JP2008149717A - コーティングを有する多孔質メータリング部材 - Google Patents

Abstract

【課題】粘性体が貫入しメータリング部材内に残留することを防止できる多孔質メータリング装置の提供。
【解決手段】メータリング装置は、流体又はガス透過性材料で作られるメータリング部材と、基材とを含み、メータリング部材は、ガス又は流体媒体用の供給通路に面する第１表面、粘性体又はペースト体が流れる通路領域に面する第２表面、及びメータリング部材を受け入れる基材内の窪みと少なくとも部分的に形状一致結合又は力伝達結合するジャケット面を有する。メータリング部材は基材に取付けられて流体導通部材を構成し、流体又はガス透過性材料は細孔をなす中空空間を有する。中空空間はガス又は流動媒体が第１表面から第２表面へ流れるように互いに連結される。第２表面は、メータリング部材内への粘性体又はペースト体の流入を避けるように、粘性体の主流方向に平行に測定して細孔の直径を小さくできる手段を含む。
【選択図】図１

Description

本発明は、流体、粘性体又はペースト体への、流体、とりわけガスの流れを制御するためのメータリング部材を含むメータリング装置に関するものである。

ポリマー溶融体中に発泡剤を注入するために使用できる多孔質スリーブが、先行技術により公知になっている。例えば、特許文献１（独国特許出願公開第１０１５０３２９号（Ａ１））に示されたこのタイプのメータリング装置では、物理的発泡剤、或いは特に過臨界状態にあるガス状発泡剤が、射出成形装置の可塑化シリンダとシャットオフ・ノズルとの間に取り付けられた多孔質材料から成る円筒体を通して、導入されることが可能である。静止混合部材が多孔質円筒体の内部に配置され、溶融物通路内に延在するウェブを有し、射出段階の間に、このウェブが溶融物の再配置、及び初期にはまだ均質でないポリマー／発泡剤系の混合を行う。

特許文献１に示された多孔質円筒体は、シャットオフ・ノズルによって圧力室の穴に保持される。この多孔質円筒体は十分な耐圧性を有さないので、高圧プロセスでの使用に問題がある。したがって、特許文献２（欧州特許出願第０６１１９３９２号）（この内容全体が、この出願の一体部分である宣言する）では、メータリング装置を多孔質スリーブとして構成するのではなく、むしろ特に高張力材料として作られたスリーブの中に多孔質材料のメータリング部材を挿入することが、提案されている。

特に特許文献２により構成されるメータリング装置は、高圧プロセスでの使用に適している。なぜなら、他方では、スリーブの脆弱化はメータリング部材の表面に限定されるからである。多孔質材料でできたメータリング部材は、当然、限られた強度しか有さない。しかし、メータリング部材の表面部分が２５％の最大値、特に２０％、特に高圧での混合作業の際の好ましい方法では１５％を超えないならば、上記脆弱化により、メータリング部材の切り欠き効果による毛割れ又は類似の破損現象が形成されることはない。スリーブ表面でのメータリング部材の表面部分が小さければ小さいほど、作動圧力又は最大圧力差は、スリーブの内面とその外面との間でそれだけより高く選択できる。

しかし、約１０μｍの平均細孔直径及び約１００ＭＰａ（１０００バール）の作動圧力において、メータリング部材の細孔を介して添加剤からの反対圧力が導入されるにもかかわらず、流体、粘性体、又はペースト体はスリーブの細孔の内部に貫入できることが分かっている。

細孔の内部に堆積した流体、粘性体、ペースト体、又はどろどろ体は、この細孔を相次いで詰まらせる傾向を有し、それによってメータリング部材の機能は限られた方法でしか維持されず、最後にはメータリング部材は不安定になる。特に、メータリング部材の表面を流れる流体、粘性体、又はペースト体の組成の変化が起る場合、このタイプの堆積物は撹乱効果を有する可能性がある。すなわち添加剤を加圧してメータリング部材に充填すると、この堆積物は、再び制御されないで流体、粘性体、又はペースト体の中に入ることができ、それによって流体、粘性体、又はペースト体の汚染が生じるおそれがある。

さらなる欠点は、メータリング装置が、そのドウェル時間が特定持続時間を超えない質量体（流体、粘性体、又はペースト体）を処理する際に生じる。このタイプの質量体の残留物が細孔に残るならばこの質量体に不要な反作用が起ることがあり、それによって続いて流れる質量体はドウェル時間が延びるために周縁領域で汚染される。
独国特許出願公開第１０１５０３２９号明細書 欧州特許出願第０６１１９３９２号明細書

