JP2008153586A - Substrate film for dicing - Google Patents

Substrate film for dicing Download PDF

Info

Publication number
JP2008153586A
JP2008153586A JP2006342581A JP2006342581A JP2008153586A JP 2008153586 A JP2008153586 A JP 2008153586A JP 2006342581 A JP2006342581 A JP 2006342581A JP 2006342581 A JP2006342581 A JP 2006342581A JP 2008153586 A JP2008153586 A JP 2008153586A
Authority
JP
Japan
Prior art keywords
layer
resin
dicing
weight
film
Prior art date
Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
Pending
Application number
JP2006342581A
Other languages
Japanese (ja)
Inventor
Shigeru Sago
茂 佐合
Masayuki Yokoi
正之 横井
Masaaki Okagawa
真明 岡川
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
Gunze Ltd
Original Assignee
Gunze Ltd
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by Gunze Ltd filed Critical Gunze Ltd
Priority to JP2006342581A priority Critical patent/JP2008153586A/en
Publication of JP2008153586A publication Critical patent/JP2008153586A/en
Pending legal-status Critical Current

Links

Images

Abstract

<P>PROBLEM TO BE SOLVED: To provide a substrate film for dicing, where cut refuse (thread-shaped or whisker-shaped refuse generated from the film after dicing) scarcely occurs in the dicing process of a semiconductor wafer, and to provide a dicing film. <P>SOLUTION: In the substrate film for multilayer dicing, a first layer includes a resin composition of 100 pts. wt made of 10-70 wt.% of a polypropylene-based resin (PP) and 30-90 wt.% of amorphous polyolefine and an olefine-based thermoplastic elastomer (TPO) of 10-200 pts. wt; a second layer includes a thermoplastic resin having rubber elasticity; and the first and second layers are laminated. <P>COPYRIGHT: (C)2008,JPO&INPIT

Description

本発明は、半導体ウエハ等をチップ状にダイシングする際に、半導体ウエハ等を固定するためのダイシングフイルムに関する。   The present invention relates to a dicing film for fixing a semiconductor wafer or the like when the semiconductor wafer or the like is diced into chips.

半導体ウエハは、予め大面積で作られた後、チップ状にダイシング(切断分離)されてマウント工程に移される。そのダイシングに際して、半導体ウエハを固定するために用いられるのがダイシングフイルムである。   The semiconductor wafer is made in advance with a large area, then diced into chips (cut and separated), and transferred to the mounting process. In the dicing, a dicing film is used for fixing the semiconductor wafer.

ダイシングフイルムは、基本的には半導体ウエハを固定する粘着剤層とダイシングカッターの切り込みを受ける樹脂層(ダイシング用基体フイルム)とから構成されている。ダイシングフイルムに固定された半導体ウエハは、チップ状にダイシングされ、各チップ同士を分離するためにエキスパンドリング上で面方向に一様にエキスパンドされた後、ピックアップされる。   The dicing film is basically composed of an adhesive layer for fixing the semiconductor wafer and a resin layer (a substrate film for dicing) that receives the cutting of the dicing cutter. The semiconductor wafer fixed to the dicing film is diced into chips, and is picked up after being uniformly expanded in the surface direction on the expanding ring in order to separate the chips.

半導体ウエハのダイシング工程では、ウエハとともに粘着剤層又はダイシング用基体フイルムの一部も切断されるため、樹脂の摩擦熱により溶融状態となり樹脂由来の切削屑(ダイシング屑)が発生する。この切削屑は、ウエハを汚染しチップの歩留まりを低下させるため、極力低減させる必要がある。   In the semiconductor wafer dicing process, the adhesive layer or a part of the substrate film for dicing is also cut together with the wafer, so that the resin becomes a molten state due to frictional heat of the resin, and resin-derived cutting waste (dicing waste) is generated. Since this cutting waste contaminates the wafer and lowers the yield of chips, it is necessary to reduce it as much as possible.

例えば、ダイシング工程における切削屑をなくすことを主な目的として、次のようなダイシングフイルムが報告されている。   For example, the following dicing film has been reported mainly for the purpose of eliminating cutting waste in the dicing process.

特許文献1には、基材フイルムとして、電子線又はγ線を1〜80Mrad照射したポリエチレン等のポリオレフィン系フイルムが記載されている。しかし、このフイルムは、架橋性樹脂全体を電子線等で架橋するものであるため硬くなり充分なエキスパンド性が得られない。   Patent Document 1 describes a polyolefin film such as polyethylene irradiated with 1 to 80 Mrad of an electron beam or γ-ray as a base film. However, since this film crosslinks the entire crosslinkable resin with an electron beam or the like, it becomes hard and sufficient expandability cannot be obtained.

特許文献2には、基材フイルムとして、エチレン・メチルメタアクリレート共重合体フイルムが記載されている。しかし、このフイルムは、ある程度の切削屑を低減できるが、必ずしも充分ではない。   Patent Document 2 describes an ethylene / methyl methacrylate copolymer film as a base film. However, although this film can reduce a certain amount of cutting waste, it is not always sufficient.

特許文献3には、主に、エチレン、(メタ)アクリル酸及び(メタ)アクリル酸アルキルエステルの3元共重合体を金属イオンで架橋したアイオノマー樹脂を主成分とする樹脂層Bと粘着剤層Aとが積層された半導体ウエハ固定用粘着テープが記載されている。しかし、このフイルムは、金属イオンを含むためウエハの汚染が問題となる。   Patent Document 3 mainly discloses a resin layer B mainly composed of an ionomer resin obtained by crosslinking a terpolymer of ethylene, (meth) acrylic acid, and a (meth) acrylic acid alkyl ester with a metal ion, and an adhesive layer. A semiconductor wafer fixing adhesive tape laminated with A is described. However, since this film contains metal ions, contamination of the wafer becomes a problem.

特許文献4には、粘着剤被塗布層と、熱可塑性エラストマー層と樹脂層とがこの順に積層され、前記熱可塑性エラストマー層が、水素添加したスチレン−ブタジエン共重合体を70質量%以上含む樹脂組成物からなり、層厚が基材肉厚に対して30%以上である粘着テープ用基材が記載されている。しかし、このフイルムは、切削屑の低減効果は必ずしも充分ではない。   Patent Document 4 discloses a resin in which an adhesive coated layer, a thermoplastic elastomer layer, and a resin layer are laminated in this order, and the thermoplastic elastomer layer contains 70% by mass or more of a hydrogenated styrene-butadiene copolymer. An adhesive tape base material comprising a composition and having a layer thickness of 30% or more with respect to the base material thickness is described. However, this film does not always have a sufficient cutting scrap reduction effect.

特許文献5には、少なくとも2層からなる基材フイルムにおいて、粘着剤層側の層の樹脂としてポリプロピレンが、粘着剤層側の樹脂層以外の層としてスチレン−ブタジエン共重合体の水素添加物を用いることが記載されている。
特開平5−211234号公報 特開平5−156214号公報 特開平9−8111号公報 特開2005−272724号公報 特開2005−174963号公報
In Patent Document 5, in a base film comprising at least two layers, polypropylene is used as a resin for the adhesive layer side, and a hydrogenated styrene-butadiene copolymer is used as a layer other than the resin layer on the adhesive layer side. The use is described.
Japanese Patent Laid-Open No. 5-21234 JP-A-5-156214 Japanese Patent Laid-Open No. 9-8111 JP 2005-272724 A JP 2005-174963 A

本発明は、半導体ウエハのダイシング工程における切削屑(ダイシング後にフイルムから発生する糸状又はヒゲ状の屑)の発生がほとんどないダイシング用基体フイルム、及びダイシングフイルムを提供することを主な目的とする。   The main object of the present invention is to provide a substrate film for dicing and a dicing film in which cutting waste (thread-like or whisker-like waste generated from the film after dicing) is hardly generated in the dicing process of the semiconductor wafer.

本発明者は、上記の課題を解決するために鋭意研究を行った結果、第1層としてポリプロピレン系樹脂(PP)10〜70重量%と非晶性ポリオレフィン30〜90重量%とからなる樹脂組成物、及び該樹脂組成物100重量部に対しオレフィン系熱可塑性エラストマー(TPO)を10〜200重量部を含み、第2層としてゴム弾性を有する熱可塑性樹脂を含み、上記第1層及び第2層を積層してなる2層ダイシング用基体フイルムが、半導体ウエハのダイシング加工時に切削屑がほとんど発生しないことを見出した。   As a result of intensive studies to solve the above problems, the inventor has a resin composition comprising 10 to 70% by weight of a polypropylene resin (PP) and 30 to 90% by weight of an amorphous polyolefin as the first layer. And 200 parts by weight of an olefinic thermoplastic elastomer (TPO) with respect to 100 parts by weight of the resin composition, and a thermoplastic resin having rubber elasticity as the second layer, the first layer and the second layer It has been found that the substrate film for two-layer dicing formed by laminating layers hardly generates cutting waste during dicing processing of a semiconductor wafer.

かかる知見に基づき、さらに研究を重ねて本発明を完成するに至った。   Based on this knowledge, further studies have been made and the present invention has been completed.

即ち、本発明は下記のダイシング用基体フイルムを提供する。   That is, the present invention provides the following substrate film for dicing.

