JP2008103640A - Multilayer wiring board - Google Patents

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訓 平野
Koichiro Shimogami
晃一郎 下上
Yukihiro Kimura
幸広 木村
Ichiei Higo
一詠 肥後
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Abstract

<P>PROBLEM TO BE SOLVED: To provide a multilayer wiring board having high degree of freedom in designing, excellent bondability, and satisfactory production efficiency. <P>SOLUTION: The board 100a includes multilayer resin layers 110a each having a first layer 111 which includes thermoplastic resin, a second layer 112 which includes thermosetting resin, and piercing conductors 113, and wiring boards 120 each having conductors 123, wherein the board includes laminating structure sections, in each of which the multilayer resin layer 110a and the wiring board 120 are laminated at the second layer 112 side and the conductor 123 side, while the piercing conductors 113 and the conductors 123 are electrically connected. <P>COPYRIGHT: (C)2008,JPO&INPIT

Description

本発明は多層配線基板に関する。更に詳しくは、設計自由度が高く、接合性に優れ製造効率のよい多層配線基板に関する。   The present invention relates to a multilayer wiring board. More specifically, the present invention relates to a multilayer wiring board having a high degree of design freedom, excellent bonding properties, and high manufacturing efficiency.

従来、多層配線基板としては、(1)ガラスエポキシ基板(ガラスクロスにエポキシ樹脂を含浸硬化させた基板)及びビスマレイミド・トリアジン基板等の高耐熱高強度であり、保形性に優れたコア基板を中心にして、その表面にプリプレグ及び配線パターンを交互に積層形成してなる多層配線基板が知られている。また、(2)ポリイミド樹脂等の高耐熱樹脂層の片面又は両面に配線パターンを形成した単層樹脂フレキシブル基板同士を、エポキシ樹脂等の接着層を介して一括積層してなる多層配線基板が知られている。更に、(3)下記特許文献1に示されるように、熱融着性に優れた特殊な熱可塑性樹脂層を用い、この熱可塑性樹脂層に貫通導体及び配線パターンを形成した各層を一括積層してなる多層配線基板が知られている。   Conventional multilayer wiring boards include: (1) glass epoxy boards (substrates made by impregnating and curing epoxy resin on glass cloth) and bismaleimide / triazine boards, etc. that have high heat resistance and high strength and excellent core retention There is known a multilayer wiring board in which prepregs and wiring patterns are alternately laminated on the surface of the substrate. In addition, (2) a multilayer wiring board is known in which single-layer resin flexible boards having wiring patterns formed on one or both sides of a high heat-resistant resin layer such as polyimide resin are laminated together via an adhesive layer such as an epoxy resin. It has been. Further, (3) as shown in the following Patent Document 1, a special thermoplastic resin layer excellent in heat-fusibility is used, and each layer in which a through conductor and a wiring pattern are formed is laminated on this thermoplastic resin layer. A multilayer wiring board is known.

特開2000−38464号公報JP 2000-38464 A

上記(1)の多層配線基板では、プリプレグは単独で十分な形状保持性を有さないために製造時のハンドリング性に劣るという問題がある。また、十分な形状保持性を有さないためにコア基板を要し、設計自由度が制限されるという問題がある。更に、プリプレグを用いて積層した多層配線基板はフレキシブル化できないという問題がある。また、積層のたびに硬化させる必要があり、このために作業性が必ずしもよいとはいえず、多層化すれば硬化回数が増えるため内層への熱履歴が蓄積し易いという問題がある。更に、近年、鉛フリーハンダの使用等により求められているより高い耐熱性を付与し難いという問題も生じている。   In the multilayer wiring board of the above (1), since the prepreg does not have sufficient shape retention by itself, there is a problem that it is inferior in handling property during production. Moreover, since it does not have sufficient shape retainability, a core substrate is required, and there is a problem that design flexibility is limited. Furthermore, there is a problem that a multilayer wiring board laminated using prepreg cannot be made flexible. In addition, it is necessary to cure each time the layers are stacked. For this reason, the workability is not always good. If the number of layers is increased, the number of times of curing increases, so that there is a problem that a heat history is easily accumulated in the inner layer. Furthermore, in recent years, there has also been a problem that it is difficult to impart higher heat resistance than required by the use of lead-free solder.

また、近年、配線基板での高密度化の限界からコア基板を有さず、従来のスルーホールに変えてスタックドビア構造{特に全層にわたって積層形成されたビア(以下、単に「全層IVH構造」という}を形成できることが要求されつつある。しかし、上記(2)の多層配線基板では、一括積層方式で製造する場合には全層IVH構造とすることができず、ビルドアップ方式での全層IVH構造形成は高コストになってしまい、十分な設計自由度及び製造効率が得られ難いという問題がある。更に、各層間の接着層により耐熱性が十分に得られ難いという問題がある。   In recent years, a core substrate is not used due to the limitation of high density in a wiring board, and instead of a conventional through hole, a stacked via structure {particularly, a via formed by stacking over all layers (hereinafter simply referred to as an “all layer IVH structure”). However, in the multilayer wiring board of the above (2), it is not possible to obtain an all-layer IVH structure in the case of manufacturing by a batch lamination method, and all layers by a build-up method. The formation of the IVH structure is expensive, and it is difficult to obtain a sufficient degree of design freedom and manufacturing efficiency, and further, it is difficult to sufficiently obtain heat resistance by the adhesive layer between the layers.

上記(3)の多層配線基板では、層間の接合を熱可塑性樹脂から得るためにプリプレグを用いた場合のような強固な接合性が得られ難いという問題がある。また、熱可塑性樹脂は、熱融着できる程度まで加熱した際の粘度が小さく且つ熱膨張係数が小さいとしても、熱硬化性樹脂の優れた凹凸形状への追従性を超えることは困難である。即ち、プリプレグのような優れた塑性変形性は備えてないために、多層化された場合には特に微細な凹凸面に対する追従性が十分に得られ難いという問題がある。   In the multilayer wiring board of (3), there is a problem that it is difficult to obtain strong bondability as in the case where a prepreg is used to obtain interlayer bonding from a thermoplastic resin. Further, even if the thermoplastic resin has a low viscosity when heated to such an extent that it can be heat-sealed and has a low coefficient of thermal expansion, it is difficult to exceed the excellent conformability of the thermosetting resin to the uneven shape. That is, since it does not have excellent plastic deformability like a prepreg, there is a problem that it is difficult to obtain sufficient followability with respect to fine uneven surfaces when it is made multilayer.

本発明は、上記に鑑みてなされたものであり、設計自由度が高く、製造効率のよい多層配線基板に関する。   The present invention has been made in view of the above, and relates to a multilayer wiring board having a high degree of design freedom and high manufacturing efficiency.

本発明は、以下に示す通りである。
(1)熱可塑性樹脂を含む第1の樹脂層、該第1の樹脂層の少なくとも片面に設けられた熱硬化樹脂を含む第2の樹脂層、及び、該第1の樹脂層と該第2の樹脂層とを貫通した貫通導体、を有する多層樹脂層と、
少なくとも片面に導体パターンを有する配線基板と、を備え、
該多層樹脂層と該配線基板とが、該第2の樹脂層側と該導体パターン側とで積層され、且つ該貫通導体と該導体パターンとが電気的に接続されている積層構造部を備えることを特徴とする多層配線基板。
(2)上記多層樹脂層は、上記第2の樹脂層を上記第1の樹脂層の両面に有し、
上記積層構造部は、上記配線基板を2つ備え、且つ、該配線基板のうちの第1の配線基板と、上記多層樹脂層と、該配線基板のうちの第2の配線基板とがこの順に積層され、
該多層樹脂層と該第1の配線基板とは、一面の該第2の樹脂層側と該第1の配線基板が備える導体パターン側とで積層され、
該多層樹脂層と該第2の配線基板とは、他面の該第2の樹脂層側と該第2の配線基板が備える導体パターン側とで積層され、
且つ該第1の配線基板が備える導体パターンと該第2の配線基板が備える導体パターンとが該貫通導体を介して電気的に接続されている上記(1)に記載の多層配線基板。
(3)上記多層樹脂層は、上記第2の樹脂層を上記第1の樹脂層の両面に有し、
上記積層構造部は、金属からなる放熱板を備え、且つ、上記配線基板と、上記多層樹脂層と、該放熱板とがこの順に積層されている上記(1)に記載の多層配線基板。
(4)上記配線基板は、フレキシブル基板である上記(1)乃至(3)のうちのいずれかに記載の多層配線基板。
(5)上記配線基板を構成する樹脂部は、1%重量減温度が300℃以上である上記(1)乃至(4)のうちのいずれかに記載の多層配線基板。
(6)上記配線基板を構成する樹脂部は、ガラス転移点が180℃以上である上記(5)に記載の多層配線基板。
(7)上記第2の樹脂層の厚さは、上記第1の樹脂層の厚さの1/40〜1/2である上記(1)乃至(6)のうちのいずれかに記載の多層配線基板。
(8)上記第1の樹脂層の平面方向の熱膨張係数をα x−yとし、該第1の樹脂層の厚さ方向の熱膨張係数をα とし、上記貫通導体の熱膨張係数をαとした場合に、
−10×10−6≦α x−y(/℃)≦30×10−6であり、
且つ、α ≧αである上記(1)乃至(7)のうちのいずれかに記載の多層配線基板。
(9)上記第2の樹脂層の平面方向の熱膨張係数をα x−yとし、該第2の樹脂層の厚さ方向の熱膨張係数をα とした場合に、
10×10−6≦α x−y(/℃)≦60×10−6であり、
且つ、10×10−6≦α (/℃)≦60×10−6である上記(1)乃至(8)のうちのいずれかに記載の多層配線基板。
The present invention is as follows.
(1) A first resin layer containing a thermoplastic resin, a second resin layer containing a thermosetting resin provided on at least one surface of the first resin layer, and the first resin layer and the second resin layer A multilayer resin layer having a through conductor penetrating through the resin layer;
A wiring board having a conductor pattern on at least one side,
The multilayer resin layer and the wiring board are laminated on the second resin layer side and the conductor pattern side, and have a laminated structure portion in which the through conductor and the conductor pattern are electrically connected. A multilayer wiring board characterized by that.
(2) The multilayer resin layer has the second resin layer on both sides of the first resin layer,
The laminated structure section includes two wiring boards, and the first wiring board of the wiring boards, the multilayer resin layer, and the second wiring board of the wiring boards are in this order. Laminated,
The multilayer resin layer and the first wiring board are laminated on the second resin layer side of one surface and the conductor pattern side included in the first wiring board,
The multilayer resin layer and the second wiring board are laminated on the second resin layer side of the other surface and the conductor pattern side included in the second wiring board,
The multilayer wiring board according to (1), wherein the conductor pattern provided in the first wiring board and the conductor pattern provided in the second wiring board are electrically connected via the through conductor.
(3) The multilayer resin layer has the second resin layer on both sides of the first resin layer,
The multilayer wiring board according to (1), wherein the multilayer structure includes a heat sink made of metal, and the wiring board, the multilayer resin layer, and the heat sink are stacked in this order.
(4) The multilayer wiring board according to any one of (1) to (3), wherein the wiring board is a flexible substrate.
(5) The multilayer wiring board according to any one of (1) to (4), wherein the resin portion constituting the wiring board has a 1% weight loss temperature of 300 ° C. or higher.
(6) The multilayer wiring board according to (5), wherein the resin portion constituting the wiring board has a glass transition point of 180 ° C. or higher.
(7) The multilayer according to any one of (1) to (6), wherein the thickness of the second resin layer is 1/40 to 1/2 of the thickness of the first resin layer. Wiring board.
(8) The thermal expansion coefficient in the planar direction of the first resin layer is α 1 xy , the thermal expansion coefficient in the thickness direction of the first resin layer is α 1 z, and the thermal expansion of the through conductors in the case where the coefficient was α 3,
−10 × 10 −6 ≦ α 1 xy (/ ° C.) ≦ 30 × 10 −6 ,
The multilayer wiring board according to any one of (1) to (7), wherein α 1 z ≧ α 3 .
(9) When the thermal expansion coefficient in the planar direction of the second resin layer is α 2 xy, and the thermal expansion coefficient in the thickness direction of the second resin layer is α 2 z ,
10 × 10 −6 ≦ α 2 xy (/ ° C.) ≦ 60 × 10 −6 ,
The multilayer wiring board according to any one of (1) to (8), wherein 10 × 10 −6 ≦ α 2 z (/ ° C.) ≦ 60 × 10 −6 .

本発明の多層配線基板によれば、設計自由度が高く、他層との接合性に優れ、製造効率がよい多層配線基板とすることができる。即ち、例えば、従来のように層間導通を得るために、多層化後に全層を貫通するスルーホールを形成し、本来不必要な層にもスルーホールを形成するというような不具合を生じない。また、外表面側に接合性に優れた熱硬化性樹脂を含む第2の樹脂層を備えるために、優れた接合性を幅広い被接合材に対して発揮させることができるために、被接合材の選択範囲が広く設計自由度が高い。また、コート層を構成する熱硬化樹脂は、硬化の際に収縮挙動を示し、多層樹脂層全体においても収縮挙動が得られる。このため、貫通導体に対して圧縮応力が付加され、貫通導体と多層樹脂層の密着信頼性、及び貫通導体の電気伝導度、の各々が向上される。更に、本発明の多層配線基板では、一括して積層することもできるために製造効率に優れる。また、プリプレグのみを用いる場合のようにコア基板を用いる必要がなくコアレスの多層配線基板を得ることができ、スタックドビア構造(特に全層IVH構造)とすることができる。   According to the multilayer wiring board of the present invention, it is possible to provide a multilayer wiring board having a high degree of design freedom, excellent bonding properties with other layers, and high manufacturing efficiency. That is, for example, in order to obtain interlayer conduction as in the prior art, there is no problem of forming a through hole that penetrates all the layers after multilayering and forming a through hole in an originally unnecessary layer. In addition, since the second resin layer containing the thermosetting resin excellent in bondability is provided on the outer surface side, the excellent bondability can be exerted on a wide range of materials to be bonded. Wide selection range and high design freedom. Further, the thermosetting resin constituting the coat layer exhibits a shrinkage behavior upon curing, and the shrinkage behavior can be obtained in the entire multilayer resin layer. For this reason, compressive stress is applied to the through conductor, and each of the adhesion reliability between the through conductor and the multilayer resin layer and the electrical conductivity of the through conductor are improved. Furthermore, since the multilayer wiring board of the present invention can be laminated together, it is excellent in manufacturing efficiency. Further, it is not necessary to use a core substrate as in the case of using only a prepreg, and a coreless multilayer wiring substrate can be obtained, and a stacked via structure (particularly, an all-layer IVH structure) can be obtained.

本発明の多層配線基板の多層化された部分においても可とう性が得られるが、特に本発明の多層配線基板を構成する各配線基板がフレキシブル基板である場合は、部分的にフレキシブル化させた多層配線基板を得ることができる。そして、リジッド部分とフレキシブル部分との2つの基板部分がコネクタを用いることなく接続された構造を得ることができる。このため、特に省スペース性に優れた多層配線基板を得ることができる。   Although flexibility is obtained even in the multilayered portion of the multilayer wiring board of the present invention, in particular, when each wiring board constituting the multilayer wiring board of the present invention is a flexible substrate, it is partially flexible. A multilayer wiring board can be obtained. And the structure where the two board | substrate parts of a rigid part and a flexible part were connected without using a connector can be obtained. For this reason, it is possible to obtain a multilayer wiring board particularly excellent in space saving.

