１２２８３１号公報

垂直磁気記録ヘッド装置におけるリターンヨーク層やシールド層は、一般的に略長方形の薄膜磁性体で構成されており、ハイト方向の外部磁界を印加した場合に磁性体内部の磁束が薄膜のエッジに集中する。このとき、磁化方向成分の中でハイト方向成分が最も大きくなり、これが既存情報の上書き（Edge Write）の原因となる。すなわち、Edge Write磁界を低減するためには、リターンヨーク層やシールド層のエッジから発生するハイト方向成分の磁界を小さくする必要がある。

本発明はかかる点に鑑みてなされたものであり、Edge Write磁界を低く抑えて外部磁界耐性を向上させることができる垂直磁気記録ヘッド装置を提供することを目的とする。

本発明の垂直磁気記録ヘッド装置は、記録媒体との対向面で露出する主磁極を有する第１磁性層と、前記第１磁性層に対して非磁性層を介して設けられた第２磁性層と、前記第１磁性層に記録磁界を与えるためのコイル層と、を具備し、前記第２磁性層は、トラック幅方向におけるエッジ領域においてハイト方向に沿って延在する相対的に厚い厚膜部を有することを特徴とする。

この構成によれば、第２磁性層は、トラック幅方向におけるエッジ領域においてハイト方向に沿って延在する相対的に厚い厚膜部を有する。厚膜部においては、媒体対向面におけるエッジ部が相対的に大きい露出面積を有する状態となる。この厚膜部においては、厚膜部近傍の磁束密度が低くなり、厚膜部から発生する磁界強度が小さくなる。このため、相対的に薄い第２磁性層であってもEdge Write磁界を低く抑えて外部磁界耐性を向上させることができる。

本発明の垂直磁気記録ヘッド装置においては、前記厚膜部が前記対向面で露出する位置に設けられたことが好ましい。また、本発明の垂直磁気記録ヘッド装置においては、前記厚膜部のトラック幅方向の長さが４μｍ以上１０μｍ以下であることが好ましい。

本発明の垂直磁気記録ヘッド装置は、記録媒体との対向面で露出する主磁極を有する第１磁性層と、前記第１磁性層に対して非磁性層を介して設けられた第２磁性層と、前記第１磁性層に記録磁界を与えるためのコイル層と、を具備し、前記第２磁性層は、トラック幅方向におけるエッジ領域においてハイト方向に沿って延在する相対的に厚い厚膜部を有するので、Edge Write磁界を低く抑えて外部磁界耐性を向上させることができる。

以下、本発明の実施の形態について添付図面を参照して詳細に説明する。
ここでは、第２磁性層がリターンヨーク層である場合について説明する。
垂直磁気記録ヘッド装置において、情報記録時に内部の温度が高くなると、リターンヨーク層を構成する材料と、リターンヨーク層の周囲の絶縁材料などとの間での熱膨張係数の違いにより、リターンヨーク層が媒体対向面から突出し易くなるという、いわゆるＰＴＰ（Pole Tip Protrusion）現象が起こる。

本発明者らは、リターンヨーク層の膜厚を薄くすることにより、ＰＴＰ現象を抑制することができることを見出した。しかしながら、ＰＴＰ抑制のためにリターンヨーク層の膜厚を一様に薄くして、媒体対向面に露出するリターンヨーク層の面積が小さくなると、リターンヨーク層がハイト方向に磁化し易くなり、発生するハイト方向成分磁界強度がおおきくなるためEdge Writeが発生するという恐れがある。したがって、本発明者らは、ＰＴＰ現象を抑制しつつ、Edge Write磁界を低く抑えて外部磁界耐性を向上させることを目的としている。

すなわち、本発明の骨子は、記録媒体との対向面で露出する主磁極を有する第１磁性層と、前記第１磁性層に対して非磁性層を介して設けられた第２磁性層と、前記第１磁性層に記録磁界を与えるためのコイル層と、を具備し、前記第２磁性層は、トラック幅方向におけるエッジ領域においてハイト方向に沿って延在する相対的に厚い厚膜部を有する垂直磁気記録ヘッド装置により、ＰＴＰ現象を抑制しつつ、Edge Write磁界を低く抑えて外部磁界耐性を向上させることである。