多孔質メータリング部材の使用における明らかな欠点から、質量体（流体、粘性体、又はペースト体）が貫入しメータリング部材内に残ることを防止できる類似の細孔サイズを有する多孔質のメータリング部材を使用するという目的が生じる。

この目的は、流体透過性材料又はガス透過性材料からなるメータリング部材および基材を含むメータリング装置によって達せられる。メータリング部材は、ガス媒体又は流体媒体用の供給通路に面する第１表面を有し、粘性体又はペースト体の流れる通路領域に面する第２表面を有し、メータリング部材を受け入れる基材の窪みに、少なくとも部分的に形状一致結合、又は力伝達結合されるジャケット面を有し、それによって前記基材に取り付けられて、流体導通部材を構成する。流体透過性材料又はガス透過性材料は、細孔の形態をした中空空間を有し、細孔の形態をした中空空間は、ガス媒体又は流体媒体が第１表面から第２表面まで流れ得るように互いに連結されている。第２表面は、粘性体又はペースト体の主流方向に平行に測定した細孔直径を小さくすることができる手段を含み、これにより前記メータリング部材内への粘性体又はペースト体の流入を防ぐことができる。

第２表面でのメータリング部材の細孔直径は、最大１０μｍ、好ましくは２〜３μｍ、とりわけ０．５μｍである。

基材は、鋼、とりわけ高強度および高い切欠き衝撃強度を有する鋼である。なぜなら、この鋼は、ペースト体、粘性体、又はどろどろ体を添加剤と共にメータリング装置に装入する圧力サイクルに耐えなければならないからである。

流体透過性材料又はガス透過性材料は、セラミック材料又は任意で合金として形成された金属を含む。メータリング部材は、粒子から成るセラミック又は金属材料が熱エネルギーの供給を受けてその表面で溶融を開始し、粒子表面がこの方法で互いに連結される焼結工程によって製造できる。材料の選択は、通常、添加剤及び媒体との化学的反応、並びに予想される作動温度に向けられる。メータリング装置の耐圧性はメータリング部材によってではなく、基材によってのみ確保できる。

この手段は、特に、金属及び／又はセラミックのコーティング材料を使用することが好ましいコーティングを含む。通常、メータリング部材の材料と同じ選択基準が、基材に対するコーティングの付着力が確保されなければならないという追加の制限と共に、コーティングにも当てはまる。

前記コーティングは、ＰＶＤプロセス又は等価なプロセス、例えば溶射プロセスによって流体透過性材料又はガス透過性材料に付着させることができる。とりわけ、ＰＶＤプロセスの使用は、メータリング部材の表面に近い領域のみが被覆される利点を有する。したがって、メータリング部材の中心領域においてではなく、メータリング部材の最表面の最大細孔直径のみが小さくされることが確保される。このようにして、一部の細孔の閉塞が生じることがコーティングにより回避され、その結果、メータリング部材の表面に近い領域の細孔直径の減少により、予想される圧力損失増加が限界範囲内にとどまり、この限界は表面に近い領域での断面の減少からの制限効果によって予め決められる。

特に、複数の層から成るコーティングが使用され、好ましくはＣｒＮコーティング又はＴｉＮコーティングが使用される。相違する各層はプライマーを含み、それによってコーティングがメータリング部材の下層に永久に付着することが確保される。トップコートである少なくとも１つの別の層がこのプライマーに付着され、それによってとりわけ耐摩耗性を大きくできる。

