JP2008147206A5 - - Google Patents
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Claims (6)
- 基板上の複数のショット領域を露光する露光装置であって、
該基板上のショット領域内のアライメントマークの位置を計測する計測器と、
該基板上の複数のショット領域のうちの少なくとも２つのショット領域で構成されるサンプルショットセットを複数生成し、該複数のサンプルショットセットのそれぞれに関し、複数の計測条件のそれぞれで前記計測器に該アライメントマークの位置を計測させ、前記計測の結果に基づいて、該複数の計測条件及び該複数のサンプルショットセットの組み合わせのそれぞれに関して、ショット配列を算出し、該複数の計測条件のそれぞれに関し、該複数のサンプルショットセットに関してそれぞれ算出された該ショット配列のばらつきを算出する制御部と、
を備えることを特徴とする露光装置。 - 基板上の複数のショット領域を露光する露光装置であって、
該基板上のショット領域内のアライメントマークの位置を計測する計測器と、
該基板上の複数のショット領域のうちの少なくとも２つのショット領域で構成されるサンプルショットセットを複数生成し、該複数のサンプルショットセットのそれぞれに関し、複数の計測条件のそれぞれで前記計測器に該アライメントマークの位置を計測させ、前記計測の結果に基づいて、該複数の計測条件及び該複数のサンプルショットセットの組み合わせのそれぞれに関して、ショット配列を算出し、該複数の計測条件のそれぞれに関し、該複数のサンプルショットセットに関してそれぞれ算出された該ショット配列のばらつきを算出し、かつ、、該複数の計測条件に関してそれぞれ算出された該ばらつきの小ささに基づいて、該複数の計測条件から計測条件を選定する制御部と、
を備えることを特徴とする露光装置。 - 該複数の計測条件は、前記計測器に含まれる光学系の条件、前記計測器により用いられるアルゴリズム、及び該アライメントマークの形状の少なくとも一つが互いに異なることを特徴とする請求項１又は請求項２に記載される露光装置。
- 前記制御部は、該基板のロットにおける先頭の基板を用いて該複数の計測条件から計測条件を選定することを特徴とする請求項１乃至請求項３のいずれか１項に記載される露光装置。
- 前記制御部は、選定された該計測条件を、該アライメントマークの位置を計測する条件として決定することを特徴とする請求項１乃至請求項３のいずれか１項に記載される露光装置。
- 請求項１乃至請求項５のいずれか１項に記載される露光装置を用いて基板を露光する工程と、
前記工程で露光された基板を現像する工程とを備えることを特徴とするデバイス製造方法。
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