JP2005297247A - Substrate for pressure-sensitive adhesive tape and pressure-sensitive adhesive sheet - Google Patents

Substrate for pressure-sensitive adhesive tape and pressure-sensitive adhesive sheet Download PDF

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JP2005297247A JP2004113352A JP2004113352A JP2005297247A JP 2005297247 A JP2005297247 A JP 2005297247A JP 2004113352 A JP2004113352 A JP 2004113352A JP 2004113352 A JP2004113352 A JP 2004113352A JP 2005297247 A JP2005297247 A JP 2005297247A
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Masahiro Asuka
政宏 飛鳥
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Abstract

<P>PROBLEM TO BE SOLVED: To provide a pressure-sensitive adhesive tape substrate for dicing which can prevent the occurrence of thread-like refuse during dicing and is excellent in uniform drawing properties to enough correspond to various expanding conditions. <P>SOLUTION: The pressure sensitive adhesive tape substrate is a multi-layer laminate in which at least a layer (A) and a layer (B) are laminated. The layer (A) is made of linear low density polyethylene having a density of 0.910-0.935. The layer (B) is made of polypropylene resins (α) and (β) and random polypropylene (γ), each having a melting point, a weight average molecular weight (Mw), and composition by a cross fractionation method in fixed ranges, respectively. The layer (B) comprises 30-50 wt.% of the polypropylene resin (α), 30-50 wt.% of the polypropylene resin (β), and the 10-50 wt.% of the random polypropylene (γ). <P>COPYRIGHT: (C)2006,JPO&NCIPI

Description

本発明は、半導体ウエハをダイシングによりチップ化する際に、ウエハを粘着固定し使用するダイシング用として好適に用いられる粘着テープ用基材及び粘着シートに関する。   The present invention relates to an adhesive tape base material and an adhesive sheet that are suitably used for dicing in which a wafer is adhesively fixed and used when dicing into a semiconductor wafer.

通常、シリコン等の半導体ウエハは、大径の状態で製造され、その後、小片にダイシングされてチップ化され、更にマウント工程に移される。この際、半導体ウエハは、粘着シートに貼付されて保持された状態でダイシングされ、洗浄、エキスパンド、ピックアップ、及びマウントの各工程が施される。前記粘着シートとしては、プラスチックフィルムからなる基材上に粘着剤が塗布されてなるものが用いられている。   Usually, a semiconductor wafer such as silicon is manufactured in a large diameter state, then diced into small pieces to form chips, and further transferred to a mounting process. At this time, the semiconductor wafer is diced in a state where it is stuck and held on the adhesive sheet, and each of the steps of cleaning, expanding, picking up, and mounting is performed. As the pressure-sensitive adhesive sheet, a sheet obtained by applying a pressure-sensitive adhesive on a base material made of a plastic film is used.

上記ダイシング工程においては、回転する丸刃によってウエハの切断が行われるが、このようなウエハの切断は、ウエハを保持する粘着シートの内部まで切り込みを行う切断方法が主流となってきている。
このダイシング工程に用いられるダイシングフィルム基材の性能としては、均一な延伸性を有すると共に、その延伸性が優れていることが要求される。すなわち、ダイシングフィルムの均一延伸性が優れていると、フィルムを延伸させた場合に、各チップ間に均等な隙間を形成することができるため、チップのピックアップの作業性が極めて良好なものとなる。
In the dicing step, the wafer is cut by a rotating round blade. For such wafer cutting, a cutting method in which the inside of the pressure-sensitive adhesive sheet holding the wafer is cut has become mainstream.
The performance of the dicing film substrate used in this dicing process is required to have uniform stretchability and excellent stretchability. That is, when the dicing film has excellent uniform stretchability, when the film is stretched, uniform gaps can be formed between the chips, so that the chip pick-up workability is extremely good. .

このような性能を有するフィルムとして、塩化ビニル系樹脂フィルムを基材に使用したダイシングフィルムが提案されている。しかしながら、該ダイシング用フィルムは、塩化ビニル系樹脂フィルムを使用していることから、塩素イオンによるウエハの腐食の問題があった。更に、柔軟性をもたせるため、フィルム中に大量の可塑剤が含まれており、該可塑剤がウエハに移行してウエハを汚染したり、粘着剤に移行して粘着力を低下させ、ダイシング時にチップが飛散したりする問題があった。
これらの問題を解決するために、塩化ビニル系樹脂フィルムに代わる軟質のフィルム基材としては、焼却時に有害ガスを発生することの無いポリプロピレン、ポリエチレン等のポリオレフィン系フィルム基材等が挙げられる。
As a film having such performance, a dicing film using a vinyl chloride resin film as a base material has been proposed. However, since the dicing film uses a vinyl chloride resin film, there is a problem of corrosion of the wafer by chlorine ions. Furthermore, in order to give flexibility, a large amount of plasticizer is included in the film, and the plasticizer migrates to the wafer and contaminates the wafer, or migrates to the adhesive to reduce the adhesive force, and at the time of dicing There was a problem that chips were scattered.
In order to solve these problems, examples of the soft film substrate that can replace the vinyl chloride resin film include polyolefin film substrates such as polypropylene and polyethylene that do not generate harmful gases during incineration.

しかしながら、従来のポリオレフィン系フィルム基材では、軟質ポリ塩化ビニルフィルムに比べると、例えば、ポリプロピレンを主体とするフィルムは結晶性が高く、柔軟性や延伸性に劣るなどの課題があり、又、ポリエチレンを主体とするフィルムでもその機械的強度に課題があった。そこで、これら課題の改善のため、各種のオレフィン系材料を組合せたブレンド組成物からなるフィルムや積層フィルムなどが提案されている。
例えば、プロピレン及び/又はブテン−1の含有率が50重量%以上の非晶性ポリオレフィンを主成分とする樹脂組成物からなる層とポリエチレンからなる層とを構成層とする積層フィルムが提案されている(例えば、特許文献1参照)。しかしながら、この積層フィルムは、繰返し折り曲げられたり延伸された場合、非晶性ポリオレフィンを主成分とする層とポリエチレン層とが界面で容易に剥離することがあり、又、軟質のポリ塩化ビニルフィルムに比べて、均一な延伸性は不十分である等の問題があった。
However, in the conventional polyolefin-based film substrate, for example, a film mainly composed of polypropylene has problems such as high crystallinity, inferior flexibility and stretchability as compared with a soft polyvinyl chloride film, and polyethylene. Even the film mainly composed of has a problem in its mechanical strength. Therefore, in order to improve these problems, a film or a laminated film made of a blend composition in which various olefinic materials are combined has been proposed.
For example, a laminated film having a layer composed of a resin composition mainly composed of an amorphous polyolefin having a propylene and / or butene-1 content of 50% by weight or more and a layer composed of polyethylene has been proposed. (For example, refer to Patent Document 1). However, when this laminated film is repeatedly bent or stretched, the layer mainly composed of amorphous polyolefin and the polyethylene layer may be easily peeled at the interface. In comparison, there were problems such as insufficient uniform stretchability.

また、ポリプロピレンとポリプロピレン−エチレンランダム共重合体を主成分とするブロック共重合体とのブレンド組成物からなるフィルムが開示されている(例えば、特許文献2参照)。更に、ポリプロピレンに対して、スチレン−エチレン−ブチレン−スチレン共重合体やエチレンプロピレンゴムなどの熱可塑性エラストマーをブレンドして、柔軟性を賦与したフィルムの提案もある。これらのフィルムは、柔軟性は改善されているが、ポリプロピレンとブレンドされる材料との相溶性の関係から、透明性が不十分である場合があり、また、軟質のポリ塩化ビニルフィルムに比べると、引伸ばされた際の均一な延伸性が不十分である等の問題があった。   Moreover, the film which consists of a blend composition of the block copolymer which has a polypropylene and a polypropylene-ethylene random copolymer as a main component is disclosed (for example, refer patent document 2). Furthermore, there is a proposal of a film imparted with flexibility by blending polypropylene with a thermoplastic elastomer such as styrene-ethylene-butylene-styrene copolymer or ethylene propylene rubber. Although these films have improved flexibility, they may have insufficient transparency due to their compatibility with the material blended with polypropylene, and compared to soft polyvinyl chloride films. There are problems such as insufficient uniform stretchability when stretched.