図１は、本発明の実施の形態に係る垂直磁気記録ヘッドを備えた磁気ヘッドを示す縦断面図である。図２は、図１に示す垂直磁気記録ヘッドの部分平面図及びリターンヨーク層の部分正面図である。図１において、Ｘはトラック幅方向を示し、Ｙはハイト方向を示し、Ｚは膜厚方向を示す。各方向は残り２つの方向に対して直交する関係となっている。

以下、本発明の実施の形態について添付図面を参照して詳細に説明する。
図１は、本発明の実施の形態に係る垂直磁気記録ヘッドを備えた磁気ヘッドを示す縦断面図である。図２は、図１に示す垂直磁気記録ヘッドの部分平面図及びリターンヨーク層の部分正面図である。図１において、Ｘはトラック幅方向を示し、Ｙはハイト方向を示し、Ｚは膜厚方向を示す。各方向は残り２つの方向に対して直交する関係となっている。なお、本実施の形態においては、スリットを有する磁性層がリターンヨーク層である場合について説明する。

図１に示す垂直磁気記録ヘッドＨ_Ｗは、記録媒体Ｍに垂直磁界を与え、記録媒体Ｍのハード膜Ｍａを垂直方向に磁化させる。記録媒体Ｍは、例えばディスク状であり、その表面に残留磁化の高いハード膜Ｍａを有し、その内側に磁気透過率の高いソフト膜Ｍｂを有しており、ディスクの中心が回転中心となって回転するように構成されている。

スライダ１０は、Ａｌ_２Ｏ_３・ＴｉＣなどの非磁性材料で構成されている。スライダ１０の対向面１０ａは記録媒体Ｍに対向しており、記録媒体Ｍが回転すると、表面の空気流によりスライダ１０が記録媒体Ｍの表面から浮上し、又はスライダ１０が記録媒体Ｍに摺動する。スライダ１０のトレーリング側端面（上面）１０ｂには、Ａｌ_２Ｏ_３又はＳｉＯ_２などの無機材料で構成された非磁性絶縁層１２が形成されており、この非磁性絶縁層１２上に読取り部Ｈ_Ｒが形成されている。

読取り部Ｈ_Ｒは、非磁性絶縁層１２上に形成された下部シールド層１３と、下部シールド層１３上に無機絶縁層（ギャップ絶縁層）１５を介して形成された上部シールド層１６とを有する。これらのシールド層１３，１６は、主磁極に対して幅広に形成されている。無機絶縁層１５内には、読み取り素子１４が設けられている。読み取り素子１４としては、ＡＭＲ（Anisotropic MagnetoResistance）素子、ＧＭＲ（Giant MagnetoResistance）素子、ＴＭＲ（Tunnel MagnetoResistance）素子などの磁気抵抗効果素子が用いられる。

上部シールド層１６上には、コイル絶縁下地層１７を介して、導電性材料で構成された複数本の下層コイル片１８が形成されている。下層コイル片１８は、例えばＡｕ，Ａｇ，Ｐｔ，Ｃｕ，Ｃｒ，Ａｌ，Ｔｉ，ＮｉＰ，Ｍｏ，Ｐｄ，Ｒｈ，Ｎｉから選ばれた少なくとも１種の金属材料で構成される。また、下層コイル片１８は、これらの非磁性金属材料で構成された層を積層して構成しても良い。

下層コイル片１８の周囲には、Ａｌ_２Ｏ_３などの無機絶縁材料や、レジストなどの有機絶縁材料で形成されたコイル絶縁層１９が形成されている。コイル絶縁層１９の上面は平坦に形成され、この上面に、メッキ下地層（図示せず）が形成され、このメッキ下地層上に、主磁極層２４が設けられている。主磁極層２４の周囲は、Ａｌ_２Ｏ_３やＳｉＯ_２などで構成された絶縁層３２によって埋められ、主磁極層２４の上面と絶縁層３２の上面とが略同一平面になるように平坦化処理されている。主磁極層２４は、例えばＮｉＦｅ、ＣｏＦｅ、ＮｉＦｅＣｏなどの飽和磁束密度の高い強磁性材料で構成されており、例えばメッキにより形成される。