流れの生じる断面は、この手段によって少なくとも１０％、好ましくは少なくとも１８％、特に少なくとも３６％だけ小さくできる。

上述の具体例うちの１つによるメータリング装置は、溶融物の中に添加剤、とりわけポリマー溶融物の中に発泡剤を導入するために使用できる。

図１に、流体透過性材料又はガス透過性材料で作られたメータリング部材２を含むメータリング装置１を示す。メータリング部材２は、基材３に埋め込まれ、ガス媒体又は流体媒体用の供給通路５に面する第１表面４、及び粘性体又はペースト体が流れる通路領域７に面する第２表面６を有する。したがって、メータリング部材２及び基材３は、メータリング手段を有する流体導通部材１３を全体として構成する。この流体導通部材１３のメータリング部材の第１表面４及び第２表面６は、この実施例では実質的に互いに対向して配置される。この実施例において特に、流体導通部材１３は、実際に複数のメータリング部材がメータリング手段として取り付けられた中空円筒として構成される。この実施例では、添加剤が、その第１表面４から開始して第２表面６までメータリング部材を流れる。メータリング部材２には、第１表面４と第２表面６との間に延在して、基材の窪み９に少なくとも部分的に隣接するジャケット面８が取付けられる。ジャケット面８は、基材３内にメータリング部材を受け入れる窪み９と、材料連続結合、又は形状一致結合又は力伝達結合によって、少なくとも部分的に結合され、その結果、メータリング部材２は基材３に固定され、それによって流体導通部材１３がメータリング手段を用いて構成される。したがってこのタイプの流体導通部材は、メータリング部材を用いて完全に前もって作られることができ、形状一結合、又は力伝達結合による方法で、或いは、材料連続性を有する結合方法で、例えば押し出し成形機の後で、又は射出成形機の上流で組立体に取り付けられるだけである。メータリング部材２の流体透過性材料及び／又はガス透過性材料は、細孔をなす中空空間１０を有し、細孔を形成する中空空間１０は、ガス媒体又は流体媒体が第１表面４から第２表面６まで流れ得るように互いに連結される。第２表面６はコーティング１１を有し、このコーティング１１は、関連する細孔直径を小さくすることができ（直径は、粘性体又はペースト体の主流方向に平行に測定される）、これにより前記メータリング部材２の内部への粘性体又はペースト体の流入を妨げることができる。

図２は第１の実施例によるメータリング装置の長手方向の断面を示す。メータリング装置１は、流体、粘性体、どろどろ体又はペースト体が流れる通路領域７を含む。この通路領域は、基材３及び少なくとも１つのメータリング部材２を含む管形状の流体導通部材１３によって画定される。図２では、互いに対向して配置された２つのメータリング部材２が示されている。メータリング部材のうちの１つは実質的に円筒形に形成され、第２のメータリング部材は円筒形及び円錐形部分を有する。メータリング部材２は、基材３に埋め込まれ、ガス媒体又は流体媒体用の供給通路５に面する第１表面４、及び粘性体又はペースト体が流れる通路領域７に面する第２表面６を含む。この実施例では、第１表面４及び第２表面６は、実質的に互いに対向して配置される。この実施例では、添加剤が第１表面４から開始して第２表面６までメータリング部材を通して流れる。メータリング部材２は、第１表面４と第２表面６との間に延在し、基材の窪み９に少なくとも部分的に接するジャケット面８を有する。ジャケット面８は、形状一致結合、又は力伝達結合、或いは材料連続結合によって、メータリング部材を受け入れる基材３内の窪み９と少なくとも部分的に連結でき、その結果、メータリング部材２は基材３内に固定できる。供給通路５は、外側表面１４又は第１表面４に実質的に接する基材に対する凹部とできる。或いは、又はそれと共に組み合わせて、図１に示したようにジャケット部材１５の内側表面１６に凹部を設けることができる。したがって添加剤は、図２に示すように環状通路として形成される供給通路５に流れ、供給通路５から第１の表面４を介し、メータリング部材を通じて第２表面６のところで通路領域７に入る。また、添加剤を送り込むために連通させるための連通孔１７が図２に示されている。