更に、少なくとも三層以上の多層フィルムであって、芯層がポリプロピレンを主体とし、ゴム弾性を有し、かつ明確な融点を持つ樹脂からなり、該芯層に接する層が直鎖状低密度ポリエチレンからなるダイシング用フィルムが提案されている。これらのフィルムは、均一拡張性に優れ、適度な引張弾性率を有し、層間剥離が生じないものであるとされている(例えば、特許文献3参照)。しかしながら、これらのフィルムは、ダイシング用フィルムとして、フィルムを薄くした場合には、表層にあるポリエチレン樹脂層が、積層する段階でロールのほうに捲き付いてしまうという問題があった。
また、前記ダイシング工程においては、回転する丸刃によってウエハを切断するが、その際、シート内部まで切込が行われているため、プラスチックフィルム自身がその摩擦熱により溶融状態となり、ダイシング後のダイシングライン上にプラスチックフィルム自身の糸状屑が発生する。この糸状屑がチップ側面などに付着すると、そのまま後工程においてマウントされ、封止されてしまい、半導体素子の信頼性を著しく低下させるといった問題があった。
特開平6−927号公報 特開平7−300548号公報 特開2000−173951号公報
Furthermore, the film is a multilayer film of at least three layers, the core layer is mainly made of polypropylene, is made of a resin having rubber elasticity and a clear melting point, and the layer in contact with the core layer is a linear low density polyethylene A film for dicing consisting of has been proposed. These films are said to be excellent in uniform expandability, have an appropriate tensile elastic modulus, and do not cause delamination (see, for example, Patent Document 3). However, these films, as dicing films, have a problem that when the film is thinned, the polyethylene resin layer on the surface layer sticks to the roll at the stage of lamination.
In the dicing process, the wafer is cut by a rotating round blade. At that time, the inside of the sheet is cut, so that the plastic film itself is melted by the frictional heat, and dicing after dicing is performed. Plastic film's own thread-like waste is generated on the line. If the thread waste adheres to the side surface of the chip or the like, it is mounted and sealed in a subsequent process as it is, and there is a problem that the reliability of the semiconductor element is remarkably lowered.
JP-A-6-927 Japanese Patent Laid-Open No. 7-300548 JP 2000-173951 A

本発明の目的は、上記問題点に鑑み、ダイシング時の糸状屑の発生を防止できるとともに、様々なエキスパンド条件に十分対応できるだけの均一延伸性に優れたダイシング用の粘着テープ基材及び粘着シートを提供することにある。   In view of the above problems, an object of the present invention is to provide a pressure-sensitive adhesive tape base material and pressure-sensitive adhesive sheet for dicing excellent in uniform stretchability that can sufficiently cope with various expanding conditions while preventing the generation of filamentous waste during dicing. It is to provide.

請求項1記載の発明(以下、本発明1という)による粘着テープ基材は、
少なくとも(A)層及び(B)層とが積層された多層積層体である粘着テープ基材であって、当該(A)層が、密度0.910〜0.935の直鎖状低密度ポリエチレンからなり、当該(B)層が、融点が140〜150℃であり、重量平均分子量(Mw)が8万〜45万であり、かつクロス分別法による組成が、
0℃以上10℃以下の樹脂溶出量が全樹脂量の50〜60重量%であり、
10℃超え70℃以下の樹脂溶出量が全樹脂量の10〜20重量%であり、
70℃超え95℃以下の樹脂溶出量が全樹脂量の10〜20重量%であり、
95℃超え125℃以下の樹脂溶出量が全樹脂量の10〜20重量%である範囲内の組成を有するポリプロピレン系樹脂(α)を30〜50重量%と、
融点が160℃以上であり、重量平均分子量(Mw)が8万〜45万であり、かつクロス分別法による組成が、
0℃以上10℃以下の樹脂溶出量が全樹脂量の45〜55重量%であり、
10℃超え70℃以下での樹脂溶出量が全樹脂量の15〜25重量%であり、
70℃超え95℃以下での樹脂溶出量が全樹脂量の1〜5重量%であり、
95℃超え125℃以下での樹脂溶出量が全樹脂量の25〜50重量%である範囲内の組成を有するポリプロピレン系樹脂(β)を30〜50重量%と、
融点が135〜155℃であり、重量平均分子量(Mw)が15万〜30万であり、かつクロス分別法による組成が、
0℃以上10℃以下の樹脂溶出量が全樹脂量の1〜4重量%であり、
10℃超え70℃以下の樹脂溶出量が全樹脂量の12〜18重量%であり、
70℃超え95℃以下の樹脂溶出量が全樹脂量の35〜40重量%であり、
95℃超え125℃以下の樹脂溶出量が全樹脂量の40〜50重量%である範囲内の組成を有するランダムポリプロピレン(γ)を10〜50重量%とからなるポリプロピレン系樹脂組成物からなることを特徴とする。
The adhesive tape substrate according to the invention of claim 1 (hereinafter referred to as the present invention 1)
A pressure-sensitive adhesive tape substrate which is a multilayer laminate in which at least the (A) layer and the (B) layer are laminated, and the (A) layer is a linear low-density polyethylene having a density of 0.910 to 0.935. The layer (B) has a melting point of 140 to 150 ° C., a weight average molecular weight (Mw) of 80,000 to 450,000, and a composition by a cross fractionation method.
The resin elution amount of 0 ° C. or more and 10 ° C. or less is 50 to 60% by weight of the total resin amount,
The resin elution amount of 10 ° C. to 70 ° C. is 10 to 20% by weight of the total resin amount,
The resin elution amount of 70 ° C. to 95 ° C. is 10 to 20% by weight of the total resin amount,
30 to 50% by weight of a polypropylene resin (α) having a composition within a range where the resin elution amount of 95 ° C. to 125 ° C. is 10 to 20% by weight of the total resin amount;
The melting point is 160 ° C. or higher, the weight average molecular weight (Mw) is 80,000 to 450,000, and the composition by the cross fractionation method is
The resin elution amount from 0 ° C. to 10 ° C. is 45 to 55% by weight of the total resin amount,
The resin elution amount at 10 ° C. to 70 ° C. is 15 to 25% by weight of the total resin amount,
The resin elution amount at 70 ° C. to 95 ° C. is 1 to 5% by weight of the total resin amount,
30 to 50% by weight of a polypropylene resin (β) having a composition within a range where the resin elution amount at 95 ° C to 125 ° C is 25 to 50% by weight of the total resin amount;
The melting point is 135 to 155 ° C., the weight average molecular weight (Mw) is 150,000 to 300,000, and the composition by the cross fractionation method is
The resin elution amount of 0 ° C. or more and 10 ° C. or less is 1 to 4% by weight of the total resin amount,
The resin elution amount of 10 ° C. to 70 ° C. is 12 to 18% by weight of the total resin amount,
The resin elution amount of 70 ° C. to 95 ° C. is 35 to 40% by weight of the total resin amount,
It consists of a polypropylene resin composition comprising 10 to 50% by weight of random polypropylene (γ) having a composition within the range where the resin elution amount of 95 ° C to 125 ° C is 40 to 50% by weight of the total resin amount. It is characterized by.

