JP5213462B2 - Dicing substrate film and dicing film - Google Patents
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Description
本発明は、半導体ウエハ等をチップ状にダイシングする際に、半導体ウエハ等を固定するためのダイシングフイルムに関する。 The present invention relates to a dicing film for fixing a semiconductor wafer or the like when the semiconductor wafer or the like is diced into chips.
半導体ウエハは、予め大面積で作られた後、チップ状にダイシング(切断分離)されてエキスパンド工程に移される。そのダイシングに際して、半導体ウエハを固定するために用いられるのがダイシングフイルムである。 A semiconductor wafer is made in advance in a large area, then diced (cut and separated) into chips and transferred to an expanding process. In the dicing, a dicing film is used for fixing the semiconductor wafer.
ダイシングフイルムは、基本的には半導体ウエハを固定する粘着剤層とダイシングブレードの切り込みを受ける樹脂層(ダイシング用基体フイルム)とから構成されている。ダイシングフイルムに固定された半導体ウエハは、チップ状にダイシングされ、各チップ同士を分離するためにエキスパンドリング上で面方向に一様にエキスパンドされた後、ピックアップされる。 The dicing film is basically composed of an adhesive layer for fixing a semiconductor wafer and a resin layer (a substrate film for dicing) that receives the cutting of a dicing blade. The semiconductor wafer fixed to the dicing film is diced into chips, and is picked up after being uniformly expanded in the surface direction on the expanding ring in order to separate the chips.
半導体ウエハのダイシング工程では、ウエハとともに粘着剤層又はダイシング用基体フイルムの一部も切断されるため、樹脂の摩擦熱により溶融状態となり樹脂由来の切削屑(ダイシング屑)が発生する。この切削屑は、ウエハを汚染しチップの歩留まりを低下させるため、極力低減させる必要がある。 In the semiconductor wafer dicing process, the adhesive layer or a part of the substrate film for dicing is also cut together with the wafer, so that the resin becomes a molten state due to frictional heat of the resin, and resin-derived cutting waste (dicing waste) is generated. Since this cutting waste contaminates the wafer and lowers the yield of chips, it is necessary to reduce it as much as possible.
例えば、ダイシング工程における切削屑をなくすことを主な目的として、次のようなダイシングフイルムが報告されている。 For example, the following dicing film has been reported mainly for the purpose of eliminating cutting waste in the dicing process.
特許文献1には、基材フイルムとして、電子線又はγ線を1〜80Mrad照射したポリエチレン等のポリオレフィン系フイルムが記載されている。しかし、このフイルムは、架橋性樹脂全体を電子線等で架橋するものであるため硬くなり充分なエキスパンド性が得られない。 Patent Document 1 describes a polyolefin film such as polyethylene irradiated with 1 to 80 Mrad of an electron beam or γ-ray as a base film. However, since this film crosslinks the entire crosslinkable resin with an electron beam or the like, it becomes hard and sufficient expandability cannot be obtained.
特許文献2には、基材フイルムとして、エチレン・メチルメタアクリレート共重合体フイルムが記載されている。しかし、このフイルムは、ある程度の切削屑を低減できるが、必ずしも充分ではない。 Patent Document 2 describes an ethylene / methyl methacrylate copolymer film as a base film. However, although this film can reduce a certain amount of cutting waste, it is not always sufficient.
特許文献3には、主に、エチレン、(メタ)アクリル酸及び(メタ)アクリル酸アルキルエステルの3元共重合体を金属イオンで架橋したアイオノマー樹脂を主成分とする樹脂層Bと粘着剤層Aとが積層された半導体ウエハ固定用粘着テープが記載されている。しかし、このフイルムは、金属イオンを含むためウエハの汚染が問題となる。 Patent Document 3 mainly discloses a resin layer B mainly composed of an ionomer resin obtained by crosslinking a terpolymer of ethylene, (meth) acrylic acid, and (meth) acrylic acid alkyl ester with metal ions, and an adhesive layer. A semiconductor wafer fixing adhesive tape laminated with A is described. However, since this film contains metal ions, contamination of the wafer becomes a problem.
特許文献4には、粘着剤被塗布層と、熱可塑性エラストマー層と樹脂層とがこの順に積層され、前記熱可塑性エラストマー層が、水素添加したスチレン−ブタジエン共重合体を70質量%以上含む樹脂組成物からなり、層厚が基材肉厚に対して30%以上である粘着テープ用基材が記載されている。しかし、このフイルムは、切削屑の低減効果は必ずしも充分ではない。 In Patent Document 4, a pressure-sensitive adhesive coated layer, a thermoplastic elastomer layer, and a resin layer are laminated in this order, and the thermoplastic elastomer layer contains 70% by mass or more of a hydrogenated styrene-butadiene copolymer. An adhesive tape base material comprising a composition and having a layer thickness of 30% or more with respect to the base material thickness is described. However, this film does not always have a sufficient cutting scrap reduction effect.
特許文献5には、少なくとも2層からなる基材フイルムにおいて、粘着剤層側の層の樹脂としてポリプロピレンが、粘着剤層側の樹脂層以外の層としてスチレン−ブタジエン共重合体の水素添加物を用いることが記載されている。
本発明は、半導体ウエハのダイシング工程における切削屑(ダイシング後にフイルムから発生する糸状又はヒゲ状の屑)の発生がほとんどなく、フイルムの表面層とアクリル系粘着剤との密着性に優れたダイシングフイルムを提供することを目的とする。また、該ダイシングフイルムに用いられるダイシング用基体フイルムを提供することも目的とする。 The present invention has almost no generation of cutting waste (thread-like or whisker-like waste generated from the film after dicing) in the dicing process of the semiconductor wafer, and has excellent adhesion between the film surface layer and the acrylic adhesive. The purpose is to provide. Another object of the present invention is to provide a substrate film for dicing used for the dicing film.
本発明者は、上記の課題を解決するために鋭意研究を行った結果、A層/B層/C層の順に積層されてなるダイシング用基体フイルムであって、A層にビニル芳香族炭化水素−共役ジエン炭化水素共重合体の水素添加物60〜10重量%とエチレン−(メタ)アクリル酸共重合体40〜90重量%とを含み、B層にビニル芳香族炭化水素−共役ジエン炭化水素共重合体の水素添加物90〜30重量%とエチレン−(メタ)アクリル酸共重合体10〜70重量%とを含み、C層にゴム弾性を有する熱可塑性樹脂を含むダイシング用基体フイルムが、上記の課題を全て解決できることを見出した。かかる知見に基づき、さらに研究を重ねて本発明を完成するに至った。 As a result of intensive studies to solve the above-mentioned problems, the present inventor is a substrate film for dicing laminated in the order of A layer / B layer / C layer, and vinyl aromatic hydrocarbons are formed on the A layer. -Hydrogenated product of conjugated diene hydrocarbon copolymer 60 to 10% by weight and ethylene- (meth) acrylic acid copolymer 40 to 90% by weight, and vinyl aromatic hydrocarbon-conjugated diene hydrocarbon in layer B A substrate film for dicing comprising 90-30% by weight of a hydrogenated copolymer and 10-70% by weight of an ethylene- (meth) acrylic acid copolymer, and comprising a thermoplastic resin having rubber elasticity in the C layer, It was found that all the above problems can be solved. Based on this knowledge, further studies have been made and the present invention has been completed.
即ち、本発明は下記のダイシング用基体フイルム及びダイシングフイルムを提供する。 That is, the present invention provides the following dicing substrate film and dicing film.