図２に示すように、主磁極層２４は、記録媒体との対向面Ｈ１ａ（対向面Ｈ１ａはスライダ１０の対向面１０ａと略同一平面で形成されている）からハイト方向（図示Ｙ方向）にトラック幅Ｔｗで形成された細長い形状の前方部２４ａと、前方部２４ａのハイト方向後方において前方部２４ａよりもトラック幅方向（図示Ｘ方向）の幅寸法が広い後方部２４ｂ（最大幅寸法Ｔ２）とを有する。

図１に示すように、主磁極層２４上には、Ａｌ_２Ｏ_３又はＳｉＯ_２などの無機材料で構成された非磁性層であるギャップ層２１が形成されている。ギャップ層２１上には、コイル絶縁下地層２２を介して上層コイル片２３が形成されている。ギャップ層２１は、上層コイル片２３の絶縁下地としても機能しているので、コイル絶縁下地層２２は形成されていなくても良い。上層コイル片２３は、下層コイル片１８と同様に、導電性材料によって複数本形成されている。上層コイル片２３は、例えばＡｕ，Ａｇ，Ｐｔ，Ｃｕ，Ｃｒ，Ａｌ，Ｔｉ，ＮｉＰ，Ｍｏ，Ｐｄ，Ｒｈ，Ｎｉから選ばれた少なくとも１種の金属材料で構成される。また、上層コイル片２３は、これらの非磁性金属材料で構成された層を積層して構成しても良い。

下層コイル片１８と上層コイル片２３とは、図２に示すように、ソレノイド状に配置され、各コイル片のトラック幅方向（図示Ｘ方向）における端部同士が電気的に接続されている。下層コイル片１８及び上層コイル片２３には、それぞれ引き出し部１８ａ，２３ａが形成されており、この引き出し部１８ａ，２３ａから電流がソレノイド状コイルに供給されるようになっている。

上層コイル片２３上には、Ａｌ_２Ｏ_３などの無機絶縁材料や、レジストなどの有機絶縁材料で構成されたコイル絶縁層２６が形成されている。また、本実施の形態においては、ギャップ層２１上に、無機材料又は有機材料で構成された間隔調整絶縁層２８が形成されている。コイル絶縁層２６の前縁は、間隔調整絶縁層２８上に重なっている。図２に示すように、間隔調整絶縁層２８の前縁２８ａは、トラック幅方向（図示Ｘ方向）と略平行な方向に向けて直線状に延在している。間隔調整絶縁層２８の前縁２８ａは、対向面Ｈ１ａからハイト方向に所定距離（ギャップデプス）Ｌ１だけ離れて形成されている。間隔調整絶縁層２８は、図２に示すように、トラック幅方向（図示Ｘ方向）に長く延在している。間隔調整絶縁層２８の前縁２８ａの幅寸法Ｔ３は、主磁極層２４の最大幅寸法Ｔ２よりも小さく形成される。

ソレノイド状のコイル層を用いる場合、上層コイル片２３のトラック幅方向の幅寸法は、主磁極層２４の最大幅寸法Ｔ２よりも必ず大きくなるので、上層コイル片２３上を覆うコイル絶縁層２６の最大幅寸法Ｔ４は、主磁極層２４の最大幅寸法Ｔ２より必ず大きくなる。間隔調整絶縁層２８は、例えば有機絶縁材料で構成され、熱硬化により形成される。熱処理により間隔調整絶縁層２８の縦断面形状は、矩形状から略半楕円形状（あるいは少なくとも上面は曲面状）となる。間隔調整絶縁層２８上に一部重なってハイト方向に向けて形成されるコイル絶縁層２６も有機絶縁材料で構成され、熱硬化により形成されたものであり、コイル絶縁層２６の対向面側上面は、間隔調整絶縁層２８の上面から曲面形状に盛り上がって形成される。間隔調整絶縁層２８及びコイル絶縁層２６（以下、この２層を「絶縁層３０」と称する場合がある）は、ギャップ層２１の上面を基準平面としたとき、基準平面よりも上方（図示Ｚ方向）に盛り上がって形成されている。絶縁層３０の周囲には、ギャップ層２１の上面が露出している。以下では、間隔調整絶縁層２８の前縁２８ａと対向面Ｈ１ａとの間の領域を前方領域Ａと称し、絶縁層３０のトラック幅方向（図示Ｘ方向）における両側の領域を両側領域Ｂと称する。

