JP2008116517A5 - - Google Patents

Download PDF

Info

Publication number
JP2008116517A5
JP2008116517A5 JP2006297284A JP2006297284A JP2008116517A5 JP 2008116517 A5 JP2008116517 A5 JP 2008116517A5 JP 2006297284 A JP2006297284 A JP 2006297284A JP 2006297284 A JP2006297284 A JP 2006297284A JP 2008116517 A5 JP2008116517 A5 JP 2008116517A5
Authority
JP
Japan
Prior art keywords
film
semi
transmissive
pattern
forming
Prior art date
Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
Granted
Application number
JP2006297284A
Other languages
English (en)
Japanese (ja)
Other versions
JP4809752B2 (ja
JP2008116517A (ja
Filing date
Publication date
Application filed filed Critical
Priority to JP2006297284A priority Critical patent/JP4809752B2/ja
Priority claimed from JP2006297284A external-priority patent/JP4809752B2/ja
Publication of JP2008116517A publication Critical patent/JP2008116517A/ja
Publication of JP2008116517A5 publication Critical patent/JP2008116517A5/ja
Application granted granted Critical
Publication of JP4809752B2 publication Critical patent/JP4809752B2/ja
Active legal-status Critical Current
Anticipated expiration legal-status Critical

Links

JP2006297284A 2006-11-01 2006-11-01 中間調フォトマスク及びその製造方法 Active JP4809752B2 (ja)

Priority Applications (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP2006297284A JP4809752B2 (ja) 2006-11-01 2006-11-01 中間調フォトマスク及びその製造方法

Applications Claiming Priority (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP2006297284A JP4809752B2 (ja) 2006-11-01 2006-11-01 中間調フォトマスク及びその製造方法

Related Child Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
JP2011147602A Division JP2011186506A (ja) 2011-07-01 2011-07-01 中間調フォトマスク

Publications (3)

Publication Number Publication Date
JP2008116517A JP2008116517A (ja) 2008-05-22
JP2008116517A5 true JP2008116517A5 (fr) 2010-11-04
JP4809752B2 JP4809752B2 (ja) 2011-11-09

Family

ID=39502516

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
JP2006297284A Active JP4809752B2 (ja) 2006-11-01 2006-11-01 中間調フォトマスク及びその製造方法

Country Status (1)

Country Link
JP (1) JP4809752B2 (fr)

Families Citing this family (8)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP5044262B2 (ja) * 2007-04-10 2012-10-10 株式会社エスケーエレクトロニクス 多階調フォトマスク及びその製造方法
JP5219201B2 (ja) * 2008-07-31 2013-06-26 Hoya株式会社 フォトマスク、フォトマスク用ブランク、フォトマスクの製造方法、及びパターン転写方法
TW201030451A (en) * 2008-09-30 2010-08-16 Hoya Corp Multi-tone photomask and method of manufacturing the same
TWI502623B (zh) * 2010-01-07 2015-10-01 Hoya Corp 光罩之製造方法、光罩、及顯示裝置之製造方法
JP2011215197A (ja) 2010-03-31 2011-10-27 Hoya Corp フォトマスク及びその製造方法
JP6117559B2 (ja) * 2013-02-05 2017-04-19 株式会社エスケーエレクトロニクス フォトマスク及びそのフォトマスクの製造方法
JP2015212720A (ja) * 2014-05-01 2015-11-26 Hoya株式会社 多階調フォトマスクの製造方法、多階調フォトマスク及び表示装置の製造方法
KR102294311B1 (ko) * 2014-12-24 2021-08-26 엘지디스플레이 주식회사 유기발광표시패널 및 유기발광표시장치

