JP2008109049A - 光検出回路、半導体集積装置および光検出装置 - Google Patents

光検出回路、半導体集積装置および光検出装置 Download PDF

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Abstract

【課題】フォトダイオードにかかるバイアス電圧や出力電圧を任意の値に設定できる光検出回路、半導体集積装置および光検出装置を提供する。
【解決手段】フォトダイオード11から出力された光電変換信号がベースb1に入力される第1トランジスタQ1と、ベースb2がコレクタc1に接続され、コレクタc2が電源線12に接続された第2トランジスタQ2と、ベースb2とコレクタc2との間に接続された第1抵抗R1と、ベースb1とエミッタe2との間に接続された第2抵抗R2と、バイアス電圧Vbがベースb3に入力され、コレクタc3がエミッタe2に接続され、エミッタe3がエミッタe1に接続された第3トランジスタQ3と、エミッタe3と基準電位線13との間に接続された第3抵抗R3とを具備する。フォトダイオード11にかかるバイアス電圧Vbpはバイアス電圧Vbに等しくなり、使用条件に応じて自由に設定できる。
【選択図】図1

Description

本発明は、光検出回路、半導体集積装置および光検出装置に関する。
フォトダイオードなどの受光素子の微小電流を増幅するためには、入力バイアス電流が少なく、入力オフセット電圧やドリフトの小さなアンプを用いて電流電圧変換するのが一般的である。その際に、アンプの入力にフォトダイオードを直接挿入するトランスインピーダンスと呼ばれる回路方式が用いられる(例えば、特許文献1参照。)。
特許文献1に開示された光検出回路は、エミッタ接地のnpn第1トランジスタと、第1トランジスタのベース−エミッタ間に接続されたフォトダイオードと、エミッタフォロワ構成のnpn第2トランジスタと、第1トランジスタのベース端子と第2トランジスタのエミッタ端子との間に接続された帰還抵抗と、第2トランジスタのベース−コレクタ端子間に接続された第1抵抗と、第1および第2トランジスタのエミッタ端子間に接続された第2抵抗とを具備している。
各抵抗を流れる電流の総和がゼロになるように各抵抗の抵抗値を設定することにより、信号電流が変化しても、消費電流が変動しなくなり、電源線にインダクタ成分があっても、これら電源線にノイズが発生しなくなるようにしている。
然しながら、特許文献1に開示された光検出回路は、フォトダイオードにかかるバイアス電圧が第1トランジスタのベース・エミッタ間電圧に固定されているので、使用条件に応じて、フォトダイオードにかかるバイアス電圧や出力電圧を自由に設定できないという問題がある。
また、出力電圧がベース・エミッタ間電圧Vbeと低く、後段の信号処理回路との間にレベルシフトなど付加回路が必要となる。
出力電圧を増加する方法として、第1トランジスタのエミッタにダイオード接続されたnpnバイポーラトランジスタを接続してトランジスタのベース・エミッタ間電圧Vbeだけ増加させる方法が知られている。
しかし、トランジスタのベース・エミッタ間電圧Vbeの整数倍でしか増加させることができないという問題がある。
また、トランジスタのベース・エミッタ間電圧Vbeは温度特性を有するので、温度によりフォトダイオードにかかるバイアス電圧が変化し、光検出特性が変動するという問題がある。
更に、低電圧電源で動作させる場合に、第一トランジスタ、第二トランンジスタ、ダイオードの3つのベース・エミッタ間電圧Vbeが直列接続されるので、3Vbe以下の電源電圧では出力のダイナミックレンジが取れなくなり動作しなくなる。また、出力電圧がベース・エミッタ間電圧Vbeの整数倍でしか設定できないため、後段の入出力ダイナミックレンジの設計が難しくなる。
特開2000−101126号公報
本発明は、フォトダイオードにかかるバイアス電圧や出力電圧を任意の値に設定できる光検出回路、半導体集積装置および光検出装置を提供する。
本発明の一態様の光検出回路は、入力光の強度に応じた電流を出力する受光素子と、前記受光素子から出力された光電変換信号が制御電極に入力される第1トランジスタと、制御電極が前記第1トランジスタの第1電極に接続され、第1電極が電源線に接続され、前記第1トランジスタと同一導電型の第2トランジスタと、前記第2トランジスタの制御電極と第1電極の間に接続された第1抵抗と、前記第1トランジスタの制御電極と前記第2トランジスタの第2電極との間に接続された第2抵抗と、バイアス電圧が制御電極に入力され、第1電極が前記第2トランジスタの第2電極に接続され、第2電極が前記第1トランジスタの第2電極に接続され、前記第1トランジスタと同一導電型の第3トランジスタと、第3トランジスタの第2電極と基準電位線との間に接続された第3抵抗と、を具備することを特徴としている。
本発明によれば、フォトダイオードにかかるバイアス電圧や出力電圧を任意の値に設定できる光検出回路、半導体集積装置および光検出装置が得られる。
以下、本発明の実施例について図面を参照しながら説明する。