配線基板を構成する樹脂部の1%重量減温度が300℃以上である場合は、優れた耐熱性を有する多層基板を得ることができる。
配線基板を構成する樹脂部のガラス転移点が180℃以上である場合は、第2の樹脂層に用いる熱硬化性樹脂の硬化温度と、第1の樹脂層を構成する熱可塑性樹脂の適度な流動性が得られる温度範囲とを重複する温度範囲でコントロールすることができる。
When the 1% weight loss temperature of the resin part constituting the wiring board is 300 ° C. or higher, a multilayer board having excellent heat resistance can be obtained.
When the glass transition point of the resin part constituting the wiring board is 180 ° C. or higher, the curing temperature of the thermosetting resin used for the second resin layer and the appropriate temperature of the thermoplastic resin constituting the first resin layer The temperature range in which fluidity can be obtained can be controlled in an overlapping temperature range.

第2の樹脂層の厚さが第1の樹脂層の厚さの1/40〜1/2である場合は、この範囲では第1の樹脂層の特性と第2の樹脂層の特性とを特に相乗的に得ることができる。即ち、多層樹脂層全体としての保形性を十分に確保できる。また、貫通導体を確実に形成することができる。更に、優れた接合性及び優れた追従性が十分に発揮される。また、加熱時の熱可塑性樹脂の流動性を十分に抑制できる。   When the thickness of the second resin layer is 1/40 to 1/2 of the thickness of the first resin layer, the characteristics of the first resin layer and the characteristics of the second resin layer are within this range. In particular, it can be obtained synergistically. That is, the shape retention property as the whole multilayer resin layer can be sufficiently secured. In addition, the through conductor can be reliably formed. Furthermore, excellent bondability and excellent followability are sufficiently exhibited. Moreover, the fluidity | liquidity of the thermoplastic resin at the time of a heating can fully be suppressed.

第1の樹脂層の熱膨張係数α x−yと、熱膨張係数α と、貫通導体の熱膨張係数αとが、−10×10−6≦α x−y(/℃)≦30×10−6、且つα ≧αを満たす場合は、第1の樹脂層と第2樹脂層との間、及び多層樹脂層と配線基板との間の剥がれやデラミネーションをより効果的に防止できる。
第2の樹脂層の熱膨張係数α x−yと、第2の樹脂層の熱膨張係数α とが、10×10−6≦α x−y(/℃)≦60×10−6、且つ10×10−6≦α (/℃)≦60×10−6である場合は、第1の樹脂層と第2樹脂層との間、及び多層樹脂層と配線基板との間の剥がれやデラミネーションをより効果的に防止できる。特に第2の樹脂層がフィラー(他層との熱膨張差を低減する目的等)を含有する場合であっても、上記関係式の範囲に収めることで熱硬化性樹脂(完全硬化前の状態)の積層時における流動性(他層への追従性)を十分に確保できる。
The thermal expansion coefficient α 1 xy of the first resin layer, the thermal expansion coefficient α 1 z, and the thermal expansion coefficient α 3 of the through conductor are −10 × 10 −6 ≦ α 1 xy (/ ° C. ) ≦ 30 × 10 −6 and α 1 z ≧ α 3 , peeling or delamination between the first resin layer and the second resin layer and between the multilayer resin layer and the wiring board It can be prevented more effectively.
The thermal expansion coefficient α 2 xy of the second resin layer and the thermal expansion coefficient α 2 z of the second resin layer are 10 × 10 −6 ≦ α 2 xy (/ ° C.) ≦ 60 × 10. −6 and 10 × 10 −6 ≦ α 2 z (/ ° C.) ≦ 60 × 10 −6 , between the first resin layer and the second resin layer, and between the multilayer resin layer and the wiring board Peeling and delamination can be prevented more effectively. In particular, even when the second resin layer contains a filler (for the purpose of reducing the difference in thermal expansion from other layers, etc.), the thermosetting resin (state prior to complete curing) can be maintained within the range of the above relational expression. ) Can be sufficiently ensured in fluidity (followability to other layers).

本発明について、以下詳細に説明する。
[1]多層配線基板
本発明の多層配線基板は、熱可塑性樹脂を含む第1の樹脂層、該第1の樹脂層の少なくとも片面に設けられた熱硬化樹脂を含む第2の樹脂層、及び、該第1の樹脂層と該第2の樹脂層とを貫通した貫通導体、を有する多層樹脂層と、少なくとも片面に導体パターンを有する配線基板と、を備え、該多層樹脂層と該配線基板とが、該第2の樹脂層側と該導体パターン側とで積層され、且つ該貫通導体と該導体パターンとが電気的に接続されている積層構造部を備えることを特徴とする。
The present invention will be described in detail below.
[1] Multilayer wiring board The multilayer wiring board of the present invention includes a first resin layer containing a thermoplastic resin, a second resin layer containing a thermosetting resin provided on at least one surface of the first resin layer, and A multilayer resin layer having a through conductor penetrating the first resin layer and the second resin layer, and a wiring board having a conductor pattern on at least one surface, the multilayer resin layer and the wiring board Are laminated on the second resin layer side and the conductor pattern side, and have a laminated structure portion in which the through conductor and the conductor pattern are electrically connected.

本発明の多層配線基板は、上記多層構造部を備える。
上記「積層構造部」は、上記多層樹脂層と上記配線基板とを備える。
上記「多層樹脂層」は、少なくとも第1の樹脂層、第2の樹脂層及び貫通導体を備える。
上記「第1の樹脂層」は、熱可塑性樹脂を含む層である。第1の樹脂層は、熱可塑性樹脂のみからなってもよく、熱可塑性樹脂とそれ以外の他の成分を含有してもよい。この第1の樹脂層は、通常、多層樹脂層内において支持層として機能する。
The multilayer wiring board of the present invention includes the multilayer structure.
The “laminated structure part” includes the multilayer resin layer and the wiring board.
The “multilayer resin layer” includes at least a first resin layer, a second resin layer, and a through conductor.
The “first resin layer” is a layer containing a thermoplastic resin. The 1st resin layer may consist only of a thermoplastic resin, and may contain a thermoplastic resin and another component other than that. This first resin layer usually functions as a support layer in the multilayer resin layer.

上記「熱可塑性樹脂」としては、ポリアリールケトン樹脂、ポリイミド系樹脂、液晶ポリマー、ポリオレフィン樹脂等が挙げられる。これらの熱可塑性樹脂は1種のみを用いてもよく、2種以上を併用してもよい。また、上記のうちポリアリールケトン樹脂としては、ポリエーテルエーテルケトン樹脂(以下、単に「PEEK」ともいう)、ポリエーテルケトン樹脂(以下、単に「PEK」ともいう)、ポリエーテルケトンケトン樹脂(以下、単に「PEKK」ともいう)等が挙げられる。これらのなかではPEEKが好ましく、更には、融点が260℃以上であるPEEKがより好ましい。また、上記のうちポリイミド系樹脂としては、ポリエーテルイミド樹脂(以下、単に「PEI」ともいう)、熱可塑性ポリイミド樹脂、ポリアミドイミド樹脂、等が挙げられる。これらのなかではPEIが好ましい。   Examples of the “thermoplastic resin” include polyaryl ketone resins, polyimide resins, liquid crystal polymers, and polyolefin resins. These thermoplastic resins may use only 1 type and may use 2 or more types together. Among the above, as the polyaryl ketone resin, polyether ether ketone resin (hereinafter also simply referred to as “PEEK”), polyether ketone resin (hereinafter also simply referred to as “PEK”), polyether ketone ketone resin (hereinafter referred to as “PEEK”). Simply referred to as “PEKK”). Among these, PEEK is preferable, and PEEK having a melting point of 260 ° C. or higher is more preferable. Among the above, examples of the polyimide resin include polyetherimide resin (hereinafter also simply referred to as “PEI”), thermoplastic polyimide resin, polyamideimide resin, and the like. Of these, PEI is preferred.

これらのなかでも、ポリアリールケトン樹脂とポリイミド樹脂との複合樹脂又は液晶ポリマーが好ましく、更には、PEEKとPEIとの複合樹脂、又は液晶ポリマーがより好ましく、PEEKとPEIとの複合樹脂が特に好ましい。
上記PEEKとPEIとの複合樹脂において、各々の樹脂の配合割合は特に限定されないが、PEEKとPEIとの合計を100質量%とした場合に、PEEKは35〜65質量%であることが好ましい(即ち、PEIは65〜35重量%)。更には、この複合樹脂のガラス転移点は150〜230℃であることが好ましい。上記配合範囲であり、更には、上記ガラス転移点範囲では、耐熱性と接合強度と熱膨張係数とのバランスを保つことができる。
Among these, a composite resin or a liquid crystal polymer of a polyaryl ketone resin and a polyimide resin is preferable, a composite resin of PEEK and PEI or a liquid crystal polymer is more preferable, and a composite resin of PEEK and PEI is particularly preferable. .
In the composite resin of PEEK and PEI, the blending ratio of each resin is not particularly limited. However, when the total of PEEK and PEI is 100% by mass, PEEK is preferably 35 to 65% by mass ( That is, PEI is 65 to 35% by weight). Furthermore, it is preferable that the glass transition point of this composite resin is 150-230 degreeC. Within the above blending range, and further within the above glass transition point range, a balance among heat resistance, bonding strength and thermal expansion coefficient can be maintained.

この第1の樹脂層には、上記熱可塑性樹脂以外にも他の成分が含有されてもよい。但し、他の成分は、本発明の目的を満たす範囲で含有され得る。通常、第1の樹脂層全体を100体積%とした場合に上記熱可塑性樹脂以外の他の成分は、70体積%以下(好ましくは60体積%以下、より好ましくは50体積%以下、0体積%であってもよい)である。
他の成分としては、フィラー及び芯材等が挙げられる。これらフィラー及び/又は芯材が含有される場合は、上記熱可塑性樹脂はこれらの成分に対して母相となる。このフィラーは無機フィラーでもってよく、有機フィラーであってもよいが、熱膨張係数、耐熱性及び電気的特性のバランスに優れるために無機フィラーであることが好ましい。
The first resin layer may contain other components in addition to the thermoplastic resin. However, other components may be contained within a range that satisfies the object of the present invention. Usually, when the entire first resin layer is 100% by volume, the other components other than the thermoplastic resin are 70% by volume or less (preferably 60% by volume or less, more preferably 50% by volume or less, 0% by volume). May be).
Examples of other components include a filler and a core material. When these fillers and / or core materials are contained, the thermoplastic resin serves as a matrix for these components. This filler may be an inorganic filler or an organic filler, but is preferably an inorganic filler in order to have a good balance of thermal expansion coefficient, heat resistance and electrical characteristics.

無機フィラーは、無機材料からなるフィラーである。無機フィラーとしては、炭酸カルシウム、酸化ケイ素、酸化アルミニウム、タルク、窒化アルミニウム及び硫酸バリウム等からなるセラミックフィラーが挙げられる。また、チタン酸バリウム、チタン酸ストロンチウム、チタン酸鉛及びチタン酸ジルコン酸鉛等からなる誘電体フィラーが挙げられる。これらの無機フィラーは1種のみを用いてもよく、2種以上を併用してもよい。また、フィラーの形状は特に限定されず、不定形状、球形状、繊維形状及び板形状が挙げられる。これら形状のフィラーは1種のみを用いてもよく、2種以上を併用してもよい。
一方、上記芯材としては、ガラス繊維、カーボン繊維、ガラスクロス、カーボンクロス、及び不織布(ガラス繊維、カーボン繊維並びに有機繊維のうちの少なくとも1種を用いた不織布)が挙げられる。これらは1種のみを用いてもよく、2種以上を併用してもよい。
The inorganic filler is a filler made of an inorganic material. Examples of the inorganic filler include ceramic fillers made of calcium carbonate, silicon oxide, aluminum oxide, talc, aluminum nitride, barium sulfate, and the like. Moreover, the dielectric filler which consists of barium titanate, strontium titanate, lead titanate, lead zirconate titanate, etc. is mentioned. These inorganic fillers may use only 1 type and may use 2 or more types together. Moreover, the shape of a filler is not specifically limited, An indefinite shape, a spherical shape, a fiber shape, and a plate shape are mentioned. These fillers may be used alone or in combination of two or more.
On the other hand, examples of the core material include glass fiber, carbon fiber, glass cloth, carbon cloth, and nonwoven fabric (nonwoven fabric using at least one of glass fiber, carbon fiber, and organic fiber). These may use only 1 type and may use 2 or more types together.

上記「第2の樹脂層」は、熱硬化樹脂を含む層である。第2の樹脂層は、熱硬化樹脂のみからなってもよく、熱可塑性樹脂とそれ以外の他の成分を含有してもよい。この第2の樹脂層に含まれる熱硬化樹脂は、配線基板との積層前には未硬化状態であり、接合時に硬化される樹脂である。但し、この未硬化状態とは、熱硬化樹脂の完全硬化前の状態であり、半硬化状態及び完全未硬化状態を含む意味である。
また、第2の樹脂層は、第1の樹脂層の少なくとも片面に設けられた層である。即ち、第2の樹脂層は、第1の樹脂層の片面のみに備えられてもよく、第1の樹脂層の両面に備えられていてもよい。
The “second resin layer” is a layer containing a thermosetting resin. The second resin layer may be composed of only a thermosetting resin, and may contain a thermoplastic resin and other components. The thermosetting resin contained in the second resin layer is a resin that is in an uncured state before being laminated with the wiring substrate and is cured at the time of bonding. However, the uncured state is a state before the thermosetting resin is completely cured, and includes a semi-cured state and a completely uncured state.
The second resin layer is a layer provided on at least one side of the first resin layer. That is, the second resin layer may be provided only on one side of the first resin layer, or may be provided on both sides of the first resin layer.

上記「熱硬化樹脂」を構成する熱硬化性樹脂(熱硬化樹脂は熱硬化性樹脂が硬化されてなる)としては、熱硬化性ポリイミド樹脂、熱硬化性ビスマレイミド樹脂、エポキシ樹脂、シリコン樹脂、ポリフェニレンエーテル樹脂等が挙げられる。これらのなかでは熱硬化性ポリイミド樹脂及び熱硬化性ビスマレイミド樹脂が好ましく、特に熱硬化性ポリイミド樹脂が好ましい。熱硬化性ポリイミドは、接合性及び耐熱性に優れるからである。これらの熱硬化性樹脂は1種のみを用いてもよく、2種以上を併用してもよい。   As the thermosetting resin constituting the “thermosetting resin” (the thermosetting resin is formed by curing the thermosetting resin), a thermosetting polyimide resin, a thermosetting bismaleimide resin, an epoxy resin, a silicon resin, Examples include polyphenylene ether resin. Among these, thermosetting polyimide resins and thermosetting bismaleimide resins are preferable, and thermosetting polyimide resins are particularly preferable. This is because thermosetting polyimide is excellent in bondability and heat resistance. These thermosetting resins may use only 1 type and may use 2 or more types together.