請求項2記載の発明(以下、本発明2という)による粘着テープ基材は、
少なくとも(A)層及び(B)層とが積層された多層積層体である粘着テープ基材であって、当該(A)層が、密度0.910〜0.935の直鎖状低密度ポリエチレンからなり、当該(B)層が、本発明1のポリプロピレン系樹脂組成物90〜80重量%と直鎖状低密度ポリエチレン10〜20重量%とからなることを特徴とする。
The adhesive tape substrate according to the invention of claim 2 (hereinafter referred to as the present invention 2)
A pressure-sensitive adhesive tape substrate which is a multilayer laminate in which at least the (A) layer and the (B) layer are laminated, and the (A) layer is a linear low-density polyethylene having a density of 0.910 to 0.935. The layer (B) comprises 90 to 80% by weight of the polypropylene resin composition of the present invention 1 and 10 to 20% by weight of linear low density polyethylene.

請求項3記載の発明(以下、本発明3という)による粘着シートは、本発明1又は2のテープ基材上に粘着剤層が設けられたことを特徴とする。   The pressure-sensitive adhesive sheet according to the invention described in claim 3 (hereinafter referred to as the present invention 3) is characterized in that a pressure-sensitive adhesive layer is provided on the tape substrate of the present invention 1 or 2.

本発明の(A)層において、上記直鎖状低密度ポリエチレンの密度としては、0.910〜0.935の範囲に限定される。密度が0.910未満では、均一な拡張性が得られず、逆に、0.935を超えると拡張性がなくなる。   In the layer (A) of the present invention, the density of the linear low-density polyethylene is limited to a range of 0.910 to 0.935. If the density is less than 0.910, uniform expandability cannot be obtained. Conversely, if it exceeds 0.935, expandability is lost.

上記直鎖状低密度ポリエチレンとしては、特に限定されず、公知の直鎖状ポリエチレン又はメタロセン触媒で製造されたポリエチレンが用いられる。上記直鎖状ポリエチレンとしては、一般的にエチレン−α−オレフィン共重合体、例えば、エチレン−プロピレン共重合体、エチレン−1−ヘキセン共重合体、エチレン−1−オクテン共重合体、エチレン−4−メチル−1−ペンテン共重合体、エチレン−1−ヘプレン共重合体等が挙げられる。   The linear low density polyethylene is not particularly limited, and a known linear polyethylene or polyethylene produced with a metallocene catalyst is used. As said linear polyethylene, generally ethylene-alpha-olefin copolymer, for example, ethylene-propylene copolymer, ethylene-1-hexene copolymer, ethylene-1-octene copolymer, ethylene-4 -Methyl-1-pentene copolymer, ethylene-1-heptene copolymer and the like.

上記エチレン−α−オレフィン共重合体は、ランダム共重合体であっても、ブロック共重合体であっても良く、共重合体中のエチレンの含有量は共重合体全体に対して、好ましくは90モル%以上、より好ましくは93〜99.9モル%である。エチレンの量が90モル%未満、即ちα−オレフィンの量が10モル%以上の場合、機械的強度が低下することがある。   The ethylene-α-olefin copolymer may be a random copolymer or a block copolymer, and the content of ethylene in the copolymer is preferably based on the entire copolymer. It is 90 mol% or more, More preferably, it is 93-99.9 mol%. When the amount of ethylene is less than 90 mol%, that is, the amount of α-olefin is 10 mol% or more, the mechanical strength may be lowered.

また、上記メタロセン触媒で製造されたポリエチレンは、エチレン単独重合体であっても良く、又、エチレンと炭素数3〜10のα−オレフィンとの共重合体であっても良い。炭素数3〜10のα−オレフィンの具体例としては、プロピレン、ブテン−1、ペンテン−1、ヘキセン−1、4−メチル−1−ペンテン、ヘプテン−1、オクテン−1、ノネン−1、デセン−1等が挙げられる。これらのα−オレフィンは1種であっても良く、また、2種以上を併用しても良い。   Further, the polyethylene produced with the metallocene catalyst may be an ethylene homopolymer or a copolymer of ethylene and an α-olefin having 3 to 10 carbon atoms. Specific examples of the α-olefin having 3 to 10 carbon atoms include propylene, butene-1, pentene-1, hexene-1, 4-methyl-1-pentene, heptene-1, octene-1, nonene-1, and decene. -1 etc. are mentioned. These α-olefins may be used alone or in combination of two or more.

上記メタロセン触媒で製造されたポリエチレンは、公知の製造法により得ることができ、例えば、エチレンやα−オレフィンを原料モノマーとして、メタロセン触媒系を用い、不活性ガス中での流動床式気相重合又は攪拌式気相重合、不活性溶媒中でのスラリー重合、モノマーを溶媒とするバルク重合などで製造される。   Polyethylene produced with the above metallocene catalyst can be obtained by a known production method, for example, fluidized bed gas phase polymerization in an inert gas using a metallocene catalyst system using ethylene or α-olefin as a raw material monomer. Alternatively, it is produced by stirring gas phase polymerization, slurry polymerization in an inert solvent, bulk polymerization using a monomer as a solvent, or the like.

上記メタロセン触媒としては、一般に、メタロセン化合物と有機アルミニウム化合物又はイオン性化合物の組合せが用いられる。上記メタロセン化合物の具体例としては、ジメチルシリル(2,4−ジメチルシクロペンタジエニル)(3',5'−ジメチルシクロペンタジエニル)ジルコニウムジクロライド、ジメチルシリル(2,4−ジメチルシクロペンタジエニル)(3',5'−ジメチルシクロペンタジエニル)ハフニウムジクロライドなどのケイ素架橋型メタロセン化合物、エチレンビスインデニルジルコニウムジクロライド、エチレンビスインデニルハフニウムジクロライドなどのインデニル系架橋型メタロセン化合物等が挙げられる。   As the metallocene catalyst, a combination of a metallocene compound and an organoaluminum compound or an ionic compound is generally used. Specific examples of the metallocene compound include dimethylsilyl (2,4-dimethylcyclopentadienyl) (3 ′, 5′-dimethylcyclopentadienyl) zirconium dichloride, dimethylsilyl (2,4-dimethylcyclopentadienyl). ) (3 ′, 5′-dimethylcyclopentadienyl) hafnium dichloride and other silicon-bridged metallocene compounds, ethylenebisindenylzirconium dichloride, indenyl-based bridged metallocene compounds such as ethylenebisindenylhafnium dichloride, and the like.

また、上記有機アルミニウム化合物としては、メチルアルモキサン、エチルアルモキサン、イソブチルエチルアルモキサンなどの一般式(−Al(R)O−)nで示される直鎖状、あるいは環状重合体(ここで、Rは炭素数1〜10の炭化水素基であり、一部ハロゲン原子又はRO基で置換されたものも含む。nは重合度であり、好ましくは5以上、より好ましくは10以上である)、又は、トリアルキルアルミニウム、ジアルキルハロゲノアルミニウム等が挙げられる。   Examples of the organoaluminum compound include linear or cyclic polymers represented by the general formula (—Al (R) O—) n such as methylalumoxane, ethylalumoxane, and isobutylethylalumoxane (wherein, R is a hydrocarbon group having 1 to 10 carbon atoms, including those partially substituted with a halogen atom or RO group, and n is the degree of polymerization, preferably 5 or more, more preferably 10 or more). Or a trialkyl aluminum, a dialkyl halogeno aluminum, etc. are mentioned.

上記イオン性化合物としては、一般式、C+・A-で示され、C+は有機化合物、有機金属化合物、あるいは無機化合物の酸化性のカチオン、又は、ルイス塩基とプロトンからなるブレンステッド酸等であり、メタロセン配位子のアニオンと反応してメタロセンのカチオンを生成することができる。それらの具体例としては、テトラキス(ペンタフルオロフェニル)ボレートアニオンとトリフェニルカルボニウムカチオン又はジアルキルアニリニウムカチオンとのイオン化合物がある。   The ionic compound is represented by the general formula C + · A-, where C + is an organic compound, an organic metal compound, an oxidizing cation of an inorganic compound, or a Bronsted acid composed of a Lewis base and a proton. And can react with the anion of the metallocene ligand to produce a metallocene cation. Specific examples thereof include ionic compounds of a tetrakis (pentafluorophenyl) borate anion and a triphenylcarbonium cation or a dialkylanilinium cation.

