JP2008128568A - イナートガスオーブン - Google Patents
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Abstract
【解決手段】配設孔25aを囲むように緩衝材31を断熱壁25に密着させ、緩衝材31の開口を閉塞するように取付ベース32との間を隙間なく密着させて、取付ベース32の中央に配設孔25aと略同軸上にベース孔32aが形成した。また、取付ベース32に取付部材35によってモータ36を配設し、モータ36によって回転するシャフト37を取付ベース32に配設した磁性流体軸受33で支持して断熱壁25に形成された配設孔25aに遊挿し、シャフト37の端部に送風ファン38を取着した。
【選択図】図2
Description
図1は、イナートガスオーブンを側方から見た概略構成図である。イナートガスオーブンは、有機EL(OLED:Organic Light Emitting Diode)ディスプレイ等フラットパネルに用いられるガラス基板Wに付着した溶剤を高温環境下において揮発させる等の用途に用いられる。
制御装置50は、ガラス基板Wが載置されたカセット23が運び込まれた状態で、供給バルブ16及び排気ポンプ19を制御して、炉本体10内の外気を排気し、不活性ガスを吸気して、炉本体10内の雰囲気を不活性ガスで置換する。炉本体10内の雰囲気が不活性ガスで置換されると、制御装置50は、ヒータ21を制御してヒータ21の周辺の不活性ガスを温める。また、制御装置50は、送風装置30を駆動して炉本体10内の不活性ガスを循環させて炉本体10内の温度を均一にし、高温になった不活性ガスによってガラス基板Wに付着した溶剤を揮発させる。
(1)配設孔25aを囲むように緩衝材31を断熱壁25に密着させ、緩衝材31の開口を閉塞するように取付ベース32との間を隙間なく密着させて、取付ベース32の中央に配設孔25aと略同軸上にベース孔32aが形成した。また、取付ベース32に取付部材35によってモータ36を配設し、モータ36によって回転するシャフト37を取付ベース32に配設した磁性流体軸受33で支持して断熱壁25に形成された配設孔25aに遊挿し、シャフト37の端部に送風ファン38を取着した。シャフト37は、磁気シール40によってシールされているため、外部から内部への外気の流れが防止される。このため、炉本体10の外部に配設されたモータ36によって炉本体10内の送風ファン38を回転させることにより炉本体10内の不活性ガスを循環させても、炉本体10内への低温の外気の流入が抑制され、炉本体10内の温度を容易に制御できる。
尚、上記一実施形態は、以下の態様で実施してもよい。
・上記実施形態では、不活性ガスとして窒素を用いたが、これに限らず、例えばアルゴン等を用いてもよい。
Claims (5)
- 内部の雰囲気が不活性ガスで置換される処理室と、前記処理室内に配設され前記不活性ガスを加熱するヒータと、前記処理室の内外を連通するように該処理室の断熱壁に形成された配設孔と、前記配設孔を介して一部が前記処理室内に配設され、前記不活性ガスを前記処理室内で循環させる送風装置とを備えたイナートガスオーブンであって、
前記送風装置は、
前記配設孔の周囲を囲むように環状に形成され、前記断熱壁外側面に対して全周に亘って密着された支持部材と、
前記支持部材に密着された軸受と、
前記軸受に回転可能に支持され、前記配設孔に挿通されて先端が前記処理室内に配設されたシャフトと、
前記シャフトの先端に一体回転可能に取着された送風ファンと、
前記処理室の外側に配設され、前記シャフトを回転駆動するモータと、を備え、
前記軸受は、前記軸受と前記シャフトとの間をシールする磁気シールを有する、
ことを特徴とするイナートガスオーブン。 - 請求項1に記載のイナートガスオーブンにおいて、
前記支持部材は、
前記断熱壁の前記処理室外側面における前記配設孔を囲むように設けられ、前記断熱壁の熱的変形を許容する緩衝材と、
前記緩衝材に設けられ、前記軸受が密着される取付ベースと、
からなることを特徴とするイナートガスオーブン。 - 請求項1又は2に記載のイナートガスオーブンにおいて、
前記シャフトは前記モータの出力軸であることを特徴とするイナートガスオーブン。 - 請求項1〜3のうちのいずれか一項に記載のイナートガスオーブンにおいて、
前記軸受は、前記磁気シールよりも前記処理室の外側に配置され前記シャフトを支持するベアリングを備えたことを特徴とするイナートガスオーブン。 - 請求項1〜4のうちのいずれか一項に記載のイナートガスオーブンにおいて、
前記処理室内の温度を検出する温度センサと、
前記温度センサにおいて検出された温度と予め設定した設定温度とに基づいて前記ヒータの駆動を制御する制御装置と、
を備えたことを特徴とするイナートガスオーブン。
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