本発明の実施例に係る光検出回路について、図1および図2を用いて説明する。図1は光検出回路を示す回路図、図2は電源電圧と出力ダイナミックレンジとの関係を示す図である。
図1に示すように、本実施例の光検出回路10は、フォトダイオード(受光素子)11から出力された光電変換信号がベース(制御電極)b1に入力されるnpn第1バイポーラトランジスタQ1(以後、単に第1トランジスタQ1という)と、ベースb2が第1トランジスタQ1のコレクタ(第1電極)c1に接続され、コレクタc2が電源線12に接続されたnpn第2バイポーラトランジスタQ2(以後、単に第2トランジスタQ2という)と、第2トランジスタQ2のベースb2と電源線12との間に接続された第1抵抗R1と、第1トランジスタQ1のベースb1と第2トランジスタQ2のエミッタe2(第2電極)との間に接続された第2抵抗R2とを具備している。
更に、バイアス電圧Vbがベースb3に入力され、コレクタc3が第2トランジスタQ2のエミッタe2に接続され、エミッタe3が第1トランジスタQ1のエミッタe1に接続されたnpn第3バイポーラトランジスタQ3(以後、単に第3トランジスタQ3という)と、第3トランジスタQ3のエミッタe3と基準電位線13との間に接続された第3抵抗R3とを具備している。
バイアス電圧Vbは、後段の信号処理回路やその他の回路に電圧を供給する電源回路のバイアスと共用する事ができるので、回路規模を増加させることは無い。
フォトダイオード11は、受光した光信号14の強度に応じた光電流Ipを出力し、第1トランジスタQ1のベースb1に供給する。
第1トランジスタQ1は、エミッタ接地アンプである。エミッタe1は後述する仮想接地電位VGNDに固定されている。従って、第1トランジスタQ1の動作点は仮想接地電位VGNDだけレベルアップされている。第1抵抗R1は、第1トランジスタQ1の負荷抵抗である。
第2トランジスタQ2は、電圧増幅度がほぼ1のエミッタフォロア(コレクタ接地アンプ)である。第1トランジスタQ1により光電流Ipが電流電圧変換されて増幅された出力信号Voutを、低インピーダンス信号として出力端15に出力する。
第2抵抗R2は、第2トランジスタQ2の出力を第1トランジスタQ1のベースb1に帰還させるための帰還抵抗である。
第1トランジスタQ1の電流増幅率は十分高い、例えばhfeが100以上なので、第1トランジスタQ1の電圧増幅度は帰還抵抗で定まり、ほぼ第2抵抗R2の値に等しくなる。
従って、光信号14をフォトダイオード11により受光し、第1トランジスタQ1で光信号14の強度に応じた光電流Ipを増幅し、第2トランジスタQ2のエミッタe2に接続された出力端15から、光電流Ipと第2抵抗値との積(ΔV=Ip×R2)に応じた出力信号Voutが得られる。
第3トランジスタQ3は、エミッタフォロワの定電流源として機能し、第3抵抗R3の両端にバイアス電圧Vbと第3トランジスタQ3のベース・エミッタ間電圧Vbe3との差の電圧Vr3=Vb−Vbe3を発生させる。この電圧Vr3が上述した仮想接地電位VGNDとなる。
フォトダイオード11にかかるバイアス電圧Vbpは、第1トランジスタタQ1のベース・エミッタ間電圧Vbe1と第3抵抗の降下電圧Vr3との和で表される。
特性の揃った第1および第3トランジスタQ1、Q3を用いてVbe1=Vbe3とすることにより、フォトダイオード11にかかるバイアス電圧Vbpは、
Vbp=Vbe1+Vr3=Vbe1+(Vb−Vbe3)=Vb
となる。
これにより、フォトダイオード11にかかるバイアス電圧Vbpは、バイアス電圧Vbを可変させることにより、自由に設定することが可能である。
また、温度補償されたバイアス電源16を用いることにより、フォトダイオード11にかかるバイアス電圧Vbpは温度依存性を有しなくなる。これにより、光検出回路10の光検出特性の変動を抑えることが可能である。
更に、光検出回路10が動作可能な最低電源電圧Vccは、Vbe1+Vbe2〜2Vbe1である。
フォトダイオード11にかかるバイアス電圧Vbpを、Vbe1より若干大きく(第1トランジスタQ1が動作可能な最低電圧)設定することにより、光検出回路10が動作可能な最低電源電圧Vccまで動作させることが可能である。
図2は電源電圧Vccと出力ダイナミックレンジ(出力信号Voutの最大振幅)との関係を示す図で、図中の実線が本実施例の場合、図中の破線が比較例の場合を示している。
本明細書において、比較例とは特許文献1に開示された回路において、第1トランジスタのエミッタにダイオード接続されたnpnバイポーラトランジスタを接続し、フォトダイオードにかかるバイアス電圧をトランジスタのベース・エミッタ間電圧Vbeの2倍に設定した光検出回路を意味している。
図2に示すように、比較例、本実施例とも、電源電圧Vccが低下するにつれて、出力ダイナミックレンジは減少する。
比較例では、フォトダイオード11にかかるバイアス電圧Vbpは第1トランジスタQ1のベース・エミッタ間電圧Vbe1の2倍に固定されているので、電源電圧Vccが3Vbe1〜3×0.7V=2.1Vに至ると、第2トランジスタQ2が動作しなくなるので、出力信号Voutの振幅はゼロとなり、光検出動作が停止する。