項1. A層/B層/C層の順に積層されてなるダイシング用基体フイルムであって、A層はビニル芳香族炭化水素−共役ジエン炭化水素共重合体の水素添加物60〜10重量%とエチレン−(メタ)アクリル酸共重合体40〜90重量%とを含み、B層はビニル芳香族炭化水素−共役ジエン炭化水素共重合体の水素添加物90〜30重量%とエチレン−(メタ)アクリル酸共重合体10〜70重量%とを含み、C層はゴム弾性を有する熱可塑性樹脂を含むダイシング用基体フイルム。 Item 1. A substrate film for dicing laminated in the order of A layer / B layer / C layer, wherein the A layer is composed of 60 to 10% by weight of a hydrogenated vinyl aromatic hydrocarbon-conjugated diene hydrocarbon copolymer and ethylene (Meth) acrylic acid copolymer 40 to 90% by weight, and B layer is a vinyl aromatic hydrocarbon-conjugated diene hydrocarbon copolymer hydrogenated 90 to 30% by weight and ethylene- (meth) acrylic acid. A substrate film for dicing comprising 10 to 70% by weight of a copolymer, wherein the C layer contains a thermoplastic resin having rubber elasticity.
項2. 前記ダイシング用基体フイルムの全厚さが50〜300μmであり、ダイシング用基体フイルムの全厚さに対し、A層の厚さが5〜40%であり、B層の厚さが20〜90%である項1に記載のダイシング用基体フイルム。 Item 2. The total thickness of the substrate film for dicing is 50 to 300 μm, the thickness of the A layer is 5 to 40%, and the thickness of the B layer is 20 to 90% with respect to the total thickness of the substrate film for dicing. Item 2. The substrate film for dicing according to Item 1, wherein
項3. 前記項1又は2に記載のダイシング用基体フイルムのA層上にさらに粘着剤層を有するダイシングフイルム。 Item 3. 3. A dicing film further comprising an adhesive layer on the A layer of the substrate film for dicing according to item 1 or 2.
項4. A層/B層/C層の順に積層されてなるダイシング用基体フイルムの製造方法であって、ビニル芳香族炭化水素−共役ジエン炭化水素共重合体の水素添加物60〜10重量%とエチレン−(メタ)アクリル酸共重合体40〜90重量%とを含むA層用樹脂、ビニル芳香族炭化水素−共役ジエン炭化水素共重合体の水素添加物90〜30重量%とエチレン−(メタ)アクリル酸共重合体10〜70重量%とを含むB層用樹脂、及びゴム弾性を有する熱可塑性樹脂を含むC層用樹脂を、A層/B層/C層の順に共押出成形することを特徴とする製造方法。 Item 4. A method for producing a substrate film for dicing which is laminated in the order of A layer / B layer / C layer, comprising 60 to 10% by weight of a hydrogenated vinyl aromatic hydrocarbon-conjugated diene hydrocarbon copolymer and ethylene Resin for layer A containing (meth) acrylic acid copolymer 40 to 90 wt%, hydrogenated 90 to 30 wt% of vinyl aromatic hydrocarbon-conjugated diene hydrocarbon copolymer and ethylene- (meth) acryl B layer resin containing 10 to 70% by weight of acid copolymer and C layer resin containing thermoplastic resin having rubber elasticity are coextruded in the order of A layer / B layer / C layer. Manufacturing method.
本発明のダイシング用基体フイルムは、ダイシング工程における切削屑の発生がほとんどないためウエハの汚染やIC(集積回路)の破壊といった心配がない。また、本発明のダイシング用基体フイルムにアクリル系粘着剤層を設けたダイシングフイルムは、は、フイルムの表面層とアクリル系粘着剤との接着性に優れている。 Since the substrate film for dicing according to the present invention hardly generates cutting waste in the dicing process, there is no fear of wafer contamination or IC (integrated circuit) destruction. The dicing film in which the acrylic pressure-sensitive adhesive layer is provided on the substrate film for dicing according to the present invention is excellent in adhesiveness between the surface layer of the film and the acrylic pressure-sensitive adhesive.
I.ダイシング用基体フイルム
本発明のダイシング用基体フイルムは、A層/B層/C層の順に積層されてなるダイシング用基体フイルムであって、A層はビニル芳香族炭化水素−共役ジエン炭化水素共重合体の水素添加物60〜10重量%とエチレン−(メタ)アクリル酸共重合体40〜90重量%とを含み、B層はビニル芳香族炭化水素−共役ジエン炭化水素共重合体の水素添加物90〜30重量%とエチレン−(メタ)アクリル酸共重合体10〜70重量%とを含み、C層はゴム弾性を有する熱可塑性樹脂を含むことを特徴とする。
I. Dicing Substrate Film The dicing substrate film of the present invention is a dicing substrate film that is laminated in the order of A layer / B layer / C layer, and the A layer is a vinyl aromatic hydrocarbon-conjugated diene hydrocarbon copolymer. The layer B contains a hydrogenated vinyl aromatic hydrocarbon-conjugated diene hydrocarbon copolymer containing 60 to 10% by weight of the combined hydrogenated product and 40 to 90% by weight of the ethylene- (meth) acrylic acid copolymer. 90 to 30% by weight and 10 to 70% by weight of an ethylene- (meth) acrylic acid copolymer, and the C layer includes a thermoplastic resin having rubber elasticity.
以下、各層毎に説明する。 Hereinafter, each layer will be described.
A層:
A層は、ビニル芳香族炭化水素−共役ジエン炭化水素共重合体の水素添加物60〜10重量%とエチレン−(メタ)アクリル酸共重合体40〜90重量%とを含んでいる。かかる組成であれば、ダイシングの際の切削屑を抑えることができる。
A layer:
The A layer contains 60 to 10% by weight of a hydrogenated vinyl aromatic hydrocarbon-conjugated diene hydrocarbon copolymer and 40 to 90% by weight of an ethylene- (meth) acrylic acid copolymer. If it is this composition, the cutting waste in the case of dicing can be suppressed.
ここで、ビニル芳香族炭化水素−共役ジエン炭化水素共重合体の水素添加物とは、ビニル芳香族炭化水素と共役ジエン炭化水素との共重合体を水素添加した化合物である。該化合物は市販されているか、或いは公知の方法により容易に製造ですることができる。ビニル芳香族炭化水素−共役ジエン炭化水素共重合体は、ランダム、ブロックのいずれでもよいが、好ましくはブロックである。 Here, the hydrogenated vinyl aromatic hydrocarbon-conjugated diene hydrocarbon copolymer is a compound obtained by hydrogenating a copolymer of vinyl aromatic hydrocarbon and conjugated diene hydrocarbon. The compound is commercially available or can be easily produced by a known method. The vinyl aromatic hydrocarbon-conjugated diene hydrocarbon copolymer may be either random or block, but is preferably a block.
ビニル芳香族炭化水素としては、例えば、スチレン、α−メチルスチレン、p−メチルスチレン、ジビニルベンゼン、1,1−ジフェニルエチレン、N,N−ジメチル−p−アミノエチルスチレン、N,N−ジエチル−p−アミノエチルスチレン等があげられ、これらは一種のみならず二種以上を使用してもよい。特にスチレンが好適である。 Examples of the vinyl aromatic hydrocarbon include styrene, α-methylstyrene, p-methylstyrene, divinylbenzene, 1,1-diphenylethylene, N, N-dimethyl-p-aminoethylstyrene, N, N-diethyl- Examples thereof include p-aminoethylstyrene, and these may be used alone or in combination of two or more. Styrene is particularly preferred.
共役ジエン炭化水素とは、1対の共役二重結合を有するジオレフィンであり、例えば1,3−ブタジエン、2−メチル−1,3−ブタジエン(イソプレン)、2,3−ジメチル−1,3−ブタジエン、1,3−ペンタジエン、2−メチル−1,3−ペンタジエン、1,3−ヘキサジエンなどであるが、特に一般的なものとしては1,3−ブタジエン、イソプレンが挙げられる。これらは一種のみならず二種以上を使用してもよい。特にブタジエンが好適である。 The conjugated diene hydrocarbon is a diolefin having a pair of conjugated double bonds, such as 1,3-butadiene, 2-methyl-1,3-butadiene (isoprene), 2,3-dimethyl-1,3. -Butadiene, 1,3-pentadiene, 2-methyl-1,3-pentadiene, 1,3-hexadiene and the like, and particularly common ones include 1,3-butadiene and isoprene. These may be used alone or in combination of two or more. In particular, butadiene is preferred.
