JP2008127565A

JP2008127565A - 透明な極性ポリマーのための加工助剤としての合成ワックス酸化生成物の使用

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Publication number: JP2008127565A
Application number: JP2007292463A
Authority: JP
Inventors: Udo Spitzer; シュピッツァーウド; Volker Schrenk; シュレンクフォルカー
Original assignee: Evonik Degussa GmbH
Current assignee: Evonik Operations GmbH
Priority date: 2006-11-25
Filing date: 2007-11-09
Publication date: 2008-06-05
Anticipated expiration: 2027-11-09
Also published as: DE102006055727A1; ATE476476T1; JP5156343B2; DE502007004627D1; CN101230146A; EP1925638B1; CN101230146B; US20080125530A1; DK1925638T3; EP1925638A2; EP1925638A3; ZA200710083B

Abstract

【課題】透明な極性ポリマーのための加工助剤としての合成ワックス酸化生成物の使用を提供する。
【解決手段】繰返単位の少なくとも６０％中にエステル基、アミド基、スルホン基およびイミド基から選択される基を少なくとも１つ有する極性ポリマーを含有する成形材料のための加工助剤として、ＡＳＴＭＤ６４７４−９９による高温ＧＰＣにより測定された数平均分子量Ｍ_nが３００〜１０００ｇ／ｍｏｌの範囲であり、ＤＩＮ５３４０２により測定された酸価が１５〜６０ｍｇＫＯＨ／ｇの範囲である合成ワックス酸化生成物を使用する。
【効果】成形材料の透明性が損なわれることなく、滑り摩擦係数が著しく低下し、ひいては離型作用ならびにＭＦＩ値が著しく改善される。またコイル、シリンダ、ノズルおよび型表面上の堆積物の形成が回避され、同時に、外観においても、積層の可能性においても優れた表面品質を有する物品が得られる。
【選択図】なし

Description

本発明は、ポリマー加工助剤としての合成ワックス酸化生成物の使用、該ワックスを含有する成形材料および成形部材に関する。

透明な極性ポリマー、たとえばポリカーボネート、ポリメチルメタクリレートまたは透明なポリアミドは、機械抵抗、良好な熱成形安定性および極めて良好な光学的特性、つまり特に高い透過率により優れている。従ってこれらはしばしば、これらの特別な特性が特に利用される適用分野、たとえばコンパクト・ディスクまたはＤＶＤの製造、メガネのレンズ、レンズおよびその他の光学的な物品または自動車のヘッドライトにおいて使用されている。

加工、特に射出成形法または押出成形法による加工を容易にするために、添加剤として潤滑剤および離型剤が必要とされるが、これらの添加剤は、透明性に否定的な影響を与えてはならない。通常はたとえばポリカーボネートの場合、高分子の脂肪酸エステル、たとえばテトラステアリン酸ペンタエリトリトールが使用される。これらは確かに相容性が比較的良好であるために、透明性に対してごくわずかに影響を与えるにすぎないことによって優れているが、しかしその潤滑作用および離型作用は必ずしも満足のいくものではない。

ＵＳ４，０９７，４３５には、離型剤としてのモンタンロウを添加することによりガラス繊維を含有するポリカーボネート成形材料を製造することができることが記載されている。該成形材料は有利には顔料を含有しており、これはおそらくモンタンロウの固有色を隠すためである。

合成固形パラフィン、つまり化学的な官能性を有していないポリエチレンワックスおよびフィッシャー・トロプシュ・ワックスは、潤滑剤および離型剤として、多数の異なったプラスチックの加工の際に使用されている。しかしこれらは従来、透明な極性ポリマー中ではほとんど使用されていなかった。というのも、該ワックスは確かに良好な離型作用を有しているが、しかし、たとえば透明なポリカーボネートの濁りにつながるからである。

エステル化されたワックス酸化生成物は、硬質ＰＶＣにおける潤滑剤および離型剤として適切である（ＥＰ−Ａ−０４９８４１７、ＥＰ−Ａ−０１７００１４およびＥＰ−Ａ−０１７２３３９）。これらはその他の極性ポリマー、たとえばポリカーボネートの場合に、同様に滑り摩擦係数の低減ひいては離型作用の改善をもたらすが、しかしこの場合、その使用は明らかな濁りにもつながる。部分鹸化された合成ワックス酸化生成物は加工の際にすでに０．２５質量％を越える割合でポリカーボネートの黄変および分解につながる。