図１及び図２に示すように、前方領域Ａ上、絶縁層３０上、及び両側領域Ｂ上には、パーマロイなどの磁性材料で構成された第２磁性層であるリターンヨーク層２７が形成されている。図１に示すように、リターンヨーク層２７のハイト方向の後端部は、主磁極層２４と磁気的に接続する接続部２７ｃとなっている。リターンヨーク層２７上は、無機絶縁材料などで構成された保護層３１により覆われている。なお、第２磁性層としては、接続部２７ｃを有しない、すなわち主磁極を有する磁性層と磁気的結合のない、単なるシールド作用を有する層であっても良い。このリターンヨーク層２７は、主磁極に対して幅広に形成されている。

リターンヨーク層２７は、トラック幅方向におけるエッジ領域においてハイト方向に沿って延在する相対的に厚い厚膜部２７ｄを有する。厚膜部２７ｄは、例えば、図３に示す形状、すなわち素子中心に対応する領域が少なくとも相対的に膜厚が薄く、トラック幅方向におけるエッジ領域において相対的に膜厚が厚い形状を有する。この場合において、厚膜部の厚さを大きくすることにより、リターンヨーク層の媒体対向面の露出面積が大きくなるので、エッジ領域に集中するハイト方向成分の磁束密度が低くなり、より外部磁界耐性を向上させることができる。したがって、厚膜部が媒体対向面で露出する位置に設けられることが好ましい。

リターンヨーク層２７は、一般的に略長方形の薄膜磁性体で構成されており、ハイト方向の外部磁界を印加した場合に、図４（ａ）に示すように、磁性体内部の磁束が薄膜のエッジに集中する（図中Ｘは磁束集中部を示す）。このとき、磁化方向成分の中でハイト方向成分が最も大きくなり、これが既存の情報を上書き消去する現象（Edge Write）の原因となる。本発明者らは、エッジからの磁界に着目し、この磁界の湧き出し口であるエッジ近傍の体積を増やし、エッジ近傍の磁束密度を低下させることで発生する磁界を低減することを見出し本発明をするに至った。

したがって、本発明においては、リターンヨーク層のエッジ領域において、体積を増加させるような形状を設けることにより、すなわち、エッジ領域の厚さを相対的に厚くすることにより、図４（ｂ）に示すように、エッジ領域近傍の磁束密度を低下させて、Edge Write磁界を小さくして外部磁界耐性を向上させている。

ここで、本発明の効果を明確にするために行った実施例について説明する。
ここでは、静磁界シミュレーションにより本発明の効果を確認した。このシミュレーションでは、垂直磁気記録ヘッドにおいて外部磁界耐性に関わる部位をモデル化し、外部磁界（１００Ｏｅ（×１０³／４π Ａ／ｍ））印加時の磁化状態をハイト方向及びトラック幅方向について計算した。なお、磁界強度最大量は、リターンヨーク層から発生する磁界強度分布のうち最大の値とした。また、ハイト方向成分の磁界強度分布は、記録磁性膜の膜厚中央に位置する平面において測定した。リターンヨーク層のエッジ領域の厚膜部２７ｄの厚さが１．６μｍである垂直磁気記録ヘッドを備えた磁気ヘッドについて磁界強度最大量を求めた。その結果をそれぞれ図５に示す。このときの厚膜部２７ｄの形状は、図３に示す形状とした。

また、上部シールド層１６及び下部シールド層１３について、エッジ領域の厚膜部２７ｄの厚さが１．６μｍである垂直磁気記録ヘッドを備えた磁気ヘッドについてハイト方向及びトラック幅方向の磁界強度最大値を上記と同様にして求めた。その結果を図５に併記する。さらに、比較のために、リターンヨーク層の厚さが０．５μｍである垂直磁気記録ヘッドを備えた磁気ヘッドについての磁界強度最大値（ハイト方向成分）を上記と同様にして求めた。その結果を図５に併記する。