ビニル芳香族炭化水素−共役ジエン炭化水素共重合体の水素添加物におけるビニル芳香族炭化水素(例えば、スチレン)単位の含有量は、通常5〜40重量%、好ましくは5〜15重量%であり、また、共役ジエン炭化水素単位の含有量は、通常60〜90重量%、好ましくは85〜95重量%である。ビニル芳香族炭化水素(例えば、スチレン)単位の含有量は、紫外分光光度計又は核磁気共鳴装置(NMR)を用いて、ジエン系単量体単位の含有量は、核磁気共鳴装置(NMR)を用いて測定することができる。 The content of vinyl aromatic hydrocarbon (eg, styrene) units in the hydrogenated vinyl aromatic hydrocarbon-conjugated diene hydrocarbon copolymer is usually 5 to 40% by weight, preferably 5 to 15% by weight. Moreover, content of a conjugated diene hydrocarbon unit is 60 to 90 weight% normally, Preferably it is 85 to 95 weight%. The content of vinyl aromatic hydrocarbon (for example, styrene) units is measured using an ultraviolet spectrophotometer or a nuclear magnetic resonance apparatus (NMR), and the content of diene monomer units is measured using a nuclear magnetic resonance apparatus (NMR). Can be measured.
該ビニル芳香族炭化水素−共役ジエン炭化水素共重合体水素添加物は、上記ビニル芳香族炭化水素と共役ジエン炭化水素の共重合体を水素添加することにより得られる。 The hydrogenated vinyl aromatic hydrocarbon-conjugated diene hydrocarbon copolymer can be obtained by hydrogenating the vinyl aromatic hydrocarbon / conjugated diene hydrocarbon copolymer.
水添反応は、一般的に0〜200℃、より好ましくは30〜150℃の温度範囲で実施される。水添反応に使用される水素の圧力は0.1〜15MPa、好ましくは0.2〜10MPa、更に好ましくは0.3〜7MPaが推奨される。また、水添反応時間は通常3分〜10時間、好ましくは10分〜5時間である。水添反応は、バッチプロセス、連続プロセス、或いはそれらの組み合わせのいずれでも用いることができる。 The hydrogenation reaction is generally performed in a temperature range of 0 to 200 ° C, more preferably 30 to 150 ° C. The pressure of hydrogen used for the hydrogenation reaction is 0.1 to 15 MPa, preferably 0.2 to 10 MPa, and more preferably 0.3 to 7 MPa. The hydrogenation reaction time is usually 3 minutes to 10 hours, preferably 10 minutes to 5 hours. The hydrogenation reaction can be any of a batch process, a continuous process, or a combination thereof.
本発明で用いられるビニル芳香族炭化水素−共役ジエン炭化水素共重合体水素添加物において、水添前のブロック共重合体中の共役ジエン炭化水素に基づく不飽和二重結合の水素添加率(水添率)は、該共重合体中の共役ジエン炭化水素に基づく不飽和二重結合の60%以上、好ましくは75%以上、更に好ましくは85%以上、特に好ましくは90%以上が水添されていることが望ましい。水添率は、核磁気共鳴装置(NMR)により知ることができる。 In the hydrogenated vinyl aromatic hydrocarbon-conjugated diene hydrocarbon copolymer used in the present invention, the hydrogenation rate of unsaturated double bonds based on the conjugated diene hydrocarbon in the block copolymer before hydrogenation (water The addition ratio is 60% or more, preferably 75% or more, more preferably 85% or more, particularly preferably 90% or more of the unsaturated double bond based on the conjugated diene hydrocarbon in the copolymer. It is desirable that The hydrogenation rate can be known by a nuclear magnetic resonance apparatus (NMR).
ビニル芳香族炭化水素−共役ジエン炭化水素共重合体の水素添加物の重量平均分子量(Mw)は、例えば、10万〜50万程度、好ましくは15万〜30万程度であればよい。重量平均分子量は、市販の標準ゲルパーミエーションクロマトグラフィー(GPC)を用いて測定できる。 The weight average molecular weight (Mw) of the hydrogenated vinyl aromatic hydrocarbon-conjugated diene hydrocarbon copolymer may be, for example, about 100,000 to 500,000, preferably about 150,000 to 300,000. The weight average molecular weight can be measured using commercially available standard gel permeation chromatography (GPC).
該ビニル芳香族炭化水素−共役ジエン炭化水素共重合体水素添加物としては、たとえば、クレイトンポリマージャパン株式会社製「クレイトンG」、株式会社クラレ製「ハイブラー」及びJSR株式会社製「ダイナロン」などが挙げられる。 Examples of the hydrogenated vinyl aromatic hydrocarbon-conjugated diene hydrocarbon copolymer include “Clayton G” manufactured by Kraton Polymer Japan Co., Ltd., “Hyblar” manufactured by Kuraray Co., Ltd., and “Dynalon” manufactured by JSR Co., Ltd. Can be mentioned.
エチレン−(メタ)アクリル酸共重合体とは、エチレンから導かれる構成単位と(メタ)アクリル酸から導かれる構成単位からなる二元共重合体が好ましいものとして挙げられる。ここで、(メタ)アクリル酸とは、アクリル酸またはメタアクリル酸を意味する。したがって、エチレン−(メタ)アクリル酸共重合体の具体例としては、エチレン−アクリル酸二元共重合体またはエチレン−メタアクリル酸二元共重合体が挙げられる。好ましくは、エチレン−メタアクリル酸共重合体である。 Preferred examples of the ethylene- (meth) acrylic acid copolymer include a binary copolymer composed of a structural unit derived from ethylene and a structural unit derived from (meth) acrylic acid. Here, (meth) acrylic acid means acrylic acid or methacrylic acid. Therefore, specific examples of the ethylene- (meth) acrylic acid copolymer include an ethylene-acrylic acid binary copolymer or an ethylene-methacrylic acid binary copolymer. Preferably, it is an ethylene-methacrylic acid copolymer.
エチレン−(メタ)アクリル酸共重合体のエチレン含量(エチレンから誘導される構成単位含有量)は、好ましくは96〜85重量%、さらに好ましくは95〜88重量%、特に好ましくは93〜91重量%であり、(メタ)アクリル酸含量((メタ)アクリル酸から誘導される構成単位含有量)は、好ましくは4〜15重量%、さらに好ましくは5〜12重量%、特に好ましくは7〜9重量%である。該エチレン−(メタ)アクリル酸共重合体としては、例えば、三井デュポンポリケミカル株式会社製「ニュクレル」が挙げられる。 The ethylene content of ethylene- (meth) acrylic acid copolymer (content of structural units derived from ethylene) is preferably 96 to 85% by weight, more preferably 95 to 88% by weight, particularly preferably 93 to 91% by weight. The (meth) acrylic acid content (constituent unit content derived from (meth) acrylic acid) is preferably 4 to 15% by weight, more preferably 5 to 12% by weight, and particularly preferably 7 to 9%. % By weight. Examples of the ethylene- (meth) acrylic acid copolymer include “Nucrel” manufactured by Mitsui DuPont Polychemical Co., Ltd.
A層において、ビニル芳香族炭化水素−共役ジエン炭化水素共重合体の水素添加物とエチレン−(メタ)アクリル酸共重合体とからなる樹脂組成物中、ビニル芳香族炭化水素−共役ジエン炭化水素共重合体の水素添加物の含有量は60〜10重量%、好ましくは50〜20重量%、より好ましくは40〜30重量%であり、エチレン−(メタ)アクリル酸共重合体の含有量は40〜90重量%、好ましくは50〜80重量%、より好ましくは60〜70重量%である。 In layer A, a vinyl aromatic hydrocarbon-conjugated diene hydrocarbon in a resin composition comprising a hydrogenated vinyl aromatic hydrocarbon-conjugated diene hydrocarbon copolymer and an ethylene- (meth) acrylic acid copolymer. The content of the hydrogenated product of the copolymer is 60 to 10% by weight, preferably 50 to 20% by weight, more preferably 40 to 30% by weight, and the content of the ethylene- (meth) acrylic acid copolymer is It is 40 to 90% by weight, preferably 50 to 80% by weight, more preferably 60 to 70% by weight.