ＷＯ２００５／０７５１９０には、極性の透明なポリマー、たとえばＰＭＭＡ、ポリカーボネート、ポリエステル、ポリアミド、ポリエーテルスルホン、ポリイミドなどのために、多数の潤滑剤が挙げられている。離型作用についての詳細は記載されていない。
ＵＳ４，０９７，４３５ＥＰ−Ａ−０４９８４１７ＥＰ−Ａ−０１７００１４ＥＰ−Ａ−０１７２３３９ＷＯ２００５／０７５１９０

従って本発明の課題は、加工される極性ポリマーの透明性に否定的な影響を与えることなく、官能化されていない合成固形パラフィンの良好な離型作用および潤滑作用を達成する潤滑剤および離型剤を提供することである。

前記課題は本発明により、ＡＳＴＭＤ６４７４−９９による高温ＧＰＣにより測定して、３００〜１０００ｇ／ｍｏｌの範囲の、有利には４００〜８００ｇ／ｍｏｌの範囲の数平均分子量Ｍ_n、ならびにＤＩＮ５３４０２により測定して、１５〜６０ｍｇＫＯＨ／ｇの範囲の、および有利には２０〜５０ｍｇＫＯＨ／ｇの範囲の酸価を有する合成ワックス酸化生成物を、極性ポリマーを含有する成形材料のための加工助剤として使用することにより解決され、この場合、該極性ポリマーは、繰り返し単位の少なくとも６０％に、エステル基、アミド基、スルホン基およびイミド基から選択される少なくとも１つの基を有する。本発明によるポリマーおよび０．０５〜１．５質量％の合成ワックス酸化生成物を含有する成形材料、ならびに本発明による成形材料から製造された成形部材、特に光学用の適用のために適切な成形部材は、同様に本発明の対象である。

ワックス酸化生成物は、ワックス酸化生成物を含有する成形材料に対して、一般に０．０５〜１．５質量％、有利には０．１〜１質量％、特に有利には０．１２〜０．８質量％およびとりわけ有利には０．１５〜０．６質量％の量で成形材料に添加される。

合成ワックス酸化生成物の製造は、従来技術である。これらは通常、溶融した固形パラフィンに１２０〜２５０℃で、および特に１３０〜１８０℃で、有利には金属触媒または自体固形パラフィン酸化生成物である接種材料の存在下に、空気を吹き込むことにより製造される。本発明の範囲で、特にフィッシャー・トロプシュ法により製造された合成固形パラフィン、ならびにたとえば１２００ｇ／ｍｏｌ（ＡＳＴＭＤ６４７４−９９による高温ＧＰＣからの数平均Ｍ_n）よりも小さい、適切な低い分子量を有するポリエチレン固形パラフィンが適切である。

極性ポリマー中で、本発明による基は、主鎖中に存在するか、または主鎖上に存在していてもよい。本発明によるエステル基を有するポリマーは、たとえばポリカーボネート（炭酸のエステル）、ポリエステルカーボネート、熱可塑性ポリエステルまたはポリアルキル（メタ）アクリレートである。

本発明によるアミド基を有するポリマーは、たとえばポリアミド、ポリアミドイミドおよびポリエステルアミドであり、他方、本発明によるスルホン基を有するポリマーは、たとえばポリスルホンであってよい。本発明によるイミド基を有するポリマーは、ポリイミド、ポリグルタルイミドおよびポリエーテルイミドである。本発明によるポリマーは、成形材料中に、通常少なくとも５０質量％まで、有利には少なくとも６０質量％まで、特に有利には少なくとも７０質量％まで、および特に有利には少なくとも８０質量％まで含有されている。

本発明により適切なポリカーボネートは、ジフェノールの炭酸ジエステルである単位を有している。このようなジフェノールはたとえば次のものである：ヒドロキノン、レゾルシン、ジヒドロキシビフェニル、ビス−（ヒドロキシフェニル）−アルカン、ビス−（ヒドロキシフェニル）−シクロアルカン、ビス−（ヒドロキシフェニル）−スルフィド、ビス−（ヒドロキシフェニル）−エーテル、ビス−（ヒドロキシフェニル）−ケトン、ビス−（ヒドロキシフェニル）−スルホン、ビス−（ヒドロキシフェニル）−スルホキシド、α，α′−ビス−（ヒドロキシフェニル）−ジイソプロピルベンゼンならびにこれらの環アルキル化された、もしくは環ハロゲン化された誘導体またはα，ω−ビス−（ヒドロキシフェニル）−ポリシロキサン。

