JP2008139476A - 集光光学系及びレーザ加工装置 - Google Patents
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Abstract
【解決手段】 レーザ光源で発生させたレーザ光を所望の焦点距離で集光させる集光光学系であって、次式(a)〜(d)を満たすように設計することで、3次及び5次の球面収差を発生させた。
(a)|Z8|≧0.1λ 又は |Z15|≧0.05λ、(b) Z8/Z15≧3 又は Z8/Z15<1、(c)|Z8|<1.4λ、(d)|Z15|<0.5λ
但し、λは波長、Z8は波面収差のゼルニケ・フリンジ多項式の係数のうち第8番目の係数で3次の球面収差に対応し、Z15は波面収差のゼルニケ・フリンジ多項式の係数のうち第15番目の係数で5次の球面収差に対応する。
【選択図】 図6
Description
本発明はこのような従来技術の問題点に鑑み、焦点前後における強度分布の断続化、及びスポットの強度低下という問題を招来することなく、スポットサイズが小さく、かつ焦点深度が長い集光光学系と、精密化、微細化かつ高出力が要求される加工に適応可能であると共に、焦点合わせが容易で厚い材料の加工が可能なレーザ加工装置を提供することを目的とする。
すなわち本発明は、レーザ光源で発生させたレーザ光を所望の焦点距離に集光させる集光光学系であって、球面収差を発生させるように構成されていることを特徴とする。上記本発明の集光光学系によれば、球面収差を発生させるように構成されていることで、これが焦点深度に影響を与え、集光スポットのサイズを小さくしたままで、長い焦点深度が得られる。また、従来の多焦点レンズのようにレーザ光の焦点が断続的につながれるものではなく、ベッセルビームとする必要もないため、焦点前後における強度分布の断続化、及びスポットの強度低下という問題を招かない。
(a)|Z8|≧0.1λ 又は |Z15|≧0.05λ
(b) Z8/Z15≧3 又は Z8/Z15<1
但し、λは波長、Z8は波面収差のゼルニケ・フリンジ多項式の係数のうち第8番目の係数で3次の球面収差に対応し、Z15は波面収差のゼルニケ・フリンジ多項式の係数のうち第15番目の係数で5次の球面収差に対応する
(c)|Z8|<1.4λ
(d)|Z15|<0.5λ
この場合、長焦点深度と小さいスポットサイズを維持したまま、高い強度を得ることができる。
上記本発明のレーザ加工装置によれば、集光光学系が球面収差を発生させるように構成されていることで、これが焦点深度に影響を与え、スポットサイズを小さくしたままで、長い焦点深度が得られる。また、従来の多焦点レンズのようにレーザ光の焦点が断続的につながれるものではなく、ベッセルビームとする必要もないため、焦点前後における強度分布の断続化、及びスポットの強度低下という問題を招かない。これにより、精密化、微細化かつ高出力が要求される加工に適応可能でると共に、焦点合わせが容易で厚い材料加工を行うことができる。
試作品2〜試作品11は、Z15=0、Z8/Z15=∞ で固定し、Z8を0.05λから1.20λへ除々に上げていき、−0.05λから−1.40λまで除々に下げたものである。
焦点深度をみると、Z8が0.05λでは81μmと短く(80μmを上回るが有意差が無いとの判断で試作品2の深度評価は×とした)、0.10λでは87μmと長くなり、これ以上になるとさらに長くなっていくことが認められる。また、Z8が−0.05λでは80μmと短く、−0.10λでは82μmと長くなり、これ以下になるとさらに長くなっていくことが認められる。
強度をみると、Z8が上がるに従って次第に低くなっていくことが認められるが、1.20λでは0.48という強度が維持されている。また、Z8が負になると、下がるに従って次第に低くなっていくことが認められるが、−1.4λでは0.47の強度が維持されている。
これらから、Z8に関しては、|Z8|≧0.1λという関係式を満たすことが長い焦点深度を得る条件となり、|Z8|<1.4λという関係式を満たすことが強度を維持するための条件となる。
試作品12〜試作品20は、Z8=0、Z8/Z15=0 で固定し、Z15を0.05λから0.50λへ除々に上げていき、−0.05λから−0.40λまで除々に下げたものである。
焦点深度をみると、Z15が0.05λと0.10λでは80μmと短く、0.20λでは115μmと長くなり、これ以上になるとさらに長くなっていくことが認められる。また、Z8が−0.05λでは85μmと長くなり、これ以下になるとさらに長くなっていくことが認められる。但し、Z15=0.05λ(試作品12)、0.10λ(試作品13)は、半値全幅は80μmであるが、半値よりも低い強度レベルでの長焦点深度化が認められるので、深度判定を○とした。
強度をみると、Z15が上がるに従って次第に低くなっていくことが認められるが、0.50λでは0.43という強度が維持されている。また、Z15が負になると、下がるに従って次第に低くなっていくことが認められるが、−0.40λでは0.48という強度が維持されている。