この第2の樹脂層には、上記熱硬化樹脂以外にも他の成分が含有されてもよい。他の成分としては、硬化剤(硬化後にはその機能を果たした硬化剤残渣となっていてもよい)、硬化促進剤及びフィラー(前記第1樹脂層におけるフィラーをそのまま適用できる)等が挙げられる。更に、上記第1の樹脂層における他の成分を加えて挙げられる。これらは1種のみを用いてもよく、2種以上を併用してもよい。通常、第2の樹脂層全体を100体積%とした場合に、他の成分は70体積%以下(好ましくは60体積%以下、より好ましくは50体積%以下、0体積%であってもよい)である。   The second resin layer may contain other components in addition to the thermosetting resin. Examples of other components include a curing agent (which may be a curing agent residue that has achieved its function after curing), a curing accelerator, and a filler (the filler in the first resin layer can be applied as it is). . Furthermore, other components in the first resin layer are added. These may use only 1 type and may use 2 or more types together. Usually, when the second resin layer is 100% by volume, the other components are 70% by volume or less (preferably 60% by volume or less, more preferably 50% by volume or less, or 0% by volume). It is.

この第2の樹脂層は、この第2の樹脂層単独で、平面方向の熱膨張係数と厚さ方向の熱膨張係数の間に特定の相関を有することが好ましい。即ち、第2の樹脂層の平面方向の熱膨張係数をα x−yとし、該第2の樹脂層の厚さ方向の熱膨張係数をα とした場合に、10×10−6≦α x−y(/℃)≦60×10−6であり、且つ、10×10−6≦α (/℃)≦60×10−6であることが好ましい。この範囲であれば、第1の樹脂層と第2樹脂層との間、及び多層樹脂層と配線基板との間の剥がれやデラミネーションをより効果的に防止できる。特に第2の樹脂層に上記フィラー(他層との熱膨張差を低減する目的等)が含有される場合においても、α x−y及びα が各々上記範囲であれば熱硬化性樹脂(完全硬化前の状態)の積層時における流動性(他層、他部品、これらの表面、他層が有するパターン等への追従性)を十分に確保できる。従って、第2の樹脂層の積層時の流動性(他層への追従性)、及び、硬化された後の第2の樹脂層と他層との熱膨張差抑制のバランスを好ましい範囲で保つことができる。
尚、上記各熱膨張係数の測定方法については後述する。
It is preferable that the second resin layer has a specific correlation between the thermal expansion coefficient in the plane direction and the thermal expansion coefficient in the thickness direction by itself. That is, when the thermal expansion coefficient in the planar direction of the second resin layer is α 2 xy and the thermal expansion coefficient in the thickness direction of the second resin layer is α 2 z , 10 × 10 −6 It is preferable that ≦ α 2 xy (/ ° C.) ≦ 60 × 10 −6 and 10 × 10 −6 ≦ α 2 z (/ ° C.) ≦ 60 × 10 −6 . Within this range, peeling and delamination between the first resin layer and the second resin layer and between the multilayer resin layer and the wiring board can be more effectively prevented. In particular, even when the second resin layer contains the filler (for the purpose of reducing the difference in thermal expansion from other layers, etc.), if α 2 xy and α 2 z are within the above ranges, thermosetting Fluidity (followability to other layers, other parts, their surfaces, patterns of other layers, etc.) at the time of lamination of the resin (state before complete curing) can be sufficiently secured. Therefore, the balance of fluidity (followability to other layers) at the time of lamination of the second resin layer and suppression of the difference in thermal expansion between the second resin layer after curing and the other layers is maintained within a preferable range. be able to.
In addition, the measuring method of each said thermal expansion coefficient is mentioned later.

上記「貫通導体」は、第1の樹脂層と第2の樹脂層とを貫通した導体である。(1)第2の樹脂層を第1の樹脂層の片面のみに備える場合、貫通導体は第1の樹脂層とその片面の第2の樹脂層とを貫通して備える。また、(2)第2の樹脂層を第1の樹脂層の両面に備える場合、貫通導体は第1の樹脂層とその両面の第2の樹脂層とを貫通して備えられてもよく、第1の樹脂層と第2の樹脂層のうちの一方のみを貫通して備えられていてもよい。
この貫通導体の形状は特に限定されないが、通常、略円柱形状である。また、この貫通導体の大きさは特に限定されないが、通常、その直径(円柱形状でない場合には最大長さ)は、直径300μm以下である。
The “penetrating conductor” is a conductor penetrating the first resin layer and the second resin layer. (1) When the second resin layer is provided only on one surface of the first resin layer, the through conductor includes the first resin layer and the second resin layer on one surface thereof. Further, (2) when the second resin layer is provided on both sides of the first resin layer, the through conductor may be provided through the first resin layer and the second resin layer on both sides thereof. It may be provided through only one of the first resin layer and the second resin layer.
The shape of the through conductor is not particularly limited, but is usually a substantially cylindrical shape. The size of the through conductor is not particularly limited, but usually the diameter (maximum length in the case of a non-cylindrical shape) is 300 μm or less.

この貫通導体としては、樹脂と導電性フィラーとを含有する導体ペースト(以下、単に「圧接型ペースト」という)からなる導体(以下、単に「圧接型貫通導体」という)が挙げられる。更に、酸化銀粒子、有機金属化合物、超微粒金属粒子及び低融点金属粒子のうちの少なくともいずれかを主成分とする導体ペースト(以下、単に「金属結合型ペースト」という)を低温焼結させた実質的に導電性材料(例えば、金属材料)のみからなる導体(以下、単に「金属結合型貫通導体」という)が挙げられる。これらの導体は1種のみを用いてもよく、2種以上を併用してもよい。   Examples of the through conductor include a conductor (hereinafter simply referred to as “pressure contact type through conductor”) made of a conductor paste (hereinafter simply referred to as “pressure contact type paste”) containing a resin and a conductive filler. Furthermore, a conductor paste (hereinafter simply referred to as “metal-bonded paste”) containing at least one of silver oxide particles, organometallic compounds, ultrafine metal particles, and low melting point metal particles as a main component was sintered at low temperature. Examples thereof include conductors (hereinafter simply referred to as “metal-bonded through conductors”) that are substantially made of only a conductive material (for example, a metal material). These conductors may use only 1 type and may use 2 or more types together.

上記のうち圧接型貫通導体を構成する樹脂の種類は特に限定されず、熱可塑性樹脂であってもよく、熱硬化樹脂であってもよい。このうち熱可塑性樹脂としては、前記第1の樹脂層に含有される熱可塑性樹脂をそのまま適用できる。但し、第1の樹脂層の樹脂と貫通導体の樹脂とは同じであってもよく、異なっていてもよい。   Among the above, the kind of resin constituting the press-contact type through conductor is not particularly limited, and may be a thermoplastic resin or a thermosetting resin. Among these, as a thermoplastic resin, the thermoplastic resin contained in the said 1st resin layer can be applied as it is. However, the resin of the first resin layer and the resin of the through conductor may be the same or different.

また、圧接型貫通導体を構成する導電性フィラーとしては、金属製フィラー及びカーボン製フィラー等が挙げられる。金属製フィラーとしては、銅、銀、金、白金、アルミニウム及びニッケル等の金属からなるフィラーが挙げられる。これらの金属は1種のみが含有されてもよく、2種以上が含有されてもよい。カーボン製フィラーとしては、カーボンブラック、カーボンナノチューブ等のカーボンからなるフィラーが挙げられる。これらのカーボンは1種のみが含有されてもよく、2種以上が含有されてもよい。また、これらの金属製フィラー及びカーボン製フィラー等は1種のみを用いてもよく、2種以上を併用してもよい。更に、導電性フィラーの形状は特に限定されず、球形状、柱形状、針形状、平板形状、及び繊維形状等が挙げられる。これらの形状は1種のみを用いてもよく、2種以上のものを併用してもよい。これらの形状のなかでは球形状が好ましい。   Moreover, as a conductive filler which comprises a press-contact type penetration conductor, a metal filler, a carbon filler, etc. are mentioned. Examples of the metal filler include fillers made of metals such as copper, silver, gold, platinum, aluminum, and nickel. Only 1 type may contain these metals and 2 or more types may contain them. Examples of the carbon filler include fillers made of carbon such as carbon black and carbon nanotubes. Only one kind of these carbons may be contained, or two or more kinds thereof may be contained. Moreover, these metal fillers, carbon fillers, etc. may use only 1 type and may use 2 or more types together. Furthermore, the shape of the conductive filler is not particularly limited, and examples thereof include a spherical shape, a column shape, a needle shape, a flat plate shape, and a fiber shape. These shapes may use only 1 type and may use 2 or more types together. Among these shapes, a spherical shape is preferable.

圧接型貫通導体における導電性フィラーの大きさは特に限定されないが、平均粒径(球形状以外の形状においては最大長)は10μm以下(より好ましくは8μm以下、更に好ましくは1〜7μm)であることが好ましい。この範囲であれば多層樹脂層の製造時に導電性ペーストの充填を特にスムーズに行うことができる。
更に、圧接型貫通導体に含有される上記樹脂と導電性フィラーとの割合は特に限定されないが、上記樹脂と導電性フィラーとの合計を100体積%とした場合に、導電性フィラーは40体積%以上(より好ましくは45体積%以上、更に好ましくは50体積%以上)であることが好ましい。この範囲であれば優れた導電性を得ることができる。
The size of the conductive filler in the press-contact type through conductor is not particularly limited, but the average particle diameter (maximum length in a shape other than a spherical shape) is 10 μm or less (more preferably 8 μm or less, and further preferably 1 to 7 μm). It is preferable. Within this range, the conductive paste can be filled particularly smoothly during the production of the multilayer resin layer.
Furthermore, the ratio of the resin and the conductive filler contained in the press-contact through conductor is not particularly limited, but when the total of the resin and the conductive filler is 100% by volume, the conductive filler is 40% by volume. It is preferable that it is above (more preferably 45% by volume or more, further preferably 50% by volume or more). Within this range, excellent conductivity can be obtained.

一方、上記金属結合型貫通導体を構成する金属種は特に限定されない。例えば、銀、銅、すず、鉛、金及びアルミニウム等が挙げられる。この貫通導体を得るためのペーストは、通常、酸化銀粒子、有機金属化合物、超微粒金属粒子及び低融点金属粒子のうちの少なくともいずれかを主成分とする。上記酸化銀が含有されるペーストは、酸化銀の加熱還元時の熱融着特性により銀導体が得られるペーストである。上記有機金属化合物が含有されるペーストは、有機金属化合物の有機質部位が熱分解により焼失されて金属導体が得られるペーストである。超微粒金属粒子が含有されるペーストは、超微粒金属粒子の高い表面活性能により互いに熱融着されて金属導体が得られるペーストである。上記低融点金属粒子が含有されるペーストは、低融点金属粒子が加熱融着されて金属導体が得られるペーストである。これらの金属結合型ペーストは1種のみを用いてもよく、2種以上を併用してもよい。   On the other hand, the metal species constituting the metal bonded through conductor is not particularly limited. For example, silver, copper, tin, lead, gold, aluminum and the like can be mentioned. The paste for obtaining this through conductor usually contains at least one of silver oxide particles, organometallic compounds, ultrafine metal particles and low melting point metal particles as a main component. The silver oxide-containing paste is a paste from which a silver conductor can be obtained by heat-sealing characteristics during heat reduction of silver oxide. The paste containing the organometallic compound is a paste in which the organic portion of the organometallic compound is burned off by thermal decomposition to obtain a metal conductor. The paste containing ultrafine metal particles is a paste in which a metal conductor is obtained by heat fusion with each other due to the high surface activity of the ultrafine metal particles. The paste containing the low melting point metal particles is a paste in which the low melting point metal particles are heat-fused to obtain a metal conductor. These metal bond type pastes may use only 1 type and may use 2 or more types together.

多層樹脂層を構成する上記第1の樹脂層、上記第2の樹脂層及び上記貫通導体とは、各々特定の相関を有していることで特に効果的に機能させることができる。
このうち第1の樹脂層の厚さと第2の樹脂層の厚さとの間には下記の相関を有することが好ましい。即ち、第2の樹脂層の厚さは、第1の樹脂層の厚さの1/40〜1/2(より好ましくは1/30〜1/3、特に好ましくは1/20〜1/5)であることが好ましい。この範囲では第1の樹脂層の特性と第2の樹脂層の特性とを相乗的に得ることができる。即ち、多層樹脂層全体としての保形性を十分に確保できる。また、貫通導体を確実に形成することができる。更に、優れた接合性及び優れた追従性が十分に発揮される。また、加熱時の熱可塑性樹脂の流動性を十分に抑制できる。更に、第1の樹脂層の厚さは特に限定されないが1000μm以下(500μm以下がより好ましく、200μm以下が更に好ましく、2〜200μmがより更に好ましく、5〜100μmが特に好ましく、5〜35μmがとりわけ好ましい)が好ましい。また、第2の樹脂層の厚さは、接合される配線基板が備える導体パターンの厚さとその配置面積により適宜の厚さとすることが好ましく、特に限定されないが、1000μm以下(12〜1000μmがより好ましく、12〜200μmが更に好ましく、20〜100μmが特に好ましい)が好ましい。
The first resin layer, the second resin layer, and the through conductor constituting the multilayer resin layer can function particularly effectively by having a specific correlation with each other.
Among these, it is preferable to have the following correlation between the thickness of the first resin layer and the thickness of the second resin layer. That is, the thickness of the second resin layer is 1/40 to 1/2 of the thickness of the first resin layer (more preferably 1/30 to 1/3, particularly preferably 1/20 to 1/5). ) Is preferable. Within this range, the characteristics of the first resin layer and the characteristics of the second resin layer can be obtained synergistically. That is, the shape retention property as the whole multilayer resin layer can be sufficiently secured. In addition, the through conductor can be reliably formed. Furthermore, excellent bondability and excellent followability are sufficiently exhibited. Moreover, the fluidity | liquidity of the thermoplastic resin at the time of a heating can fully be suppressed. Furthermore, the thickness of the first resin layer is not particularly limited, but is 1000 μm or less (500 μm or less is more preferable, 200 μm or less is more preferable, 2 to 200 μm is still more preferable, 5 to 100 μm is particularly preferable, and 5 to 35 μm is especially preferable. Preferred). The thickness of the second resin layer is preferably an appropriate thickness depending on the thickness of the conductor pattern provided on the wiring board to be bonded and the arrangement area thereof, and is not particularly limited, but is 1000 μm or less (12 to 1000 μm is more). 12 to 200 μm is more preferable, and 20 to 100 μm is particularly preferable.

また、第1の樹脂層の熱膨張係数と貫通導体の熱膨張係数との間には下記の相関を有することが好ましい。即ち、第1の樹脂層の平面方向の熱膨張係数をα x−yとし、第1の樹脂層の厚さ方向の熱膨張係数をα とし、貫通導体の熱膨張係数をαとした場合に、−10×10−6≦α x−y(/℃)≦30×10−6であり、且つ、α ≧αであることが好ましい。この範囲であれば、第1の樹脂層と第2樹脂層との間、及び多層樹脂層と配線基板との間の剥がれやデラミネーションをより効果的に防止できる。 Moreover, it is preferable to have the following correlation between the thermal expansion coefficient of a 1st resin layer and the thermal expansion coefficient of a penetration conductor. That is, the thermal expansion coefficient in the plane direction of the first resin layer is α 1 xy , the thermal expansion coefficient in the thickness direction of the first resin layer is α 1 z, and the thermal expansion coefficient of the through conductor is α 3. In this case, it is preferable that −10 × 10 −6 ≦ α 1 xy (/ ° C.) ≦ 30 × 10 −6 and α 1 z ≧ α 3 . Within this range, peeling and delamination between the first resin layer and the second resin layer and between the multilayer resin layer and the wiring board can be more effectively prevented.