本発明の(B)層において、ポリプロピレン系樹脂(α)は、融点が140〜150℃であり、Mwが8万〜45万の範囲である。Mwが、この範囲より低かったり、逆に高いと多層積層体の製膜が困難になる。上記Mwは、例えば、WATERS社製高温GPC(150CV)を用いて測定することができる。   In the layer (B) of the present invention, the polypropylene resin (α) has a melting point of 140 to 150 ° C. and Mw in the range of 80,000 to 450,000. When Mw is lower than this range, or conversely high, it becomes difficult to form a multilayer laminate. The Mw can be measured, for example, using a high temperature GPC (150 CV) manufactured by WATERS.

また、上記ポリプロピレン系樹脂(α)は、クロス分別法による組成が、
0℃以上10℃以下の樹脂溶出量が全樹脂量の50〜60重量%であり、
10℃超え70℃以下の樹脂溶出量が全樹脂量の10〜20重量%であり、
70℃超え95℃以下の樹脂溶出量が全樹脂量の10〜20重量%であり、
95℃超え125℃以下の樹脂溶出量が全樹脂量の10〜20重量%の範囲内の組成を有することが必要である。
In addition, the polypropylene resin (α) has a composition by a cross fractionation method,
The resin elution amount of 0 ° C. or more and 10 ° C. or less is 50 to 60% by weight of the total resin amount,
The resin elution amount of 10 ° C. to 70 ° C. is 10 to 20% by weight of the total resin amount,
The resin elution amount of 70 ° C. to 95 ° C. is 10 to 20% by weight of the total resin amount,
It is necessary that the resin elution amount of 95 ° C. to 125 ° C. is within the range of 10 to 20% by weight of the total resin amount.

本発明において、上記クロス分別法による樹脂の溶出量の測定は、以下のように行うことができる。
まず、ポリプロピレン系樹脂を140℃又はポリプロピレン系樹脂が完全に溶解する温度になったo−ジクロロベンゼンに溶解した後、一定速度で冷却し、薄いポリマー層を結晶性の高い順及び分子量の大きい順に予め用意した不活性担体表面に生成させる。次に、この生成したポリマー層を連続又は段階的に昇温し、順次溶出した成分の濃度を検出し、その組成分布(結晶性分布)を測定する(温度上昇溶離分別)。同時に、その溶出した成分について、高温型GPCにより分子量及び分子量分布を測定する。この測定には、例えば、上記の温度上昇溶離分別(TREF:Temperature Rising Elution Fractionation)部分と高温GPC(SEC:Size Exclution Chromatograph)部分とをシステムとして備えているクロス分別クロマトグラフ装置(三菱油化社製CFC−T150A型)等を用いることができる。
In the present invention, the measurement of the resin elution amount by the cross fractionation method can be performed as follows.
First, after dissolving the polypropylene resin in o-dichlorobenzene at a temperature of 140 ° C. or the temperature at which the polypropylene resin is completely dissolved, it is cooled at a constant rate, and the thin polymer layers are ordered in descending order of crystallinity and molecular weight. It is formed on the surface of an inert carrier prepared in advance. Next, the generated polymer layer is heated continuously or stepwise, the concentration of the components eluted in sequence is detected, and the composition distribution (crystallinity distribution) is measured (temperature rising elution fractionation). At the same time, the molecular weight and molecular weight distribution of the eluted component are measured by high temperature GPC. For this measurement, for example, a cross fractionation chromatograph apparatus (Mitsubishi Oil Chemical Co., Ltd.) equipped with the above-described temperature rising elution fractionation (TREF) part and high temperature GPC (SEC: Size Extraction Chromatography) part as a system. CFC-T150A type) can be used.

本発明の(B)層において、ポリプロピレン系樹脂(β)は、融点が160℃以上であり、Mwが8万〜45万の範囲である。Mwが、この範囲より低かったり、逆に高いと多層積層体の製膜が困難になる。   In the layer (B) of the present invention, the polypropylene resin (β) has a melting point of 160 ° C. or higher and Mw in the range of 80,000 to 450,000. When Mw is lower than this range, or conversely high, it becomes difficult to form a multilayer laminate.

また、上記ポリプロピレン系樹脂(β)は、クロス分別法による組成が、
0℃以上10℃以下の樹脂溶出量が全樹脂量の45〜55重量%であり、
10℃超え70℃以下での樹脂溶出量が全樹脂量の15〜25重量%であり、
70℃超え95℃以下での樹脂溶出量が全樹脂量の1〜5重量%であり、
95℃超え125℃以下での樹脂溶出量が全樹脂量の25〜50重量%である範囲内の組成を有することが必要である。
In addition, the polypropylene resin (β) has a composition by a cross fractionation method,
The resin elution amount from 0 ° C. to 10 ° C. is 45 to 55% by weight of the total resin amount,
The resin elution amount at 10 ° C. to 70 ° C. is 15 to 25% by weight of the total resin amount,
The resin elution amount at 70 ° C. to 95 ° C. is 1 to 5% by weight of the total resin amount,
It is necessary to have a composition within a range where the resin elution amount at 95 ° C. to 125 ° C. is 25 to 50% by weight of the total resin amount.

本発明の(B)層において、ランダムポリプロピレン(γ)は、融点が135〜155℃であり、Mwが15万〜30万の範囲である。Mwが、この範囲より低かったり、逆に高いと多層積層体の製膜が困難になる。   In the layer (B) of the present invention, the random polypropylene (γ) has a melting point of 135 to 155 ° C. and an Mw of 150,000 to 300,000. When Mw is lower than this range, or conversely high, it becomes difficult to form a multilayer laminate.

また、上記ランダムポリプロピレン(γ)は、クロス分別法による組成が、
0℃以上10℃以下の樹脂溶出量が全樹脂量の1〜4重量%であり、
10℃超え70℃以下の樹脂溶出量が全樹脂量の12〜18重量%であり、
70℃超え95℃以下の樹脂溶出量が全樹脂量の35〜40重量%であり、
95℃超え125℃以下の樹脂溶出量が全樹脂量の40〜50重量%である範囲内の組成を有することが必要である。
In addition, the random polypropylene (γ) has a composition by a cross fractionation method,
The resin elution amount of 0 ° C. or more and 10 ° C. or less is 1 to 4% by weight of the total resin amount,
The resin elution amount of 10 ° C. to 70 ° C. is 12 to 18% by weight of the total resin amount,
The resin elution amount of 70 ° C. to 95 ° C. is 35 to 40% by weight of the total resin amount,
It is necessary to have a composition within a range where the resin elution amount of 95 ° C. to 125 ° C. is 40 to 50% by weight of the total resin amount.