有利なジフェノールはたとえば４，４′−ジヒドロキシビフェニル、２，２−ビス−（４−ヒドロキシフェニル）−プロパン（ビスフェノールＡ）、１，１−ビス−（４−ヒドロキシフェニル）−３，３，５−トリメチルシクロヘキサン、１，１−ビス−（４−ヒドロキシフェニル）−シクロヘキサン、２，４−ビス−（４−ヒドロキシフェニル）−２−メチルブタン、１，１−ビス−（４−ヒドロキシフェニル）−１−フェニルエタン、１，１−ビス−（４−ヒドロキシフェニル）−ｐ−ジイソプロピルベンゼン、１，３−ビス−［２−（４−ヒドロキシフェニル）−２−プロピル］ベンゼン、２，２−ビス−（３−メチル−４−ヒドロキシフェニル）−プロパン、２，２−ビス−（３−クロロ−４−ヒドロキシフェニル）−プロパン、ビス−（３，５−ジメチル−４−ヒドロキシフェニル）−メタン、２，２−ビス−（３，５−ジメチル−４−ヒドロキシフェニル）−プロパン、ビス−（３，５−ジメチル−４−ヒドロキシフェニル）−スルホン、２，４−ビス−（３，５−ジメチル−４−ヒドロキシフェニル）−２−メチルブタン、２，２−ビス−（３，５−ジクロロ−４−ヒドロキシフェニル）−プロパンおよび２，２−ビス−（３，５−ジブロモ−４−ヒドロキシフェニル）−プロパンである。

ジフェノールは、単独でも、ジフェノール同士の混合物としても使用することができる。これらは文献から公知であるか、または文献から公知の方法により製造可能である（たとえばＨ．Ｊ．Ｂｕｙｓｃｈ等、Ｕｌｌｍａｎｎ’ｓＥｎｃｙｃｌｏｐｅｄｉａｏｆＩｎｄｕｓｔｒｉａｌＣｈｅｍｉｓｔｒｙ、ＶＣＨ、ＮｅｗＹｏｒｋ１９９１年、第５版、第１９巻、第３４８頁を参照のこと）。

本発明により使用されるポリカーボネートは、公知の方法により、たとえば相界面法により、または溶融エステル交換法により製造される。該カーボネートは、５０００ｇ／ｍｏｌ〜２０００００ｇ／ｍｏｌ、有利には１００００ｇ／ｍｏｌ〜８００００ｇ／ｍｏｌおよび特に有利には１５０００ｇ／ｍｏｌ〜４００００ｇ／ｍｏｌの質量平均分子量Ｍ_w（ゲル透過クロマトグラフィーにより、ポリスチレン標準液を用いた較正で測定）を有する。

ポリカーボネート成形材料はさらに、全ポリマーベースに対して、５０質量％未満まで、有利には４０質量％未満まで、特に有利には３０質量％未満まで、および特に有利には２０質量％未満まで、その他のポリマー、たとえばポリエチレンテレフタレート、ポリブチレンテレフタレート、シクロヘキサンジメタノール、エチレングリコールおよびテレフタル酸から成るポリエステル、シクロヘキサンジメタノールおよびシクロヘキサンジカルボン酸からなるポリエステル、ポリアルキル（メタ）アクリレート、ＳＡＮ、スチレン（メタ）アクリレート−コポリマー、ポリスチレン（非晶質またはシンジオタクチック）、ポリエーテルイミド、ポリイミド、ポリスルホンおよび／またはポリアクリレート（たとえばビスフェノールＡおよびイソフタル酸／テレフタル酸をベースとする）を含有していてよい。