図５から分かるように、本発明に係る垂直磁気記録ヘッドを備えた磁気ヘッドについては、エッジ領域に相対的に厚い厚膜部を有するので、磁界強度最大量が３ｋＯｅ（×１０³／４π Ａ／ｍ）以下であり、Edge Write磁界を低く抑えて外部磁界耐性を向上させることができる。一方、リターンヨーク層に厚膜部を含まない垂直磁気記録ヘッドを備えた磁気ヘッドについては、磁界強度最大量が４ｋＯｅ近くあり、記録した媒体の保磁力によっては、Edge Writeが発生する。また、リターンヨーク層２７、上部シールド層１６及び下部シールド層１３のいずれについて、エッジ領域に厚膜部２７ｄを有する垂直磁気記録ヘッドを備えた磁気ヘッドの方が特性が良好であった。

また、厚膜部２７ｄの厚さを１．６μｍとし、厚膜部２７ｄのトラック幅方向の幅Ｗを変化させて（０．５μｍ、１μｍ、２μｍ、４μｍ、６μｍ、８μｍ）磁界強度最大値を求めた。その結果を図６に示す。また、比較のために、リターンヨーク層の厚さが０．５μｍである垂直磁気記録ヘッドを備えた磁気ヘッドについて磁界強度最大値を上記と同様にして求めた。その結果を図６に併記する。

図６から分かるように、厚膜部２７ｄの幅Ｗが小さいと磁界強度最大量が高く、ある長さ以上で磁界強度最大量が飽和している。したがって、図６から、厚膜部２７ｄの幅Ｗが４μｍ以上であることが好ましい。

また、ＰＴＰの観点から、本発明に係る磁気記録ヘッドを備えた磁気ヘッドについて熱解析シミュレーションにより、熱により媒体対向面から突出する素子の突き出し量を求めた。なお、素子の突き出し量は、主磁極近傍のトラック幅方向中央部と厚膜部近傍であるエッジ領域とで測定した。リターンヨーク層の厚膜部２７ｄの厚さを０．６μｍとし、厚膜部２７ｄのトラック幅方向の幅Ｗを変化させた（１μｍ、３μｍ、５μｍ、１０μｍ、２０μｍ、２８μｍ）垂直磁気記録ヘッドを備えた磁気ヘッドについて熱による素子の突き出し量を求めた。その結果を図７に示す。

図７から分かるように、厚膜部の幅Ｗが大きいとエッジ領域の突き出し量が大きい。一方、中央部における素子の突き出し量は、トラック幅方向の厚膜部の幅の値によらず一定であり、厚膜部の幅Ｗの影響は小さい。また、厚膜部を含まない磁気ヘッドにおいて最も突き出し量が大きい部位はトラック幅方向中央部であることは、グラフの傾向からも明らかである。したがって、厚膜部の幅Ｗはエッジ領域の突き出し量が中央部の突き出し量を上回らない１０μｍ以下が望ましい。図６及び図７の結果から、厚膜部の幅Ｗは４μｍ以上１０μｍ以下であることが望ましい。

次に、このようなリターンヨーク層を有する垂直磁気記録ヘッドの製造方法について説明する。図８（ａ）〜（ｄ）は、本発明に係る垂直磁気記録ヘッド装置の製造方法を説明するための図である。図８（ａ）〜（ｄ）は、媒体対向面から見た図である。

スライダ１０上に、非磁性絶縁層１２、下部シールド層１３、無機絶縁層１５、上部シールド層１６を形成し、上部シールド層１６上に主磁極層２４を含む絶縁層１９を形成し、絶縁層１９上にギャップ層２１を形成し、ギャップ層２１上にパターニングしたコイル絶縁下地層２２を形成し、コイル絶縁下地層２２上に上層コイル片２３を形成して、図８（ａ）に示す構造を作製する。なお、図８（ａ）に示す構造を作製する際の方法における条件や材料などについては通常使用されるものを採用することができる。

次いで、図８（ｂ）に示すように、コイル絶縁下地層２２及び上層コイル片２３を含むギャップ層２１上にレジスト層２６を形成する。具体的には、コイル絶縁下地層２２及び上層コイル片２３を含むギャップ層２１上にレジスト材料を被覆し、レジスト形成領域が開口したマスクを介してレジスト材料を露光し、現像することによりレジスト層２６を形成する。