本発明による上記クロス分別法による組成において、0℃以上10℃以下の樹脂溶出量が、本発明の範囲未満ではテープ基材の柔軟性に欠け、逆に、本発明の範囲を超えるとテープ基材として充分な強度が得られない。10℃超え70℃以下での樹脂溶出量が、本発明の範囲未満ではテープ基材の柔軟性に欠け、逆に、本発明の範囲を超えるとテープ基材の延伸性に劣る。70℃超え95℃以下の樹脂溶出量が、本発明の範囲未満ではテープ基材の延伸性に劣り、逆に、本発明の範囲を超えるとテープ基材として充分な強度が得られない。95℃超え125℃以下での樹脂溶出量樹脂溶出量が、本発明の範囲未満ではテープ基材として充分な強度が得られず、逆に、本発明の範囲を超えるとテープ基材の柔軟性に劣る。   In the composition by the cloth fractionation method according to the present invention, the amount of resin elution at 0 ° C. or more and 10 ° C. or less is less than the range of the present invention, and the tape base material lacks flexibility. A sufficient strength as a material cannot be obtained. If the resin elution amount at 10 ° C. and 70 ° C. is less than the range of the present invention, the tape substrate lacks flexibility, and conversely, if it exceeds the range of the present invention, the tape substrate has poor stretchability. If the resin elution amount of 70 ° C. to 95 ° C. is less than the range of the present invention, the tape substrate is inferior in stretchability. Conversely, if it exceeds the range of the present invention, sufficient strength as a tape substrate cannot be obtained. Resin elution amount above 95 ° C and below 125 ° C If the resin elution amount is less than the range of the present invention, sufficient strength as a tape base material cannot be obtained. Conversely, if it exceeds the range of the present invention, the flexibility of the tape base material Inferior to

本発明に用いられるポリプロピレン系樹脂(α)、ポリプロピレン系樹脂(β)、及びポリプロピレン系樹脂(γ)において、各ポリプロピレン系樹脂の融点、分子量、各温度域での溶出量が上記範囲内であることは、テープ基材の弾性率、強度、耐熱性、2次加工性などの物性を制御する上で非常に重要である。   In the polypropylene resin (α), polypropylene resin (β), and polypropylene resin (γ) used in the present invention, the melting point, molecular weight, and elution amount in each temperature range of each polypropylene resin are within the above ranges. This is very important in controlling physical properties such as the elastic modulus, strength, heat resistance, and secondary workability of the tape substrate.

本発明1においては、(A)層が、密度0.910〜0.935の直鎖状低密度ポリエチレンからなり、(B)層が、ポリプロピレン系樹脂(α)を30〜50重量%とポリプロピレン系樹脂(β)を30〜50重量%とランダムポリプロピレン(γ)を10〜50重量%とからなるポリプロピレン系樹脂組成物からなることを特徴とする。このような構成にすることにより、ダイシングフィルム全体の延伸性、テープとしての抗張力を良くし、さらにダイシング時の糸状屑の発生を防止することができる。   In the first aspect of the present invention, the (A) layer is made of linear low density polyethylene having a density of 0.910 to 0.935, and the (B) layer is made of 30 to 50% by weight of polypropylene resin (α) and polypropylene. It is characterized by comprising a polypropylene resin composition comprising 30-50% by weight of a resin-based resin (β) and 10-50% by weight of a random polypropylene (γ). By adopting such a configuration, it is possible to improve the stretchability of the entire dicing film and the tensile strength as a tape, and to prevent the generation of filamentous waste during dicing.

また、本発明2においては、(A)層が、密度0.910〜0.935の直鎖状低密度ポリエチレンからなり、(B)層が、ポリプロピレン系樹脂(α)を30〜50重量%とポリプロピレン系樹脂(β)を30〜50重量%とランダムポリプロピレン(γ)を10〜50重量%とからなるポリプロピレン系樹脂組成物90〜80重量%と直鎖状低密度ポリエチレン10〜20重量%とからなることを特徴とする。このような構成にすることにより、ダイシングフィルム全体の延伸性、テープとしての抗張力を良くし、さらにダイシング時の糸状屑の発生を防止することができる。特に、上記直鎖状低密度ポリエチレンを上記範囲で含有することにより、ダイシング時の糸状屑の発生をより効果的に防止することができる。   Moreover, in this invention 2, (A) layer consists of a linear low density polyethylene with a density of 0.910-0.935, and (B) layer is 30-50 weight% of polypropylene-type resin ((alpha)). And polypropylene resin composition (β) 30 to 50 wt% and random polypropylene (γ) 10 to 50 wt% polypropylene resin composition 90 to 80 wt% and linear low density polyethylene 10 to 20 wt% It is characterized by the following. By adopting such a configuration, it is possible to improve the stretchability of the entire dicing film and the tensile strength as a tape, and to prevent the generation of filamentous waste during dicing. In particular, by containing the linear low-density polyethylene in the above range, generation of filamentous waste during dicing can be more effectively prevented.

本発明による粘着テープ基材は、半導体ウエハをダイシングする際に、ウエハに粘着固定するダイシングフィルムに用いられ、そのテープ基材の厚さについては、特に限定されるものではないが、上記用途からみて、一般的には、0.05〜0.5mm程度が好ましく、より好ましくは、0.08〜0.3mm程度であればよい。テープ基材の厚さが厚すぎると、引っ張り応力が大きくなり、テープ基材を伸ばすのに、大きな力が必要となる傾向があり、薄すぎると、引っ張り強度が小さくなり、破れやすくなる傾向がある。   The adhesive tape base material according to the present invention is used for a dicing film that is adhesively fixed to a wafer when dicing a semiconductor wafer, and the thickness of the tape base material is not particularly limited. In general, the thickness is preferably about 0.05 to 0.5 mm, more preferably about 0.08 to 0.3 mm. If the thickness of the tape substrate is too thick, the tensile stress increases, and a large force tends to be required to stretch the tape substrate. If the tape substrate is too thin, the tensile strength tends to decrease and it tends to break. is there.

本発明による粘着テープ基材の成形方法としては、特に限定されるものではないが、製造工程が簡略である共押出法や、カレンダー法、共押出インフレーション法を使用して成形するのがよい。   Although it does not specifically limit as a shaping | molding method of the adhesive tape base material by this invention, It is good to shape | mold using the coextrusion method with which a manufacturing process is simple, a calendar method, and a coextrusion inflation method.

本発明による粘着テープ基材にあっては、少なくとも一方の表層を梨地調にエンボス加工しておくこともできる。本発明により得られるダイシングフィルム基材は、チップがダイシングされた後、エキスパンダーリングに押し当てられて延伸される。その際、フィルムとエキスパンダーリングとの滑りにより、フィルムが局部的に延伸される場合もあるため、本発明の粘着テープ基材は、一方の表面を梨地エンボス加工することにより、エキスパンダーリングとの滑りを均一にさせることが可能である。   In the adhesive tape substrate according to the present invention, at least one surface layer can be embossed in a satin finish. The dicing film substrate obtained by the present invention is stretched by being pressed against an expander ring after the chip is diced. At that time, since the film may be stretched locally by sliding between the film and the expander ring, the adhesive tape substrate of the present invention is slippery with the expander ring by embossing one surface. Can be made uniform.

本発明3による粘着シートは、前記発明1又は2の粘着テープ基材上に粘着剤層が設けられたことを特徴とする。   The pressure-sensitive adhesive sheet according to the present invention 3 is characterized in that a pressure-sensitive adhesive layer is provided on the pressure-sensitive adhesive tape substrate of the first or second invention.

上記粘着剤層としては、特に限定されず、公知もしくは慣用の各種の粘着剤、例えば、ゴム系、アクリル系、シリコーン系、ポリビニルエーテル系等の粘着剤を用いることができる。また、上記粘着剤としては、なかでもアクリル系粘着剤が好ましく、このアクリル系粘着剤のベースポリマーであるアクリル系ポリマーは、通常、(メタ)アクリル酸アルキルエステル{(メタ)アクリル酸アルキルエステルとは、アクリル酸アルキルエステル又はメタクリル酸アルキルエステルを意味する。}の重合体又は共重合性モノマーとの共重合体が用いられる。上記アクリル系ポリマーの主モノマーとしては、そのホモポリマーのガラス転移温度が−50℃以下の(メタ)アクリル酸アルキルエステルが好ましい。   The pressure-sensitive adhesive layer is not particularly limited, and various known or commonly used pressure-sensitive adhesives such as rubber-based, acrylic-based, silicone-based, and polyvinyl ether-based pressure-sensitive adhesives can be used. The pressure-sensitive adhesive is preferably an acrylic pressure-sensitive adhesive, and the acrylic polymer that is a base polymer of the pressure-sensitive adhesive is usually a (meth) acrylic acid alkyl ester {(meth) acrylic acid alkyl ester and Means acrylic acid alkyl ester or methacrylic acid alkyl ester. } Or a copolymer with a copolymerizable monomer is used. The main monomer of the acrylic polymer is preferably a (meth) acrylic acid alkyl ester whose homopolymer has a glass transition temperature of −50 ° C. or lower.