ポリエステルカーボネートは、少なくとも１のジフェノールから、少なくとも１の芳香族ジカルボン酸から、および炭酸から構成されている。ジフェノールとして、ポリカーボネートと同一のジフェノールが適切である。芳香族ジカルボン酸および炭酸に由来する割合の合計に対する、芳香族ジカルボン酸に由来する割合は、最大で９９．９ｍｏｌ％、最大で９５ｍｏｌ％、最大で９０ｍｏｌ％、最大で８５ｍｏｌ％、最大で８０ｍｏｌ％もしくは最大で７５ｍｏｌ％であり、他方、その最小割合は、０．１ｍｏｌ％、５ｍｏｌ％、１０ｍｏｌ％、１５ｍｏｌ％、２０ｍｏｌ％または２５ｍｏｌ％である。適切な芳香族のジカルボン酸はたとえばオルトフタル酸、テレフタル酸、イソフタル酸、ｔ−ブチルイソフタル酸、３，３′−ジフェニルジカルボン酸、４，４′−ジフェニルエーテルジカルボン酸、４，４′−ジフェニルスルホンジカルボン酸、３，４′−ベンゾフェノンジカルボン酸、２，２−ビス−（４−カルボキシフェニル）−プロパンおよびトリメチル−３−フェニルインダン−４，５−ジカルボン酸である。これらの中から、有利にはテレフタル酸および／またはイソフタル酸を使用する。

適切な熱可塑性ポリエステルは有利には、完全芳香族または混合された脂肪族／芳香族で構成されている。前者の場合には、これはポリアクリレートであり、該ポリアクリレートはジフェノールおよび芳香族ジカルボン酸から製造される。ジフェノールとしてポリカーボネートのためのものと同一のジフェノールが適切であり、他方、ジカルボン酸として、ポリエステルカーボネートのためのものと同一のジカルボン酸が適切である。後者の場合、ポリエステルは１もしくは複数の芳香族ジカルボン酸ならびに１もしくは複数のジオールから誘導される。たとえばこれはポリエチレンテレフタレートであるか、またはテレフタル酸、１，４−シクロヘキサンジメタノールおよびエチレングリコールからなるコポリエステルである。

ポリアルキル（メタ）アクリレートとして、第一に、アルキル基の炭素鎖中に１〜６個の炭素原子を有するものが適切であり、その際、アルキル基としてメチル基が有利である。ポリアルキル（メタ）アクリレートは、通常、ＩＳＯ１１３３により２３０℃および３．８ｋｇの負荷で測定して０．５〜３０ｇ／１０分、有利には０．８〜１５ｇ／１０分のメルトフローインデックスを有している。例として特にポリメチルメタクリレートおよびポリブチルメタクリレートが挙げられる。あるいはまたポリアルキル（メタ）アクリレートのコポリマーも使用することができる。たとえば、アルキル（メタ）アクリレートの４０質量％まで、有利には３０質量％まで、および特に有利には２０質量％までが、その他のモノマー、たとえば（メタ）アクリル酸、スチレン、アクリロニトリル、アクリルアミド等により代えられていてもよい。成形材料は、たとえばこのような成形材料に通例のコア／シェルゴムの添加により耐衝撃性に調整されていてもよい。さらに、５０質量％未満まで、有利には最大で４０質量％まで、特に有利には最大で３０質量％未満まで、および特に有利には最大で２０質量％未満までがその他の熱可塑性プラスチック、たとえばＳＡＮ（スチレン／アクリロニトリルコポリマー）および／またはポリカーボネートが含有されていてもよい。