一方、本実施例では、フォトダイオード11にかかるバイアス電圧VbpはVbe1までの電圧で自由に設定できるので、電源電圧Vccが2Vbe1〜2×0.7V=1.4Vに至るまでは、動作可能である。
これにより、バイアス電圧VbをVbe1より大きく、且つ2Vbe1より小さい範囲に設定することにより、比較例より低い電源電圧Vccまで動作させることが可能である。
バイアス電圧Vbの下限は、第1トランジスタQ1のベース・エミッタ間電圧Vbe1のばらつき等を考慮して、Vb=Vbe1+0.1〜0.2Vとすることが望ましい。バイアス電圧Vbが2Vbe1に等しいときには、比較例と同等になる。
次に、本実施例の半導体集積装置について、図3を用いて説明する。
図3に示すように、本実施例の半導体集積装置30は、フォトダイオード11から出力された光電変換信号がベースb1に入力される第1トランジスタQ1と、ベースb2が第1トランジスタQ1のコレクタc1に接続され、コレクタc2が電源線12に接続された第2トランジスタQ2と、第2トランジスタQ2のベースb2とコレクタc2との間に接続された第1抵抗R1と、第1トランジスタQ1のベースb1と第2トランジスタQ2のエミッタe2との間に接続された第2抵抗R2と、バイアス電圧Vbがベースb3に入力され、コレクタc3が第2トランジスタQ2のエミッタe2に接続され、エミッタe3が第1トランジスタQ1のエミッタe1に接続された第3トランジスタQ3と、第3トランジスタQ3のエミッタe3と基準電位線13との間に接続された第3抵抗R3とが同一半導体チップ31上にモノリシックに集積して形成されている。フォトダイオード11は、半導体チップ31に外付けされている。
また、半導体チップ31上に、フォトダイオード11から出力された光電変換信号を入力し、電流・電圧変換されて増幅された出力信号Voutを外部に出力するために必要なボンディングパッド32a〜32fが形成されている。
第1および第3トランジスタQ1、Q3は、特性を揃えるためにできるだけ近接して配置することが望ましい。
次に、本実施例の光検出装置について、図4を用いて説明する。
図4に示すように、本実施例の光検出装置40は、光検出回路10と、光検出回路10の出力信号Voutに応じて所定の処理を行なう信号処理部41とを具備している。
信号処理部41は、光検出回路10の出力信号Voutをデジタル値に変換するアナログデジタル変換器42と後段の信号処理回路44に受け渡す出力回路43とを具備している。
光検出回路10で光信号14を検出し、信号処理部41で光信号14の強度に応じた処理結果を信号処理回路44に出力している。
以上説明したように、本実施例では、安定化されたバイアス電圧Vbを、フォトダイオード11のバイアス電圧Vbpとしている。
その結果、フォトダイオード11にかかるバイアス電圧Vbpを、使用条件に応じて自由に設定することができるので、電源電圧Vccに対する自由度が大きくなる。
また、フォトダイオード11にかかるバイアス電圧Vbpにトランジスタのベース・エミッタ間電圧を含まないので、温度変動に対して安定した光検出回路10が得られる。
従って、フォトダイオード11にかかるバイアス電圧Vbpや出力電圧Voutが任意の値に設定できる光検出回路10、半導体集積装置30および光検出装置40が得られる。特に、3V程度の低電圧バッテリーを使用する電子機器において、効果を発揮することができる。
ここでは、第1乃至第3トランジスタQ1、Q2、Q3が、npnバイポーラトランジスタである場合について説明したが、pnpバイポーラトランジスタを用いて回路を構成しても構わない。
絶縁ゲート電界効果トランジスタ(MOSトランジスタ)を用いて回路を構成することもできる。MOSトランジスタとした場合、バイポーラトランジスタほどの電圧増幅率は得られないが、問題なく動作可能である。
同様に、Bi―CMOS構成のトランジスタを用いて回路を構成することもできる。
また、第1乃至第3抵抗を、抵抗素子を用いる場合について説明したが、広く一般のインピーダンス素子、例えばトランジスタで構成することも可能である。
半導体集積装置30は、フォトダイオード11を外付けした場合について説明したが、フォトダイオード11を内蔵するようにしても構わない。同様に、バイアス電源16を外付けにしても構わない。
本発明の実施例に係る光検出回路を示す回路図。 本発明の実施例に係る光検出回路の電源電圧と出力ダイナミックレンジとの関係を示す図。 本発明の実施例に係る半導体集積装置を示す図。 本発明の実施例に係る光検出装置の構成を示すブロック図。
符号の説明
10 光検出回路
11 フォトダイオード
12 電源線
13 基準電位線
14 光信号
15 出力端
16 バイアス電源
Ip 光電流
Vcc 電源電圧
Vb バイアス電圧
Vbp フォトダイオードバイアス電源
Q1 npn第1バイポーラトランジスタ
Q2 npn第2バイポーラトランジスタ
Q3 npn第3バイポーラトランジスタ
R1 第1抵抗
R2 第2抵抗
R3 第3抵抗
30 半導体集積装置
31 半導体チップ
32a〜32f ボンディングパッド
40 光検出装置
41 信号処理部
42 アナログデジタル変換器
43 出力回路
44 信号処理回路