上記(メタ)アクリル酸アルキルエステルのアルキルエステルとしては、例えば、メチルエステル、エチルエステル、ブチルエステル、2−エチルヘキシルエステル、オクチルエステル、イソノニルエステル等が挙げられる。また、上記共重合性モノマーとしては、(メタ)アクリル酸のヒドロキシアルキルエステル(例えば、ヒドロキシエチルエステル、ヒドロキシブチルエステル、ヒドロキシヘキシルエステル等)、(メタ)アクリル酸グリシジルエステル、(メタ)アクリル酸、イタコン酸、無水マレイン酸、(メタ)アクリル酸アミド、(メタ)アクリル酸N−ヒドロキシメチルアミド、(メタ)アクリル酸アルキルアミノアルキルエステル(例えば、ジメチルアミノエチルメタクリレート、t−ブチルアミノエチルメタクリレート等)、酢酸ビニル、スチレン、アクリロニトリル等が挙げられる。   Examples of the alkyl ester of the (meth) acrylic acid alkyl ester include methyl ester, ethyl ester, butyl ester, 2-ethylhexyl ester, octyl ester, and isononyl ester. Examples of the copolymerizable monomer include hydroxyalkyl esters of (meth) acrylic acid (eg, hydroxyethyl ester, hydroxybutyl ester, hydroxyhexyl ester, etc.), (meth) acrylic acid glycidyl ester, (meth) acrylic acid, Itaconic acid, maleic anhydride, (meth) acrylic acid amide, (meth) acrylic acid N-hydroxymethylamide, (meth) acrylic acid alkylaminoalkyl ester (for example, dimethylaminoethyl methacrylate, t-butylaminoethyl methacrylate, etc.) , Vinyl acetate, styrene, acrylonitrile and the like.

また、上記粘着剤としては、紫外線、電子線等により硬化する放射線硬化型粘着剤や加熱発泡型粘着剤を用いることもできるが、放射線硬化型粘着剤、特に、紫外線硬化型粘着剤を用いることが好ましい。更には、ダイシング・ダイボンド兼用可能な粘着剤であってもよい。なお、粘着剤として放射線硬化型粘着剤を用いる場合には、ダイシング工程の前又は後に、粘着剤層に放射線が照射されるため、前記テープ基材は十分な放射線透過性を有しているものが好ましい。   In addition, as the above-mentioned pressure-sensitive adhesive, a radiation-curing pressure-sensitive adhesive or a heat-foaming pressure-sensitive adhesive that can be cured by ultraviolet rays, electron beams, or the like can be used. Is preferred. Furthermore, an adhesive that can be used for dicing and die bonding may be used. In addition, when using a radiation curing type adhesive as an adhesive, since the radiation is irradiated to an adhesive layer before or after a dicing process, the said tape base material has sufficient radiolucency Is preferred.

上記放射線硬化型粘着剤は、一般には、上記ベースポリマー(アクリル系ポリマー)と放射線硬化成分とからなる。この放射線硬化成分としては、分子中に炭素−炭素二重結合を有し、ラジカル重合により硬化可能なモノマー、オリゴマーまたはポリマーであれば特に限定されず、例えば、トリメチロールプロパントリ(メタ)アクリレート、ペンタエリスリトールトリ(メタ)アクリレ−ト、テトラエチレングリコールジ(メタ)アクリレート、1,6−ヘキサンジオールジ(メタ)アクリレート、ネオペンチルグリコールジ(メタ)アクリレート、ジペンタエリスリトールヘキサ(メタ)アクリレート等の(メタ)アクリル酸と多価アルコールとのエステル化物;エステルアクリレートオリゴマー;2−プロペニルジ−3−ブテニルシアヌレート、2−ヒドロキシエチルビス(2−アクリロキシエチル)イソシアヌレート、トリス(2−メタクリロキシエチル)イソシアヌレート等のイソシアヌレート又はイソシアヌレート化合物等が挙げられる。   The radiation curable pressure-sensitive adhesive generally comprises the base polymer (acrylic polymer) and a radiation curable component. The radiation curing component is not particularly limited as long as it is a monomer, oligomer or polymer having a carbon-carbon double bond in the molecule and curable by radical polymerization. For example, trimethylolpropane tri (meth) acrylate, Such as pentaerythritol tri (meth) acrylate, tetraethylene glycol di (meth) acrylate, 1,6-hexanediol di (meth) acrylate, neopentyl glycol di (meth) acrylate, dipentaerythritol hexa (meth) acrylate, etc. Esterified product of (meth) acrylic acid and polyhydric alcohol; ester acrylate oligomer; 2-propenyl di-3-butenyl cyanurate, 2-hydroxyethylbis (2-acryloxyethyl) isocyanurate, tris (2-methacryloxy) Chill) isocyanurate or isocyanurate compounds such as isocyanurate.

また、上記放射線硬化型粘着剤においては、上記ベースポリマー(アクリル系ポリマー)として、ポリマー側鎖に炭素−炭素二重結合を有する放射線硬化型ポリマーを使用することもでき、この場合においては、上記放射線硬化成分を加える必要はない。   In the radiation curable pressure-sensitive adhesive, a radiation curable polymer having a carbon-carbon double bond in the polymer side chain can also be used as the base polymer (acrylic polymer). There is no need to add a radiation curable component.

上記放射線硬化型粘着剤を紫外線により硬化させる場合には、光重合開始剤が必要であり、更に上記放射線硬化型粘着剤には、必要に応じて、架橋剤、粘着付与剤、充填剤、老化防止剤、着色剤等の慣用の添加剤を含有させることができる。   When the radiation curable pressure-sensitive adhesive is cured by ultraviolet rays, a photopolymerization initiator is required, and the radiation curable pressure-sensitive adhesive further includes a crosslinking agent, a tackifier, a filler, and aging as necessary. Conventional additives such as an inhibitor and a colorant can be contained.

上記光重合開始剤としては、例えば、ベンゾインメチルエーテル、ベンゾインプロピルエーテル、ベンゾインイソブチルエーテル等のベンゾインアルキルエーテル類;ベンジル、ベンゾイン、ベンゾフェノン、α−ヒドロキシシクロヘキシルフェニルケトン等の芳香族ケトン類;ベンジルジメチルケタール等の芳香族ケタール類;ポリビニルベンゾフェノン;クロロチオキサントン、ドデシルチオキサントン、ジメチルチオキサントン、ジエチルチオキサントン等のチオキサントン類等が挙げられる。
また、上記架橋剤としては、例えば、ポリイソシアネート化合物、メラミン樹脂、尿素樹脂、アジリジン化合物、エポキシ樹脂、無水化合物、ポリアミン、カルボキシルキ含有ポリノマー等が挙げられる。
Examples of the photopolymerization initiator include benzoin alkyl ethers such as benzoin methyl ether, benzoin propyl ether, and benzoin isobutyl ether; aromatic ketones such as benzyl, benzoin, benzophenone, and α-hydroxycyclohexyl phenyl ketone; Aromatic ketals such as polyvinyl benzophenone; thioxanthones such as chlorothioxanthone, dodecylthioxanthone, dimethylthioxanthone, and diethylthioxanthone.
Moreover, as said crosslinking agent, a polyisocyanate compound, a melamine resin, a urea resin, an aziridine compound, an epoxy resin, an anhydrous compound, a polyamine, a carboxyl-containing polynomer etc. are mentioned, for example.

上記粘着剤層の厚さは、粘着剤の種類により適宜に決定することができるが、好ましくは1〜100μm、より好ましくは3〜50μmである。   Although the thickness of the said adhesive layer can be suitably determined with the kind of adhesive, Preferably it is 1-100 micrometers, More preferably, it is 3-50 micrometers.