適切なポリアミドは有利には、透明なポリアミドである。このための例は以下のポリアミドである：
− １，１２−ドデカン二酸および４，４′−ジアミノジシクロヘキシルメタンからなるポリアミド、
− テレフタル酸および／またはイソフタル酸および２，２，４−トリメチルヘキサンメチレンジアミンと２，４，４−トリメチルヘキサメチレンジアミンとからなる異性体混合物からなるポリアミド、
− イソフタル酸および１，６−ヘキサメチレンジアミンからなるポリアミド、
− テレフタル酸／イソフタル酸からなる混合物および１，６−ヘキサメチレンジアミンからなるコポリアミド、場合により４，４′−ジアミノジシクロヘキシルメタンとの混合物として、
− テレフタル酸および／またはイソフタル酸、３，３′−ジメチル−４，４′−ジアミノジシクロヘキシルメタンおよびラウリンラクタムまたはカプロラクタムからなるコポリアミド、
− １，１２−ドデカン二酸またはセバシン酸、３，３′−ジメチル−４，４′−ジアミノジシクロヘキシルメタンおよび場合によりラウリンラクタムまたはカプロラクタムからなる（コ）ポリアミド、
− イソフタル酸、４，４′−ジアミノジシクロヘキシルメタンおよびラウリンラクタムまたはカプロラクタムからなるコポリアミド、
− １，１２−ドデカン二酸および４，４′−ジアミノジシクロヘキシルメタンからなる（低いトランス，トランス−異性体割合で）からなるポリアミド、
− テレフタル酸および／またはイソフタル酸ならびにアルキル置換されたビス（４−アミノシクロヘキシル）メタン−同族体からなるコポリアミド、場合によりヘキサメチレンジアミンとの混合物として、
− ビス（４−アミノ−３−メチル−５−エチル−シクロヘキシル）メタンからなるコポリアミド、場合によりその他のジアミンならびにイソフタル酸と一緒に、場合によりその他のジカルボン酸と一緒に、
− ｍ−キシリレンジアミンおよびその他のジアミン、たとえばヘキサメチレンジアミンならびにイソフタル酸からなるコポリアミド、場合により別のジカルボン酸、たとえばテレフタル酸および／または２，６−ナフタリンジカルボン酸と一緒に、
− ビス（４−アミノ−シクロヘキシル）メタンおよびビス−（４−アミノ−３−メチル−シクロヘキシル）メタンならびに８〜１４個の炭素原子を有する脂肪族ジカルボン酸の混合物からなるコポリアミドならびに
− １，１４−テトラデカン二酸ならびに芳香族、アリール脂肪族または脂環式のジアミンを含有する混合物からなるポリアミドまたはコポリアミド。

これらの例は、その他の成分（たとえばカプロラクタム、ラウリンラクタムまたはジアミン／ジカルボン酸の組み合わせ）の添加により、または出発成分を部分的に、もしくは完全にその他の成分により代用することにより広い範囲で変化してもよい。

前記の、ならびにその他の適切な、ほぼ非晶質のポリアミドならびに適切な製造方法は特に、以下の特許出願に記載されている：ＷＯ０２０９０４２１、ＥＰ−Ａ−０６０３８１３、ＤＥ−Ａ３７１７９２８、ＤＥ−Ａ１０００９７５６、ＤＥ−Ａ１０１２２１８８、ＤＥ−Ａ１９６４２８８５、ＤＥ−Ａ１９７２５６１７、ＤＥ−Ａ１９８２１７１９、ＤＥ−Ｃ１９８４１２３４、ＥＰ−Ａ−１１３００５９、ＥＰ−Ａ１３６９４４７、ＥＰ−Ａ１５９５９０７、ＣＨ−Ｂ−４８０３８１、ＣＨ−Ｂ−６７９８６１、ＤＥ−Ａ−２２２５９３８、ＤＥ−Ａ−２６４２２４４、ＤＥ−Ａ−２７４３５１５、ＤＥ−Ａ−２９３６７５９、ＤＥ−Ａ−２７３２９２８、ＤＥ−Ａ−４３１０９７０、ＥＰ−Ａ−００５３８７６、ＥＰ−Ａ−０２７１３０８、ＥＰ−Ａ−０３１３４３６、ＥＰ−Ａ−０７２５１００およびＥＰ−Ａ−０７２５１０１。

適切なポリスルホンは通常、ビスフェノール／二ハロゲン化ジアリールスルホン混合物を非プロトン性溶剤中、塩基、たとえば炭酸ナトリウムの存在下に重縮合することにより製造される。ビスフェノールとしてたとえば、ポリカーボネートの製造のためにも適切なビスフェノール、特にビスフェノールＡ、４，４′−ジヒドロキシジフェニルスルホン、４，４′−ジヒドロキシジフェニルおよびヒドロキノンを使用することができ、その際、種々のビスフェノールからなる混合物を使用することもできる。二ハロゲン化化合物は、多くの場合、４，４′−ジクロロジフェニルスルホンである。あるいはまた、ハロゲンがパラ位のスルホン基により活性化されている、それぞれのその他の二ハロゲン化化合物を使用することもできる。ハロゲンとして、塩素以外にフッ素もまた適切である。「ポリスルホン」という概念は、通常「ポリエーテルスルホン」または「ポリフェニレンスルホン」とよばれているポリマーも含む。適切なタイプは市販されている。