Family Cites Families (16)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPS52127170A (en) * 1976-04-19 1977-10-25 Fujitsu Ltd Mask for patterning
JPS607381B2 (ja) * 1977-05-04 1985-02-23 松下電器産業株式会社 ホトマスクパタ−ン形成法
JPH05188578A (ja) * 1992-01-08 1993-07-30 Seiko Epson Corp フォトマスク、及び、半導体装置の製造方法
JP3115185B2 (ja) * 1993-05-25 2000-12-04 株式会社東芝 露光用マスクとパターン形成方法
JPH0749410A (ja) * 1993-08-06 1995-02-21 Dainippon Printing Co Ltd 階調マスク及びその製造方法
JPH07319148A (ja) * 1994-05-20 1995-12-08 Fujitsu Ltd フォトマスクおよびその作製方法
JPH08123007A (ja) * 1994-10-18 1996-05-17 Fujitsu Ltd 位相シフトレチクル
JP3429125B2 (ja) * 1995-12-21 2003-07-22 沖電気工業株式会社 位相シフトマスク及びそのマスクを用いたレジストパターンの形成方法
KR100215850B1 (ko) * 1996-04-12 1999-08-16 구본준 하프톤 위상 반전 마스크 및_그제조방법
JP3446943B2 (ja) * 1998-09-21 2003-09-16 大日本印刷株式会社 描画用アライメントマークを有する位相シフトマスク
JP2005091855A (ja) * 2003-09-18 2005-04-07 Dainippon Printing Co Ltd 階調マスクの製造方法
JP4521694B2 (ja) * 2004-03-09 2010-08-11 Hoya株式会社 グレートーンマスク及び薄膜トランジスタの製造方法
JP4475510B2 (ja) * 2004-06-25 2010-06-09 Hoya株式会社 リソグラフィーマスクの製造方法、リソグラフィーマスク、及びリソグラフィーマスクの露光方法
JP4587837B2 (ja) * 2005-02-18 2010-11-24 Hoya株式会社 グレートーンマスクの製造方法及びグレートーンマスク
JP4693451B2 (ja) * 2005-03-22 2011-06-01 Hoya株式会社 グレートーンマスクの製造方法及び薄膜トランジスタ基板の製造方法
JP2007279710A (ja) * 2006-03-16 2007-10-25 Hoya Corp パターン形成方法及びグレートーンマスクの製造方法

Similar Documents

Publication Publication Date Title
JP2008116517A5 (fr)
JP2015212826A5 (fr)
JP2009042753A5 (fr)
JP2013134435A5 (fr)
EP2881790A3 (fr) Ébauche de photomasque
KR102126110B1 (ko) 필름 마스크, 이의 제조방법, 이를 이용한 패턴 형성 방법 및 이를 이용하여 형성된 패턴
KR102089835B1 (ko) 필름 마스크, 이의 제조방법 및 이를 이용한 패턴 형성 방법
JP2005345737A5 (fr)
TW200733375A (en) Semiconductor device and manufacturing method thereof
WO2011037323A3 (fr) Polariseur à double couche de grille de fil et à transmission élevée des ultraviolets pour fabriquer une couche de photo-alignement et son procédé de fabrication
TW200600963A (en) Gray scale mask and method of manufacturing the same
JP2007103915A5 (fr)
KR101333899B1 (ko) 다계조 포토마스크, 다계조 포토마스크의 제조 방법, 패턴 전사 방법 및 박막 트랜지스터의 제조 방법
JP2008209873A5 (fr)
JP2006268035A5 (fr)
KR101895122B1 (ko) 포토마스크의 제조 방법, 포토마스크 및 표시 장치의 제조 방법
JP2011215197A5 (fr)
JP2010276724A5 (fr)
JP2006267262A5 (fr)
TWI617876B (zh) 光罩之製造方法、光罩、及顯示裝置之製造方法
JP2017026701A5 (fr)
JP2010198103A5 (fr)
JP2015212720A5 (fr)
TWI585514B (zh) 光罩之製造方法、光罩及顯示裝置之製造方法
JP2007183591A (ja) マスクブランクおよび階調マスク