本発明における熱膨張係数は、測定対象とする層(第1の樹脂層及び第2の樹脂層)を、長さ10mm且つ断面積0.2mmの短冊状の試験片に切り出し、引張り荷重0.3gで試験片を装置に固定し、室温から5℃/分の割合で昇温させて、熱応力歪み測定装置(株式会社リガク製、形式「TMA8310」)により測定された線膨張係数をいうものとする。また、前記熱膨張係数のうちα x−y、α x−y及びαは、各々各層における樹脂の流れ方向(押出形成による押し出し方向)をX方向とし、その直交方向をY方向として、これらの各方向の50℃〜150℃における線熱膨張係数の平均値である。更に、α 及びα は、各々各層における樹脂の流れ方向(押出形成による押し出し方向)をX方向とし、その直交方向をY方向とし、これらX方向及びY方向のいずれにも直交する方向の線熱膨張係数である。このα 及びα の測定に際しての試験片形状は、長さ10mm×幅2.6mm×厚さ3.8mmとする。尚、上記αは、通常、貫通導体の熱膨張係数が等方性である(仮に方向による熱膨張係数差を有していたとしても小さく無視し得る程度である)ため、測定方向は限定されない。 In the present invention, the thermal expansion coefficient is determined by cutting out the layers to be measured (first resin layer and second resin layer) into strip-shaped test pieces having a length of 10 mm and a cross-sectional area of 0.2 mm 2 , and a tensile load of 0 The linear expansion coefficient measured by a thermal stress strain measurement device (manufactured by Rigaku Corporation, “TMA8310”) after fixing the test piece to the device at 3 g and raising the temperature from room temperature at a rate of 5 ° C./min. Shall. Of the thermal expansion coefficients, α 1 xy , α 2 xy, and α 3 each have a resin flow direction (extrusion direction by extrusion formation) in each layer as an X direction and an orthogonal direction as a Y direction. These are the average values of the linear thermal expansion coefficients at 50 ° C. to 150 ° C. in the respective directions. Further, α 1 z and α 2 z are respectively the resin flow direction (extrusion direction by extrusion formation) in each layer as the X direction, the orthogonal direction thereof as the Y direction, and orthogonal to both the X direction and the Y direction. Is the linear thermal expansion coefficient in the direction. The shape of the test piece at the time of measuring α 1 z and α 2 z is 10 mm long × 2.6 mm wide × 3.8 mm thick. Note that, since α 3 is usually isotropic in thermal expansion coefficient of the through conductor (even if it has a thermal expansion coefficient difference depending on the direction, it is negligibly small), the measurement direction is limited. Not.

上記「配線基板」は、少なくとも片面に導体パターンを有する基板である。また、この導体パターンは貫通導体と電気的に接続される導体パターンである。
この導体パターンは、導電性を有する(即ち、常温において、通常、3μΩ・cm以下)パターニングされた層である。導体パターンの形状及び厚さ等は特に限定されないが、通常、200μm以下(好ましくは100μm以下、より好ましくは20μm以下)である。更に、導体パターンを構成する導体材料は特に限定されず、例えば、銅、銀、金、白金、ニッケル、スズ及び鉛及びこれらのうちの2種以上の合金等が挙げられる。これらの導体材料は1種のみを用いてもよく、2種以上を併用してもよい。
The “wiring board” is a board having a conductor pattern on at least one side. Further, this conductor pattern is a conductor pattern electrically connected to the through conductor.
This conductor pattern is a patterned layer having conductivity (that is, usually 3 μΩ · cm or less at normal temperature). The shape, thickness, and the like of the conductor pattern are not particularly limited, but are usually 200 μm or less (preferably 100 μm or less, more preferably 20 μm or less). Furthermore, the conductor material which comprises a conductor pattern is not specifically limited, For example, copper, silver, gold | metal | money, platinum, nickel, tin, lead, and 2 or more types of these etc. are mentioned. These conductive materials may be used alone or in combination of two or more.

また、配線基板は、通常、導体パターンの絶縁を行う絶縁層を備える。絶縁層を構成する絶縁材料は特に限定されない。即ち、例えば、有機材料であってもよく、無機材料であってもよい。
有機材料としては、上記第1の樹脂層に含有される熱可塑性樹脂、及び上記第2の樹脂層に含有される熱硬化樹脂が挙げられる。また、これら以外に、ビスマレイミド・トリアジン系樹脂、フッ素樹脂、フェノール系樹脂、キシレン系樹脂、熱硬化性PPE(ポリフェニレンエーテル)系樹脂、BCB(ベンゾシクロブテン)及びポリノルボルネン等が挙げられる。これらの有機材料は1種のみを用いてもよく、2種以上を併用してもよい。更に、この絶縁層は、前記各種フィラー及び芯材{ガラスクロス、ガラス不織布、樹脂(ポリアミド等)クロス、樹脂(ポリアミド等)不織布、樹脂(ポリアミド等)フィルム、PTFE(ポリテトラフルオロエチレン)等}を含有できる。これらのフィラー及び芯材は1種のみを用いてもよく、2種以上を併用してもよい。
また、無機材料としては、各種セラミックス材料(チタン酸金属塩等の誘電体磁器材料、ガラスセラミックス材料など)が挙げられる。
In addition, the wiring board usually includes an insulating layer that insulates the conductor pattern. The insulating material constituting the insulating layer is not particularly limited. That is, for example, an organic material or an inorganic material may be used.
Examples of the organic material include a thermoplastic resin contained in the first resin layer and a thermosetting resin contained in the second resin layer. Other than these, bismaleimide / triazine resin, fluororesin, phenol resin, xylene resin, thermosetting PPE (polyphenylene ether) resin, BCB (benzocyclobutene), polynorbornene, and the like can be given. These organic materials may use only 1 type and may use 2 or more types together. Further, this insulating layer is composed of the various fillers and core materials {glass cloth, glass nonwoven fabric, resin (polyamide, etc.) cloth, resin (polyamide, etc.) nonwoven fabric, resin (polyamide, etc.) film, PTFE (polytetrafluoroethylene), etc.} Can be contained. These fillers and core materials may be used alone or in combination of two or more.
Examples of inorganic materials include various ceramic materials (dielectric ceramic materials such as metal titanate, glass ceramic materials, etc.).

この配線基板の形態は特に限定されず、単層基板(絶縁層と、この絶縁層の片面又は両面に形成された導体パターンを備える)であってもよく、多層配線基板(2層以上の絶縁層と2層以上の導体パターンとを交互に積層して備える)であってもよい。これらのなかでは、上記単層基板を用いた場合に、上記多層樹脂層を用いることによる効果を特に得やすい。特に絶縁層が可とう性のあるフレキシブル基板であることが好ましい。即ち、フレキシブル基板を用いた場合には、図6〜9に示すように部分的にフレキシブル化させた多層配線基板を得ることができる。この基板では実質的にリジッド部分200と、フレキシブル部分300との2つの基板部分がコネクタを用いることなく接続された構造となっている。このため、特に省スペース性に優れた多層配線基板を得ることができる。   The form of the wiring board is not particularly limited, and may be a single-layer board (including an insulating layer and a conductor pattern formed on one or both sides of the insulating layer), and a multilayer wiring board (insulating two or more layers). Layer and two or more layers of conductive patterns may be alternately stacked). Among these, when the single-layer substrate is used, the effect of using the multilayer resin layer is particularly easily obtained. In particular, the flexible substrate is preferably a flexible flexible substrate. That is, when a flexible substrate is used, a multilayer wiring substrate partially flexible as shown in FIGS. 6 to 9 can be obtained. This board has a structure in which two board parts, ie, a rigid part 200 and a flexible part 300 are connected without using a connector. For this reason, it is possible to obtain a multilayer wiring board particularly excellent in space saving.

上記フレキシブル基板とは、その配線基板が全体として可とう性を有するものであり、通常、樹脂部を有することで可とう性を有する。この樹脂部は、通常、絶縁層として利用されている。その他、フレキシブル基板は、この絶縁層と、この絶縁層の片面又は両面に形成された導体パターンとを備える。即ち、例えば、フレキシブル基板は、1層の絶縁層と、この絶縁層の片面又は両面に形成された導体パターンとからなる。   The flexible substrate has flexibility as a whole of the wiring substrate, and usually has flexibility by having a resin portion. This resin part is normally used as an insulating layer. In addition, the flexible substrate includes the insulating layer and a conductor pattern formed on one side or both sides of the insulating layer. That is, for example, the flexible substrate is composed of one insulating layer and a conductor pattern formed on one or both surfaces of this insulating layer.

上記樹脂部を構成する樹脂の種類は特に限定されず、熱可塑性樹脂であってもよく、熱硬化樹脂であってもよいが、通常、可とう性を要するために熱可塑性樹脂である。この熱可塑性樹脂としては、前記第1の樹脂層において挙げた各種熱可塑性樹脂をそのまま適用できる。即ち、ポリイミド系樹脂(PEI、熱可塑性ポリイミド樹脂、ポリアミドイミド樹脂等)、液晶ポリマー、ポリアリールケトン樹脂(PEEK、PEK、PEKK等)などが挙げられる。これらの熱可塑性樹脂は1種のみを用いてもよく、2種以上を併用してもよい。これらの熱可塑性樹脂のなかでは、ポリイミド系樹脂が好ましい。   The type of the resin constituting the resin portion is not particularly limited, and may be a thermoplastic resin or a thermosetting resin, but is usually a thermoplastic resin because it requires flexibility. As this thermoplastic resin, the various thermoplastic resins mentioned in the first resin layer can be applied as they are. That is, polyimide resin (PEI, thermoplastic polyimide resin, polyamideimide resin, etc.), liquid crystal polymer, polyaryl ketone resin (PEEK, PEK, PEKK, etc.) and the like can be mentioned. These thermoplastic resins may use only 1 type and may use 2 or more types together. Of these thermoplastic resins, polyimide resins are preferred.

また、このフレキブル基板を構成する樹脂部は、1%重量減温度(熱重量測定装置を用いて大気下で測定)が300℃以上(より好ましくは350℃以上、更に好ましくは400℃以上)であることが好ましい。この範囲では優れた耐熱性を有する多層基板を得ることができる。
更に、フレキシブル基板を構成する樹脂部のガラス転移点は特に限定されないが180℃以上(より好ましくは200℃以上、更に好ましくは250℃以上)であることが好ましい。この範囲では特に優れた耐熱性を有する多層基板を得ることができる。更には、第2の樹脂層に用いる熱硬化性樹脂の硬化温度と、第1の樹脂層を構成する熱可塑性樹脂の適度な流動性が得られる温度範囲とを重複する温度範囲でコントロールできる。また、フレキブル基板を構成する樹脂部の厚さは特に限定されないが、通常、50μm以下である。
尚、上記配線基板を構成する導体パターンについては、形状、厚さ及び材質等、特に限定されず、従来公知の導体パターンを用いることができる。
Further, the resin part constituting this flexible substrate has a 1% weight loss temperature (measured in the atmosphere using a thermogravimetric measuring device) of 300 ° C. or higher (more preferably 350 ° C. or higher, more preferably 400 ° C. or higher). Preferably there is. Within this range, a multilayer substrate having excellent heat resistance can be obtained.
Further, the glass transition point of the resin portion constituting the flexible substrate is not particularly limited, but is preferably 180 ° C. or higher (more preferably 200 ° C. or higher, still more preferably 250 ° C. or higher). Within this range, a multilayer substrate having particularly excellent heat resistance can be obtained. Furthermore, it is possible to control the curing temperature of the thermosetting resin used for the second resin layer and the temperature range in which an appropriate fluidity of the thermoplastic resin constituting the first resin layer is obtained in an overlapping temperature range. Moreover, the thickness of the resin part which comprises a flexible board | substrate is although it does not specifically limit, Usually, it is 50 micrometers or less.
In addition, about a conductor pattern which comprises the said wiring board, a shape, thickness, a material, etc. are not specifically limited, A conventionally well-known conductor pattern can be used.

本発明の多層配線基板における積層構造部は、上記多層樹脂層及び上記配線基板以外にも他部(他層及び部品を含む)を備えることができる。他部としては、金属からなる放熱板を挙げることができる。この放熱板は、多層配線基板の使用時に多層配線基板に蓄熱されて電気的特性が変化することを防止するために、多層配線基板で生じる熱を外部へ熱伝導及び放熱する機能を有する層である。この放熱板を構成する金属の種類は特に限定されないが、銅及びアルミニウム等を主成分として含有することがき、銅箔(実質的に銅のみからなる)又はアルミニウム箔等を用いることができる。また、放熱板の厚さは特に限定されないが、通常、3mm以下(好ましくは2mm以下、より好ましくは1mm以下)である。   The laminated structure part in the multilayer wiring board of the present invention can include other parts (including other layers and components) in addition to the multilayer resin layer and the wiring board. An example of the other part is a heat sink made of metal. This heat radiating plate is a layer having a function of conducting and radiating heat generated in the multilayer wiring board to the outside in order to prevent the electrical characteristics from being changed due to heat stored in the multilayer wiring board when the multilayer wiring board is used. is there. Although the kind of metal which comprises this heat sink is not specifically limited, Copper and aluminum etc. can be contained as a main component, and copper foil (it consists only of copper) or aluminum foil etc. can be used. The thickness of the heat sink is not particularly limited, but is usually 3 mm or less (preferably 2 mm or less, more preferably 1 mm or less).

また、積層構造部は、上記多層樹脂層、上記配線基板及び上記放熱板以外にも他部を備えることができる。他部としては、後述する図8に例示する多層配線基板100fが有するレジスト層等の保護層150や、後述する図9に例示する多層配線基板100gが有するめっき層125等が挙げられる。その他、カバーレイ等の層が挙げられる。これらの層は1種のみを用いてもよく、2種以上を併用してもよい。   Further, the laminated structure portion can include other portions in addition to the multilayer resin layer, the wiring board, and the heat sink. Examples of other parts include a protective layer 150 such as a resist layer included in a multilayer wiring substrate 100f illustrated in FIG. 8 described later, a plating layer 125 included in a multilayer wiring substrate 100g illustrated in FIG. 9 described later, and the like. In addition, a layer such as a coverlay may be mentioned. These layers may use only 1 type and may use 2 or more types together.