図３は、流体、流動性の粘性体、又はペースト体が環状通路１０５を流れる第２の実施例によるメータリング装置１０１の長手方向断面を示す。環状通路１０５は、ジャケット部材１１５によって囲まれ、ジャケット部材の内側表面１１６が流れに対する外側境界になっている。粘性が大きいために実質的に層流が環状通路１０５内に存在する。その結果、装置が速度分布の偏りに相応じて流れの進路を偏向させない限り、流速は内側面から環状通路流れ１１７の中央面に向かって連続的に増加する。流れの内側境界は、基材１０３の外側表面１１４によって実質的に形成される。円筒形基材１１４の円筒外側表面の場合、環状通路１０５の中央面１１７は、ジャケット部材１１５の内側表面１１６の半径の半分と基材の外側表面１１４の半径の半分との和に相当する半径を有する円筒である。添加剤は通路領域１０７を介してメータリング部材に供給される。流体導通部材１１３は、基材１０３及びその中に受け入れられたメータリング部材１０２が配置される管状の中空空間として特に作られることができる。メータリング部材１０２用の窪み１０９が基材１０３に設けられ、このメータリング部材は形状一致、又は力伝達の方法で、或いは材料の連続によってこの窪み１０９の中に受け入れられる。特に、対応する窪み１０９にメータリング部材１０２を受け入れる力伝達結合が図３に示される。このタイプの力伝達結合を導入する実施例には、加熱された基材の中への（冷たい）メータリング部材を嵌合することがあり、これにより基材を冷却して収縮して圧入される。特に、溶接接合、はんだ接続、又は接着剤による接合が材料の連続を用いた連結として使用される。形状一致による連結の例には、窪み１０９の対応する円錐形の接合形状の中に少なくとも部分的に円錐形のメータリング部材１０２を組み入れることがある。円錐形のメータリング部材が使用される場合、メータリング部材が添加剤の圧力による追加的な力で窪み１０９内に保持されるように、円錐体の先端がメータリング部材の第１表面１０４の方向に面することが有利である。このタイプのメータリング部材が使用される場合は、第１表面１０４の方向に断面が小さくなるによってノズル効果が生じ、メータリング部材を通して流れる添加剤の流速が大きくなる。

添加剤は、第２表面１０６を介して添加剤導通部材１１３からメータリング部材１０２に入る。次いで添加剤は、メータリング部材１０２の細孔又は中空空間１１０を通して流れ、第１表面１０４を通して環状通路１０５に入る。メータリング部材は環状通路の内部空間に突出することができ、その結果、流れている流体の再配置がメータリング部材を通して行なわれ、流体と添加剤のよりよい混合を行うことができる。流体、粘性体、どろどろ体、又はペースト体が、細孔又は中空空間の中に入ること、特に第１表面１０４に近い領域に移動することを避けるために、この領域の細孔又は中空空間の直径を小さくするための手段が使用される。第１表面１０４の少なくとも一部分が、特にコーティング材料１１１により被覆されることができる。コーティング材料の使用は、図５を用いて説明される。

図４は、図３の実施例によるメータリング装置の半径方向断面を示す。メータリング装置１０１は、流体、粘性体、どろどろ体、又はペースト体の流れる環状通路１０５を含む。環状通路１０５は、一方では、管形状、特に好ましくは円形断面を有する管として特に形成された流体導通ジャケット部材１１５によって画定される。この環状通路の内側境界は、少なくとも１つのメータリング部材１０２を含む基材１０３によって形成される。図４では、このタイプの３つのメータリング部材１０２が表現されている。このメータリング部材は実質的に円筒形の本体として形成され、或いはこの代わりに、メータリング部材のそれぞれは円錐形に又は円筒形及び円錐形部分により構成され得る。メータリング部材１０２は、基材１０３に埋め込まれ、どろどろ体、粘性体、又はペースト体が流れる環状通路１０５に面する第１表面１０４、及びこの本文で添加剤とも呼ばれるガス状媒体又は流体媒体用の通路領域１０７に面する第２表面１０６を有する。第１表面１０４及び第２表面１０６は、この実施例において実質的に互いに対向する。この実施例では、添加剤が、第２表面１０６から開始して第１表面１０４までメータリング部材を通して流れる。メータリング部材１０２は、第１表面１０４と第２表面１０６との間に延在して、基材の窪み１０９に少なくとも部分的に接するジャケット面１０８を有する。ジャケット面１０８は、形状一致結合又は力伝達結合、或いは材料の連続性を有する結合によって、メータリング部材を受け入れる基材１０３の窪み１０９と少なくとも部分的に連結可能であり、その結果、メータリング部材１０２が基材１０３内に固定され得る。こうして添加剤は、通路領域１０７内に流れ、通路領域１０７から第２表面１０６を介して、メータリング部材の細孔又は中空空間１１０を通じて、第１表面１０４のところで環状通路１０５の中に入る。

メータリング部材の構成は、図１又は図２に示す実施例、或いは図３又は図４に示す実施例に限定されない。メータリング部材は、特にジャケット部材１１５内に配置でき、次いでこのジャケット部材は、別の外側ジャケット部材（図に示されていない）によって覆われることができる。ジャケット部材１１５、又は外側ジャケット部材には、例えば図１の供給通路５のように構成できる供給通路用の窪みが設けられる。