項1. 多層ダイシング用基体フイルムであって、第1層はポリプロピレン系樹脂(PP)10〜70重量%と非晶性ポリオレフィン30〜90重量%とからなる樹脂組成物100重量部及びオレフィン系熱可塑性エラストマー(TPO)を10〜200重量部を含み、第2層はゴム弾性を有する熱可塑性樹脂を含み、上記第1層及び第2層を積層したことを特徴とする多層ダイシング用基体フイルム。   Item 1. A substrate film for multi-layer dicing, wherein the first layer comprises 100 parts by weight of a resin composition comprising 10 to 70% by weight of a polypropylene resin (PP) and 30 to 90% by weight of an amorphous polyolefin, and an olefinic thermoplastic elastomer ( 10) to 200 parts by weight of TPO), the second layer contains a thermoplastic resin having rubber elasticity, and the first layer and the second layer are laminated.

項2. 第2層が前記ゴム弾性を有する熱可塑性樹脂100重量部に対しさらに帯電防止剤10〜45重量部を含む項1に記載の多層ダイシング用基体フイルム。   Item 2. The substrate film for multilayer dicing according to Item 1, wherein the second layer further comprises 10 to 45 parts by weight of an antistatic agent with respect to 100 parts by weight of the thermoplastic resin having rubber elasticity.

項3. 前記帯電防止剤が、ポリエーテルエステルアミド樹脂及び/又は親水性ポリオレフィン樹脂である項2に記載の多層ダイシング用基体フイルム。   Item 3. Item 3. The multilayer dicing substrate film according to Item 2, wherein the antistatic agent is a polyetheresteramide resin and / or a hydrophilic polyolefin resin.

項4. 前記多層ダイシング用基体フイルムの厚さが50〜300μmであり、第1層の厚さが45〜295μmであり、第2層の厚さが5〜50μmである項1、2又は3に記載の多層ダイシング用基体フイルム。   Item 4. Item 4. The structure according to Item 1, 2, or 3, wherein the multilayer dicing substrate film has a thickness of 50 to 300 µm, the first layer has a thickness of 45 to 295 µm, and the second layer has a thickness of 5 to 50 µm. Base film for multi-layer dicing.

項5. 前記項1〜4のいずれかに記載のダイシング用基体フイルムの第1層上にさらに粘着剤層及び離型フイルムを有する多層ダイシングフイルム。   Item 5. A multilayer dicing film further comprising an adhesive layer and a release film on the first layer of the substrate film for dicing according to any one of Items 1 to 4.

項6. 多層ダイシング用基体フイルムの製造方法であって、ポリプロピレン系樹脂(PP)10〜70重量%と非晶性ポリオレフィン30〜90重量%とからなる樹脂組成物100重量部及びオレフィン系熱可塑性エラストマー(TPO)を10〜200重量部を含む第1層用樹脂、ゴム弾性を有する熱可塑性樹脂を含む第2層用樹脂を、多層共押出成形することを特徴とする製造方法。   Item 6. A method for producing a substrate film for multilayer dicing, comprising 100 parts by weight of a resin composition comprising 10 to 70% by weight of a polypropylene resin (PP) and 30 to 90% by weight of an amorphous polyolefin, and an olefinic thermoplastic elastomer (TPO) And a second layer resin containing a thermoplastic resin having rubber elasticity is multilayer co-extrusion molded.

本発明のダイシング用基体フイルムは、ダイシング工程における切削屑の発生がほとんどないためウエハの汚染の心配がない。   Since the substrate film for dicing according to the present invention hardly generates cutting waste in the dicing process, there is no fear of wafer contamination.

I.ダイシング用基体フイルム
本発明のダイシング用基体フイルムは、少なくとも2層からなる多層ダイシング用基体フイルムであって、第1層はポリプロピレン系樹脂(以下「PP」とも表記する)10〜70重量%と非晶性ポリオレフィン30〜90重量%とからなる樹脂組成物100重量部及びオレフィン系熱可塑性エラストマー(以下「TPO」とも表記する)を10〜200重量部を含み、第2層はゴム弾性を有する熱可塑性樹脂を含み、上記第1層及び第2層を積層したことを特徴とする。
I. Dicing Substrate Film The dicing substrate film of the present invention is a multi-layer dicing substrate film comprising at least two layers, and the first layer is 10 to 70% by weight of polypropylene resin (hereinafter also referred to as “PP”). The second layer includes 100 parts by weight of a resin composition composed of 30 to 90% by weight of crystalline polyolefin and 10 to 200 parts by weight of an olefinic thermoplastic elastomer (hereinafter also referred to as “TPO”), and the second layer is a heat having rubber elasticity. A plastic resin is included, and the first layer and the second layer are laminated.

2層ダイシング用基体フイルムの厚さは、ダイシングブレードの切り込み深さよりも厚くし、且つ容易にロ−ル状に巻くことができる程度であれば良く、たとえば50〜300μmであり、好ましくは60〜250μm、より好ましくは70〜200μmである。   The thickness of the base film for two-layer dicing may be thicker than the cutting depth of the dicing blade and can be easily wound into a roll, and is, for example, 50 to 300 μm, preferably 60 to It is 250 micrometers, More preferably, it is 70-200 micrometers.

以下、2層ダイシング用基体フイルムの各層毎に説明する。   Hereinafter, each layer of the two-layer dicing substrate film will be described.

第1層:
第1層はポリプロピレン系樹脂(PP)10〜70重量%と非晶性ポリオレフィン30〜90重量%とからなる樹脂組成物100重量部及びオレフィン系熱可塑性エラストマー(TPO)を10〜200重量部を含んでいる。
First layer:
The first layer comprises 100 parts by weight of a resin composition comprising 10 to 70% by weight of polypropylene resin (PP) and 30 to 90% by weight of amorphous polyolefin, and 10 to 200 parts by weight of olefinic thermoplastic elastomer (TPO). Contains.

第1層で用いられるポリプロピレン系樹脂(PP)は結晶性のものが好ましい。結晶性プロピレン系樹脂としては、プロピレンの単独重合体あるいはプロピレンと少量のα−オレフィン及び/又はエチレンとのランダム又はブロック共重合体が挙げられる。前記ポリプロピレン系樹脂が共重合体である場合には、ランダム共重合体の場合、該共重合体中の他のα−オレフィン及び/又はエチレンの共重合割合は一般に合計で10重量%以下、好ましくは0.5〜7重量%であり、ブロック共重合体の場合、該共重合体中の他のα−オレフィン及び/又はエチレンの共重合割合は一般に1〜40重量%、好ましくは1〜25重量%、更に好ましくは2〜20重量%、特に好ましくは3〜15重量%である。これらのポリプロピレン系重合体は、2種以上の重合体を混合したものであってもよい。ポリプロピレンの結晶性の指標としては例えば、融点、結晶融解熱量などが用いられ、融点は120℃〜176℃、結晶融解熱量は60J/g〜120J/gの範囲にあることが好ましい。   The polypropylene resin (PP) used in the first layer is preferably crystalline. Examples of the crystalline propylene-based resin include a propylene homopolymer or a random or block copolymer of propylene and a small amount of α-olefin and / or ethylene. When the polypropylene resin is a copolymer, in the case of a random copolymer, the copolymerization ratio of other α-olefin and / or ethylene in the copolymer is generally 10% by weight or less, preferably Is 0.5 to 7% by weight. In the case of a block copolymer, the copolymerization ratio of other α-olefin and / or ethylene in the copolymer is generally 1 to 40% by weight, preferably 1 to 25%. % By weight, more preferably 2 to 20% by weight, particularly preferably 3 to 15% by weight. These polypropylene polymers may be a mixture of two or more polymers. As an index of the crystallinity of polypropylene, for example, a melting point, a heat of crystal melting, and the like are used.

該ポリプロピレン系樹脂は、気相重合法、バルク重合法、溶媒重合法及び任意にそれらを組み合わせて多段重合を採用することができ、また、重合体の数平均分子量についても特に制限はないが、好ましくは10,000〜1,000,000に調整される。   The polypropylene-based resin can employ multistage polymerization by combining a gas phase polymerization method, a bulk polymerization method, a solvent polymerization method and any combination thereof, and there is no particular limitation on the number average molecular weight of the polymer, Preferably, it is adjusted to 10,000 to 1,000,000.

この結晶性ポリプロピレン系樹脂としては、JIS K7210に準拠して温度230℃、荷重21.18Nで測定したMFR(メルトフローレート)が0.5〜20g/10分好ましくは0.5〜10g/10分の範囲のものがよい。   As this crystalline polypropylene resin, MFR (melt flow rate) measured at a temperature of 230 ° C. and a load of 21.18 N in accordance with JIS K7210 is 0.5 to 20 g / 10 minutes, preferably 0.5 to 10 g / 10. Good range of minutes.

第1層で用いられる非晶性ポリオレフィンは、下記の成分からなるものである。   The amorphous polyolefin used in the first layer is composed of the following components.

非晶性ポリオレフィンは、エチレン及び炭素数3〜20のα−オレフィンからなる群から選ばれた二種以上のオレフィンを必須として構成されるオレフィン共重合体である。   Amorphous polyolefin is an olefin copolymer composed essentially of two or more olefins selected from the group consisting of ethylene and α-olefins having 3 to 20 carbon atoms.