本発明の多層配線基板は、上記多層構造部以外にも他部を備えることができる。他部としては、レジスト層、めっき層、カバーレイ等の各種層が挙げられる。また、外部装置{各種部品(能動部品、受動部品)、他の配線基板}等との接続に使用されるハンダバンプ、ハンダボール等の接続端子が挙げられる。更に、各種電子部品(能動部品、受動部品、変換部品及び接続部品等)などが挙げられる。これらは1種のみを用いてもよく、2種以上を併用してもよい。   The multilayer wiring board of the present invention can include other parts in addition to the multilayer structure part. Examples of other parts include various layers such as a resist layer, a plating layer, and a coverlay. Further, connection terminals such as solder bumps and solder balls used for connection to external devices {various components (active components, passive components), other wiring boards} and the like can be mentioned. Furthermore, various electronic components (active component, passive component, conversion component, connection component, etc.), etc. are mentioned. These may use only 1 type and may use 2 or more types together.

以下、本発明の多層配線基板の構造例について図3〜12を用いて説明する。
〔1〕図3に示す多層配線基板100a
図3に示す多層配線基板100aは、一面側から他面側にかけて下記(1)〜(7)の各層がこの順に積層されて備えられた本発明の多層配線基板の一例である。
(1)『他層130a』;熱可塑性樹脂を含有し且つ貫通孔133が形成された第1の樹脂層131とこの第1の樹脂層131の一面に配置された熱硬化樹脂を含有する第2の樹脂層132とを備える層。第2の樹脂層132は下記(2)のフレキシブル基板120側に配置されている。
(2)『フレキシブル基板120』;熱可塑性樹脂を含有する第1の樹脂層121と、第1の樹脂層121の両面に配置された導体パターン123と、表裏の導体パターン123を電気的に接続する貫通導体122とを備える配線基板。
(3)『多層樹脂層110a』;熱可塑性樹脂を含有する第1の樹脂層111とこの第1の樹脂層111の両面に配置された熱硬化樹脂を含有する第2の樹脂層112と、第1の樹脂層及び第2の樹脂層を貫通して設けられた貫通導体113とを備える層。
(4)『フレキシブル基板120』;上記(2)と同じ層。
(5)『多層樹脂層110a』;上記(3)と同じ層。
(6)『フレキシブル基板120』;上記(2)と同じ層。
(7)『他層130a』;上記(1)と同じ構成の層。第2の樹脂層132は上記(6)のフレキシブル基板120側に配置されている。
Hereinafter, structural examples of the multilayer wiring board of the present invention will be described with reference to FIGS.
[1] Multilayer wiring board 100a shown in FIG.
A multilayer wiring board 100a shown in FIG. 3 is an example of the multilayer wiring board according to the present invention in which the following layers (1) to (7) are stacked in this order from one side to the other side.
(1) “Other layer 130a”; a first resin layer 131 containing a thermoplastic resin and having a through-hole 133 formed therein, and a first resin layer containing a thermosetting resin disposed on one surface of the first resin layer 131. A layer comprising two resin layers 132. The second resin layer 132 is disposed on the flexible substrate 120 side of (2) below.
(2) “Flexible substrate 120”; electrically connecting the first resin layer 121 containing a thermoplastic resin, the conductor pattern 123 disposed on both surfaces of the first resin layer 121, and the conductor patterns 123 on the front and back sides. A wiring board comprising a through conductor 122.
(3) “Multilayer resin layer 110a”; a first resin layer 111 containing a thermoplastic resin, and a second resin layer 112 containing a thermosetting resin disposed on both surfaces of the first resin layer 111; A layer provided with a through conductor 113 provided through the first resin layer and the second resin layer.
(4) “Flexible substrate 120”; the same layer as (2) above.
(5) “Multilayer resin layer 110a”; the same layer as in (3) above.
(6) “Flexible substrate 120”; the same layer as (2) above.
(7) “Other layer 130a”; a layer having the same structure as in (1) above. The second resin layer 132 is disposed on the flexible substrate 120 side in (6) above.

〔2〕図4に示す多層配線基板100b
図4に示す多層配線基板100bは、一面側から他面側にかけて下記(1)〜(9)の各層がこの順に積層されて備えられた本発明の多層配線基板の他例である。この多層配線基板100bは、一面側から他面側にかけて下記(1)〜(9)の各層がこの順に積層されて備えられている。
(1)『配線パターン140』;無電解めっき法及び電解めっき法を併用して得られた金属膜をフォトリソ法によりパターニングして得ることができる層。
(2)『多層樹脂層110b』;熱可塑性樹脂を含有する第1の樹脂層111とこの第1の樹脂層111の一面に配置された熱硬化樹脂を含有する第2の樹脂層112と、第1の樹脂層及び第2の樹脂層を貫通して設けられた貫通導体113とを備える層。第2の樹脂層112は下記(3)のフレキシブル基板120側に配置されている。
(3)『フレキシブル基板120』;熱可塑性樹脂を含有する第1の樹脂層121と、第1の樹脂層121の両面に配置された導体パターン123と、表裏の導体パターン123を電気的に接続する貫通導体122とを備える配線基板。
(4)『多層樹脂層110a』;熱可塑性樹脂を含有する第1の樹脂層111とこの第1の樹脂層111の両面に配置された熱硬化樹脂を含有する第2の樹脂層112と、第1の樹脂層及び第2の樹脂層を貫通して設けられた貫通導体113とを備える層。
(5)『フレキシブル基板120』;上記(3)と同じ層。
(6)『多層樹脂層110a』;上記(4)と同じ層。
(7)『フレキシブル基板120』;上記(3)と同じ層。
(8)『多層樹脂層110b』:上記(2)と同じ構成の層。第2の樹脂層112は上記(7)のフレキシブル基板120側に配置されている。
(9)『配線パターン140』:上記(1)と同じ層。
[2] Multilayer wiring board 100b shown in FIG.
A multilayer wiring board 100b shown in FIG. 4 is another example of the multilayer wiring board of the present invention in which the following layers (1) to (9) are stacked in this order from one surface side to the other surface side. The multilayer wiring board 100b is provided with the following layers (1) to (9) stacked in this order from one surface side to the other surface side.
(1) “Wiring pattern 140”; a layer that can be obtained by patterning a metal film obtained by using both an electroless plating method and an electrolytic plating method by a photolithography method.
(2) “Multilayer resin layer 110b”; a first resin layer 111 containing a thermoplastic resin, and a second resin layer 112 containing a thermosetting resin disposed on one surface of the first resin layer 111; A layer provided with a through conductor 113 provided through the first resin layer and the second resin layer. The second resin layer 112 is disposed on the flexible substrate 120 side of (3) below.
(3) “Flexible substrate 120”; electrically connecting the first resin layer 121 containing a thermoplastic resin, the conductor pattern 123 arranged on both surfaces of the first resin layer 121, and the conductor patterns 123 on the front and back sides. A wiring board comprising a through conductor 122.
(4) “Multilayer resin layer 110a”; a first resin layer 111 containing a thermoplastic resin and a second resin layer 112 containing a thermosetting resin disposed on both surfaces of the first resin layer 111; A layer provided with a through conductor 113 provided through the first resin layer and the second resin layer.
(5) “Flexible substrate 120”; the same layer as (3) above.
(6) “Multilayer resin layer 110a”; the same layer as in (4) above.
(7) “Flexible substrate 120”; same layer as (3) above.
(8) “Multilayer resin layer 110b”: a layer having the same configuration as in (2) above. The second resin layer 112 is disposed on the flexible substrate 120 side in (7) above.
(9) “Wiring pattern 140”: Same layer as in (1) above.

〔3〕図5に示す多層配線基板100c
図5に示す多層配線基板100cは、一面側から他面側にかけて下記(1)〜(5)の各層がこの順に積層されて備えられている。
(1)『フレキシブル基板120』;熱可塑性樹脂を含有する第1の樹脂層121と、第1の樹脂層121の両面に配置された導体パターン123と、表裏の導体パターン123を電気的に接続する貫通導体とを備える層。
(2)『多層樹脂層110a』;熱可塑性樹脂を含有する第1の樹脂層111とこの第1の樹脂層111の両面に配置された熱硬化樹脂を含有する第2の樹脂層112と、第1の樹脂層及び第2の樹脂層を貫通して設けられた貫通導体113とを備える層。
(3)『フレキシブル基板120』;上記(1)と同じ層。
(4)『多層樹脂層110a』;上記(2)と同じ層。
(5)『フレキシブル基板120』;上記(1)と同じ層。
尚、図5における(1)及び(5)のフレキシブル基板120に形成されたスルーホール内には、内壁面導体層からなる貫通導体122を有し、この内壁面導体層以外のスルーホールの残部は、フレキシブル基板120と多層樹脂層110aとが圧着される際に、多層樹脂層110aの第2の樹脂層112が塑性変形して充填されてなる充填部である。
[3] Multilayer wiring board 100c shown in FIG.
A multilayer wiring board 100c shown in FIG. 5 includes the following layers (1) to (5) stacked in this order from one surface side to the other surface side.
(1) “Flexible substrate 120”; electrically connecting the first resin layer 121 containing a thermoplastic resin, the conductor pattern 123 arranged on both surfaces of the first resin layer 121, and the conductor patterns 123 on the front and back sides A layer comprising a through conductor.
(2) “Multilayer resin layer 110a”; a first resin layer 111 containing a thermoplastic resin, and a second resin layer 112 containing a thermosetting resin disposed on both surfaces of the first resin layer 111; A layer provided with a through conductor 113 provided through the first resin layer and the second resin layer.
(3) “Flexible substrate 120”; the same layer as (1) above.
(4) “Multilayer resin layer 110a”; the same layer as in (2) above.
(5) “Flexible substrate 120”; the same layer as (1) above.
In addition, in the through hole formed in the flexible substrate 120 of (1) and (5) in FIG. 5, there is a through conductor 122 made of an inner wall surface conductor layer, and the remaining portion of the through hole other than the inner wall surface conductor layer Is a filling portion formed by plastic deformation and filling of the second resin layer 112 of the multilayer resin layer 110a when the flexible substrate 120 and the multilayer resin layer 110a are pressure-bonded.

〔4〕図6に示す多層配線基板100d
図6に示す多層配線基板100dは、一面側から他面側にかけて下記(1)〜(7)の各層がこの順に積層されて備えられているリジッド部分200と、一面側から他面側にかけて下記(3)〜(5)の各層がこの順に積層されてなるフレキシブル部分300とを備え、フレキシブル部分300を構成する(3)〜(5)の各層はリジッド部分200を構成する(3)〜(5)の一部である多層配線基板である。換言すれば、多層配線基板100dは、一面側から他面側にかけて下記(1)〜(7)の各層がこの順に積層されて備えられ、(1)〜(2)及び(6)〜(7)の層が部分的に存在しないフレキシブル部分300を備える。これらの各層は以下の通りである。
[4] Multilayer wiring board 100d shown in FIG.
A multilayer wiring board 100d shown in FIG. 6 includes a rigid portion 200 in which the following layers (1) to (7) are laminated in this order from one surface side to the other surface side, and the following from the one surface side to the other surface side. Each of the layers (3) to (5) includes a flexible portion 300 in which the layers are laminated in this order, and each of the layers (3) to (5) constituting the flexible portion 300 constitutes the rigid portion 200 (3) to ( 5) a multilayer wiring board which is a part of 5). In other words, the multilayer wiring board 100d includes the following layers (1) to (7) stacked in this order from one surface side to the other surface side, and (1) to (2) and (6) to (7 ) Of the flexible portion 300 that is partially absent. Each of these layers is as follows.

(1)『他層130a』;熱可塑性樹脂を含有し且つ貫通孔133が形成された第1の樹脂層131とこの第1の樹脂層131の一面に配置された熱硬化樹脂を含有する第2の樹脂層132とを備える層。第2の樹脂層132は下記(2)のフレキシブル基板120側に配置されている。
(2)『フレキシブル基板120』;熱可塑性樹脂を含有する第1の樹脂層121と、第1の樹脂層121の両面に配置された導体パターン123と、表裏の導体パターン123を電気的に接続する貫通導体122とを備える層。
(3)『多層樹脂層110a』;熱可塑性樹脂を含有する第1の樹脂層111とこの第1の樹脂層111の両面に配置された熱硬化樹脂を含有する第2の樹脂層112と、第1の樹脂層及び第2の樹脂層を貫通して設けられた貫通導体113とを備える層。
(4)『フレキシブル基板120』:上記と同じ層。
(5)『多層樹脂層110a』;上記と同じ層。
(6)『フレキシブル基板120』;上記と同じ層。
(7)『他層130a』;上記と同じ構成の層。第2の樹脂層132は上記(6)のフレキシブル基板120側に配置されている。
尚、フレキシブル部分300では、多層樹脂層110aは、フレキシブル基板120の表裏両面に配置された導体パターン123の保護層として機能している。
(1) “Other layer 130a”; a first resin layer 131 containing a thermoplastic resin and having a through-hole 133 formed therein, and a first resin layer containing a thermosetting resin disposed on one surface of the first resin layer 131. A layer comprising two resin layers 132. The second resin layer 132 is disposed on the flexible substrate 120 side of (2) below.
(2) “Flexible substrate 120”; electrically connecting the first resin layer 121 containing a thermoplastic resin, the conductor pattern 123 disposed on both surfaces of the first resin layer 121, and the conductor patterns 123 on the front and back sides. A layer comprising through conductors 122.
(3) “Multilayer resin layer 110a”; a first resin layer 111 containing a thermoplastic resin, and a second resin layer 112 containing a thermosetting resin disposed on both surfaces of the first resin layer 111; A layer provided with a through conductor 113 provided through the first resin layer and the second resin layer.
(4) “Flexible substrate 120”: Same layer as above.
(5) “Multilayer resin layer 110a”; the same layer as above.
(6) “Flexible substrate 120”; same layer as above.
(7) “Other layer 130a”; a layer having the same structure as above. The second resin layer 132 is disposed on the flexible substrate 120 side in (6) above.
In the flexible portion 300, the multilayer resin layer 110 a functions as a protective layer for the conductor pattern 123 disposed on both the front and back surfaces of the flexible substrate 120.

〔5〕図7に示す多層配線基板100e
図7に示す多層配線基板100eは、図6におけるフレキシブル部分300内のフレキシブル基板120が片面にのみ導体パターン123を備える多層配線基板である。このために、導体パターン123の保護層がフレキシブル基板120の一面側のみに形成されているものである。
即ち、多層配線基板100eは、一面側から他面側に向かって下記(1)〜(7)の各層がこの順に積層されて備えられているリジッド部分200と、一面側から他面側にかけて下記(3)〜(4)の各層がこの順に積層されてなるフレキシブル部分300とを備え、フレキシブル部分300を構成する(3)〜(4)の各層はリジッド部分200を構成する(3)〜(4)の一部である多層配線基板である。換言すれば、多層配線基板100eは、一面側から他面側にかけて下記(1)〜(7)の各層がこの順に積層されて備えられ、(1)〜(2)及び(5)〜(7)の層が部分的に存在しないフレキシブル部分300を備える。これらの各層は以下の通りである。
[5] Multilayer wiring board 100e shown in FIG.
A multilayer wiring board 100e illustrated in FIG. 7 is a multilayer wiring board in which the flexible substrate 120 in the flexible portion 300 in FIG. 6 includes the conductor pattern 123 only on one side. For this reason, the protective layer of the conductor pattern 123 is formed only on one surface side of the flexible substrate 120.
That is, the multilayer wiring board 100e includes a rigid part 200 in which the following layers (1) to (7) are stacked in this order from one surface side to the other surface side, and the following from the one surface side to the other surface side. (3) to (4) are provided with a flexible portion 300 in which the layers are laminated in this order, and the layers (3) to (4) constituting the flexible portion 300 constitute the rigid portion 200 (3) to ( This is a multilayer wiring board which is a part of 4). In other words, the multilayer wiring board 100e is provided with the following layers (1) to (7) laminated in this order from one surface side to the other surface side, and (1) to (2) and (5) to (7 ) Of the flexible portion 300 that is partially absent. Each of these layers is as follows.