Claims (4)

  1. 入力光の強度に応じた電流を出力する受光素子と、
    前記受光素子から出力された光電変換信号が制御電極に入力される第1トランジスタと、
    制御電極が前記第1トランジスタの第1電極に接続され、第1電極が電源線に接続され、前記第1トランジスタと同一導電型の第2トランジスタと、
    前記第2トランジスタの制御電極と第1電極の間に接続された第1抵抗と、
    前記第1トランジスタの制御電極と前記第2トランジスタの第2電極との間に接続された第2抵抗と、
    バイアス電圧が制御電極に入力され、第1電極が前記第2トランジスタの第2電極に接続され、第2電極が前記第1トランジスタの第2電極に接続され、前記第1トランジスタと同一導電型の第3トランジスタと、
    第3トランジスタの第2電極と基準電位線との間に接続された第3抵抗と、
    を具備することを特徴とする光検出回路。
  2. 前記バイアス電圧が、前記第1トランジスタのベース・エミッタ間電圧より大きく、且つ前記第1トランジスタのベース・エミッタ間電圧の2倍より小さいことを特徴とする請求項1に記載の光検出回路。
  3. 入力光の強度に応じた電流を出力する受光素子から出力された光電変換信号が制御電極に入力される第1トランジスタと、
    制御電極が前記第1トランジスタの第1電極に接続され、第1電極が電源線に接続され、前記第1トランジスタと同一導電型の第2トランジスタと、
    前記第2トランジスタの制御電極と第1電極の間に接続された第1抵抗と、
    前記第1トランジスタの制御電極と前記第2トランジスタの第2電極との間に接続された第2抵抗と、
    バイアス電圧が制御電極に入力され、第1電極が前記第2トランジスタの第2電極に接続され、第2電極が前記第1トランジスタの第2電極に接続され、前記第1トランジスタと同一導電型の第3トランジスタと、
    第3トランジスタの第2電極と基準電位線との間に接続された第3抵抗と、
    が同一チップ上に集積して形成されていることを特徴とする半導体集積装置。
  4. 入力光の強度に応じた電流を出力する受光素子と、前記受光素子から出力された光電変換信号が制御電極に入力される第1トランジスタと、制御電極が前記第1トランジスタの第1電極に接続され、第1電極が電源線に接続され、前記第1トランジスタと同一導電型の第2トランジスタと、前記第2トランジスタの制御電極と第1電極の間に接続された第1抵抗と、前記第1トランジスタの制御電極と前記第2トランジスタの第2電極との間に接続された第2抵抗と、バイアス電圧が制御電極に入力され、第1電極が前記第2トランジスタの第2電極に接続され、第2電極が前記第1トランジスタの第2電極に接続され、前記第1トランジスタと同一導電型の第3トランジスタと、第3トランジスタの第2電極と基準電位線との間に接続された第3抵抗とを備えた光検出回路と、
    前記光検出回路の出力に応じて所定の処理を行なう信号処理部と、
    を具備することを特徴とする光検出装置。
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