炭素数3〜20のα−オレフィンとしては、直鎖状及び分岐状のα−オレフィンが含まれ、具体的には、直鎖状のα−オレフィンとしては、プロピレン、1−ブテン、1−ペンテン、1−ヘキセン、1−へプテン、1−オクテン、1−ノネン、1−デセン、1−ウンデセン、1−ドデセン、1−トリデセン、1−テトラデセン、1−ペンタデセン、1−ヘキサデセン、1−ヘプタデセン、1−オクタデセン、1−ノナデセン、1−エイコセン等が例示され、分岐状のα−オレフィンとしては、3−メチル−1−ブテン、3−メチル−1−ペンテン、4−メチル−1−ペンテン、2−エチル−1−ヘキセン、2,2,4−トリメチル−1−ペンテン等が例示される。   Examples of the α-olefin having 3 to 20 carbon atoms include linear and branched α-olefins. Specific examples of the linear α-olefin include propylene, 1-butene and 1-pentene. 1-hexene, 1-heptene, 1-octene, 1-nonene, 1-decene, 1-undecene, 1-dodecene, 1-tridecene, 1-tetradecene, 1-pentadecene, 1-hexadecene, 1-heptadecene, Examples include 1-octadecene, 1-nonadecene, 1-eicosene and the like, and examples of the branched α-olefin include 3-methyl-1-butene, 3-methyl-1-pentene, 4-methyl-1-pentene, 2 -Ethyl-1-hexene, 2,2,4-trimethyl-1-pentene and the like are exemplified.

非晶性ポリオレフィンは、温度135℃におけるテトラリン溶媒による極限粘度[η]が好ましくは0.3〜10.0であり、より好ましくは0.5〜7.0であり、更に好ましくは0.7〜5.0である。極限粘度[η]の測定は、135℃テトラリン中でウベローデ粘度計を用いて行う。サンプルは300mgを100mlテトラリンに溶解し、3mg/mlの溶液を調製した。更に当該溶液を1/2、1/3、1/5に希釈し、それぞれを135℃(±0.1℃)の恒温油槽中で測定する。それぞれの濃度で3回繰り返し測定し、得られた値を平均して用いる。   The amorphous polyolefin preferably has an intrinsic viscosity [η] by a tetralin solvent at a temperature of 135 ° C. of preferably 0.3 to 10.0, more preferably 0.5 to 7.0, still more preferably 0.7. -5.0. The intrinsic viscosity [η] is measured using an Ubbelohde viscometer in 135 ° C. tetralin. 300 mg of a sample was dissolved in 100 ml tetralin to prepare a 3 mg / ml solution. Furthermore, the said solution is diluted 1/2, 1/3, and 1/5, and each is measured in a 135 degreeC (± 0.1 degreeC) thermostat oil bath. The measurement is repeated three times at each concentration, and the obtained values are averaged and used.

非晶性ポリオレフィンは、示差走査熱量計(DSC)を用い、JIS K 7122に準拠して測定した場合に、結晶の融解に基く1J/g以上のピーク及び結晶化に基づく1J/g以上のピークのいずれをも有しないことが好ましい。示差走査熱量計は、たとえば島津製作所製 DSC−60を用い、昇温及び降温過程のいずれも10℃/minの速度で測定を行う。   Amorphous polyolefin has a peak of 1 J / g or more based on melting of a crystal and a peak of 1 J / g or more based on crystallization when measured according to JIS K 7122 using a differential scanning calorimeter (DSC). It is preferable not to have any of these. As the differential scanning calorimeter, for example, DSC-60 manufactured by Shimadzu Corporation is used, and both the temperature rising and temperature lowering processes are measured at a rate of 10 ° C./min.

非晶性ポリオレフィンは、樹脂ペレットにした場合、粘着性を示すことがあり、市販されているもののなかには、ポリプロピレン系樹脂等とブレンドすることにより粘着性を抑えたものがある。ここでのポリプロピレン系樹脂は、前述したポリプロピレン系樹脂(PP)と同様のものである場合がある。   Amorphous polyolefins may exhibit adhesiveness when made into resin pellets, and some of the commercially available ones have been suppressed in adhesiveness by blending with polypropylene resins and the like. Here, the polypropylene resin may be the same as the polypropylene resin (PP) described above.

非晶性ポリオレフィンとしては、たとえば、住友化学株式会社製「タフセレン」、三井化学株式会社製「タフマー」等が例示できる。   Examples of the amorphous polyolefin include “Tough Selenium” manufactured by Sumitomo Chemical Co., Ltd. and “Tough Mer” manufactured by Mitsui Chemicals, Inc.

第1層におけるポリプロピレン系樹脂(PP)の割合は、ポリプロピレン系樹脂(PP)と非晶性ポリオレフィンをあわせた樹脂組成物の重量に対し、10〜70重量%、好ましくは30〜50重量%、さらに好ましくは20〜50重量%である。また、非晶性ポリオレフィンの割合は、該樹脂組成物の重量に対し、30〜90重量%、好ましくは50〜70重量%、さらに好ましくは50〜80重量%である。かかる範囲であると、ダイシング時、ダイシングブレードによる、樹脂由来の切削屑(ダイシング屑)の発生を効果的に抑制することができるため好適である。   The proportion of the polypropylene resin (PP) in the first layer is 10 to 70% by weight, preferably 30 to 50% by weight, based on the weight of the resin composition comprising the polypropylene resin (PP) and the amorphous polyolefin. More preferably, it is 20 to 50% by weight. The proportion of the amorphous polyolefin is 30 to 90% by weight, preferably 50 to 70% by weight, more preferably 50 to 80% by weight, based on the weight of the resin composition. This range is preferable because the generation of resin-derived cutting waste (dicing waste) by the dicing blade can be effectively suppressed during dicing.

第1層には、さらにオレフィン系熱可塑性エラストマー(TPO)を含んでいる。オレフィン系熱可塑性エラストマーとは、具体的には下記の(A)成分をマトリックス相とし、(B)成分を微分散させた組成物である。   The first layer further contains an olefinic thermoplastic elastomer (TPO). The olefinic thermoplastic elastomer is specifically a composition in which the following component (A) is used as a matrix phase and component (B) is finely dispersed.

(A)成分:アイソタクチックインデックスが85%以上の、プロピレンの単独重合体、又はプロピレンと炭素数2〜8の他のα−オレフィンとの共重合体成分;組成物全体に対して10〜50重量%、
(B)成分:プロピレンとエチレンとを必須成分とする、プロピレンと炭素数2〜8の他のα−オレフィンとの共重合体からなる、共重合体成分;組成物全体に対して50〜90重量%。
Component (A): a propylene homopolymer having an isotactic index of 85% or more, or a copolymer component of propylene and another α-olefin having 2 to 8 carbon atoms; 50% by weight,
Component (B): a copolymer component comprising propylene and ethylene as essential components and a copolymer of propylene and another α-olefin having 2 to 8 carbon atoms; 50 to 90 with respect to the entire composition weight%.

オレフィン系熱可塑性エラストマーの組成物を構成する(A)成分は、アイソタクチックインデックスが85%以上のプロピレンの単独重合体、又はプロピレンと炭素数2〜8の他のα−オレフィンとの共重合体からなり、中でもプロピレンの単独重合体が好ましく、アイソタクチックインデックスは90%以上であるのが好ましい。   The component (A) constituting the composition of the olefinic thermoplastic elastomer is a homopolymer of propylene having an isotactic index of 85% or more, or a copolymer of propylene and another α-olefin having 2 to 8 carbon atoms. Among them, a propylene homopolymer is preferable, and an isotactic index is preferably 90% or more.

プロピレンと炭素数2〜8の他のα−オレフィンとの共重合体における他のα−オレフィンとしては、例えば、エチレン、ブテン−1、3−メチルブテン−1、ペンテン−1、4−メチルペンテン−1、ヘキセン−1、オクテン−1等が挙げられ、中でもエチレンが好ましく、該共重合体中のプロピレン含有量は85重量%以上であるのが好ましい。   Examples of the other α-olefin in the copolymer of propylene and another α-olefin having 2 to 8 carbon atoms include, for example, ethylene, butene-1,3-methylbutene-1, pentene-1,4-methylpentene- 1, hexene-1, octene-1, and the like. Among them, ethylene is preferable, and the propylene content in the copolymer is preferably 85% by weight or more.

オレフィン系熱可塑性エラストマーの組成物を構成する(B)成分は、プロピレンとエチレンとを必須成分とする、プロピレンと炭素数2〜8の他のα−オレフィンとの共重合体からなり、中でもプロピレンとエチレンとの共重合体が好ましい。   The component (B) constituting the composition of the olefin-based thermoplastic elastomer is composed of a copolymer of propylene and another α-olefin having 2 to 8 carbon atoms, which contains propylene and ethylene as essential components. A copolymer of ethylene and ethylene is preferred.

炭素数2〜8の他のα−オレフィンとしては、前記(A)成分におけると同様のものが挙げられる。この(B)成分には、更に、1,4−ヘキサジエン、5−メチル−1,5−ヘキサジエン、1,4−オクタジエン、シクロヘキサジエン、シクロオクタジエン、ジシクロペンタジエン、5−エチリデン−2−ノルボルネン、5−ブチリデン−2−ノルボルネン、2−イソプロペニル−5−ノルボルネン等の非共役ジエンが、(B)成分中に0.5〜10重量%の量で共重合されていてもよい。   Examples of the other α-olefin having 2 to 8 carbon atoms include those similar to those in the component (A). The component (B) further includes 1,4-hexadiene, 5-methyl-1,5-hexadiene, 1,4-octadiene, cyclohexadiene, cyclooctadiene, dicyclopentadiene, 5-ethylidene-2-norbornene. , 5-butylidene-2-norbornene, 2-isopropenyl-5-norbornene and the like may be copolymerized in the component (B) in an amount of 0.5 to 10% by weight.