(1)『他層130a』;熱可塑性樹脂を含有し且つ貫通孔133が形成された第1の樹脂層131とこの第1の樹脂層131の一面に配置された熱硬化樹脂を含有する第2の樹脂層132とを備える層。第2の樹脂層132は下記(2)のフレキシブル基板120側に配置されている。
(2)『フレキシブル基板120』;熱可塑性樹脂を含有する第1の樹脂層121と、第1の樹脂層121の両面に配置された導体パターン123と、表裏の導体パターン123を電気的に接続する貫通導体122とを備える層。
(3)『多層樹脂層110a』;熱可塑性樹脂を含有する第1の樹脂層111とこの第1の樹脂層111の両面に配置された熱硬化樹脂を含有する第2の樹脂層112と、第1の樹脂層及び第2の樹脂層を貫通して設けられた貫通導体113とを備える層。
(4)『フレキシブル基板120』;上記(2)と同じ層。
(5)『多層樹脂層110a』;上記(3)と同じ層。
(6)『フレキシブル基板120』;上記(2)と同じ層。
(7)『他層130a』:上記(1)と同じ構成の層。第2の樹脂層132は上記(6)のフレキシブル基板120側に配置されている。
(1) “Other layer 130a”; a first resin layer 131 containing a thermoplastic resin and having a through-hole 133 formed therein, and a first resin layer containing a thermosetting resin disposed on one surface of the first resin layer 131. A layer comprising two resin layers 132. The second resin layer 132 is disposed on the flexible substrate 120 side of (2) below.
(2) “Flexible substrate 120”; electrically connecting the first resin layer 121 containing a thermoplastic resin, the conductor pattern 123 disposed on both surfaces of the first resin layer 121, and the conductor patterns 123 on the front and back sides. A layer comprising through conductors 122.
(3) “Multilayer resin layer 110a”; a first resin layer 111 containing a thermoplastic resin, and a second resin layer 112 containing a thermosetting resin disposed on both surfaces of the first resin layer 111; A layer provided with a through conductor 113 provided through the first resin layer and the second resin layer.
(4) “Flexible substrate 120”; the same layer as (2) above.
(5) “Multilayer resin layer 110a”; the same layer as in (3) above.
(6) “Flexible substrate 120”; the same layer as (2) above.
(7) “Other layer 130a”: a layer having the same configuration as in (1) above. The second resin layer 132 is disposed on the flexible substrate 120 side in (6) above.

尚、図6の多層配線基板100dと、図7の多層配線基板100eとは、(4)のフレキシブル基板120がフレキシブル部分200において両面に導体パターン123を備えるか、片面にのみ導体パターン123を備えるか、の違いによる。即ち、図6の多層配線基板100dはフレキシブル部分200においても(4)のフレキシブル基板120がその両面に導体パターン123を有する。このために、両方の導体パターン123を保護するために、(3)の多層樹脂層110a及び(5)の多層樹脂層110aの両層がフレキシブル部分200にも存在している。   The multilayer wiring board 100d in FIG. 6 and the multilayer wiring board 100e in FIG. 7 are configured such that the flexible substrate 120 in (4) has the conductor pattern 123 on both sides in the flexible portion 200 or the conductor pattern 123 only on one side. Or depending on the difference. That is, in the multilayer wiring substrate 100d of FIG. 6, the flexible substrate 120 of (4) also has the conductor pattern 123 on both surfaces of the flexible portion 200. For this reason, in order to protect both conductor patterns 123, both the multilayer resin layer 110a of (3) and the multilayer resin layer 110a of (5) are also present in the flexible portion 200.

〔6〕図8に示す多層配線基板100f
図8に示す多層配線基板100fは、図6におけるフレキシブル部分200において、(4)のフレキシブル基板120の導体パターン123の保護に多層樹脂層110aを用いず、別体に形成した保護層150を用いた多層配線基板である。
即ち、多層配線基板100fは、一面側から他面側に向かって下記(1)〜(7)の各層がこの順に積層されて備えられているリジッド部分200と、一面側から他面側にかけて下記(8)、(4)、(8)の各層がこの順に積層されてなるフレキシブル部分300とを備え、フレキシブル部分300を構成する(4)のフレキシブル基板はリジッド部分200を構成する(4)のフレキシブル基板の一部であり、(8)は別体に形成された保護層150である多層配線基板である。これらの各層は以下の通りである。
[6] Multilayer wiring board 100f shown in FIG.
The multilayer wiring board 100f shown in FIG. 8 uses the protective layer 150 formed separately in the flexible part 200 in FIG. 6 without using the multilayer resin layer 110a to protect the conductor pattern 123 of the flexible board 120 in (4). A multilayer wiring board.
That is, the multilayer wiring board 100f includes a rigid portion 200 in which the following layers (1) to (7) are stacked in this order from one surface side to the other surface side, and the following from the one surface side to the other surface side. (8), (4), and (8) are provided with a flexible portion 300 in which the respective layers are laminated in this order, and the flexible substrate (4) constituting the flexible portion 300 constitutes the rigid portion 200. A part of the flexible substrate, (8) is a multilayer wiring substrate which is a protective layer 150 formed separately. Each of these layers is as follows.

(1)『他層130a』;熱可塑性樹脂を含有し且つ貫通孔133が形成された第1の樹脂層131とこの第1の樹脂層131の一面に配置された熱硬化樹脂を含有する第2の樹脂層132とを備える層。第2の樹脂層132は下記(2)のフレキシブル基板120側に配置されている。
(2)『フレキシブル基板120』;熱可塑性樹脂を含有する第1の樹脂層121と、第1の樹脂層121の両面に配置された導体パターン123と、表裏の導体パターン123を電気的に接続する貫通導体122とを備える層。
(3)『多層樹脂層110a』;熱可塑性樹脂を含有する第1の樹脂層111とこの第1の樹脂層111の両面に配置された熱硬化樹脂を含有する第2の樹脂層112と、第1の樹脂層及び第2の樹脂層を貫通して設けられた貫通導体113とを備える層。
(4)『フレキシブル基板120』;上記(2)と同じ層。
(5)『多層樹脂層110a』;上記(3)と同じ層。
(6)『フレキシブル基板120』;上記(2)と同じ層。
(7)『他層130a』:上記(1)と同じ構成の層。第2の樹脂層132は上記(6)のフレキシブル基板120側に配置されている。
(8)『保護層150』;上記(4)のフレキシブル基板120の両面に形成された導体パターン123を保護する別体の層。この保護層150としては、レジスト層、カバーレイ等を用いることができる。
(1) “Other layer 130a”; a first resin layer 131 containing a thermoplastic resin and having a through-hole 133 formed therein, and a first resin layer containing a thermosetting resin disposed on one surface of the first resin layer 131. A layer comprising two resin layers 132. The second resin layer 132 is disposed on the flexible substrate 120 side of (2) below.
(2) “Flexible substrate 120”; electrically connecting the first resin layer 121 containing a thermoplastic resin, the conductor pattern 123 disposed on both surfaces of the first resin layer 121, and the conductor patterns 123 on the front and back sides. A layer comprising through conductors 122.
(3) “Multilayer resin layer 110a”; a first resin layer 111 containing a thermoplastic resin, and a second resin layer 112 containing a thermosetting resin disposed on both surfaces of the first resin layer 111; A layer provided with a through conductor 113 provided through the first resin layer and the second resin layer.
(4) “Flexible substrate 120”; the same layer as (2) above.
(5) “Multilayer resin layer 110a”; the same layer as in (3) above.
(6) “Flexible substrate 120”; the same layer as (2) above.
(7) “Other layer 130a”: a layer having the same configuration as in (1) above. The second resin layer 132 is disposed on the flexible substrate 120 side in (6) above.
(8) “Protective layer 150”; a separate layer for protecting the conductor pattern 123 formed on both surfaces of the flexible substrate 120 of (4) above. As the protective layer 150, a resist layer, a coverlay, or the like can be used.

〔7〕図9に示す多層配線基板100g
図9に示す多層配線基板100gは、図6におけるフレキシブル部分200において、(4)のフレキシブル基板120の導体パターン123の保護に多層樹脂層110aを用いず、予め形成した耐酸化性に優れためっき層を用いた多層配線基板である。
即ち、多層配線基板100gは、一面側から他面側に向かって下記(1)〜(7)の各層がこの順に積層されて備えられているリジッド部分200と、(4)のめっき層で保護されたフレキシブル基板のみならなるフレキシブル部分300とを備え、フレキシブル部分300を構成する(4)のフレキシブル基板はリジッド部分200を構成する(4)のフレキシブル基板の一部である多層配線基板である。これらの各層は以下の通りである。
[7] Multilayer wiring board 100g shown in FIG.
The multilayer wiring board 100g shown in FIG. 9 is a plating having excellent oxidation resistance formed in advance in the flexible part 200 in FIG. 6 without using the multilayer resin layer 110a to protect the conductor pattern 123 of the flexible board 120 in (4). A multilayer wiring board using layers.
That is, the multilayer wiring board 100g is protected by a rigid portion 200 in which the following layers (1) to (7) are laminated in this order from one surface side to the other surface side, and the plating layer (4). The flexible substrate 300 includes the flexible portion 300 that includes only the flexible substrate, and the flexible substrate (4) that constitutes the flexible portion 300 is a multilayer wiring board that is a part of the flexible substrate (4) that constitutes the rigid portion 200. Each of these layers is as follows.

(1)『他層130a』;熱可塑性樹脂を含有し且つ貫通孔133が形成された第1の樹脂層131とこの第1の樹脂層131の一面に配置された熱硬化樹脂を含有する第2の樹脂層132とを備える層。第2の樹脂層132は下記(2)のフレキシブル基板120側に配置されている。
(2)『フレキシブル基板120』;熱可塑性樹脂を含有する第1の樹脂層121と、第1の樹脂層121の両面に配置された導体パターン123と、表裏の導体パターン123を電気的に接続する貫通導体122とを備える層。
(3)『多層樹脂層110a』;熱可塑性樹脂を含有する第1の樹脂層111とこの第1の樹脂層111の両面に配置された熱硬化樹脂を含有する第2の樹脂層112と、第1の樹脂層及び第2の樹脂層を貫通して設けられた貫通導体113とを備える層。
(4)『フレキシブル基板120』;熱可塑性樹脂を含有する第1の樹脂層121と、第1の樹脂層121の両面に配置された導体パターン123と、表裏の導体パターン123を電気的に接続する貫通導体122と、導体パターン123の表面に形成されためっき層125を備える層。
(5)『多層樹脂層110a』;上記(3)と同じ層。
(6)『フレキシブル基板120』;上記(2)と同じ層。
(7)『他層130a』:上記(1)と同じ構成の層。第2の樹脂層132は上記(6)のフレキシブル基板120側に配置されている。
(1) “Other layer 130a”; a first resin layer 131 containing a thermoplastic resin and having a through-hole 133 formed therein, and a first resin layer containing a thermosetting resin disposed on one surface of the first resin layer 131. A layer comprising two resin layers 132. The second resin layer 132 is disposed on the flexible substrate 120 side of (2) below.
(2) “Flexible substrate 120”; electrically connecting the first resin layer 121 containing a thermoplastic resin, the conductor pattern 123 disposed on both surfaces of the first resin layer 121, and the conductor patterns 123 on the front and back sides. A layer comprising through conductors 122.
(3) “Multilayer resin layer 110a”; a first resin layer 111 containing a thermoplastic resin, and a second resin layer 112 containing a thermosetting resin disposed on both surfaces of the first resin layer 111; A layer provided with a through conductor 113 provided through the first resin layer and the second resin layer.
(4) “Flexible substrate 120”; electrically connecting the first resin layer 121 containing a thermoplastic resin, the conductor pattern 123 disposed on both surfaces of the first resin layer 121, and the conductor patterns 123 on the front and back sides. A layer provided with a through conductor 122 and a plating layer 125 formed on the surface of the conductor pattern 123.
(5) “Multilayer resin layer 110a”; the same layer as in (3) above.
(6) “Flexible substrate 120”; the same layer as (2) above.
(7) “Other layer 130a”: a layer having the same configuration as in (1) above. The second resin layer 132 is disposed on the flexible substrate 120 side in (6) above.

上記めっき層125は、多層配線基板100gの積層前に予めフレキシブル基板120の導体パターン123表面にめっき形成して得ることができる。このめっき層を構成する耐酸化能に優れた金属材料としては、金、白金、パラジウム等の、銀を除く貴金属、及びニッケル等が挙げられる。これらの金属材料は、1種のみを用いてもよく、2種以上を併用してもよい。
尚、図9では、フレキシブル基板120に予めめっき層150を形成した上で積層した場合の構造を例示したが、全ての層を積層した後に、露出された導体パターン123にのみめっき層150を形成してもよい。
The plating layer 125 can be obtained by plating the surface of the conductor pattern 123 of the flexible substrate 120 in advance before the multilayer wiring substrate 100g is laminated. Examples of the metal material excellent in oxidation resistance constituting the plating layer include noble metals other than silver, such as gold, platinum, and palladium, and nickel. These metal materials may use only 1 type and may use 2 or more types together.
In FIG. 9, the structure in which the plating layer 150 is formed on the flexible substrate 120 and then laminated is illustrated. However, after all the layers are laminated, the plating layer 150 is formed only on the exposed conductor pattern 123. May be.