次いで、図８（ｃ）に示すように、コイル絶縁層であるレジスト層２６上にリターンヨーク層２７を形成する。この場合、レジスト層２６上にメッキ処理を施すことによりリターンヨーク層２７を形成する。次いで、リターンヨーク層２７のエッジ部に厚膜部２７ｄを形成するように、リターンヨーク層２７をイオンミリングなどでエッチングする。これにより、エッジ領域に相対的に厚い厚膜部２７ｄを設けることができる。次いで、図８（ｄ）に示すように、リターンヨーク層２７上に絶縁層３１を形成する。

このようにして、エッジ領域に相対的に厚い厚膜部２７ｄを有するリターンヨーク層２７を有する垂直磁気記録ヘッドを作製することができる。この垂直磁気記録ヘッドは、媒体対向面における厚膜部２７ｄが相対的に大きい露出面積を有する状態となる。この厚膜部２７ｄにおいては、エッジ領域近傍の磁束密度が低くなり、厚膜部２７ｄから発生する磁界強度が小さくなる。このため、相対的に薄いリターンヨーク層２７であってもEdge Write磁界を低く抑えて外部磁界耐性を向上させることができる。

本発明は上記実施の形態に限定されず、種々変更して実施することが可能である。例えば、垂直磁気記録ヘッドの各層の構成や形状については、リターンヨークを含むシールド層のエッジ領域に、相対的に厚い厚膜部を有するものであれば、特に制限はない。また、上記実施の形態においては、リターンヨーク層に相対的に厚い厚膜部を有する場合について説明しているが、本発明はこれに限定されず、リターンヨーク層以外のシールド層、例えば上部シールド層や下部シールド層にも同様に適用することができる。すなわち、上部シールド層や下部シールド層のエッジ領域に、相対的に厚い厚膜部を有する形状を導入することにより、Edge Write磁界を低く抑えて外部磁界耐性を向上させることができる。もちろん、リターンヨーク層と、上部シールド層及び／又は下部シールド層とに相対的に厚い厚膜部を設けて、Edge Writeをより低く抑えて外部磁界耐性を向上させることができる。また、上記実施の形態で説明した数値や材質については特に制限はない。また、上記実施の形態で説明したプロセスについてはこれに限定されず、工程間の適宜順序を変えて実施しても良い。その他、本発明の目的の範囲を逸脱しない限りにおいて適宜変更することが可能である。

本発明の実施の形態に係る垂直磁気記録ヘッドを備えた磁気ヘッドを示す縦断面図である。図１に示す垂直磁気記録ヘッドの部分平面図及びリターンヨーク層の部分正面図である。リターンヨーク層の形状を説明するための図である。（ａ），（ｂ）は、リターンヨーク層における磁束集中を説明するための図である。本発明の実施の形態に係る垂直磁気記録ヘッドの特性を示す図である。本発明の実施の形態に係る垂直磁気記録ヘッドの特性を示す図である。厚膜部の幅と素子突き出し量との間の関係を示す図である。（ａ）〜（ｄ）は、本発明に係る垂直磁気記録ヘッド装置の製造方法を説明するための図である。

符号の説明

１０スライダ
１２非磁性絶縁層
１３下部シールド層
１５無機絶縁層
１６上部シールド層
１８下層コイル片
２１ギャップ層
２３上層コイル片
２４主磁極層
２６コイル絶縁層
２７リターンヨーク層
２７ｄ厚膜部
２８間隔調整絶縁層

Claims

記録媒体との対向面で露出する主磁極を有する第１磁性層と、前記第１磁性層に対して非磁性層を介して設けられた第２磁性層と、前記第１磁性層に記録磁界を与えるためのコイル層と、を具備し、前記第２磁性層は、トラック幅方向におけるエッジ領域においてハイト方向に沿って延在する相対的に厚い厚膜部を有することを特徴とする垂直磁気記録ヘッド装置。
前記厚膜部が前記対向面で露出する位置に設けられたことを特徴とする請求項１記載の垂直磁気記録ヘッド装置。
前記厚膜部のトラック幅方向の幅が４μｍ以上１０μｍ以下であることを特徴とする請求項１又は請求項２記載の垂直磁気記録ヘッド装置。