オレフィン系熱可塑性エラストマーの組成物は、前記(A)成分が10〜50重量%(好ましくは30〜50重量%)、前記(B)成分が50〜90重量%(好ましくは50〜70重量%)からなる。   In the composition of the olefin-based thermoplastic elastomer, the component (A) is 10 to 50% by weight (preferably 30 to 50% by weight), and the component (B) is 50 to 90% by weight (preferably 50 to 70% by weight). ).

オレフィン系熱可塑性エラストマーは、前記(A)成分の重合後に前記(B)成分が重合される逐次重合により製造された組成物である。この逐次重合に用いられる触媒は、有機アルミニウム化合物と、チタン原子、マグネシウム原子、ハロゲン原子、及び電子供与性化合物を必須とする固体成分とからなる。   The olefinic thermoplastic elastomer is a composition produced by sequential polymerization in which the component (B) is polymerized after the polymerization of the component (A). The catalyst used for this sequential polymerization is composed of an organoaluminum compound and a solid component essentially comprising a titanium atom, a magnesium atom, a halogen atom, and an electron donating compound.

オレフィン系熱可塑性エラストマーの製造方法は、第一段階でプロピレン、又はプロピレンと炭素数2〜8の他のα−オレフィンを供給して、前記触媒の存在下に温度50〜150℃(好ましくは50〜100℃)、プロピレンの分圧0.5〜4.5MPa(好ましくは1.0〜3.5MPa)の条件で、プロピレン単独重合体、又はプロピレン−α−オレフィン共重合体の重合を実施して(A)成分を製造する。引き続き第二段階で、プロピレンとエチレン、又はプロピレンとエチレンと炭素数4〜8のα−オレフィンを供給して、前記触媒の存在下に温度50〜150℃(好ましくは50〜100℃)、プロピレン及びエチレンの分圧各0.3〜4.5MPa(好ましくは0.5〜3.5MPa)の条件で、プロピレン−エチレン共重合体、又はプロピレン−エチレン−α−オレフィン共重合体の重合を実施して(B)成分を製造する。   In the method for producing an olefinic thermoplastic elastomer, propylene or propylene and another α-olefin having 2 to 8 carbon atoms are supplied in the first stage, and a temperature of 50 to 150 ° C. in the presence of the catalyst (preferably 50). ~ 100 ° C), and propylene homopolymer or propylene-α-olefin copolymer was polymerized under conditions of propylene partial pressure of 0.5 to 4.5 MPa (preferably 1.0 to 3.5 MPa). (A) component is manufactured. Subsequently, in the second stage, propylene and ethylene, or propylene and ethylene and an α-olefin having 4 to 8 carbon atoms are supplied, and in the presence of the catalyst, a temperature of 50 to 150 ° C. (preferably 50 to 100 ° C.), propylene And polymerization of propylene-ethylene copolymer or propylene-ethylene-α-olefin copolymer under conditions of 0.3 to 4.5 MPa (preferably 0.5 to 3.5 MPa) each of partial pressure of ethylene (B) component is manufactured.

前記方法により製造されるオレフィン系熱可塑性エラストマーは、JIS K7210に準拠して温度230℃、荷重21.18Nで測定したメルトフローレートは0.1〜5g/10分、JIS K7112に準拠して水中置換法にて測定した密度は0.87〜0.88g/cm3 である。 The olefinic thermoplastic elastomer produced by the above method has a melt flow rate of 0.1 to 5 g / 10 minutes measured at a temperature of 230 ° C. and a load of 21.18 N in accordance with JIS K7210, and in water in accordance with JIS K7112. The density measured by the substitution method is 0.87 to 0.88 g / cm 3 .

オレフィン系熱可塑性エラストマーの具体例としては、三菱化学株式会社製「ゼラス」、日本ポリプロ株式会社製「ニューコン」、株式会社プライムポリマー製「プライムTPO」等が例示できる。   Specific examples of the olefinic thermoplastic elastomer include “Zeras” manufactured by Mitsubishi Chemical Corporation, “Newcon” manufactured by Nippon Polypro Co., Ltd., “Prime TPO” manufactured by Prime Polymer Co., Ltd., and the like.

第1層におけるTPOの含有量は、上記ポリプロピレン系樹脂(PP)と非晶性ポリオレフィンからなる樹脂組成物100重量部に対し、10〜200重量部、好ましくは30〜100重量部である。かかる範囲であれば、ダイシング時、ダイシングブレードによる、樹脂由来の切削屑(ダイシング屑)の発生を効果的に抑制することができるため好ましい。   The content of TPO in the first layer is 10 to 200 parts by weight, preferably 30 to 100 parts by weight with respect to 100 parts by weight of the resin composition comprising the polypropylene resin (PP) and amorphous polyolefin. If it is this range, since generation | occurrence | production of the resin-derived cutting waste (dicing waste) by a dicing blade can be effectively suppressed at the time of dicing, it is preferable.

第1層の厚さは、ダイサーの切り込みの最深部の深さよりも厚くすることが必要であり、通常、45〜295μm、好ましくは40〜280μm、より好ましくは30〜250μmである。また、第1層の厚さは、ダイシング基体フイルムの厚さに対し、65〜98%、好ましくは70〜85%である。   The thickness of the first layer needs to be thicker than the depth of the deepest part of the cut of the dicer, and is usually 45 to 295 μm, preferably 40 to 280 μm, more preferably 30 to 250 μm. The thickness of the first layer is 65 to 98%, preferably 70 to 85%, with respect to the thickness of the dicing substrate film.

第1層の厚さが、ダイシングブレードの切り込みの最深部の深さよりも薄いと切削屑が発生し、好ましくない。   If the thickness of the first layer is thinner than the depth of the deepest part of the cutting of the dicing blade, cutting waste is generated, which is not preferable.

第1層では必須成分としてポリプロピレン系樹脂と非晶性ポリオレフィンを所定割合含み、さらに、TPOを添加することによりこの作用効果は増大する。   The first layer contains a predetermined proportion of polypropylene resin and amorphous polyolefin as essential components, and further this effect is increased by adding TPO.

第2層:
第2層で用いられるはゴム弾性を有する熱可塑性樹脂は、エキスパンドリングと接して一様にエキスパンドされる。該ゴム弾性を有する熱可塑性樹脂としては、例えば、低密度ポリエチレン、中密度ポリエチレン、エチレン−αオレフィン共重合体である直鎖状低密度ポリエチレン若しくは超低密度ポリエチレンであってα−オレフィンがプロピレン、ブテン−1、オクテン−1、4メチルペンテン−1、ヘキセン−1、オクテン−1である樹脂、スチレン系共重合体、エチレン−酢酸ビニル共重合体(EVA)、エチレン−メチルアクリレート共重合体(EMA)、エチレン−エチルアクリレート共重合体、エチレン−ブチルアクリレート共重合体、エチレン−メチルメタクリレート共重合体(EMMA)、エチレン−メタクリル酸共重合体(EMAA)、エチレン−エチルメタクリレート共重合体又はこれらの樹脂の混合物が挙げられる。これらのうち、EMA,EMAA又はEMMAが好ましく、EMAが特に好ましい。
Second layer:
The thermoplastic resin having rubber elasticity used in the second layer is uniformly expanded in contact with the expanding ring. Examples of the thermoplastic resin having rubber elasticity include, for example, low density polyethylene, medium density polyethylene, linear low density polyethylene which is an ethylene-α olefin copolymer or ultra low density polyethylene, and α-olefin is propylene, Butene-1, octene-1, 4-methylpentene-1, hexene-1, octene-1 resin, styrene copolymer, ethylene-vinyl acetate copolymer (EVA), ethylene-methyl acrylate copolymer ( EMA), ethylene-ethyl acrylate copolymer, ethylene-butyl acrylate copolymer, ethylene-methyl methacrylate copolymer (EMMA), ethylene-methacrylic acid copolymer (EMAA), ethylene-ethyl methacrylate copolymer, or these And a mixture of these resins. Of these, EMA, EMAA or EMMA is preferable, and EMA is particularly preferable.

第2層には、上記のゴム弾性を有する熱可塑性樹脂を必須成分として含むが、さらに帯電防止剤を含んでいてもよい。   The second layer contains the above-described thermoplastic resin having rubber elasticity as an essential component, but may further contain an antistatic agent.

第2層で用いられる帯電防止剤としては、アニオン系,カチオン系、ノニオン系等の公知の界面活性剤を選択できるが、とりわけ持続性,耐久性の点から、ポリエーテルエステルアミド樹脂(以下「PEEA樹脂」と表記する)、親水性ポリオレフィン樹脂(以下「親水性PO樹脂」と表記する)等のノニオン系界面活性剤が好適である。   As the antistatic agent used in the second layer, known surfactants such as anionic, cationic, and nonionic surfactants can be selected. In particular, from the viewpoint of durability and durability, polyether ester amide resin (hereinafter “ Nonionic surfactants such as a “PEEA resin” and a hydrophilic polyolefin resin (hereinafter referred to as “hydrophilic PO resin”) are suitable.