上記粘着剤層を塗工する際には、ラベル加工のため、又は粘着剤層を平滑にするために、必要に応じて、セパレータを用いることがある。このセパレータの構成材料としては、紙や、ポリエチレン、ポリプロピレン、ポリエチレンテレフタレート等の合成樹脂フィルム等が挙げられる。また、セパレータの表面には、粘着剤層からの剥離性を高めるため、必要に応じて、シリコーン処理、長鎖アルキル処理、フッ素処理などの剥離処理が施されていても良い。更に、このセパレータの厚みは、好ましくは10〜200μm、より好ましくは25〜100μmである。   When applying the pressure-sensitive adhesive layer, a separator may be used as needed for label processing or to smooth the pressure-sensitive adhesive layer. Examples of the constituent material of the separator include paper and synthetic resin films such as polyethylene, polypropylene, and polyethylene terephthalate. Moreover, in order to improve the peelability from the pressure-sensitive adhesive layer, the surface of the separator may be subjected to a peeling treatment such as silicone treatment, long-chain alkyl treatment, or fluorine treatment as necessary. Furthermore, the thickness of this separator becomes like this. Preferably it is 10-200 micrometers, More preferably, it is 25-100 micrometers.

本発明の粘着テープ基材及び粘着シートは上述の通りの構成であり、均一な延伸性に優れ、適度な引張り強さを有し、さらにダイシング時の糸状屑の発生を防止できるので、ダイシング用基体フィルムやダイシングテープ等として好適に用いられる。その他、表面保護フィルム、各種基材のマスキングフィルム、テーブルクロス、建築基材フィルム、ストレッチフィルム、医療用テープ原反等にも用いることができる。   The pressure-sensitive adhesive tape substrate and pressure-sensitive adhesive sheet according to the present invention have the above-described configuration, are excellent in uniform stretchability, have an appropriate tensile strength, and can prevent generation of thread-like waste during dicing. It is suitably used as a substrate film, dicing tape or the like. In addition, it can also be used for surface protective films, masking films for various substrates, table cloths, building substrate films, stretch films, medical tape raw materials, and the like.

本発明をさらに詳細に説明するため以下に実施例を挙げるが、本発明はこれら実施例のみに限定されるものではない。   In order to describe the present invention in more detail, examples will be given below, but the present invention is not limited to these examples.

(実施例1、比較例1及び2)
1.粘着テープ基材の作製
密度0.932、メルトフローレイト(MFR)3の直鎖状ポリエチレンを内外層とし、表1に示した組成をもつポリプロピレン系樹脂(α)、ポリプロピレン系樹脂(β)、及びランダムポリプロピレン(γ)を、表2で示した割合で配合したポリプロピレン系樹脂組成物を中心層として、Tダイ押出機を用いて、層厚さ比が1/3/1となるように多層押出した後、片面にコロナ処理を施して、厚み100μmの3層構成のテープ基材を作製した。
(Example 1, Comparative Examples 1 and 2)
1. Production of Adhesive Tape Base Material A linear polyethylene having a density of 0.932 and a melt flow rate (MFR) 3 is used as an inner and outer layer, and a polypropylene resin (α), a polypropylene resin (β) having the composition shown in Table 1, And a polypropylene resin composition in which random polypropylene (γ) is blended in the proportions shown in Table 2, using a T-die extruder as a central layer, a multilayer so that the layer thickness ratio is 1/3/1 After extrusion, a single-sided corona treatment was performed to produce a three-layer tape substrate having a thickness of 100 μm.

Figure 2005297247
Figure 2005297247

Figure 2005297247
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2.粘着シートの作製
粘着剤として、アクリル酸ブチル95重量部及びアクリル酸5重量部を、酢酸エチル中で常法により共重合させて得られた重量平均分子量80万のアクリル系共重合体を含有する溶液に、ジペンタエリスリトールヘキサアクリレート(商品名「カヤラッドDPHA」、日本化薬社製)60重量部、ラジカル重合開始剤(商品名「イルガキュア651」、チバ・スペシャルティーケミカルズ社製)3重量部、ポリイソシアネート化合物(商品名「コロネートL」、日本ポリウレタン社製)5重量部を加えて、アクリル系紫外線硬化型粘着剤溶液を調製し、該粘着剤溶液を、上記1.で得られたテープ基材のコロナ処理面に塗布し、80℃で10分間加熱架橋して、厚さ10μmの紫外線硬化型粘着剤層を形成した。次いで、当該粘着剤層面にセパレータを貼り合せて粘着シートを作製した。
2. Preparation of pressure-sensitive adhesive sheet As a pressure-sensitive adhesive, an acrylic copolymer having a weight average molecular weight of 800,000 obtained by copolymerizing 95 parts by weight of butyl acrylate and 5 parts by weight of acrylic acid in a conventional manner in ethyl acetate is contained. In the solution, 60 parts by weight of dipentaerythritol hexaacrylate (trade name “Kayarad DPHA”, manufactured by Nippon Kayaku Co., Ltd.), 3 parts by weight of radical polymerization initiator (trade name “Irgacure 651”, manufactured by Ciba Specialty Chemicals) An acrylic ultraviolet curable pressure-sensitive adhesive solution is prepared by adding 5 parts by weight of a polyisocyanate compound (trade name “Coronate L”, manufactured by Nippon Polyurethane Co., Ltd.). It was applied to the corona-treated surface of the tape base material obtained in the above and heated and crosslinked at 80 ° C. for 10 minutes to form a 10 μm-thick UV curable pressure-sensitive adhesive layer. Next, a separator was bonded to the surface of the pressure-sensitive adhesive layer to produce a pressure-sensitive adhesive sheet.

3.性能評価
上記で得られた粘着シートの性能(ダイシング性、エキスパンド性、及び層間剥離)を以下の方法で評価した。その結果は表2に示すとおりであった。
3. Performance evaluation The performance (dicing property, expandability, and delamination) of the pressure-sensitive adhesive sheet obtained above was evaluated by the following method. The results are shown in Table 2.

(1)ダイシング性評価
上記2.で得られたダイシング用粘着シートに、厚さ350μmの6インチウエハをマウントし、ダイシングを行った。
ブレード回転数:30,000rpm
ダイシング速度:100mm/sec
ダイシング深さ:40μm
ブレード厚:50μm
ダイシングサイズ:5mm×5mm
ダイシング後、紫外線硬化型粘着シートの場合には、紫外線を照射(460mJ/cm2)し、次いで半導体チップを剥離した。剥離後のシート表面の糸状屑の発生状況を、光学顕微鏡を用いて観察し、糸状屑の大きさ毎に個数をカウントし、以下の判断基準にて合否判定した。
合格基準
150μ未満の糸くず 50個以下
150〜500μ未満の糸くず 10個以下
500μ以上の糸くず 0個
(1) Evaluation of dicing property A 6-inch wafer having a thickness of 350 μm was mounted on the dicing adhesive sheet obtained in the above step, and dicing was performed.
Blade rotation speed: 30,000 rpm
Dicing speed: 100mm / sec
Dicing depth: 40μm
Blade thickness: 50 μm
Dicing size: 5mm x 5mm
After dicing, in the case of an ultraviolet curable pressure sensitive adhesive sheet, ultraviolet rays were irradiated (460 mJ / cm 2 ), and then the semiconductor chip was peeled off. The state of occurrence of filamentous debris on the sheet surface after peeling was observed using an optical microscope, the number was counted for each size of filamentous debris, and a pass / fail decision was made according to the following criteria.
Acceptance criteria Lint of less than 150μ 50 or less Lint of less than 150-500μ 10 or less Yarn of 500μ or more 0

(2)エキスパンド性評価
上記(1)でダイシングを行った粘着シートを、エキスパンティング工程においてエキスパンドし、均一にエキスパンドできるか評価した。このエキスパンド性は、縦方向の半導体チップ間隔Xを横方向の半導体チップ間隔Yで割った値(X/Y)で表される。この値は1.0に近いほどXY方向に対して均一にエキスパンドされることを示し、0.8〜1.2の範囲にあるものを○、上記範囲をはずれるものを×とした。この範囲から外れると、半導体チップの位置ずれによるピックアップミスが生じる。
本発明の実施例においては、常温においても均一にエキスパンドされ、エキスパンドをしても構成分子が延伸配向しないことが確認された。
(2) Expandability evaluation The pressure-sensitive adhesive sheet diced in the above (1) was expanded in the expanding step to evaluate whether it could be expanded uniformly. This expandability is represented by a value (X / Y) obtained by dividing the semiconductor chip interval X in the vertical direction by the semiconductor chip interval Y in the horizontal direction. The closer this value is to 1.0, the more uniformly it expands in the XY direction. The value in the range of 0.8 to 1.2 is indicated as ◯, and the value outside the above range is indicated as ×. If it is out of this range, a pick-up mistake due to the position shift of the semiconductor chip occurs.
In the examples of the present invention, it was confirmed that even when expanded at normal temperature, the constituent molecules were not stretched and oriented even when expanded.