〔8〕図10に示す多層配線基板100h
図10に示す多層配線基板100hは、図3の多層配線基板100aにおける(6)のフレキシブル基板120を構成する樹脂部121に代えて高誘電率樹脂層124を用いた例である。この高誘電率樹脂層124としては、高誘電体磁器フィラー(アルミナフィラー、チタン酸塩フィラーなど)を含有する熱可塑性樹脂、硬化済みの熱硬化性樹脂等を用いることができる。これらは1種のみを用いてもよく、2種以上を併用してもよい。
図10に示す多層配線基板100hは、一面側から他面側にかけて下記(1)〜(7)の各層がこの順に積層されて備えられた本発明の多層配線基板の一例である。
(1)『他層130a』;熱可塑性樹脂を含有し且つ貫通孔133が形成された第1の樹脂層131とこの第1の樹脂層131の一面に配置された熱硬化樹脂を含有する第2の樹脂層132とを備える層。第2の樹脂層132は下記(2)のフレキシブル基板120側に配置されている。
(2)『フレキシブル基板120』;熱可塑性樹脂を含有する第1の樹脂層121と、第1の樹脂層121の両面に配置された導体パターン123と、表裏の導体パターン123を電気的に接続する貫通導体122とを備える配線基板。
(3)『多層樹脂層110a』;熱可塑性樹脂を含有する第1の樹脂層111とこの第1の樹脂層111の両面に配置された熱硬化樹脂を含有する第2の樹脂層112と、第1の樹脂層及び第2の樹脂層を貫通して設けられた貫通導体113とを備える層。
(4)『フレキシブル基板120』;上記(2)と同じ層。
(5)『多層樹脂層110a』;上記(3)と同じ層。
(6)『フレキシブル基板120』;アルミナフィラーが分散含有された熱可塑性樹脂を含有する抗誘電率樹脂層124と、第1の樹脂層121の両面に配置された導体パターン123と、表裏の導体パターン123を電気的に接続する貫通導体122とを備える配線基板。
(7)『他層130a』;上記(1)と同じ構成の層。第2の樹脂層132は上記(6)のフレキシブル基板120側に配置されている。
[8] Multilayer wiring board 100h shown in FIG.
A multilayer wiring board 100h shown in FIG. 10 is an example in which a high dielectric constant resin layer 124 is used instead of the resin portion 121 constituting the flexible board 120 of (6) in the multilayer wiring board 100a of FIG. As the high dielectric constant resin layer 124, a thermoplastic resin containing a high dielectric ceramic filler (alumina filler, titanate filler, etc.), a cured thermosetting resin, or the like can be used. These may use only 1 type and may use 2 or more types together.
A multilayer wiring board 100h shown in FIG. 10 is an example of the multilayer wiring board according to the present invention in which the following layers (1) to (7) are stacked in this order from one side to the other side.
(1) “Other layer 130a”; a first resin layer 131 containing a thermoplastic resin and having a through-hole 133 formed therein, and a first resin layer containing a thermosetting resin disposed on one surface of the first resin layer 131. A layer comprising two resin layers 132. The second resin layer 132 is disposed on the flexible substrate 120 side of (2) below.
(2) “Flexible substrate 120”; electrically connecting the first resin layer 121 containing a thermoplastic resin, the conductor pattern 123 disposed on both surfaces of the first resin layer 121, and the conductor patterns 123 on the front and back sides. A wiring board comprising a through conductor 122.
(3) “Multilayer resin layer 110a”; a first resin layer 111 containing a thermoplastic resin, and a second resin layer 112 containing a thermosetting resin disposed on both surfaces of the first resin layer 111; A layer provided with a through conductor 113 provided through the first resin layer and the second resin layer.
(4) “Flexible substrate 120”; the same layer as (2) above.
(5) “Multilayer resin layer 110a”; the same layer as in (3) above.
(6) “Flexible substrate 120”; a dielectric constant resin layer 124 containing a thermoplastic resin in which an alumina filler is dispersed, a conductor pattern 123 disposed on both surfaces of the first resin layer 121, and front and back conductors A wiring board including a through conductor 122 that electrically connects the pattern 123.
(7) “Other layer 130a”; a layer having the same structure as in (1) above. The second resin layer 132 is disposed on the flexible substrate 120 side in (6) above.

この図10に例示する多層配線基板100hでは、(6)のフレキシブル基板120を構成する樹脂層121のみが高誘電率樹脂層124からなる例であるが、これ以外にも(2)、(4)及び(6)のうちの少なくとも一層の樹脂層121を、この高誘電率樹脂層124で置き換えたフレキシブル基板120とすることができる。更に、このフレキシブル基板120は、高誘電率を発揮できるセラミック層を備えるリジッドな配線基板で各々置き換えることもできる。
同様に、図3〜9及び図11〜12の各多層配線基板では、各々を構成するフレキシブル基板120を構成する樹脂層(樹脂部)121の1又は2以上をこの高誘電率樹脂層124で置き換えることができる。
In the multilayer wiring board 100h illustrated in FIG. 10, only the resin layer 121 constituting the flexible board 120 in (6) is the high dielectric constant resin layer 124. However, in addition to this, (2), (4 ) And (6), a flexible substrate 120 in which at least one resin layer 121 is replaced with the high dielectric constant resin layer 124 can be obtained. Furthermore, each of the flexible substrates 120 can be replaced with a rigid wiring substrate having a ceramic layer capable of exhibiting a high dielectric constant.
Similarly, in each of the multilayer wiring boards of FIGS. 3 to 9 and FIGS. Can be replaced.

〔9〕図11に示す多層配線基板100i
図11に示す多層配線基板100iは、放熱板160を備える多層配線基板の一例である。この多層配線基板100iは、一面側から他面側にかけて下記(1)〜(11)の各層がこの順に積層されて備えられた本発明の多層配線基板の一例である。
(1)『他層130a』;熱可塑性樹脂を含有し且つ貫通孔133が形成された第1の樹脂層131とこの第1の樹脂層131の一面に配置された熱硬化樹脂を含有する第2の樹脂層132とを備える層。第2の樹脂層132は下記(2)のフレキシブル基板120側に配置されている。
(2)『フレキシブル基板120』;熱可塑性樹脂を含有する第1の樹脂層121と、第1の樹脂層121の両面に配置された導体パターン123と、表裏の導体パターン123を電気的に接続する貫通導体122とを備える配線基板。
(3)『多層樹脂層110a』;熱可塑性樹脂を含有する第1の樹脂層111とこの第1の樹脂層111の両面に配置された熱硬化樹脂を含有する第2の樹脂層112と、第1の樹脂層及び第2の樹脂層を貫通して設けられた貫通導体113とを備える層。
(4)『フレキシブル基板120』;上記(2)と同じ層。
(5)『他層130b』;熱可塑性樹脂を含有する第1の樹脂層131とこの第1の樹脂層131の一面に配置された熱硬化樹脂を含有する第2の樹脂層132とを備える層。第2の樹脂層132は上記(2)のフレキシブル基板120側に配置されている。
(6)『放熱板160』;銅からなり熱伝導性に優れている層。
(7)『他層130b』;上記(3)と同じ構成の層。第2の樹脂層132は下記(6)のフレキシブル基板120側に配置されている。
(8)『フレキシブル基板120』;上記(2)と同じ層。
(9)『多層樹脂層110a』;上記(3)と同じ層。
(10)『フレキシブル基板120』;上記(2)と同じ層。
(11)『他層130a』;上記(1)と同じ構成の層。第2の樹脂層132は上記(10)のフレキシブル基板120側に配置されている。
この多層配線基板100iが備える放熱板160は、パターニングされておらず、また、この放熱板160を挟むフレキシブル基板120が備える導体パターン123と接続されていないものである。
[9] Multilayer wiring board 100i shown in FIG.
A multilayer wiring board 100 i illustrated in FIG. 11 is an example of a multilayer wiring board including a heat sink 160. The multilayer wiring board 100i is an example of the multilayer wiring board of the present invention in which the following layers (1) to (11) are laminated in this order from one surface side to the other surface side.
(1) “Other layer 130a”; a first resin layer 131 containing a thermoplastic resin and having a through-hole 133 formed therein, and a first resin layer containing a thermosetting resin disposed on one surface of the first resin layer 131. A layer comprising two resin layers 132. The second resin layer 132 is disposed on the flexible substrate 120 side of (2) below.
(2) “Flexible substrate 120”; electrically connecting the first resin layer 121 containing a thermoplastic resin, the conductor pattern 123 disposed on both surfaces of the first resin layer 121, and the conductor patterns 123 on the front and back sides. A wiring board comprising a through conductor 122.
(3) “Multilayer resin layer 110a”; a first resin layer 111 containing a thermoplastic resin, and a second resin layer 112 containing a thermosetting resin disposed on both surfaces of the first resin layer 111; A layer provided with a through conductor 113 provided through the first resin layer and the second resin layer.
(4) “Flexible substrate 120”; the same layer as (2) above.
(5) “Other layer 130 b”; provided with a first resin layer 131 containing a thermoplastic resin and a second resin layer 132 containing a thermosetting resin disposed on one surface of the first resin layer 131. layer. The second resin layer 132 is disposed on the flexible substrate 120 side in (2) above.
(6) “Heat sink 160”: a layer made of copper and having excellent thermal conductivity.
(7) “Other layer 130b”; a layer having the same configuration as in (3) above. The second resin layer 132 is disposed on the flexible substrate 120 side of (6) below.
(8) “Flexible substrate 120”; the same layer as (2) above.
(9) “Multilayer resin layer 110a”; the same layer as in (3) above.
(10) “Flexible substrate 120”; the same layer as (2) above.
(11) “Other layer 130a”; a layer having the same configuration as in (1) above. The second resin layer 132 is disposed on the flexible substrate 120 side in (10) above.
The heat sink 160 provided in the multilayer wiring board 100i is not patterned, and is not connected to the conductor pattern 123 provided in the flexible board 120 sandwiching the heat sink 160.

〔10〕図12に示す多層配線基板100j
図12に示す多層配線基板100jは、放熱板160を備える多層配線基板の他例である。この多層配線基板100jは、一面側から他面側にかけて(1)〜(7)の
(1)『他層130a』;熱可塑性樹脂を含有し且つ貫通孔133が形成された第1の樹脂層131とこの第1の樹脂層131の一面に配置された熱硬化樹脂を含有する第2の樹脂層132とを備える層。第2の樹脂層132は下記(2)のフレキシブル基板120側に配置されている。
(2)『フレキシブル基板120』;熱可塑性樹脂を含有する第1の樹脂層121と、第1の樹脂層121の両面に配置された導体パターン123と、表裏の導体パターン123を電気的に接続する貫通導体122とを備える配線基板。
(3)『多層樹脂層110b』;熱可塑性樹脂を含有する第1の樹脂層111とこの第1の樹脂層111の一面に配置された熱硬化樹脂を含有する第2の樹脂層112と、第1の樹脂層及び第2の樹脂層を貫通して設けられた貫通導体113とを備える層。第2の樹脂層112は上記(2)のフレキシブル基板120側に配置されている。
(4)『放熱板160』;パターニングされた銅161と、パターニングにより形成された貫通孔に充填された熱可塑性樹脂162(多層樹脂層110bを構成する第1の樹脂層111を構成するものと同じ)と、からなり熱伝導性に優れている層。更に、放熱板160は、これ(放熱板160)を挟む上記(2)及び下記(6)の各フレキシブル基板120が備える導体パターン123と、上記(3)及び下記(7)の多層樹脂層110bの貫通導体113及び配線パターン140を介して電気的に接続されている。
(5)『多層樹脂層110b』;上記(3)と同じ構成の層。下記(6)のフレキシブル基板120側に配置されている。
(6)『フレキシブル基板120』;上記(2)と同じ層。
(7)『他層130a』;上記(1)の他層130aと同じ層。
[10] Multilayer wiring board 100j shown in FIG.
A multilayer wiring board 100j illustrated in FIG. 12 is another example of the multilayer wiring board including the heat sink 160. This multilayer wiring board 100j includes (1) “other layer 130a” of (1) to (7) from one surface side to the other surface side; a first resin layer containing a thermoplastic resin and having a through-hole 133 formed therein 131 and a second resin layer 132 containing a thermosetting resin disposed on one surface of the first resin layer 131. The second resin layer 132 is disposed on the flexible substrate 120 side of (2) below.
(2) “Flexible substrate 120”; electrically connecting the first resin layer 121 containing a thermoplastic resin, the conductor pattern 123 disposed on both surfaces of the first resin layer 121, and the conductor patterns 123 on the front and back sides. A wiring board comprising a through conductor 122.
(3) “Multilayer resin layer 110b”; a first resin layer 111 containing a thermoplastic resin and a second resin layer 112 containing a thermosetting resin disposed on one surface of the first resin layer 111; A layer provided with a through conductor 113 provided through the first resin layer and the second resin layer. The second resin layer 112 is disposed on the flexible substrate 120 side in (2) above.
(4) “Heat dissipation plate 160”; patterned copper 161 and thermoplastic resin 162 filled in through holes formed by patterning (which constitutes the first resin layer 111 constituting the multilayer resin layer 110b) The same) and a layer with excellent thermal conductivity. Further, the heat radiating plate 160 includes the conductor pattern 123 provided in each of the flexible substrates 120 of (2) and (6) below, and the multilayer resin layer 110b of (3) and (7) below. The through conductor 113 and the wiring pattern 140 are electrically connected.
(5) “Multilayer resin layer 110b”; a layer having the same configuration as in (3) above. It arrange | positions at the flexible substrate 120 side of following (6).
(6) “Flexible substrate 120”; the same layer as (2) above.
(7) “Other layer 130a”; the same layer as the other layer 130a in (1) above.

尚、図3〜図12に示す各多層配線基板100a〜100jでは、多層配線基板100a〜100jの各々全体が本発明にいう積層構造部に相当している。
また、図3及び図6〜12に示す多層配線基板100a及び100d〜100jの各(1)及び(7)の他層130aに形成れた貫通孔133内には、接続用のハンダボールや接続用のピン等を配置することができる。
更に、図3〜12に示す各多層配線基板100a〜100jでは、配線基板(フレキシブル基板)120が備える貫通導体123は、各々導電性フィラーを含有する樹脂(導電性ペースト)を充填して形成(必要で有ればその後に硬化させてもよい)した樹脂含有貫通導体であってもよく、めっき形成した金属製の貫通導体であってもよく、スルーホールの内壁面に形成した金属製内壁層とスルーホール残部が樹脂で充填されてなる貫通導体であってもよい。これらの貫通導体は1種のみを用いてもよく、2種以上を併用してもよい。
In addition, in each of the multilayer wiring boards 100a to 100j shown in FIGS. 3 to 12, each of the multilayer wiring boards 100a to 100j corresponds to a laminated structure portion according to the present invention.
Further, in the through holes 133 formed in the other layers 130a of the multilayer wiring boards 100a and 100d to 100j shown in FIG. 3 and FIGS. A pin or the like can be arranged.
Further, in each of the multilayer wiring boards 100a to 100j shown in FIGS. 3 to 12, the through conductors 123 included in the wiring board (flexible board) 120 are each formed by filling a resin (conductive paste) containing a conductive filler ( It may be a resin-containing penetrating conductor that may be cured afterwards if necessary, or may be a plated metal penetrating conductor, or a metal inner wall layer formed on the inner wall surface of the through hole. And a through conductor in which the remainder of the through hole is filled with resin. These penetration conductors may use only 1 type and may use 2 or more types together.

また、図3〜図12に示す各多層配線基板100a〜100jが備える多層樹脂層110a、110b、配線基板120が備える貫通導体は、スタックドビア(図1〜6参照、貫通導体同士が互いに積層された構造)として形成されてもよく、非スタックドビア(図7参照、貫通導体同士が互いに積層されていない構造)として形成されてもよく、これらが混在してもよい。
更に、図3〜12では、各配線基板120としてフレキシブル基板120を使用した形態を例示しているが、これらの配線基板120のうちの1又は2以上がリジッド基板であってもよい。
Also, the multilayer resin layers 110a and 110b included in each of the multilayer wiring boards 100a to 100j illustrated in FIGS. 3 to 12 and the through conductors included in the wiring board 120 are stacked vias (see FIGS. 1 to 6; the through conductors are stacked on each other). The structure may be formed as a non-stacked via (see FIG. 7, a structure in which through conductors are not stacked on each other), or these may be mixed.
Further, in FIGS. 3 to 12, an example in which the flexible substrate 120 is used as each wiring substrate 120 is illustrated, but one or more of these wiring substrates 120 may be rigid substrates.