前記PEEA樹脂は、親水性付与の主たるユニット成分であるポリエーテルエステルと、ポリアミドユニットとから構成されるポリマであり、市販されているか、或いは公知の方法で容易に製造することができる。PEEA樹脂として、例えば、三洋化成工業(株)のペレスタットNC6321等が例示される。また、特開昭64−45429号公報、特開平6−287547号公報等にその製法が記載されており、これによれば、例えば、主鎖中にエーテル基を有するポリジオ−ル成分にジカルボン酸成分を反応させて末端エステルに変え、これにアミノカルボン酸又はラクタムを反応させて製造できる。PEEA樹脂は、前記いずれの層の樹脂とも相溶性が良く、ブリードアウトするような現象は一切ない。   The PEEA resin is a polymer composed of a polyether ester, which is a main unit component for imparting hydrophilicity, and a polyamide unit, and is commercially available or can be easily produced by a known method. Examples of the PEEA resin include Pelestat NC6321 from Sanyo Chemical Industries, Ltd. In addition, the production method is described in JP-A-64-45429, JP-A-6-287547, etc. According to this, for example, a polydiol component having an ether group in the main chain is added to a dicarboxylic acid. It can be produced by reacting the components into a terminal ester and reacting this with an aminocarboxylic acid or lactam. The PEEA resin has good compatibility with any of the above-mentioned layers of resin, and there is no phenomenon of bleeding out.

親水性PO樹脂としては、例えば、親水性ポリエチレン(以下「親水性PE樹脂」と表記する)又は親水性ポリプロピレン(以下「親水性PP樹脂」と表記する)が例示される。   Examples of the hydrophilic PO resin include hydrophilic polyethylene (hereinafter referred to as “hydrophilic PE resin”) or hydrophilic polypropylene (hereinafter referred to as “hydrophilic PP resin”).

親水性PE樹脂又は親水性PP樹脂は、基本的にはポリエチレン鎖又はポリプロピレン鎖とポリオキシアルキレン鎖とがブロック結合したものであり、高い除電作用が発揮され静電気の蓄積をなくす。この結合は、エステル基、アミド基、エーテル基、ウレタン基等によって行われている。フイルム樹脂との相溶性の点から、この結合はエステル基又はエーテル基であるのが好ましい。親水性PP樹脂として、例えば、三洋化成工業(株)のペレスタット230等が例示される。   The hydrophilic PE resin or the hydrophilic PP resin is basically a block in which a polyethylene chain or a polypropylene chain and a polyoxyalkylene chain are bonded to each other, exhibiting a high static elimination action and eliminating the accumulation of static electricity. This bonding is performed by an ester group, an amide group, an ether group, a urethane group or the like. From the viewpoint of compatibility with the film resin, this bond is preferably an ester group or an ether group. As the hydrophilic PP resin, for example, Pelestat 230 manufactured by Sanyo Chemical Industries, Ltd. is exemplified.

親水性PE樹脂又は親水性PP樹脂におけるポリエチレン鎖又はポリプロピレン鎖の分子量は、例えば1200〜6000程度である。この分子量範囲であると、ポリオキシアルキレン鎖にポリエチレン又はポリプロピレンをブロック結合させる前段階の、ポリエチレン又はポリプロピレンの酸変性化が容易であるためである。   The molecular weight of the polyethylene chain or the polypropylene chain in the hydrophilic PE resin or the hydrophilic PP resin is, for example, about 1200 to 6000. This is because, within this molecular weight range, it is easy to acid-modify polyethylene or polypropylene at the stage before block bonding polyethylene or polypropylene to the polyoxyalkylene chain.

また、親水性PE樹脂又は親水性PP樹脂におけるポリオキシアルキレン鎖の分子量は、耐熱性及び酸変性後のポリエチレン又はポリプロピレンとの反応性の点から、1000〜15000程度であるのが良い。なお、上記した分子量は、GPCを用いて測定した値である。   The molecular weight of the polyoxyalkylene chain in the hydrophilic PE resin or hydrophilic PP resin is preferably about 1000 to 15000 from the viewpoint of heat resistance and reactivity with polyethylene or polypropylene after acid modification. The molecular weight described above is a value measured using GPC.

親水性PE樹脂又は親水性PP樹脂は、例えば、前記した分子量を有するポリエチレン又はポリプロピレンを酸変性し、これにポリアルキレングリコールを反応させて製造することができる。より詳細については、例えば、特開2001−278985号公報、特開2003−48990号公報に記載されている。 第2層が帯電防止剤を含む場合、帯電防止剤の含有量は、前記ゴム弾性を有する熱可塑性樹脂100重量部に対し10〜45重量部、好ましくは15〜30重量部である。かかる範囲であれば、ダイシング工程の後のエキスパンド工程において、第3層のエキスパンドリングと接して一様にエキスパンドされる場合の滑り性を損なうことなく有効に半導電性が付与されるため、発生する静電気をすばやく除電することができる。例えば、上記した範囲で帯電防止剤を含有させた本発明のフイルムでは、その裏面すなわち第3層面の表面抵抗率は、10〜1012Ω/□程度となるため好ましい。 The hydrophilic PE resin or the hydrophilic PP resin can be produced by, for example, acid-modifying polyethylene or polypropylene having the above-described molecular weight and reacting this with polyalkylene glycol. More details are described in, for example, Japanese Patent Application Laid-Open Nos. 2001-278985 and 2003-48990. When the second layer contains an antistatic agent, the content of the antistatic agent is 10 to 45 parts by weight, preferably 15 to 30 parts by weight, based on 100 parts by weight of the thermoplastic resin having rubber elasticity. If it is in such a range, it is generated in the expanding step after the dicing step because semiconductivity is effectively imparted without impairing slipperiness when uniformly expanded in contact with the expanding ring of the third layer. Static electricity can be quickly eliminated. For example, the film of the present invention containing the antistatic agent in the above-described range is preferable because the surface resistivity of the back surface, that is, the third layer surface is about 10 7 to 10 12 Ω / □.

第2層には、本発明の効果に悪影響を与えない範囲で、さらにアンチブロッキング剤等を加えてもよい。アンチブロッキング剤を添加することにより、ダイシング用基体フイルムをロール状に巻き取った場合等のブロッキングが抑えられ好ましい。アンチブロッキング剤としては、無機系または有機系の微粒子を例示することができる。   An antiblocking agent or the like may be further added to the second layer as long as the effects of the present invention are not adversely affected. By adding an anti-blocking agent, blocking such as when the substrate film for dicing is rolled up is preferably suppressed. Examples of the anti-blocking agent include inorganic or organic fine particles.

第2層の厚さは、通常、5〜50μm、好ましくは10〜40μm、より好ましくは15〜30μmである。また、第2層の厚さは、ダイシング基体フイルムの厚さに対し、2〜20%、好ましくは5〜15%である。なお、第2層にはダイサーの切り込みの最深部が到達しないようにすることが重要である。   The thickness of the second layer is usually 5 to 50 μm, preferably 10 to 40 μm, more preferably 15 to 30 μm. The thickness of the second layer is 2 to 20%, preferably 5 to 15%, with respect to the thickness of the dicing substrate film. It is important that the deepest portion of the dicer not reach the second layer.

2層ダイシング用基体フイルムは、上記の第1層及び第2層を構成する樹脂を多層共押出成形して製造する。具体的には、ポリプロピレン系樹脂(PP)10〜70重量%と非晶性ポリオレフィン30〜90重量%とからなる樹脂組成物100重量部及びオレフィン系熱可塑性エラストマー(TPO)を10〜200重量部を含む第1層用樹脂、ゴム弾性を有する熱可塑性樹脂を含む第2層用樹脂を、多層共押出成形することにより製造される。   The substrate film for two-layer dicing is manufactured by multilayer coextrusion molding of the resin constituting the first layer and the second layer. Specifically, 100 parts by weight of a resin composition comprising 10 to 70% by weight of a polypropylene resin (PP) and 30 to 90% by weight of an amorphous polyolefin and 10 to 200 parts by weight of an olefinic thermoplastic elastomer (TPO). The resin for the first layer containing, and the resin for the second layer containing the thermoplastic resin having rubber elasticity are produced by multilayer coextrusion molding.

第1層用樹脂は、PPと非晶性ポリオレフィンとをドライブレンド又は溶融混練し、これにTPO及び必要に応じ他の成分を加えて調製する。第2層用樹脂は、ゴム弾性を有する熱可塑性樹脂に必要に応じて帯電防止剤等の他の成分を加えて調製する。   The resin for the first layer is prepared by dry blending or melt-kneading PP and amorphous polyolefin, and adding TPO and other components as necessary thereto. The second layer resin is prepared by adding other components such as an antistatic agent to a thermoplastic resin having rubber elasticity, if necessary.

上記した第1層用樹脂及び第2層用樹脂をそれぞれスクリュー式押出機に供給し、180〜225℃で多層Tダイからフイルム状に押出し、これを50〜70℃の冷却ロ−ルに通しながら冷却して実質的に無延伸で引き取る。或いは、各層用樹脂を一旦ペレットとして取得した後、上記の様に押出成形してもよい。   The above-mentioned first layer resin and second layer resin are respectively supplied to a screw type extruder, extruded from a multilayer T die at 180 to 225 ° C., and passed through a cooling roll at 50 to 70 ° C. While cooling, it is taken up substantially unstretched. Alternatively, the resin for each layer may be once obtained as pellets and then extruded as described above.