A層を上記組成とすることにより、半導体ウエハのダイシング工程において切削屑発生の発生を抑制することができる。さらに、エチレン−(メタ)アクリル酸共重合体(例えば、EMA)の含有量が40重量%より少ない場合には、その上に設けられた粘着剤層との接着性が悪化する傾向にある。また、90重量%を超える場合には、切削屑が発生し好ましくない。しかし、この含有量を40重量%以上90重量%以下とすることにより、A層表面と粘着剤層との接着性が優れたものとなり、また切削屑も抑えられる。 By setting the A layer to the above composition, generation of cutting chips can be suppressed in the dicing process of the semiconductor wafer. Furthermore, when the content of the ethylene- (meth) acrylic acid copolymer (for example, EMA) is less than 40% by weight, the adhesiveness with the pressure-sensitive adhesive layer provided thereon tends to deteriorate. Moreover, when it exceeds 90 weight%, cutting waste will generate | occur | produce and it is not preferable. However, when the content is 40% by weight or more and 90% by weight or less, the adhesiveness between the surface of the layer A and the pressure-sensitive adhesive layer becomes excellent, and cutting waste can be suppressed.
B層:
B層は、ビニル芳香族炭化水素−共役ジエン炭化水素共重合体の水素添加物90〜30重量%とエチレン−(メタ)アクリル酸共重合体10〜70重量%とを含んでいる。
B layer:
The layer B contains 90 to 30% by weight of a hydrogenated vinyl aromatic hydrocarbon-conjugated diene hydrocarbon copolymer and 10 to 70% by weight of an ethylene- (meth) acrylic acid copolymer.
B層で用いられるスチレン−共役ジエンブロック共重合体水素添加物、及びエチレン−(メタ)アクリル酸共重合体としては、上記A層で記載したものが挙げられる。A層及びB層のスチレン−共役ジエンブロック共重合体水素添加物、及び/又はエチレン−(メタ)アクリル酸共重合体の種類は、A層とB層とで同一でも異なっていてもよい。 Examples of the hydrogenated styrene-conjugated diene block copolymer and the ethylene- (meth) acrylic acid copolymer used in the B layer include those described in the A layer. The types of the hydrogenated styrene-conjugated diene block copolymer and / or ethylene- (meth) acrylic acid copolymer of the A layer and the B layer may be the same or different between the A layer and the B layer.
B層において、ビニル芳香族炭化水素−共役ジエン炭化水素共重合体の水素添加物とエチレン−(メタ)アクリル酸共重合体とからなる樹脂組成物中、ビニル芳香族炭化水素−共役ジエン炭化水素共重合体の水素添加物の含有量は30〜90重量%、好ましくは40〜80重量%、より好ましくは50〜80重量%であり、エチレン−(メタ)アクリル酸共重合体の含有量は10〜70重量%、好ましくは20〜60重量%、より好ましくは20〜50重量%である。 In layer B, a vinyl aromatic hydrocarbon-conjugated diene hydrocarbon in a resin composition comprising a hydrogenated vinyl aromatic hydrocarbon-conjugated diene hydrocarbon copolymer and an ethylene- (meth) acrylic acid copolymer. The content of the hydrogenated product of the copolymer is 30 to 90% by weight, preferably 40 to 80% by weight, more preferably 50 to 80% by weight, and the content of the ethylene- (meth) acrylic acid copolymer is It is 10 to 70% by weight, preferably 20 to 60% by weight, and more preferably 20 to 50% by weight.
かかる範囲であると、B層においてダイシングブレードによる樹脂由来の切削屑(ダイシング屑)の発生を効果的に抑制することができるため好適である。 Such a range is preferable because generation of resin-derived cutting waste (dicing waste) by the dicing blade in the B layer can be effectively suppressed.
C層:
C層で用いられるはゴム弾性を有する熱可塑性樹脂は、エキスパンドリングと接して一様にエキスパンドされる。該ゴム弾性を有する熱可塑性樹脂としては、例えば、低密度ポリエチレン、中密度ポリエチレン、エチレン−α−オレフィン共重合体である直鎖状低密度ポリエチレン若しくは超低密度ポリエチレンであって、α−オレフィンがプロピレン、ブテン−1、オクテン−1、4メチルペンテン−1、ヘキセン−1、オクテン−1である樹脂、スチレン系共重合体、エチレン−酢酸ビニル共重合体(EVA)、エチレン−メチルアクリレート共重合体(EMA)、エチレン−エチルアクリレート共重合体、エチレン−ブチルアクリレート共重合体、エチレン−メチルメタクリレート共重合体(EMMA)、エチレン−メタクリル酸共重合体(EMAA)、エチレン−エチルメタクリレート共重合体、これらの樹脂の混合物等が挙げられる。これらのうち、EMA,EMAA又はEMMAが好ましく、EMAが特に好ましい。
C layer:
The thermoplastic resin having rubber elasticity used in the C layer is uniformly expanded in contact with the expanding ring. Examples of the thermoplastic resin having rubber elasticity include low-density polyethylene, medium-density polyethylene, linear low-density polyethylene which is an ethylene-α-olefin copolymer, or ultra-low-density polyethylene, and α-olefin is Propylene, butene-1, octene-1, 4methylpentene-1, hexene-1, octene-1 resin, styrene copolymer, ethylene-vinyl acetate copolymer (EVA), ethylene-methyl acrylate copolymer Copolymer (EMA), ethylene-ethyl acrylate copolymer, ethylene-butyl acrylate copolymer, ethylene-methyl methacrylate copolymer (EMMA), ethylene-methacrylic acid copolymer (EMAA), ethylene-ethyl methacrylate copolymer And a mixture of these resins. Of these, EMA, EMAA or EMMA is preferable, and EMA is particularly preferable.
C層には、必要に応じさらに帯電防止剤を含んでいてもよい。C層で用いられる帯電防止剤としては、アニオン系,カチオン系、ノニオン系等の公知の界面活性剤を選択できるが、とりわけ持続性,耐久性の点から、ポリエーテルエステルアミド樹脂(以下「PEEA樹脂」と表記する)、親水性ポリオレフィン樹脂(以下「親水性PO樹脂」と表記する)等のノニオン系界面活性剤が好適である。 The C layer may further contain an antistatic agent as necessary. As the antistatic agent used in the C layer, known surfactants such as anionic, cationic, and nonionic surfactants can be selected. In particular, from the viewpoint of durability and durability, polyether ester amide resin (hereinafter referred to as “PEEA”). Nonionic surfactants such as hydrophilic resin (hereinafter referred to as “hydrophilic PO resin”) and the like are preferable.
前記PEEA樹脂は、親水性付与の主たるユニット成分であるポリエーテルエステルと、ポリアミドユニットとから構成されるポリマであり、市販されているか、或いは公知の方法で容易に製造することができる。PEEA樹脂として、例えば、三洋化成工業(株)のペレスタットNC6321等が例示される。また、特開昭64−45429号公報、特開平6−287547号公報等にその製法が記載されており、これによれば、例えば、主鎖中にエーテル基を有するポリジオ−ル成分にジカルボン酸成分を反応させて末端エステルに変え、これにアミノカルボン酸又はラクタムを反応させて製造できる。PEEA樹脂
は、前記いずれの層の樹脂とも相溶性が良く、ブリードアウトするような現象は一切ない。
The PEEA resin is a polymer composed of a polyether ester, which is a main unit component for imparting hydrophilicity, and a polyamide unit, and is commercially available or can be easily produced by a known method. Examples of the PEEA resin include Pelestat NC6321 from Sanyo Chemical Industries, Ltd. In addition, the production method is described in JP-A-64-45429, JP-A-6-287547, etc. According to this, for example, a polydiol component having an ether group in the main chain is added to a dicarboxylic acid. It can be produced by reacting the components into a terminal ester and reacting this with an aminocarboxylic acid or lactam. The PEEA resin has good compatibility with any of the above-mentioned layers of resin, and there is no phenomenon of bleeding out.