ポリイミドは、公知の方法でテトラカルボン酸またはその無水物およびジアミンから製造される。テトラカルボン酸および／またはジアミンがエーテル基を有する場合、ポリエーテルイミドが生じる。特に適切なエーテル基含有テトラカルボン酸は、化合物Ｉであり、ここから芳香族ジアミンと一緒に、非晶質のポリエーテルイミドが得られ、このポリエーテルイミドは市販されている。

その他の適切なポリイミドは、ポリグルタルイミドであり、これはしばしばポリアクリルアミドまたはポリメタクリルイミドともよばれている。これは、ポリアルキルアクリレートもしくはポリアルキルメタクリレートから出発する生成物であり、この場合、２つの隣接したカルボキシレート基が１つの環式酸イミドへと反応している。イミドの形成は有利にはアンモニアもしくは第一アミン、たとえばメチルアミンを用いて実施される。生成物ならびにその製造は公知である（ＨａｎｓＲ．Ｋｒｉｅｃｈｅｌｄｏｒｆ、ＨａｎｄｂｏｏｋｏｆＰｏｌｙｍｅｒＳｙｎｔｈｅｓｉｓ、パートＡ、ＭａｒｃｅｌＤｅｋｋｅｒ出版社、ＮｅｗＹｏｒｋ−Ｂａｓｅｌ−Ｈｏｎｇｋｏｎｇ、第２２３頁、Ｈ．Ｇ．Ｅｌｉａｓ、Ｍａｋｒｏｍｏｌｅｋｕｅｌｅ、ＨｕｅｔｈｉｇｕｎｄＷｅｐｆ出版社、Ｂａｓｅｌ−Ｈｅｉｄｅｌｂｅｒｇ−ＮｅｗＹｏｒｋ、ＵＳ２，１４６，２０９Ａ、ＵＳ４，２４６，３７４）。

本発明によるポリマーの場合、繰返単位の最大４０％がその他の構成であってもよい。重縮合物はこの場合、オキシアルキレン基またはシロキサン基であってよい。たとえばここで二官能性のポリエチレンオキシドブロック、ポリプロピレンオキシドブロック、ポリテトラヒドロフランブロックまたはポリジメチルシロキサンブロックがポリマー鎖に組み込まれていてもよい。

本発明による成形材料は、その他の慣用の助剤または添加剤、たとえば安定剤、加工助剤、難燃剤、可塑剤、帯電防止剤、等屈折性(isorefractive)充填剤または強化充填剤、等屈折性耐衝撃性改善剤、透明性を顕著に損なうことのない着色剤、流動化剤または透明性を顕著に損なうことのないその他のポリマーを含有していてもよい。全ての助剤および添加剤の量は、合計で最大５０質量％、有利には最大４０質量％、特に有利には最大３０質量％、および特に有利には最大２０質量％である。

本発明による使用の場合、加工される成形材料の透明性が否定的な影響を受けることなく、滑り摩擦係数が著しく低下し、ひいては離型作用ならびにＭＦＩ値が著しく改善される。たとえば本発明による系、つまり本発明による成形材料により製造された成形部材は、層厚さ３．５ｍｍの場合、透過曲線の３８０〜８００ｎｍの可視スペクトルの範囲内で、少なくとも３０％、および有利には少なくとも３５％、４０％、４５％、５０％、５５％、６０％、６５％、７０％、７５％もしくは８０％の極大を有し、その際、透過率は射出成形された板を用いてＡＳＴＭＤ１００３により測定される。

意外なことに本発明による加工助剤によりさらに、スクリュー、シリンダ、ノズルおよび型の表面上の堆積物の形成が回避される。同時に、外観からも、積層の可能性の観点においても優れた表面品質を有する物品が得られる。たとえば耐引掻性の層を光学レンズに設けることができる。ＣＤおよびＤＶＤには、場合により着色層、ならびに反射性金属層が設けられる。その他の場合には保護層または装飾層は、保護フィルムまたは装飾フィルムの多成分射出成形、真空成形(Hinterspritzen)、プレス成形、積層成形、逆圧成形等により施与される。これらの全ての場合において、加工助剤による付着性の低減は観察されない。

有利な実施態様では、得られる成形部材を光学用の適用のために使用する。このための例は、光学記憶装置、たとえばＣＤおよびＤＶＤ、散乱板、ヘッドライトレンズ、テールライトレンズ、レンズ、プリズム、メガネ用レンズ、ディスプレイ、ディスプレイのための装飾部材、任意の種類の板ならびに携帯電話のケーシングである。