図５は、第１表面１０４又は第２表面６の一部を含む多孔質のメータリング部材（２、１０２）の表面からの断面を示す。メータリング部材（２、１０２）は固体から成る本体（１２、１１２）を含み、この本体は耐添加剤性の材料から成る。

メータリング部材の本体（１２、１１２）の中空空間又は細孔（１０、１１０）は、焼結工程、又はエッチング工程などの材料除去工程において形成される。或いはこの代わりに、この本体は異なるタイプの材料の混合物を有する構造を有することができ、次いで材料のうちの１つを溶媒で溶解して洗い落とすことによって、中空空間が得られる。そのあと、溶媒で溶解できない構造物の１つ又は複数の構成部材からなる構造物が残る。

焼結工程では、粉末が原料であり、次いで、粉末粒子の周縁部を溶融することが開始され、それによってそれぞれの隣接する粒子が互いに結合される。この粒子の空間的な配列により存在する中間空間が少なくとも部分的に維持され、その結果、中空空間又は細孔が、前記粒子から形成される凝集体の冷却後に、この凝集体の間に形成される。焼結工程の利点は、粉末状の原料を処理して任意の所望の形状を設計でき、メータリング部材の望ましい寸法を選択できることである。唯一の制限は、熱入力がメータリング部材の総容積部分にわたって実質的に均一に生じ、その結果、溶融を開始した粒子領域がメータリング部材の総容積にわたって実質的に均一であるように、寸法が選択されることにある。

これに対して、多孔質のメータリング部材を製造するためにエッチング工程又は洗い落とし工程が使用される場合、メータリング部材の成形は、中空空間又は細孔の製造前に設定される処理工程において行なわれる。

いくつかのガス状の添加剤又は揮発性の大きい添加剤の場合、中空空間又は細孔は、メータリング部材の細孔を通して流れる添加剤が導入されるべきどろどろ体、粘性体、又はペースト体によって、第１表面１０４又は第２表面１０６に近い領域で汚染されることが分かった。その結果、この細孔又は中空空間は、第１表面１０４又は第２表面１０６の近くで詰まる。この詰まりによって生じる細孔の閉塞は、質量体（接着性体、どろどろ体、粘性体、又はペースト体）にとって不可逆であり、又は部分的に可逆であるが、このことにより、この質量体が再び中空空間又は細孔から周期的に解放され、再びどろどろ体、粘性体、又はペースト体の主流の中に運ばれる結果になる。この流入は、どろどろ体、粘性体、又はペースト体の特性がドウェル時間の増加により変化しない、又は実質的に変化しない場合には重要でないことがあるが、ドウェル時間に大きく依存する組成を有し或いはドウェル時間に依存する化学反応さえも受けやすい質量体の中に添加剤が混合された生成物については、品質のかなりの損失になるであろう。この品質の損失により、一定の環境下において添加剤で混合されたどろどろ体、粘性体、又はペースト体をさらに処理することはできない。

したがって、中空空間又は細孔の内部空間へのどろどろ体、粘性体、又はペースト体の流入は、可能な場合には完全に避けるべきである。

この目的のために、図５に示す変形例によれば、平均の細孔直径は、メータリング部材の中心領域に比較して、第１表面１０４又は第２表面１０６に近い周縁領域においては小さくされる。これによって、揮発性の大きい添加剤又はガス状の添加剤の流速は、直径の大きな細孔又は中空空間を通る流速に対して、メータリング部材の周縁領域において増加され、その結果、中空空間の内部空間の中へのどろどろ体、粘性体、又はペースト体の逆流が回避される。

メータリング部材の表面近くの領域の細孔直径は、実質的に最大１０μｍ、好ましくは２〜３μｍ、とりわけ０．５μｍである。コーティング（１１、１１１）は、細孔直径を小さくするための手段である。

コーティングは少なくとも１つの層を含むが、同一又は異なる組成の複数の層から成ることもできる。

コーティングについての別の実施例を図６に示す。図６は、多孔質のメータリング部材の第１表面１０４又は第２表面１０６の断面を示す。この多孔質のメータリング部材は少なくとも２つの層、すなわち本体（１２、１１２）及びコーティング（１１、１１１）から作られる。コーティングは、本体（１２、１１２）の細孔を被覆して、それ自身が本体（１２、１１２）よりも小さい細孔を有する多孔質材料から成る。流れの生じる細孔１８の断面１９を除いて、本体の細孔をこのように被覆し閉じるいくつかの細孔１８が図６に示される。したがって、流れの生じる断面１９は、それぞれの添加剤の要求に合致するように望ましく選択され得る。