親水性PO樹脂としては、例えば、親水性ポリエチレン(以下「親水性PE樹脂」と表記する)又は親水性ポリプロピレン(以下「親水性PP樹脂」と表記する)が例示される。 Examples of the hydrophilic PO resin include hydrophilic polyethylene (hereinafter referred to as “hydrophilic PE resin”) or hydrophilic polypropylene (hereinafter referred to as “hydrophilic PP resin”).
親水性PE樹脂又は親水性PP樹脂は、基本的にはポリエチレン鎖又はポリプロピレン鎖とポリオキシアルキレン鎖とがブロック結合したものであり、高い除電作用が発揮され静電気の蓄積をなくす。この結合は、エステル基、アミド基、エーテル基、ウレタン基等によって行われている。フイルム樹脂との相溶性の点から、この結合はエステル基又はエーテル基であるのが好ましい。親水性PP樹脂として、例えば、三洋化成工業(株)のペレスタット230等が例示される。 The hydrophilic PE resin or the hydrophilic PP resin is basically a block in which a polyethylene chain or a polypropylene chain and a polyoxyalkylene chain are bonded to each other, exhibiting a high static elimination action and eliminating the accumulation of static electricity. This bonding is performed by an ester group, an amide group, an ether group, a urethane group or the like. From the viewpoint of compatibility with the film resin, this bond is preferably an ester group or an ether group. As the hydrophilic PP resin, for example, Pelestat 230 manufactured by Sanyo Chemical Industries, Ltd. is exemplified.
親水性PE樹脂又は親水性PP樹脂におけるポリエチレン鎖又はポリプロピレン鎖の分子量は、例えば1200〜6000程度である。この分子量範囲であると、ポリオキシアルキレン鎖にポリエチレン又はポリプロピレンをブロック結合させる前段階の、ポリエチレン又はポリプロピレンの酸変性化が容易であるためである。 The molecular weight of the polyethylene chain or the polypropylene chain in the hydrophilic PE resin or the hydrophilic PP resin is, for example, about 1200 to 6000. This is because, within this molecular weight range, it is easy to acid-modify polyethylene or polypropylene at the stage before block bonding polyethylene or polypropylene to the polyoxyalkylene chain.
また、親水性PE樹脂又は親水性PP樹脂におけるポリオキシアルキレン鎖の分子量は、耐熱性及び酸変性後のポリエチレン又はポリプロピレンとの反応性の点から、1000〜15000程度であるのが良い。なお、上記した分子量は、GPCを用いて測定した値である。 The molecular weight of the polyoxyalkylene chain in the hydrophilic PE resin or hydrophilic PP resin is preferably about 1000 to 15000 from the viewpoint of heat resistance and reactivity with polyethylene or polypropylene after acid modification. The molecular weight described above is a value measured using GPC.
親水性PE樹脂又は親水性PP樹脂は、例えば、前記した分子量を有するポリエチレン又はポリプロピレンを酸変性し、これにポリアルキレングリコールを反応させて製造することができる。より詳細については、例えば、特開2001−278985号公報、特開2003−48990号公報に記載されている。 The hydrophilic PE resin or the hydrophilic PP resin can be produced by, for example, acid-modifying polyethylene or polypropylene having the above-described molecular weight and reacting this with polyalkylene glycol. More details are described in, for example, Japanese Patent Application Laid-Open Nos. 2001-278985 and 2003-48990.
C層が帯電防止剤を含む場合、帯電防止剤の含有量は、前記ビニル芳香族炭化水素−共役ジエン炭化水素共重合体の水素添加物とエチレン−(メタ)アクリル酸共重合体との合計100重量部に対し10〜45重量部、好ましくは20〜30重量部である。かかる範囲であれば、エキスパンドリングと接して一様にエキスパンドされる場合のC層の滑り性を損なうことなく、有効に半導電性が付与されるため、発生する静電気をすばやく除電することができる。例えば、上記した範囲で帯電防止剤を含有させた本発明のフイルムは、その裏面の表面抵抗率が107〜1012Ω/□程度となるため好ましい。 When layer C contains an antistatic agent, the content of the antistatic agent is the sum of the hydrogenated vinyl aromatic hydrocarbon-conjugated diene hydrocarbon copolymer and the ethylene- (meth) acrylic acid copolymer. It is 10-45 weight part with respect to 100 weight part, Preferably it is 20-30 weight part. Within such a range, the semi-conductivity is effectively imparted without impairing the slipperiness of the C layer when uniformly expanded in contact with the expand ring, so that the generated static electricity can be quickly eliminated. . For example, the film of the present invention containing the antistatic agent in the above-described range is preferable because the surface resistivity of the back surface is about 10 7 to 10 12 Ω / □.
C層には、本発明の効果に悪影響を与えない範囲で、さらにアンチブロッキング剤等を加えてもよい。アンチブロッキング剤を添加することにより、ダイシング用基体フイルムをロール状に巻き取った場合等のブロッキングが抑えられ好ましい。アンチブロッキング剤としては、無機系または有機系の微粒子を例示することができる。 An antiblocking agent or the like may be further added to the C layer as long as the effect of the present invention is not adversely affected. By adding an anti-blocking agent, blocking such as when the substrate film for dicing is rolled up is preferably suppressed. Examples of the anti-blocking agent include inorganic or organic fine particles.
各層の厚さ
ダイシング用基体フイルムの厚さは、ダイシングブレードの切り込み深さよりも厚くし、且つ容易にロ−ル状に巻くことができる程度であれば良く、例えば50〜300μmであり、好ましくは60〜250μm、より好ましくは70〜200μmである。
Thickness of each layer The thickness of the substrate film for dicing should be thicker than the cutting depth of the dicing blade and can be easily wound into a roll, for example, 50 to 300 μm, preferably It is 60-250 micrometers, More preferably, it is 70-200 micrometers.
また、ダイシング用基体フイルム全厚さに対し、A層の厚さの割合は、5〜40%、好ましくは5〜30%であり、B層の厚さの割合は、20〜90%、好ましくは40〜90%であり、C層の厚さの割合は、通常5〜40%であり、好ましくは5〜30%である。 Further, the ratio of the thickness of the A layer to the total thickness of the substrate film for dicing is 5 to 40%, preferably 5 to 30%, and the ratio of the thickness of the B layer is 20 to 90%, preferably Is 40 to 90%, and the ratio of the thickness of the C layer is usually 5 to 40%, preferably 5 to 30%.
ダイシング用基体フイルムの具体例としては、ダイシング用基体フイルムの全厚さが120〜180μmの場合、A層の厚さは、6〜72μm、好ましくは6〜54μmである。B層の厚さは、24〜162μm、好ましくは48〜162μmである。C層の厚さは、6〜72μm、好ましくは6〜54μmである。 As a specific example of the substrate film for dicing, when the total thickness of the substrate film for dicing is 120 to 180 μm, the thickness of the layer A is 6 to 72 μm, preferably 6 to 54 μm. The thickness of the B layer is 24-162 μm, preferably 48-162 μm. The thickness of the C layer is 6 to 72 μm, preferably 6 to 54 μm.