なお、引き取りの際に実質的に無延伸とするのは、ダイシング後に行うフイルムの拡張を有効に行うためである。この実質的に無延伸とは、無延伸、或いは、ダイシングフイルムの拡張に悪影響を与えない程度の僅少の延伸を含むものである。通常、フイルム引き取りの際に、たるみの生じない程度の引っ張りであればよい。   The reason why the film is substantially unstretched at the time of taking is to effectively extend the film after dicing. This substantially non-stretching includes non-stretching or slight stretching that does not adversely affect the expansion of the dicing film. In general, the film may be pulled to such an extent that no sagging occurs during film take-up.

II.ダイシングフイルム
上記により得られる多層ダイシング用基体フイルムは、そのフイルム上に公知の粘着剤をコートして粘着剤層が形成され、さらに該粘着剤層上に離型フイルムが設けられて、ダイシングフイルムが製造される。多層ダイシング用基体フイルムの第1層上に、粘着剤層及び離型フイルムが形成される。
II. Dicing film The substrate film for multi-layer dicing obtained as described above has a pressure-sensitive adhesive layer formed by coating a known pressure-sensitive adhesive on the film, and a release film is provided on the pressure-sensitive adhesive layer. Manufactured. An adhesive layer and a release film are formed on the first layer of the multi-layer dicing substrate film.

粘着剤層で用いられる粘着剤成分としては、公知のものが用いられ、例えば、特開平5−211234号公報等に記載された粘着剤成分を用いることができる。なお、離型フイルムも公知のものが用いられる。   As the pressure-sensitive adhesive component used in the pressure-sensitive adhesive layer, known ones are used, and for example, the pressure-sensitive adhesive component described in JP-A No. 5-21234 can be used. A known release film is also used.

この粘着剤層を構成する粘着剤としては、アクリル系粘着剤が好ましく、具体的には、(メタ)アクリル酸エステルを主たる構成単量体単位とする単独重合体および共重合体から選ばれたアクリル系重合体、その他の官能性単量体との共重合体、およびこれら重合体の混合物が用いられる。例えば、(メタ)アクリル酸エステルとしては、メタクリル酸エチル、メタクリル酸ブチル、メタクリル酸2−エチルヘキシル、メタクリル酸グリシジル、メタクリル酸2−ヒドロキシエチル、アクリル酸エチル、アクリル酸ブチル、アクリル酸2−エチルヘキシル、アクリル酸グリシジル、アクリル酸2−ヒドロキシエチルなどが好ましく使用できる。アクリル系重合体の分子量は、1.0×105〜10.0×105であり、好ましくは、4.0×105〜8.0×105である。 The pressure-sensitive adhesive constituting the pressure-sensitive adhesive layer is preferably an acrylic pressure-sensitive adhesive. Specifically, the pressure-sensitive adhesive layer was selected from a homopolymer and a copolymer having (meth) acrylic acid ester as a main constituent monomer unit. Acrylic polymers, copolymers with other functional monomers, and mixtures of these polymers are used. For example, (meth) acrylic acid ester includes ethyl methacrylate, butyl methacrylate, 2-ethylhexyl methacrylate, glycidyl methacrylate, 2-hydroxyethyl methacrylate, ethyl acrylate, butyl acrylate, 2-ethylhexyl acrylate, Glycidyl acrylate, 2-hydroxyethyl acrylate and the like can be preferably used. The molecular weight of the acrylic polymer is 1.0 × 10 5 ~10.0 × 10 5 , preferably, 4.0 × 10 5 ~8.0 × 10 5.

また、上記のような粘着剤層中に放射線重合性化合物を含ませることによって、ウエハを切断分離した後、該粘着剤層に放射線を照射することによって、粘着力を低下させることができる。このような放射線重合性化合物としては、たとえば、光照射によって三次元網状化しうる分子内に光重合性炭素−炭素二重結合を少なくとも2個以上有する低分子量化合物が広く用いられる(例えば、特開昭60−196,956号公報、特開昭60−223,139号公報等)。   Further, by including a radiation polymerizable compound in the pressure-sensitive adhesive layer as described above, the adhesive strength can be reduced by irradiating the pressure-sensitive adhesive layer with radiation after the wafer is cut and separated. As such a radiation polymerizable compound, for example, a low molecular weight compound having at least two photopolymerizable carbon-carbon double bonds in a molecule that can be three-dimensionally reticulated by light irradiation is widely used (for example, JP JP-A-60-196,956, JP-A-60-223,139, etc.).

具体的には、トリメチロールプロパントリアクリレート、テトラメチロールメタンテトラアクリレート、ペンタエリスリトールトリアクリレート、ペンタエリスリトールテトラアクリレート、ジペンタエリスリトールモノヒドロキシペンタアクリレート、ジペンタエリスリトールヘキサアクリレートあるいは1,4−ブチレングリコールジアクリレート、1,6−ヘキサンジオールジアクリレート、ポリエチレングリコールジアクリレート、市販のオリゴエステルアクリレートなどが用いられる。   Specifically, trimethylolpropane triacrylate, tetramethylolmethane tetraacrylate, pentaerythritol triacrylate, pentaerythritol tetraacrylate, dipentaerythritol monohydroxypentaacrylate, dipentaerythritol hexaacrylate or 1,4-butylene glycol diacrylate, 1,6-hexanediol diacrylate, polyethylene glycol diacrylate, commercially available oligoester acrylate, and the like are used.

さらに、放射線重合性化合物として、上記のようなアクリレート系化合物のほかに、ウレタンアクリレート系オリゴマーを用いることもできる。ウレタンアクリレート系オリゴマーは、ポリエステル型またはポリエーテル型などのポリオール化合物と、多価イソシアネート化合物とを反応させて得られる末端イソシアネートウレタンプレポリマーに、ヒドロキシル基を有するアクリレートあるいはメタクリレートを反応させて得られる。このウレタンアクリレート系オリゴマーは、炭素−炭素二重結合を少なくとも1個以上有する放射線重合性化合物である。   Furthermore, in addition to the acrylate compounds as described above, urethane acrylate oligomers can also be used as the radiation polymerizable compound. The urethane acrylate oligomer is obtained by reacting an acrylate or methacrylate having a hydroxyl group with a terminal isocyanate urethane prepolymer obtained by reacting a polyol compound such as a polyester type or a polyether type with a polyvalent isocyanate compound. This urethane acrylate oligomer is a radiation polymerizable compound having at least one carbon-carbon double bond.

さらに、粘着剤層中には、上記のような粘着剤と放射線重合性化合物とに加えて、必要に応じ、放射線照射により着色する化合物(ロイコ染料等)、光散乱性無機化合物粉末、砥粒(粒径0.5〜100μm程度)、イソシアネート系硬化剤、UV開始剤等を含有させることもできる。   Further, in the pressure-sensitive adhesive layer, in addition to the above-mentioned pressure-sensitive adhesive and radiation-polymerizable compound, if necessary, a compound that is colored by radiation irradiation (such as a leuco dye), a light-scattering inorganic compound powder, abrasive grains (A particle size of about 0.5 to 100 μm), an isocyanate curing agent, a UV initiator, and the like can also be contained.

ダイシングフイルムは、通常テープ状にカットされたロール巻き状態で取得される。   The dicing film is usually obtained in a rolled state cut into a tape shape.

以下に、本発明を、実施例及び比較例を用いてより詳細に説明するが、本発明はこの実施例に限定されるものではない。なお、「%」は重量%を意味し、「部」は重量部を意味する。   Hereinafter, the present invention will be described in more detail using Examples and Comparative Examples, but the present invention is not limited to these Examples. “%” Means% by weight, and “part” means part by weight.

下記の略語は次の意味を示す。   The following abbreviations have the following meanings:

T3522:非晶性ポリオレフィン(住友化学社製 タフセレンT3522:非晶性ポリオレフィン成分 70重量%、プロピレン単独重合体(ポリプロピレン系樹脂)成分 30重量%)
PP:ポリプロピレン系樹脂(サンアロマー社製 PC412)
TPO1:オレフィン系熱可塑性エラストマー(日本ポリプロピレン社製 ニューコンNAR6)
TPO2:オレフィン系熱可塑性エラストマー(三菱化学社製 ゼラス7023)
EMA:エチレン−メチルアクリレート共重合体(アトフィナジャパン社製9MA)
なお、T3522は非晶性ポリオレフィン成分70重量%及びポリプロピレン系樹脂成分30重量%を含むため、例えば、第1層用樹脂としてT3522を70重量%及びPPを30重量%含む場合には、非晶性ポリオレフィン成分49重量%及びPP成分51重量%を含むことになる。
T3522: Amorphous polyolefin (Sumitomo Chemical Co., Ltd. Tough selenium T3522: Amorphous polyolefin component 70 wt%, propylene homopolymer (polypropylene resin) component 30 wt%)
PP: Polypropylene resin (PC412 manufactured by Sun Allomer)
TPO1: Olefin-based thermoplastic elastomer (Nippon Polypropylene Newcon NAR6)
TPO2: Olefin thermoplastic elastomer (Mitsubishi Chemical Corporation Zelas 7023)
EMA: ethylene-methyl acrylate copolymer (9MA manufactured by Atofina Japan)
Since T3522 includes 70% by weight of an amorphous polyolefin component and 30% by weight of a polypropylene-based resin component, for example, when T3522 as a resin for the first layer includes 70% by weight and 30% by weight of PP, amorphous 49% by weight of the conductive polyolefin component and 51% by weight of the PP component.