コーティングの代わりに、広い意味でいうとメータリング部材を覆ってかぶされる多孔質のスリーブ設けることもできる。特にスリーブの使用により、流れの生じる断面１９を有するスリーブに影響を及ぼす汚染に関しては、その取扱いが容易になる。この場合には、このスリーブを置き換えることで十分である。この構成は、スリーブの再配置がより少ない時間しか必要とせず、ポリマー溶融物の中に添加剤を導入するための装置を短時間の中断後に再作動させることができるという、さらなる利点を有する。このスリーブは別個の清浄工程において汚染を除去できる。

また、細孔の内部に堆積している流体、粘性体、どろどろ体、又はペースト体による汚染を避けるために、コーティング（１１、１１１）は、ゴミの付着し難い材料の層、特に自浄性のナノ結晶構造の層を含むこともできる。

第１の実施例によるメータリング装置の長手方向断面図。 図１によるメータリング装置の半径方向断面図。 第２の実施例によるメータリング装置の長手方向断面図。 図３によるメータリング装置の半径方向断面図。 メータリング部材の断面図。 第２の実施例によるメータリング部材の断面図。

Claims (11)

1. 流体透過性材料又はガス透過性材料で作られたメータリング部材（２、１０２）と基材（３、１０３）とを含むメータリング装置（１、１０１）において、前記メータリング部材（２、１０２）が、
   ガス媒体又は流体媒体用の供給通路（５、１０７）に面する第１表面（４、１０６）と、
   粘性体又はペースト体の流れる通路領域（７、１０５）に面する第２表面（６、１０４）と、
   前記基材（３、１０３）内に前記メータリング部材を受け入れる窪み（９、１０９）に、少なくとも部分的に形状一致結合又は力伝達結合されるジャケット面（８、１０８）と
   を含み、それによって前記メータリング部材（２、１０２）は前記基材（３、１０３）に取り付けられて、流体導通部材（１３、１１３）を構成し、
   前記メータリング部材は、ガス媒体又は流体媒体が前記第１表面（４、１０６）から前記第２表面（６、１０４）まで流れることのできる細孔を形成する中空空間（１０、１１０）を有し、
   前記第２表面（６、１０４）は、前記メータリング部材（２、１０２）の内部への粘性体又はペースト体の流入を回避できるように、流れの生じる断面を小さくする手段（１１、１１１）を含むことを特徴とするメータリング装置。
2. 前記第２表面（６、１０４）における前記細孔の直径が、最大１０μｍ、好ましくは２〜３μｍ、とりわけ０．５μｍである、請求項１に記載されたメータリング装置。
3. 前記基材（３）が鋼である、請求項１又は請求項２に記載されたメータリング装置。
4. 前記流体透過性材料又は前記ガス透過性材料が、セラミック材料、又は任意で合金として形成された金属を含む、請求項１から請求項３までのいずれか１項に記載されたメータリング装置。
5. 前記手段がコーティング（１１、１１１）を含む、請求項１から請求項４までのいずれか１項に記載されたメータリング装置。
6. 前記コーティング（１１、１１１）が、金属及び／又はセラミックのコーティング材料を含む、請求項５に記載されたメータリング装置。
7. 前記コーティング（１１、１１１）が、ＰＶＤプロセスによって前記流体透過性材料又は前記ガス透過性材料に付着することのできる、請求項５又は請求項６に記載されたメータリング装置。
8. 前記コーティング（１１、１１１）が複数の層を含む、請求項５から請求項７までのいずれか１項に記載されたメータリング装置。
9. 少なくとも１つの層が、他の層と異なる組成を有する、請求項８に記載されたメータリング装置。
10. 流れの生じる前記断面が、前記手段（１１、１１１）によって、少なくとも１０％、好ましくは少なくとも１８％、とりわけ少なくとも３６％だけ小さくされることができる、請求項１から請求項９までのいずれか１項に記載されたメータリング装置。
11. 溶融物の中に添加剤を、とりわけポリマー溶融物の中に発泡剤を導入する、請求項１から請求項１０までのいずれか１項に記載されたメータリング装置の使用。

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