A層及びB層の合計厚さはダイシングブレードの切り込みの最深部の深さよりも厚くし、ダイシングブレードの切込みがC層にまで達しない厚さとすることが必要である。このような厚さのA層及びB層を設けることにより基材フイルムとしての切削屑はほとんど発生しない。
II.ダイシング用基体フイルムの製法
本発明の3層構成のダイシング用基体フイルムは、A層、B層及びC層用樹脂を多層共押出成形して製造する。具体的には、ビニル芳香族炭化水素−共役ジエン炭化水素共重合体の水素添加物60〜10重量%とエチレン−(メタ)アクリル酸共重合体40〜90重量%とを含むA層用樹脂、ビニル芳香族炭化水素−共役ジエン炭化水素共重合体の水素添加物90〜30重量%とエチレン−(メタ)アクリル酸共重合体10〜70重量%とを含むB層用樹脂、及びゴム弾性を有する熱可塑性樹脂を含むC層用樹脂を、A層/B層/C層の順に共押出成形することにより製造することができる。
The total thickness of the A layer and the B layer needs to be thicker than the depth of the deepest part of the dicing blade incision, so that the incision of the dicing blade does not reach the C layer. By providing the A layer and the B layer having such a thickness, cutting scraps as a base film are hardly generated.
II. Production Method of Dicing Substrate Film The three-layer dicing substrate film of the present invention is produced by multi-layer coextrusion molding of the resin for the A layer, the B layer and the C layer. Specifically, a resin for layer A containing 60 to 10% by weight of a hydrogenated vinyl aromatic hydrocarbon-conjugated diene hydrocarbon copolymer and 40 to 90% by weight of an ethylene- (meth) acrylic acid copolymer B layer resin containing 90-30% by weight of hydrogenated vinyl aromatic hydrocarbon-conjugated diene hydrocarbon copolymer and 10-70% by weight of ethylene- (meth) acrylic acid copolymer, and rubber elasticity The resin for C layer containing the thermoplastic resin which has can be manufactured by coextrusion molding in order of A layer / B layer / C layer.
A層、B層及びC層用樹脂は、それぞれ所定割合樹脂をドライブレンド又は溶融混練し調製することができる。なお、C層を構成する樹脂には、必要に応じてさらに帯電防止剤等の添加剤を加えてもよい。 The resins for the A layer, the B layer, and the C layer can be prepared by dry blending or melt-kneading a predetermined ratio of resin. In addition, you may add additives, such as an antistatic agent, to the resin which comprises C layer as needed.
上記した各層用樹脂をそれぞれこの順でスクリュー式押出機に供給し、180〜225℃で多層Tダイからフイルム状に押出し、これを50〜70℃の冷却ロ−ルに通しながら冷却して実質的に無延伸で引き取る。或いは、各層用樹脂を一旦ペレットとして取得した後、上記の様に押出成形してもよい。 The above-mentioned resins for each layer are supplied to the screw type extruder in this order, extruded from a multilayer T die at 180 to 225 ° C., and cooled while passing through a cooling roll at 50 to 70 ° C. It is taken out without stretching. Alternatively, the resin for each layer may be once obtained as pellets and then extruded as described above.
なお、引き取りの際に実質的に無延伸とするのは、ダイシング後に行うフイルムの拡張を有効に行うためである。この実質的に無延伸とは、無延伸、或いは、ダイシングフイルムの拡張に悪影響を与えない程度の僅少の延伸を含むものである。通常、フイルム引き取りの際に、たるみの生じない程度の引っ張りであればよい。
III.ダイシングフイルム
上記により得られるダイシング用基体フイルムは、そのフイルム上に公知のアクリル系粘着剤をコートして粘着剤層が形成され、さらに必要に応じ該アクリル系粘着剤層(粘着剤層)上に離型フイルムが設けられて、ダイシングフイルムが製造される。つまり、ダイシング用基体フイルムのA層上に、アクリル系粘着剤層及び離型フイルムが形成される。
The reason why the film is substantially unstretched at the time of taking is to effectively extend the film after dicing. This substantially non-stretching includes non-stretching or slight stretching that does not adversely affect the expansion of the dicing film. In general, the film may be pulled to such an extent that no sagging occurs during film take-up.
III. Dicing film The substrate film for dicing obtained as described above is coated with a known acrylic pressure-sensitive adhesive on the film to form a pressure-sensitive adhesive layer, and if necessary, on the acrylic pressure-sensitive adhesive layer (pressure-sensitive adhesive layer). A release film is provided to produce a dicing film. That is, an acrylic pressure-sensitive adhesive layer and a release film are formed on the A layer of the substrate film for dicing.
アクリル系粘着剤層で用いられる粘着剤成分としては、公知のものが用いられ、例えば、特開平5−211234号公報等に記載された粘着剤成分を用いることができる。なお、離型フイルムも公知のものが用いられる。 As the pressure-sensitive adhesive component used in the acrylic pressure-sensitive adhesive layer, known ones can be used. For example, the pressure-sensitive adhesive component described in JP-A No. 5-21234 can be used. A known release film is also used.
アクリル系粘着剤の具体的例としては、(メタ)アクリル酸エステルを主たる構成単量体単位とする単独重合体および共重合体から選ばれたアクリル系重合体、その他の官能性単量体との共重合体、およびこれら重合体の混合物が用いられる。例えば、(メタ)アクリル酸エステルとしては、メタクリル酸エチル、メタクリル酸ブチル、メタクリル酸2−エチルヘキシル、メタクリル酸グリシジル、メタクリル酸2−ヒドロキシエチル、アクリル酸エチル、アクリル酸ブチル、アクリル酸2−エチルヘキシル、アクリル酸グリシジル、アクリル酸2−ヒドロキシエチルなどが好ましく使用できる。アクリル系重合体の分子量は、1.0×105〜10.0×105であり、好ましくは、4.0×105〜8.0×105である。 Specific examples of acrylic pressure-sensitive adhesives include acrylic polymers selected from homopolymers and copolymers having (meth) acrylic acid ester as the main constituent monomer unit, and other functional monomers And a mixture of these polymers. For example, (meth) acrylic acid ester includes ethyl methacrylate, butyl methacrylate, 2-ethylhexyl methacrylate, glycidyl methacrylate, 2-hydroxyethyl methacrylate, ethyl acrylate, butyl acrylate, 2-ethylhexyl acrylate, Glycidyl acrylate, 2-hydroxyethyl acrylate and the like can be preferably used. The molecular weight of the acrylic polymer is 1.0 × 10 5 to 10.0 × 10 5 , and preferably 4.0 × 10 5 to 8.0 × 10 5 .
また、上記のような粘着剤層中に放射線重合性化合物を含ませることによって、ウエハを切断分離した後、該粘着剤層に放射線を照射することによって、粘着力を低下させることができる。このような放射線重合性化合物としては、たとえば、光照射によって三次元網状化しうる分子内に光重合性炭素−炭素二重結合を少なくとも2個以上有する低分子量化合物が広く用いられる(例えば、特開昭60−196,956号公報、特開昭60−223,139号公報等)。 In addition, by including a radiation polymerizable compound in the pressure-sensitive adhesive layer as described above, the adhesive strength can be reduced by irradiating the pressure-sensitive adhesive layer with radiation after the wafer is cut and separated. As such a radiation polymerizable compound, for example, a low molecular weight compound having at least two photopolymerizable carbon-carbon double bonds in a molecule that can be three-dimensionally reticulated by light irradiation is widely used (for example, JP JP-A-60-196,956, JP-A-60-223,139, etc.).
具体的には、トリメチロールプロパントリアクリレート、テトラメチロールメタンテトラアクリレート、ペンタエリスリトールトリアクリレート、ペンタエリスリトールテトラアクリレート、ジペンタエリスリトールモノヒドロキシペンタアクリレート、ジペンタエリスリトールヘキサアクリレートあるいは1,4−ブチレングリコールジアクリレート、1,6−ヘキサンジオールジアクリレート、ポリエチレングリコールジアクリレート、市販のオリゴエステルアクリレートなどが用いられる。 Specifically, trimethylolpropane triacrylate, tetramethylolmethane tetraacrylate, pentaerythritol triacrylate, pentaerythritol tetraacrylate, dipentaerythritol monohydroxypentaacrylate, dipentaerythritol hexaacrylate or 1,4-butylene glycol diacrylate, 1,6-hexanediol diacrylate, polyethylene glycol diacrylate, commercially available oligoester acrylate, and the like are used.