実施例1
T3522 90重量%及びPP 10重量%をドライブレンドし、該ブレンド100重量部に対しTPO1を10重量部添加した。これを第1層用樹脂とした。
Example 1
90% by weight of T3522 and 10% by weight of PP were dry blended, and 10 parts by weight of TPO1 was added to 100 parts by weight of the blend. This was used as the resin for the first layer.

EMAを第2層用樹脂とした。   EMA was used as the second layer resin.

第1層用樹脂及び第2層用樹脂をバレル温度180〜220℃の多層押出機に供給した。230℃のTダイスから押出し、設定温度60℃の引き取りロールにて冷却固化して、無延伸の状態で巻き取った。   The resin for the first layer and the resin for the second layer were supplied to a multilayer extruder having a barrel temperature of 180 to 220 ° C. It was extruded from a 230 ° C. T die, cooled and solidified with a take-up roll having a set temperature of 60 ° C., and wound up in an unstretched state.

得られたフイルムの厚さは第1層110μm、第2層40μmで全体厚み150μmであった。表1を参照。   The thickness of the obtained film was 110 μm for the first layer and 40 μm for the second layer, and the total thickness was 150 μm. See Table 1.

実施例2〜12
表1に記載の配合量にて実施例1と同様に処理して多層フイルムを得た。各フイルムの厚さは表1に記載の通り。
Examples 2-12
A multilayer film was obtained by processing in the same manner as in Example 1 with the blending amounts shown in Table 1. Table 1 shows the thickness of each film.

Figure 2008153586
Figure 2008153586

実施例13
T3522 90重量%及びPP 10重量%をドライブレンドし、該ブレンド100重量部に対しTPO2を10重量部添加した。これを第1層用樹脂とした。
Example 13
90% by weight of T3522 and 10% by weight of PP were dry blended, and 10 parts by weight of TPO2 was added to 100 parts by weight of the blend. This was used as the resin for the first layer.

EMAを第2層用樹脂とした。   EMA was used as the second layer resin.

第1層用樹脂及び第2層用樹脂をバレル温度180〜220℃の多層押出機に供給した。230℃のTダイスから押出し、設定温度60℃の引き取りロールにて冷却固化して、無延伸の状態で巻き取った。   The resin for the first layer and the resin for the second layer were supplied to a multilayer extruder having a barrel temperature of 180 to 220 ° C. It was extruded from a 230 ° C. T die, cooled and solidified with a take-up roll having a set temperature of 60 ° C., and wound up in an unstretched state.

得られたフイルムの厚さは第1層110μm、第2層40μmで全体厚み150μmであった。表2を参照。   The thickness of the obtained film was 110 μm for the first layer and 40 μm for the second layer, and the total thickness was 150 μm. See Table 2.

実施例14〜18
表2に記載の配合量にて実施例13と同様に処理して多層フイルムを得た。各フイルムの厚さは表2に記載の通り。
Examples 14-18
A multilayer film was obtained by the same treatment as in Example 13 with the blending amounts shown in Table 2. Table 2 shows the thickness of each film.

Figure 2008153586
Figure 2008153586

実施例19
第3層用樹脂として、EMA100重量部に対しP230を20重量部添加した以外は、実施例1と同様に処理して多層フイルムを得た。フイルムの厚さは表3に記載の通り。
Example 19
A multilayer film was obtained in the same manner as in Example 1 except that 20 parts by weight of P230 was added to 100 parts by weight of EMA as the third layer resin. The film thickness is as shown in Table 3.

実施例20〜24
表3に記載の配合量にて実施例19と同様に処理して多層フイルムを得た。各フイルムの厚さは表3に記載の通り。
Examples 20-24
A multilayer film was obtained by the same treatment as in Example 19 with the blending amounts shown in Table 3. Table 3 shows the thickness of each film.

Figure 2008153586
Figure 2008153586

比較例1および2
表4に記載の配合量にて実施例1と同様に処理して多層フイルムを得た。各フイルムの厚さは表4に記載の通り。
Comparative Examples 1 and 2
A multilayer film was obtained by the same treatment as in Example 1 with the blending amounts shown in Table 4. Table 4 shows the thickness of each film.

Figure 2008153586
Figure 2008153586

試験例1(切削屑の評価方法)
上記実施例1〜24及び比較例1〜2で得られたフイルムの一部を直径180mmの大きさの円形にカットして測定用試料とし、研削装置(株式会社ディスコ製 AUTOMATIC DICING SAW DAD-2H/6)にセットし、以下の条件で基体フイルムへの切削を行い、次に試料を研削装置から取り外し、クリーンブース内で24時間常温乾燥させた後、株式会社キーエンス製デジタルマイクロスコープ(VHX−100)を用いて、倍率100倍で切削屑の有無の評価を行った。
Test Example 1 (Evaluation method for cutting waste)
A part of the film obtained in Examples 1 to 24 and Comparative Examples 1 and 2 was cut into a circular shape with a diameter of 180 mm to obtain a measurement sample, and a grinding apparatus (AUTOMATIC DICING SAW DAD-2H manufactured by DISCO Corporation) / 6), cut into the base film under the following conditions, then remove the sample from the grinding machine and let it dry at room temperature in a clean booth for 24 hours, then digital microscope manufactured by Keyence Corporation (VHX- 100), the presence or absence of cutting waste was evaluated at a magnification of 100 times.

試料の表面を任意に10箇所観察し、切削屑が全くない場合を「○」、切削屑がわずかでもあると認められる場合を「×」とした。結果を表5にまとめた。
(切削条件)
回転数:30000rpm
速度:80mm/sec
カットモード:10mm□のフルオートダイシング
カット深さ:100μm
ブレード:株式会社ディスコ製 B1A801 SDC 400N50M51(外径56mm×厚み0.2mm×内径40mm)
水量:1.2L/min
The surface of the sample was arbitrarily observed at 10 locations, and “◯” was given when there was no cutting waste, and “X” was given when it was recognized that there was even a small amount of cutting waste. The results are summarized in Table 5.
(Cutting conditions)
Rotation speed: 30000rpm
Speed: 80mm / sec
Cut mode: Full-auto dicing of 10mm □ Cut depth: 100μm
Blade: Disco B1A801 SDC 400N50M51 (outer diameter 56mm x thickness 0.2mm x inner diameter 40mm)
Water volume: 1.2L / min

Figure 2008153586
Figure 2008153586

実施例1〜24においては、切削屑は発生せず良好であった。   In Examples 1-24, the cutting waste did not generate | occur | produce and was favorable.

比較例1は第1層の非晶性ポリオレフィンの量が少ないために、切削屑が発生した。比較例2は第1層のTPOの量が多いために、切削屑が発生した。   In Comparative Example 1, cutting scraps were generated because the amount of the amorphous polyolefin in the first layer was small. In Comparative Example 2, cutting waste was generated because the amount of TPO in the first layer was large.

実施例5及び比較例2のフイルムをダイシングした後、そのダイシングした交差切削部分を株式会社キーエンス製デジタルマイクロスコープ(VHX−100)を用いて観測した写真を図2及び図3に示す。図2では切削屑は発生していないのに対し、図3では切削屑が大量に発生することがわかった。   After dicing the film of Example 5 and Comparative Example 2, photographs obtained by observing the diced cross-cut portion using a digital microscope (VHX-100) manufactured by Keyence Corporation are shown in FIGS. In FIG. 2, it was found that no cutting waste was generated, whereas in FIG. 3, a large amount of cutting waste was generated.

実施例5のフイルムの走査型プローブ顕微鏡(島津製作所製 SPM−9600を使用)写真である。6 is a photograph of a scanning probe microscope (using SPM-9600 manufactured by Shimadzu Corporation) of the film of Example 5. 実施例5のフイルムをダイシングした後、そのダイシングした交差切削部分を株式会社キーエンス製デジタルマイクロスコープ(VHX−100)を用いて観測した写真を示す。After the film of Example 5 was diced, the photograph which observed the diced cross cutting part using the digital microscope (VHX-100) by Keyence Corporation is shown. 比較例2のフイルムをダイシングした後、そのダイシングした交差切削部分を株式会社キーエンス製デジタルマイクロスコープ(VHX−100)を用いて観測した写真を示す。After dicing the film of the comparative example 2, the photograph which observed the cross cutting part which carried out the dicing using the digital microscope (VHX-100) by Keyence Corporation is shown.