(3)層間剥離評価
上記(1)でダイシングを行った粘着シートを用い、チップを10個ピックアップしたときに、チップの裏側にフィルムの一部が付着しているものの個数を調べ、全く付着しないものを○、1個付着しているものを△、2個以上付着しているものを×として評価した。
(3) Evaluation for delamination Using the pressure-sensitive adhesive sheet diced in (1) above, when 10 chips were picked up, the number of films with a part of the film adhered to the back side of the chip was examined, and no adhesion occurred. An evaluation was given as ◯ for one, Δ for one attached, and × for two or more attached.

(比較例3)
ポリプロピレン樹脂(MFR3、エチレン含量1.5%、ランダムポリプロピレン)のみからなる単層の粘着テープ基材は、硬く、伸び率が低く、ダイシング用の粘着テープ基材としての機能を発揮することはできないものであった。
(Comparative Example 3)
A single-layer adhesive tape base material made only of polypropylene resin (MFR3, ethylene content 1.5%, random polypropylene) is hard and has a low elongation rate, and cannot function as an adhesive tape base material for dicing. It was a thing.

(比較例4)
エチレン系共重合体樹脂(EVA)のみからなる単層の粘着テープ基材は、軟らかすぎ、強度的に低いものであり、裂けてしまい、ダイシング用の粘着テープ基材としての機能を発揮することはできないものであった。
(Comparative Example 4)
A single-layer adhesive tape base material made only of an ethylene copolymer resin (EVA) is too soft and low in strength, tears, and exhibits a function as an adhesive tape base material for dicing. It was something that could not be done.

Claims (3)

少なくとも(A)層及び(B)層とが積層された多層積層体である粘着テープ基材であって、当該(A)層が、密度0.910〜0.935の直鎖状低密度ポリエチレンからなり、当該(B)層が、融点が140〜150℃であり、重量平均分子量(Mw)が8万〜45万であり、かつクロス分別法による組成が、
0℃以上10℃以下の樹脂溶出量が全樹脂量の50〜60重量%であり、
10℃超え70℃以下の樹脂溶出量が全樹脂量の10〜20重量%であり、
70℃超え95℃以下の樹脂溶出量が全樹脂量の10〜20重量%であり、
95℃超え125℃以下の樹脂溶出量が全樹脂量の10〜20重量%である範囲内の組成を有するポリプロピレン系樹脂(α)を30〜50重量%と、
融点が160℃以上であり、重量平均分子量(Mw)が8万〜45万であり、かつクロス分別法による組成が、
0℃以上10℃以下の樹脂溶出量が全樹脂量の45〜55重量%であり、
10℃超え70℃以下での樹脂溶出量が全樹脂量の15〜25重量%であり、
70℃超え95℃以下での樹脂溶出量が全樹脂量の1〜5重量%であり、
95℃超え125℃以下での樹脂溶出量が全樹脂量の25〜50重量%である範囲内の組成を有するポリプロピレン系樹脂(β)を30〜50重量%と、
融点が135〜155℃であり、重量平均分子量(Mw)が15万〜30万であり、かつクロス分別法による組成が、
0℃以上10℃以下の樹脂溶出量が全樹脂量の1〜4重量%であり、
10℃超え70℃以下の樹脂溶出量が全樹脂量の12〜18重量%であり、
70℃超え95℃以下の樹脂溶出量が全樹脂量の35〜40重量%であり、
95℃超え125℃以下の樹脂溶出量が全樹脂量の40〜50重量%である範囲内の組成を有するランダムポリプロピレン(γ)を10〜50重量%とからなるポリプロピレン系樹脂組成物からなることを特徴とする粘着テープ基材。
A pressure-sensitive adhesive tape substrate which is a multilayer laminate in which at least the (A) layer and the (B) layer are laminated, and the (A) layer is a linear low-density polyethylene having a density of 0.910 to 0.935. The layer (B) has a melting point of 140 to 150 ° C., a weight average molecular weight (Mw) of 80,000 to 450,000, and a composition by a cross fractionation method.
The resin elution amount of 0 ° C. or more and 10 ° C. or less is 50 to 60% by weight of the total resin amount,
The resin elution amount of 10 ° C. to 70 ° C. is 10 to 20% by weight of the total resin amount,
The resin elution amount of 70 ° C. to 95 ° C. is 10 to 20% by weight of the total resin amount,
30 to 50% by weight of a polypropylene resin (α) having a composition within a range where the resin elution amount of 95 ° C. to 125 ° C. is 10 to 20% by weight of the total resin amount;
The melting point is 160 ° C. or higher, the weight average molecular weight (Mw) is 80,000 to 450,000, and the composition by the cross fractionation method is
The resin elution amount from 0 ° C. to 10 ° C. is 45 to 55% by weight of the total resin amount,
The resin elution amount at 10 ° C. to 70 ° C. is 15 to 25% by weight of the total resin amount,
The resin elution amount at 70 ° C. to 95 ° C. is 1 to 5% by weight of the total resin amount,
30 to 50% by weight of a polypropylene resin (β) having a composition within a range where the resin elution amount at 95 ° C to 125 ° C is 25 to 50% by weight of the total resin amount;
The melting point is 135 to 155 ° C., the weight average molecular weight (Mw) is 150,000 to 300,000, and the composition by the cross fractionation method is
The resin elution amount of 0 ° C. or more and 10 ° C. or less is 1 to 4% by weight of the total resin amount,
The resin elution amount of 10 ° C. to 70 ° C. is 12 to 18% by weight of the total resin amount,
The resin elution amount of 70 ° C. to 95 ° C. is 35 to 40% by weight of the total resin amount,
It consists of a polypropylene resin composition comprising 10 to 50% by weight of random polypropylene (γ) having a composition within the range where the resin elution amount of 95 ° C to 125 ° C is 40 to 50% by weight of the total resin amount. Adhesive tape substrate characterized by
少なくとも(A)層及び(B)層とが積層された多層積層体である粘着テープ基材であって、当該(A)層が、密度0.910〜0.935の直鎖状低密度ポリエチレンからなり、当該(B)層が、請求項1記載のポリプロピレン系樹脂組成物90〜80重量%と直鎖状低密度ポリエチレン10〜20重量%とからなることを特徴とする粘着テープ基材。   A pressure-sensitive adhesive tape substrate which is a multilayer laminate in which at least the (A) layer and the (B) layer are laminated, and the (A) layer is a linear low-density polyethylene having a density of 0.910 to 0.935. A pressure-sensitive adhesive tape substrate, wherein the layer (B) comprises 90 to 80% by weight of the polypropylene resin composition according to claim 1 and 10 to 20% by weight of linear low-density polyethylene. 請求項1又は2記載のテープ基材上に粘着剤層が設けられたことを特徴とする粘着シート。   A pressure-sensitive adhesive sheet, wherein a pressure-sensitive adhesive layer is provided on the tape base material according to claim 1.
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