当業者であれば、さらに詳細な記載がなくても、上記の記載を最も広い範囲で利用することができることが前提とされる。従って有利な実施態様および例は、単に本願発明を記載するために開示するものであって、いずれの場合でも何らかの限定としての開示であるととらえるべきではない。

以下に本発明を実施例に基づいて詳細に説明する。本発明の代替的な実施態様は、同様の方法で達成される。実施例および比較例では、以下の材料を使用した：
ＰＣ：市販のポリカーボネート（Ｍａｋｒｏｌｏｎ（登録商標）２８０８、ＢａｙｅｒＭａｔｅｒｉａｌＳｃｉｅｎｃｅ）
ＰＥＴＳ（本発明によらない）：テトラステアリン酸ペンタエリトリトール
ワックス１およびワックス２（本発明によらない）：合成固形パラフィン、データは第１表を参照のこと。

ワックス３〜ワックス７：合成ワックス酸化生成物、データは第１表を参照のこと。

例１および例２ならびに比較例１〜５：
ポリカーボネートおよび０．４質量％の加工助剤から、溶融液の混合によってコンパウンドを製造した。引き続き該コンパウンドを、射出成形法により板へと加工した（４０ｍｍ×２０ｍｍ×３．５ｍｍ）。この板を用いて透明性を評価し、かつ滑り摩擦係数を測定し、ここから離型作用を推論することができる。結果は第１表に記載されている。この場合、透明性は以下のとおりに評価される：
＋清澄、濁りなし
０いくつかの縞模様、わずかな濁り
０／− 著しい濁り
− 極めて顕著な濁り
これらの例は、本発明によるワックス酸化生成物は、通例の離型剤、たとえばＰＥＴＳに関して典型的な良好な透明性が維持されたが、しかし明らかに離型作用が高まったことを示している。

Claims

繰返単位の少なくとも６０％中にエステル基、アミド基、スルホン基およびイミド基から選択される基を少なくとも１つ有する極性ポリマーを含有する成形材料のための加工助剤としての、ＡＳＴＭＤ６４７４−９９による高温ＧＰＣにより測定された数平均分子量Ｍ_nが３００〜１０００ｇ／ｍｏｌの範囲であり、ならびにＤＩＮ５３４０２により測定された酸価が１５〜６０ｍｇＫＯＨ／ｇの範囲である合成ワックス酸化生成物の使用。
前記ワックス酸化生成物の数平均分子量が、４００〜８００ｇ／ｍｏｌの範囲であることを特徴とする、請求項１記載の使用。
前記ワックス酸化生成物の酸価が、２０〜５０ｍｇＫＯＨ／ｇの範囲であることを特徴とする、請求項１または２記載の使用。
前記ワックス酸化生成物を、０．０５〜１．５質量％までの量で成形材料に添加することを特徴とする、請求項１から３までのいずれか１項記載の使用。
前記ワックス酸化生成物は、フィッシャー・トロプシュ・ワックスの酸化またはポリエチレン固形パラフィンの酸化により製造されたものであることを特徴とする、請求項１から４までのいずれか１項記載の使用。
極性ポリマーが、ポリカーボネート、ポリエステルカーボネート、熱可塑性ポリエステル、ポリアルキル（メタ）アクリレート、ポリアミド、ポリアミドイミド、ポリエステルアミド、ポリスルホン、ポリイミド、ポリグルタルイミドまたはポリエーテルイミドであることを特徴とする、請求項１から５までのいずれか１項記載の方法。
請求項１から６までのいずれか１項記載のポリマーならびに請求項１から６までのいずれか１項記載の合成ワックス酸化生成物０．０５〜１．５質量％を含有する成形材料。
請求項７記載の成形材料から製造される、光学用の適用のために適切な成形部材。
透過曲線の３８０〜８００ｎｍの可視スペクトル内で、層厚さ３．５ｍｍの場合に、少なくとも３０％および有利には少なくとも３５％、４０％、４５％、５０％、５５％、６０％、６５％、７０％、７５％もしくは８０％の極大を有し、その際、透過率は、射出成形した板を用いてＡＳＴＭＤ１００３により測定されることを特徴とする、請求項８記載の成形部材。