さらに、放射線重合性化合物として、上記のようなアクリレート系化合物のほかに、ウレタンアクリレート系オリゴマーを用いることもできる。ウレタンアクリレート系オリゴマーは、ポリエステル型またはポリエーテル型などのポリオール化合物と、多価イソシアネート化合物とを反応させて得られる末端イソシアネートウレタンプレポリマーに、ヒドロキシル基を有するアクリレートあるいはメタクリレートを反応させて得られる。このウレタンアクリレート系オリゴマーは、炭素−炭素二重結合を少なくとも1個以上有する放射線重合性化合物である。 Furthermore, in addition to the acrylate compounds as described above, urethane acrylate oligomers can also be used as the radiation polymerizable compound. The urethane acrylate oligomer is obtained by reacting an acrylate or methacrylate having a hydroxyl group with a terminal isocyanate urethane prepolymer obtained by reacting a polyol compound such as a polyester type or a polyether type with a polyvalent isocyanate compound. This urethane acrylate oligomer is a radiation polymerizable compound having at least one carbon-carbon double bond.
さらに、粘着剤層中には、上記のような粘着剤と放射線重合性化合物とに加えて、必要に応じ、放射線照射により着色する化合物(ロイコ染料等)、光散乱性無機化合物粉末、砥粒(粒径0.5〜100μm程度)、イソシアネート系硬化剤、UV開始剤等を含有させることもできる。 Further, in the pressure-sensitive adhesive layer, in addition to the pressure-sensitive adhesive and the radiation-polymerizable compound as described above, a compound (such as a leuco dye) that is colored by radiation irradiation, a light-scattering inorganic compound powder, and abrasive grains, as necessary. (A particle size of about 0.5 to 100 μm), an isocyanate curing agent, a UV initiator, and the like can also be contained.
ダイシングフイルムは、通常テープ状にカットされたロール巻き状態で取得される。 The dicing film is usually obtained in a rolled state cut into a tape shape.
本発明のダイシングフイルムでは、ダイシング用基体フイルムの表面層(粘着剤層が形成される層、つまりA層)にアクリル系樹脂を添加することにより、アクリル系粘着剤との密着性が向上している。そのため、半導体チップをピックアップした際に、チップ側に粘着剤が残らないようにすることができ、半導体チップの汚染を防止することができる。 In the dicing film of the present invention, adhesion to the acrylic pressure-sensitive adhesive is improved by adding an acrylic resin to the surface layer of the substrate film for dicing (the layer on which the pressure-sensitive adhesive layer is formed, that is, the A layer). Yes. Therefore, when the semiconductor chip is picked up, no adhesive remains on the chip side, and contamination of the semiconductor chip can be prevented.
以下に、本発明を、実施例及び比較例を用いてより詳細に説明するが、本発明はこの実施例に限定されるものではない。 Hereinafter, the present invention will be described in more detail using Examples and Comparative Examples, but the present invention is not limited to these Examples.
実施例及び比較例において下記の原料を用いた。
・スチレン−ブタジエンブロック共重合体水素添加物:クレイトンポリマージャパン株式会社製 MD6945
・スチレン−イソプレンブロック共重合体水素添加物:株式会社クラレ製 ハイブラー7311
・エチレン−メタアクリル酸共重合体:三井デュポンポリケミカル株式会社製 ニュクレルN1207C
・エチレン−アクリル酸メチル共重合体:アトフィナジャパン株式会社製ロトリル9MA
・親水性PO樹脂系帯電防止剤:三洋化成株式会社製 ペレスタット230
実施例1
スチレン−ブタジエンブロック共重合体水素添加物50重量%とエチレン−メタアクリル酸共重合体50重量%をブレンドしてA層用樹脂とした。スチレン−ブタジエンブロック共重合体水素添加物80重量%とエチレン−メタアクリル酸共重合体20重量%をブレンドしてB層用樹脂とした。エチレン−アクリル酸メチル共重合体100重量%をC層用樹脂とした。
In the examples and comparative examples, the following raw materials were used.
-Styrene-butadiene block copolymer hydrogenated product: MD6945 manufactured by Kraton Polymer Japan Co., Ltd.
・ Hydrogen 7311 made by Kuraray Co., Ltd.
-Ethylene-methacrylic acid copolymer: Nucleel N1207C manufactured by Mitsui DuPont Polychemical Co., Ltd.
-Ethylene-methyl acrylate copolymer: Rotolyl 9MA manufactured by Atofina Japan Co., Ltd.
-Hydrophilic PO resin-based antistatic agent: Pelestat 230 manufactured by Sanyo Chemical Co., Ltd.
Example 1
A layer A resin was prepared by blending 50% by weight of a hydrogenated styrene-butadiene block copolymer and 50% by weight of an ethylene-methacrylic acid copolymer. 80% by weight of a styrene-butadiene block copolymer hydrogenated product and 20% by weight of an ethylene-methacrylic acid copolymer were blended to obtain a resin for B layer. 100% by weight of ethylene-methyl acrylate copolymer was used as the resin for the C layer.
A層用樹脂、B層用樹脂及びC層用樹脂をバレル温度180〜220℃の押出機にそれぞれ投入し、230℃の多層Tダイスから押出し、設定温度40℃の引き取りロールにて冷却固化して、無延伸の状態で巻き取った。得られた多層フイルムの厚さは、A層20μm、B層100μm、C層30μm、全体厚み150μmであった。 A layer resin, B layer resin and C layer resin are respectively put into an extruder having a barrel temperature of 180 to 220 ° C, extruded from a 230 ° C multilayer T die, and cooled and solidified by a take-up roll having a set temperature of 40 ° C. And wound up in an unstretched state. The thickness of the obtained multilayer film was A layer 20 μm, B layer 100 μm, C layer 30 μm, and overall thickness 150 μm.
参考例2
スチレン−ブタジエンブロック共重合体水素添加物20重量%とエチレン−メタアクリル酸共重合体80重量%をブレンドしてA層用樹脂とした以外は、実施例1と同様にして多層フイルムを得た。得られた多層フイルムの厚さは、A層20μm、B層100μm、C層30μm、全体厚み150μmであった。
Reference example 2
A multilayer film was obtained in the same manner as in Example 1 except that 20% by weight of a styrene-butadiene block copolymer hydrogenated product and 80% by weight of an ethylene-methacrylic acid copolymer were blended to obtain a resin for layer A. . The thickness of the obtained multilayer film was A layer 20 μm, B layer 100 μm, C layer 30 μm, and overall thickness 150 μm.
実施例3
スチレン−ブタジエンブロック共重合体水素添加物40重量%とエチレン−メタアクリル酸共重合体60重量%をブレンドしてA層用樹脂とした。スチレン−ブタジエンブロック共重合体水素添加物40重量%とエチレン−メタアクリル酸共重合体60重量%をブレンドしてB層用樹脂とした。エチレン−アクリル酸メチル共重合体100重量%をC層用樹脂とした。
Example 3
A layer A resin was prepared by blending 40% by weight of hydrogenated styrene-butadiene block copolymer and 60% by weight of ethylene-methacrylic acid copolymer. A B layer resin was prepared by blending 40% by weight of a hydrogenated styrene-butadiene block copolymer and 60% by weight of an ethylene-methacrylic acid copolymer. 100% by weight of ethylene-methyl acrylate copolymer was used as the resin for the C layer.
A層用樹脂、B層用樹脂及びC層用樹脂をバレル温度180〜220℃の押出機にそれぞれ投入し、230℃の多層Tダイスから押出し、設定温度40℃の引き取りロールにて冷却固化して、無延伸の状態で巻き取った。得られた多層フイルムの厚さは、A層20μm、B層100μm、C層30μm、全体厚み150μmであった。 A layer resin, B layer resin and C layer resin are respectively put into an extruder having a barrel temperature of 180 to 220 ° C, extruded from a 230 ° C multilayer T die, and cooled and solidified by a take-up roll having a set temperature of 40 ° C. And wound up in an unstretched state. The thickness of the obtained multilayer film was A layer 20 μm, B layer 100 μm, C layer 30 μm, and overall thickness 150 μm.