Claims (6)

多層ダイシング用基体フイルムであって、第1層はポリプロピレン系樹脂(PP)10〜70重量%と非晶性ポリオレフィン30〜90重量%とからなる樹脂組成物100重量部及びオレフィン系熱可塑性エラストマー(TPO)を10〜200重量部を含み、第2層はゴム弾性を有する熱可塑性樹脂を含み、上記第1層及び第2層を積層したことを特徴とする多層ダイシング用基体フイルム。   A substrate film for multi-layer dicing, wherein the first layer comprises 100 parts by weight of a resin composition comprising 10 to 70% by weight of a polypropylene resin (PP) and 30 to 90% by weight of an amorphous polyolefin, and an olefinic thermoplastic elastomer ( 10) to 200 parts by weight of TPO), the second layer contains a thermoplastic resin having rubber elasticity, and the first layer and the second layer are laminated. 第2層が前記ゴム弾性を有する熱可塑性樹脂100重量部に対しさらに帯電防止剤10〜45重量部を含む請求項1に記載の多層ダイシング用基体フイルム。   The base film for multi-layer dicing according to claim 1, wherein the second layer further comprises 10 to 45 parts by weight of an antistatic agent with respect to 100 parts by weight of the thermoplastic resin having rubber elasticity. 前記帯電防止剤が、ポリエーテルエステルアミド樹脂及び/又は親水性ポリオレフィン樹脂である請求項2に記載の多層ダイシング用基体フイルム。   The substrate film for multilayer dicing according to claim 2, wherein the antistatic agent is a polyetheresteramide resin and / or a hydrophilic polyolefin resin. 前記多層ダイシング用基体フイルムの厚さが50〜300μmであり、第1層の厚さが45〜295μmであり、第2層の厚さが5〜50μmである請求項1、2又は3に記載の多層ダイシング用基体フイルム。   The thickness of the base film for multilayer dicing is 50 to 300 µm, the thickness of the first layer is 45 to 295 µm, and the thickness of the second layer is 5 to 50 µm. Base film for multilayer dicing. 前記請求項1〜4のいずれかに記載のダイシング用基体フイルムの第1層上にさらに粘着剤層及び離型フイルムを有する多層ダイシングフイルム。   A multilayer dicing film further comprising an adhesive layer and a release film on the first layer of the substrate film for dicing according to any one of claims 1 to 4. 多層ダイシング用基体フイルムの製造方法であって、ポリプロピレン系樹脂(PP)10〜70重量%と非晶性ポリオレフィン30〜90重量%とからなる樹脂組成物100重量部及びオレフィン系熱可塑性エラストマー(TPO)を10〜200重量部を含む第1層用樹脂、ゴム弾性を有する熱可塑性樹脂を含む第2層用樹脂を、多層共押出成形することを特徴とする製造方法。   A method for producing a substrate film for multilayer dicing, comprising 100 parts by weight of a resin composition comprising 10 to 70% by weight of a polypropylene resin (PP) and 30 to 90% by weight of an amorphous polyolefin, and an olefinic thermoplastic elastomer (TPO) And a second layer resin containing a thermoplastic resin having rubber elasticity is multilayer co-extrusion molded.
JP2006342581A 2006-12-20 2006-12-20 Substrate film for dicing Pending JP2008153586A (en)

Priority Applications (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP2006342581A JP2008153586A (en) 2006-12-20 2006-12-20 Substrate film for dicing

Applications Claiming Priority (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP2006342581A JP2008153586A (en) 2006-12-20 2006-12-20 Substrate film for dicing

Publications (1)

Publication Number Publication Date
JP2008153586A true JP2008153586A (en) 2008-07-03

Family

ID=39655406

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
JP2006342581A Pending JP2008153586A (en) 2006-12-20 2006-12-20 Substrate film for dicing

Country Status (1)

Country Link
JP (1) JP2008153586A (en)

Cited By (11)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2008153504A (en) * 2006-12-19 2008-07-03 Gunze Ltd Substrate film for dicing
JP2008153431A (en) * 2006-12-18 2008-07-03 Gunze Ltd Substrate film for dicing
JP2010123763A (en) * 2008-11-20 2010-06-03 Sumitomo Bakelite Co Ltd Adhesive film for processing semiconductor wafer
JP2010225679A (en) * 2009-03-19 2010-10-07 Gunze Ltd Back grinding film and method for manufacturing the same
JP2011216595A (en) * 2010-03-31 2011-10-27 Sumitomo Bakelite Co Ltd Dicing film
JP2012107106A (en) * 2010-11-16 2012-06-07 Adeka Corp Method for producing thermoplastic elastomer composition
KR20140031134A (en) * 2012-09-04 2014-03-12 린텍 가부시키가이샤 Semiconductor processing sheet and production method of semiconductor device
KR20140039041A (en) * 2011-07-25 2014-03-31 린텍 가부시키가이샤 Base material film for semiconductor processing sheet, semiconductor processing sheet, and method for manufacturing semiconductor device
JP2015103623A (en) * 2013-11-22 2015-06-04 リンテック株式会社 Dicing sheet base film and dicing sheet
JP2016162787A (en) * 2015-02-27 2016-09-05 住友ベークライト株式会社 Base material film for dicing film and dicing film
JP2018125521A (en) * 2017-01-30 2018-08-09 グンゼ株式会社 Dicing-base film

Citations (4)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPH11323273A (en) * 1998-05-12 1999-11-26 Nitto Denko Corp Adhesive sheet
JP2003007654A (en) * 2001-06-27 2003-01-10 Nitto Denko Corp Adhesive sheet for dicing
JP2005225068A (en) * 2004-02-13 2005-08-25 Gunze Ltd Manufacturing method of semiconductive substrate film for dicing
JP2006328162A (en) * 2005-05-24 2006-12-07 Gunze Ltd Film

Patent Citations (4)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPH11323273A (en) * 1998-05-12 1999-11-26 Nitto Denko Corp Adhesive sheet
JP2003007654A (en) * 2001-06-27 2003-01-10 Nitto Denko Corp Adhesive sheet for dicing
JP2005225068A (en) * 2004-02-13 2005-08-25 Gunze Ltd Manufacturing method of semiconductive substrate film for dicing
JP2006328162A (en) * 2005-05-24 2006-12-07 Gunze Ltd Film

Cited By (16)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2008153431A (en) * 2006-12-18 2008-07-03 Gunze Ltd Substrate film for dicing
JP2008153504A (en) * 2006-12-19 2008-07-03 Gunze Ltd Substrate film for dicing
JP2010123763A (en) * 2008-11-20 2010-06-03 Sumitomo Bakelite Co Ltd Adhesive film for processing semiconductor wafer
JP2010225679A (en) * 2009-03-19 2010-10-07 Gunze Ltd Back grinding film and method for manufacturing the same
JP2011216595A (en) * 2010-03-31 2011-10-27 Sumitomo Bakelite Co Ltd Dicing film
JP2012107106A (en) * 2010-11-16 2012-06-07 Adeka Corp Method for producing thermoplastic elastomer composition
KR20140039041A (en) * 2011-07-25 2014-03-31 린텍 가부시키가이샤 Base material film for semiconductor processing sheet, semiconductor processing sheet, and method for manufacturing semiconductor device
JPWO2013015012A1 (en) * 2011-07-25 2015-02-23 リンテック株式会社 Base film for semiconductor processed sheet, semiconductor processed sheet, and method for manufacturing semiconductor device
KR101908390B1 (en) * 2011-07-25 2018-10-16 린텍 가부시키가이샤 Base material film for semiconductor processing sheet, semiconductor processing sheet, and method for manufacturing semiconductor device
JP2014049719A (en) * 2012-09-04 2014-03-17 Lintec Corp Semiconductor processing sheet and method for manufacturing semiconductor device
KR20140031134A (en) * 2012-09-04 2014-03-12 린텍 가부시키가이샤 Semiconductor processing sheet and production method of semiconductor device
KR102106923B1 (en) 2012-09-04 2020-05-06 린텍 가부시키가이샤 Semiconductor processing sheet and production method of semiconductor device
JP2015103623A (en) * 2013-11-22 2015-06-04 リンテック株式会社 Dicing sheet base film and dicing sheet
JP2016162787A (en) * 2015-02-27 2016-09-05 住友ベークライト株式会社 Base material film for dicing film and dicing film
JP2018125521A (en) * 2017-01-30 2018-08-09 グンゼ株式会社 Dicing-base film
JP7009197B2 (en) 2017-01-30 2022-01-25 グンゼ株式会社 Base film for dicing

Similar Documents

Publication Publication Date Title
JP5068070B2 (en) Substrate film for dicing
JP2008153586A (en) Substrate film for dicing
JP5013842B2 (en) Substrate film for dicing
EP1270696B1 (en) Adhesive sheet for dicing
JP4916290B2 (en) Substrate film for dicing
JP5013844B2 (en) Substrate film for dicing
JP6253327B2 (en) Dicing substrate film
JP2023078268A (en) Base body film for dicing
JP3984075B2 (en) Dicing adhesive sheet
JP4351487B2 (en) Adhesive tape for wafer back grinding
JP2011023575A (en) Base film for dicing and dicing film
JP5207660B2 (en) Dicing substrate film and dicing film
TW201439272A (en) Adhesive sheet
JP5219554B2 (en) Backgrind substrate film and method for producing the same
JP5388466B2 (en) Backgrind substrate film and method for producing the same
JP2009164181A (en) Substrate film for dicing, and dicing film
JP2005297247A (en) Substrate for pressure-sensitive adhesive tape and pressure-sensitive adhesive sheet
JP5219553B2 (en) Backgrind substrate film and method for producing the same
JP6242351B2 (en) Dicing substrate film, dicing film, and manufacturing method of dicing substrate film
JP6106526B2 (en) Adhesive sheet for semiconductor wafer processing
JP5138281B2 (en) Dicing substrate film and dicing film
JP5328193B2 (en) Multilayer backgrind substrate film, backgrind film, and method for producing the same
JP7326025B2 (en) Base film for dicing
JP5213462B2 (en) Dicing substrate film and dicing film
JP2003013019A (en) Pressure sensitive adhesive sheet for dicing

Legal Events

Date Code Title Description
A621 Written request for application examination

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A621

Effective date: 20091113

A131 Notification of reasons for refusal

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A131

Effective date: 20111122

A977 Report on retrieval

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A971007

Effective date: 20111124

A02 Decision of refusal

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A02

Effective date: 20120515