これらから、Z15に関しては、|Z15|≧0.05λという関係式を満たすことが長い焦点深度を得る条件となり、|Z15|<0.5λという関係式を満たすことが強度を維持するための条件となる。
試作品21〜試作品31は、Z15を上記で導いたZ15の条件である|Z15|≧0.05λ、|Z15|<0.5λを満たす−0.10λで固定し、さらに、上記で導いたZ8の条件である|Z8|≧0.1λ、|Z8|<1.4λを満たすことを前提として、Z8を−1.00λから0へ、0〜1.00λへ変えていき、Z8/Z15を10〜0、0〜−10の範囲で変化させたものである。
焦点深度をみると、Z8/Z15が10では145μmと長くなっており、Z8/Z15が下がるに従って短くなっていることが認められ、Z8/Z15が2と1では、80μm、82μmと短くなる(後者は80μmよりも長いが有意差は無いと判断されるので、試作品26の深度評価を×とした)。Z8/Z15が0になると88μmと長くなり、ここからZ8/Z15が上がるに従って次第に長くなっていくことが認められる。
強度をみると、Z8/Z15が10では0.62であり、Z8/Z15が10から1に向かって下がるに従って次第に高くなっていることが認められ、Z8/Z15が0から負へ下がるに従って次第に低くなっていくことが認められる。そして、Z8/Z15が−10では0.46の強度が維持されている。
これらから、Z8/Z15に関しては、Z8/Z15≧3 又は Z8/Z15<1という関係式を満たすことが長い焦点深度を得る条件となる。強度に関しては、上記の|Z15|<0.5λあるいは|Z8|<1.4λを満たしていればよい。
非球面レンズが、小さいスポットサイズのままで長い焦点深度を得るには、次式(a)及び(b)を満たすことが条件となり、スポットの強度低下を起こさないためには、次式(a)及び(b)に加え、さらに次式(c)及び(d)を満たす設計をすればよい。
(a)|Z8|≧0.1λ 又は |Z15|≧0.05λ
(b) Z8/Z15≧3 又は Z8/Z15<1
(c)|Z8|<1.4λ
(d)|Z15|<0.5λ
一方、単一の球面レンズの場合は、一般に球面収差が残存している。球面レンズは2つの面の形状の違いから平凸レンズ、両凸レンズ、メニスカレンズの3つに分類される(凸レンズの場合)。これら各球面レンズのZ8、Z15、Z8/Z15は、例えば図34に示すグラフのようになる。
上述した集光光学系を備えるレーザ加工光学装置1でプリント基板10に穴開け加工をする場合、レーザ発振器2により発生したレーザ光は、レーザ発振器2のシャッタにより放出され、レーザ発振器2の近傍に設けられた2枚のベントミラー4により進行方向が変えられ、非球面位相プレート7を通り、二枚のガルバノミラー8で偏向されてfθレンズ6へ導かれる。ガルバノミラー8を出射したレーザ光が、fθレンズ6で収束され当該fθレンズ6がもつ焦点距離に従ってプリント基板7に照射される。そして、ガルバノミラー8が、レーザ光の進行方向を振る(レーザ光を走査する)ことにより、プリント基板10上のレーザ光入射位置を変化させ、プリント基板10に複数の穴開け加工が行われる。
2 レーザ発信器
3 集光光学系
6 fθレンズ(第1の光学手段)
7 非球面位相プレート(第2の光学手段)
8 ガルバノミラー
10 プリント基板
Claims (9)
- レーザ光源で発生させたレーザ光を所望の焦点距離で集光させる集光光学系であって、
球面収差を発生させるように構成されていることを特徴とする集光光学系。 - 次式(a)及び(b)を満たす請求項1に記載の集光光学系。
(a)|Z8|≧0.1λ 又は |Z15|≧0.05λ
(b) Z8/Z15≧3 又は Z8/Z15<1
但し、λは波長、Z8は波面収差のゼルニケ・フリンジ多項式の係数のうち第8番目の係数で3次の球面収差に対応し、Z15は波面収差のゼルニケ・フリンジ多項式の係数のうち第15番目の係数で5次の球面収差に対応する - 更に、次式(c)及び(d)を満たす請求項2に記載の集光光学系。
(c)|Z8|<1.4λ
(d)|Z15|<0.5λ - 単一の非球面集光レンズ又は回折型集光レンズよりなる請求項1〜3のいずれか一項に記載の集光光学系。
- 複合光学系よりなる請求項1〜3のいずれか一項に記載の集光光学系。
- 前記複合光学系が、集光機能を有する第1の光学手段と、球面収差発生機能を有する第2の光学手段よりなる請求項5に記載の集光光学系。
- 前記第2の光学手段が、非球面位相プレート又は回折型位相プレートよりなる請求項6に記載の集光光学系。
- ポリゴンミラー又はガルバノミラーよりなるレーザ光偏向手段を備え、前記第1の光学手段がfθレンズである請求項6又は7に記載の集光光学系。
- レーザ光を発生させるレーザ発振器と、このレーザ発振器から出射される前記レーザ光を伝送する伝送光学系と、前記レーザ光を加工対象物の加工位置に集光させる請求項1〜8のいずれか一項に記載の集光光学系とを備えること特徴とするレーザ加工装置。
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