実施例4
スチレン−ブタジエンブロック共重合体水素添加物に代えて、スチレンーイソプレンブロック共重合体水素添加物を用いた以外は、実施例1と同様にして多層フイルムを得た。得られた多層フイルムの厚さは、A層20μm、B層100μm、C層30μm、全体厚み150μmであった。
Example 4
A multilayer film was obtained in the same manner as in Example 1 except that a hydrogenated styrene-isoprene block copolymer was used instead of the hydrogenated styrene-butadiene block copolymer. The thickness of the obtained multilayer film was A layer 20 μm, B layer 100 μm, C layer 30 μm, and overall thickness 150 μm.
比較例1
エチレン−メタアクリル酸共重合体100重量%をブレンドしてA層用樹脂とした以外は、実施例1と同様にして多層フイルムを得た。得られた多層フイルムの厚さは、A層20μm、B層100μm、C層30μm、全体厚み150μmであった。
Comparative Example 1
A multilayer film was obtained in the same manner as in Example 1 except that 100% by weight of ethylene-methacrylic acid copolymer was blended to obtain a resin for layer A. The thickness of the obtained multilayer film was A layer 20 μm, B layer 100 μm, C layer 30 μm, and overall thickness 150 μm.
比較例2
スチレン−ブタジエンブロック共重合体水素添加物70重量%とエチレン−メタアクリル酸共重合体30重量%をブレンドしてA層用樹脂とした。スチレン−ブタジエンブロック共重合体水素添加物60重量%とエチレン−メタアクリル酸共重合体40重量%をブレンドしてB層用樹脂とした。エチレン−アクリル酸メチル共重合体100重量%をC層用樹脂とした。
Comparative Example 2
A layer A resin was prepared by blending 70% by weight of hydrogenated styrene-butadiene block copolymer and 30% by weight of ethylene-methacrylic acid copolymer. B layer resin was prepared by blending 60% by weight of a styrene-butadiene block copolymer hydrogenated product and 40% by weight of an ethylene-methacrylic acid copolymer. 100% by weight of ethylene-methyl acrylate copolymer was used as the resin for the C layer.
A層用樹脂、B層用樹脂及びC層用樹脂をバレル温度180〜220℃の押出機にそれぞれ投入し、230℃の多層Tダイスから押出し、設定温度40℃の引き取りロールにて冷却固化して、無延伸の状態で巻き取った。得られた多層フイルムの厚さは、A層20μm、B層100μm、C層30μm、全体厚み150μmであった。 A layer resin, B layer resin and C layer resin are respectively put into an extruder having a barrel temperature of 180 to 220 ° C, extruded from a 230 ° C multilayer T die, and cooled and solidified by a take-up roll having a set temperature of 40 ° C. And wound up in an unstretched state. The thickness of the obtained multilayer film was A layer 20 μm, B layer 100 μm, C layer 30 μm, and overall thickness 150 μm.
試験例1(切削屑の評価方法)
上記実施例1〜4及び比較例1〜2で得られた多層フイルムの一部を直径180mmの大きさの円形にカットして測定用試料とし、研削装置(株式会社ディスコ製 AUTOMATIC DICING SAW DAD-2H/6)にセットし、以下の条件で基体フイルムへの切削を行い、次に試料を研削装置から取り外し、クリーンブース内で24時間常温乾燥させた後、株式会社キーエンス製デジタルマイクロスコープ(VHX−100)を用いて、倍率150倍で切削屑の有無の評価を行った。
Test Example 1 (Evaluation method for cutting waste)
A part of the multilayer film obtained in Examples 1 to 4 and Comparative Examples 1 and 2 was cut into a circular shape with a diameter of 180 mm to obtain a measurement sample, and a grinding device (AUTOMATIC DICING SAW DAD- manufactured by DISCO Corporation) was used. 2H / 6), cut into the base film under the following conditions, then remove the sample from the grinding machine and let it dry at room temperature in a clean booth for 24 hours, then digital microscope manufactured by Keyence Corporation (VHX) -100), the presence or absence of cutting waste was evaluated at a magnification of 150 times.
試料の表面を任意に10箇所観察し、切削屑が全くない場合を「○」、切削屑がわずかでもあると認められる場合を「×」とした。結果を表1にまとめた。
(切削条件)
回転数:30000rpm
速度:80mm/sec
カットモード:10mm□のフルオートダイシング
カット深さ:100μm
ブレード:株式会社ディスコ製 B1A801 SDC 400N50M51(外径56mm×厚み0.2mm×内径40mm)
水量:1.2L/min
試験例2(接着性)
上記実施例1〜4及び比較例1〜2で得られた多層フイルムのA層の面にアクリル系粘着剤を10μmの厚みに塗布し、100μmの厚さのポリイミドシートを貼り付け、直径180mmの円形にカットして測定用試料とした。この試料を研削装置(株式会社ディスコ製 AUTOMATIC DICING SAW DAD-2H/6)にセットし、以下の条件でポリイミドシート側から切削を行った。
(切削条件)
回転数:30000rpm
速度:80mm/sec
カットモード:3mm□のフルオートダイシング
カット深さ:150μm
ブレード:株式会社ディスコ製 B1A801 SDC 400N50M51(外径56mm×厚み0.2mm×内径40mm)
水量:1.2L/min
次に試料を研削装置から取り外し、3mm×3mmに切削されたポリイミドシートを1枚ずつ剥がしていき、900片のポリイミドシート側にアクリル系粘着剤がついているかを目視で確認した。900片のポリイミドシートのうち、アクリル系粘着剤がポリイミドシート側についているものが、29片以下のものを「○」、30片以上のものを「×」とした。結果を表1にまとめた。
The surface of the sample was arbitrarily observed at 10 locations, and “◯” was given when there was no cutting waste, and “X” was given when it was recognized that there was even a small amount of cutting waste. The results are summarized in Table 1.
(Cutting conditions)
Rotation speed: 30000rpm
Speed: 80mm / sec
Cut mode: Full-auto dicing of 10mm □ Cut depth: 100μm
Blade: Disco B1A801 SDC 400N50M51 (outer diameter 56mm x thickness 0.2mm x inner diameter 40mm)
Water volume: 1.2L / min
Test Example 2 (Adhesiveness)
Acrylic adhesive was applied to a thickness of 10 μm on the surface of layer A of the multilayer films obtained in Examples 1 to 4 and Comparative Examples 1 and 2, and a polyimide sheet having a thickness of 100 μm was pasted. A sample for measurement was cut into a circle. This sample was set in a grinding machine (AUTOMATIC DICING SAW DAD-2H / 6 manufactured by DISCO Corporation), and cut from the polyimide sheet side under the following conditions.
(Cutting conditions)
Rotation speed: 30000rpm
Speed: 80mm / sec
Cut mode: Full auto dicing of 3mm □ Cut depth: 150μm
Blade: Disco B1A801 SDC 400N50M51 (outer diameter 56mm x thickness 0.2mm x inner diameter 40mm)
Water volume: 1.2L / min
Next, the sample was removed from the grinding apparatus, and the polyimide sheets cut to 3 mm × 3 mm were peeled one by one, and it was visually confirmed whether or not the acrylic adhesive was attached to the 900 polyimide sheet side. Among the 900 pieces of polyimide sheets, those having an acrylic adhesive on the polyimide sheet side were designated as “◯” for 29 pieces or less, and “x” for 30 pieces or more. The results are summarized in Table 1.
A層にエチレン−メタアクリル酸共重合体を40〜90重量%の範囲内で含んでいるものについては、良好な接着性が得られた。 Good adhesiveness was obtained for the layer A containing an ethylene-methacrylic acid copolymer in the range of 40 to 90% by weight.
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