[2]多層配線基板の製造方法
本発明の多層配線基板の製造方法は特に限定されないが下記方法により製造することができる。
即ち、熱可塑性樹脂を含む第1の樹脂層、該第1の樹脂層の少なくとも片面に設けられた熱硬化性樹脂を含む第2の樹脂層、及び、該第1の樹脂層と該第2の樹脂層とを貫通した貫通導体、を有する多層樹脂層と、
少なくとも片面に導体パターンを有する配線基板と、を積層する積層工程を備え、
該積層工程では、該多層樹脂層と該配線基板とが、該第2の樹脂層側と該導体パターン側とで積層され、且つ該貫通導体と該導体パターンとが電気的に接続された積層構造部を形成することを特徴とする多層配線基板の製造方法。
[2] Manufacturing method of multilayer wiring board The manufacturing method of the multilayer wiring board of the present invention is not particularly limited, but can be manufactured by the following method.
That is, a first resin layer containing a thermoplastic resin, a second resin layer containing a thermosetting resin provided on at least one surface of the first resin layer, and the first resin layer and the second resin layer A multilayer resin layer having a through conductor penetrating through the resin layer;
A laminating step of laminating a wiring board having a conductor pattern on at least one side;
In the lamination step, the multilayer resin layer and the wiring board are laminated on the second resin layer side and the conductor pattern side, and the through conductor and the conductor pattern are electrically connected. A method of manufacturing a multilayer wiring board, wherein the structure portion is formed.

上記製造方法を用いる場合には、更に、下記一方又は他方の各々方法とすることができる。
(1)上記多層樹脂層は、上記第2の樹脂層を上記第1の樹脂層の両面に有し、
上記積層構造部は、上記配線基板を2つ備え、且つ、該配線基板のうちの第1の配線基板と、上記多層樹脂層と、該配線基板のうちの第2の配線基板とがこの順に積層され、
該多層樹脂層と該第1の配線基板とは、一面の該第2の樹脂層側と該第1の配線基板が備える導体パターン側とで積層され、
該多層樹脂層と該第2の配線基板とは、他面の該第2の樹脂層側と該第2の配線基板が備える導体パターン側とで積層され、
且つ該第1の配線基板が備える導体パターンと該第2の配線基板が備える導体パターンとが該貫通導体を介して電気的に接続されるように、
該多層樹脂層と該配線基板とを一括して積層する製造方法である。
When using the said manufacturing method, it can be set as the following each one or the other method further.
(1) The multilayer resin layer has the second resin layer on both sides of the first resin layer,
The laminated structure section includes two wiring boards, and the first wiring board of the wiring boards, the multilayer resin layer, and the second wiring board of the wiring boards are in this order. Laminated,
The multilayer resin layer and the first wiring board are laminated on the second resin layer side of one surface and the conductor pattern side included in the first wiring board,
The multilayer resin layer and the second wiring board are laminated on the second resin layer side of the other surface and the conductor pattern side included in the second wiring board,
And the conductor pattern with which this 1st wiring board is provided, and the conductor pattern with which this 2nd wiring board is provided are electrically connected via this penetration conductor,
In this manufacturing method, the multilayer resin layer and the wiring board are laminated together.

(2)上記多層樹脂層は、上記第2の樹脂層を上記第1の樹脂層の両面に有し、
上記積層構造部は、金属からなる放熱板を備え、且つ、上記配線基板と、上記多層樹脂層と、該放熱板とをこの順に積層して備えるように、
該多層樹脂層、該配線基板及び該放熱板を一括して積層する製造方法である。
(2) The multilayer resin layer has the second resin layer on both sides of the first resin layer,
The laminated structure portion includes a heat sink made of metal, and is provided with the wiring board, the multilayer resin layer, and the heat sink stacked in this order.
In this manufacturing method, the multilayer resin layer, the wiring board, and the heat dissipation plate are laminated together.

これらの多層配線基板の製造方法によれば、設計自由度が高く、他層との接合性に優れ、製造効率よく多層配線基板を製造できる。即ち、多層樹脂層を用いるために電気的な層間接続を含めて一括して複数の層を積層することができるために、高い設計自由度を得ることができる。従来のように層間導通を得るために、多層化後に全層を貫通するスルーホールを形成し、本来不必要な層にもスルーホールを形成するというような不具合を生じない。また、外表面側に接合性に優れた熱硬化性樹脂を含む第2の樹脂層を備えるために、優れた接合性を幅広い被接合材に対して発揮させることができるために、被接合材の選択範囲が広く設計自由度が高い。更に、上記のように一括して積層することもできるために製造効率に優れる。また、プリプレグのみを用いる場合のようにコア基板を用いる必要がなくコアレスの多層配線基板を得ることができる。   According to these multilayer wiring board manufacturing methods, it is possible to manufacture a multilayer wiring board with high design efficiency, excellent bonding with other layers, and high manufacturing efficiency. That is, since a plurality of layers including an electrical interlayer connection can be stacked at once because a multilayer resin layer is used, a high degree of design freedom can be obtained. In order to obtain interlayer conduction as in the prior art, there is no inconvenience of forming through holes penetrating all layers after multilayering and forming through holes in unnecessary layers. In addition, since the second resin layer containing the thermosetting resin excellent in bondability is provided on the outer surface side, the excellent bondability can be exerted on a wide range of materials to be bonded. Wide selection range and high design freedom. Furthermore, since it can also laminate | stack collectively as mentioned above, it is excellent in manufacturing efficiency. Further, it is not necessary to use a core substrate as in the case of using only a prepreg, and a coreless multilayer wiring substrate can be obtained.

上記多層樹脂層は、前記本発明の多層配線基板においては、第2の樹脂層が熱硬化樹脂を含有するのに対して、この熱硬化樹脂が硬化される前の熱硬化性樹脂である点において異なる。その他は、前記多層樹脂層をそのまま適用できる。また、熱硬化性樹脂についても、前記熱硬化樹脂を構成する熱硬化性樹脂のそのまま適用できる。   In the multilayer wiring board of the present invention, the multilayer resin layer is a thermosetting resin before the thermosetting resin is cured, whereas the second resin layer contains the thermosetting resin. Different in. In other cases, the multilayer resin layer can be applied as it is. Moreover, the thermosetting resin which comprises the said thermosetting resin is applicable as it is also about a thermosetting resin.

この多層樹脂層は、前述のように第1の樹脂層(熱可塑性樹脂を含有)と第2の樹脂層(熱硬化性樹脂を含有)とを備える。第2の樹脂層は熱硬化性樹脂を含有し、強い接合性を発揮できる。この接合性は特に樹脂製絶縁層を備える配線基板に対して効果的に発揮できる。また、熱硬化性樹脂は、熱可塑性樹脂よりも凹凸面の形状への追従性に優れている。通常、数〜数十μmの厚さである導体パターン間の凹凸面へ熱可塑性樹脂を追従させるには、十分な流動性と圧力を要する。しかし、流動性を高くし(加熱温度を高くする)加圧圧力も高く付加すると熱可塑性樹脂は意図しない平面方向への広がりを生じる。これに対して、熱硬化性樹脂は、小さな凹凸面への追従性にも優れるにも関わらず、硬化されるために本発明の第2の樹脂層のように樹脂の量が少ない場合でも、平面方向への広がりをコントロールできる。
しかし、優れた性能を有する第2の樹脂層も、第2の樹脂層のみ単独で存在しては十分な保形性が得られ難く、第2の樹脂層のみからなる層に貫通導体を付与することができない。これに対して、第1の樹脂層を備えることで、全体として保形性を有し、積層に際して優れた接合性及び形状追従性を発揮しながら、貫通導体を有することができる。
As described above, the multilayer resin layer includes the first resin layer (containing a thermoplastic resin) and the second resin layer (containing a thermosetting resin). The second resin layer contains a thermosetting resin and can exhibit strong bondability. This bondability can be effectively exhibited especially for a wiring board provided with a resin insulating layer. Further, the thermosetting resin is superior in conformity to the shape of the uneven surface than the thermoplastic resin. Usually, sufficient fluidity and pressure are required to cause the thermoplastic resin to follow the uneven surface between conductor patterns having a thickness of several to several tens of micrometers. However, when the fluidity is increased (the heating temperature is increased) and the pressurizing pressure is increased, the thermoplastic resin is unintentionally spread in the plane direction. On the other hand, even though the thermosetting resin is excellent in followability to a small uneven surface, even when the amount of the resin is small as in the second resin layer of the present invention because it is cured, The spread in the plane direction can be controlled.
However, the second resin layer having excellent performance is also difficult to obtain sufficient shape retention if only the second resin layer is present alone, and a penetrating conductor is imparted to the layer consisting only of the second resin layer. Can not do it. On the other hand, by providing the first resin layer, it is possible to have a through conductor while having shape retaining property as a whole and exhibiting excellent bonding property and shape following property at the time of lamination.

一方、第1の樹脂層のみでは、積層時に加熱を行うと熱可塑性樹脂の特性により熱膨張する。また、精密な温度コントロールが必要であり、過度に高い温度となると第1の樹脂層の流動性は急激に大きくなる。しかし、この方法で用いる多層樹脂層は第2の樹脂層を有する。この層は熱硬化性樹脂を含有するために、加熱(積層加熱など)を行うと硬化収縮する性質を有し、第1の樹脂層の膨張を抑制できる。また、第1の樹脂層の流動性が大きくなるに従って、第2の樹脂層の流動性は低下され、多層樹脂層の高温下における保形成を維持できる。特に高温下(積層加熱時など)における第1の樹脂層の平面方向の流動性が過度に大きくなることを抑制する効果に優れている。従って、積層精度及び形状安定性に優れた製造を行うことができる。また、得られた多層配線基板においては、熱硬化性樹脂による優れた耐熱性が発揮される。   On the other hand, if only the first resin layer is heated at the time of lamination, it expands due to the characteristics of the thermoplastic resin. Moreover, precise temperature control is required, and when the temperature is excessively high, the fluidity of the first resin layer increases rapidly. However, the multilayer resin layer used in this method has a second resin layer. Since this layer contains a thermosetting resin, it has the property of being cured and shrunk when heated (such as laminating heating), and can suppress the expansion of the first resin layer. Further, as the fluidity of the first resin layer increases, the fluidity of the second resin layer decreases, and the multi-layer resin layer can be maintained at a high temperature. In particular, the fluidity in the planar direction of the first resin layer at high temperatures (such as during lamination heating) is excellent in suppressing the excessive increase in fluidity in the planar direction. Therefore, it is possible to manufacture with excellent lamination accuracy and shape stability. Moreover, in the obtained multilayer wiring board, the excellent heat resistance by a thermosetting resin is exhibited.

また、前記本発明の多層配線基板において述べたように、配線基板を構成する樹脂部は、1%重量減温度が300℃以上であることが好ましく、更には、ガラス転移点が180℃以上であることがより好ましい。この範囲であれば、第2の樹脂層に用いる熱硬化性樹脂の硬化温度と、第1の樹脂層を構成する熱可塑性樹脂の適度な流動性が得られる温度範囲とを重複する温度範囲でコントロールすることができる。
更に、前記本発明の多層配線基板において述べたように、第2の樹脂層の厚さは、第1の樹脂層の厚さの1/40〜1/2であることが好ましい。より好ましくは1/30〜1/3、更に好ましくは1/20〜1/5である。この範囲では第1の樹脂層の特性と第2の樹脂層の特性とを特に相乗的に得ることができる。即ち、多層樹脂層全体としての保形性を十分に確保できる。また、貫通導体を確実に形成することができる。更に、優れた接合性及び優れた追従性が十分に発揮される。また、加熱時の熱可塑性樹脂の流動性を十分に抑制できる。この厚さの好ましい範囲は前述の通りである(前記多層樹脂層においては硬化後の各層の相関を述べているが、硬化前後における層厚変化がほとんどないため硬化前の各樹脂層においても適用される)。第1の樹脂層の厚さ及び第2の樹脂層の厚さの好ましい範囲についても同様である。
Further, as described in the multilayer wiring board of the present invention, the resin part constituting the wiring board preferably has a 1% weight loss temperature of 300 ° C. or higher, and further has a glass transition point of 180 ° C. or higher. More preferably. If it is this range, in the temperature range which overlaps the curing temperature of the thermosetting resin used for the 2nd resin layer, and the temperature range in which the moderate fluidity of the thermoplastic resin which comprises the 1st resin layer is obtained. Can be controlled.
Furthermore, as described in the multilayer wiring board of the present invention, the thickness of the second resin layer is preferably 1/40 to 1/2 of the thickness of the first resin layer. More preferably, it is 1/30 to 1/3, and still more preferably 1/20 to 1/5. Within this range, the characteristics of the first resin layer and the characteristics of the second resin layer can be obtained particularly synergistically. That is, the shape retention property as the whole multilayer resin layer can be sufficiently secured. In addition, the through conductor can be reliably formed. Furthermore, excellent bondability and excellent followability are sufficiently exhibited. Moreover, the fluidity | liquidity of the thermoplastic resin at the time of a heating can fully be suppressed. The preferred range of this thickness is as described above (in the multilayer resin layer, the correlation of each layer after curing is described, but since there is almost no change in the layer thickness before and after curing, it is also applicable to each resin layer before curing. ) The same applies to the preferred ranges of the thickness of the first resin layer and the thickness of the second resin layer.

上記積層工程では、通常、加熱を行う。加熱を行うことで、上記多層樹脂層の第2の樹脂層内に含まれる熱硬化性樹脂を硬化させ、また、第1の樹脂層内に含まれる熱硬化性樹脂に接着性及び流動性を与えることができる。この加熱における温度は特に限定されず、使用する熱硬化性樹脂及び熱可塑性樹脂の種類により適宜のものとすることが好ましいが、通常、180℃以上である。この範囲では、第1の樹脂層を構成する熱硬化性樹脂の十分な流動性を得ながら、第2の樹脂層を構成する熱硬化性樹脂を十分に硬化することができる。
更に、上記加熱に加えて加圧を行うことが好ましい。加圧の程度は特に限定されないが、通常、1MPa以上である。この範囲では、貫通導体と配線パターンとの電気的接続を確実に行うことができ、また、多層樹脂層の被接合層に対する追従性を十分に発揮させることができる。
In the lamination step, heating is usually performed. By heating, the thermosetting resin contained in the second resin layer of the multilayer resin layer is cured, and the thermosetting resin contained in the first resin layer has adhesiveness and fluidity. Can be given. The temperature in this heating is not particularly limited, and is preferably set appropriately depending on the type of thermosetting resin and thermoplastic resin to be used, but is usually 180 ° C. or higher. In this range, the thermosetting resin constituting the second resin layer can be sufficiently cured while obtaining sufficient fluidity of the thermosetting resin constituting the first resin layer.
Furthermore, it is preferable to apply pressure in addition to the above heating. The degree of pressurization is not particularly limited, but is usually 1 MPa or more. In this range, the through conductor and the wiring pattern can be reliably electrically connected, and the followability of the multilayer resin layer to the bonded layer can be sufficiently exhibited.

上記製造方法において、多層樹脂層が第2の樹脂層を第1の樹脂層の両面に有する場合には、多層樹脂層の表裏に配線基板を積層することで、第1の配線基板と多層樹脂層と第2の配線基板とがこの順に積層された積層構造部を一括して得ることができる。
この場合には、上記の順に配線基板及び多層樹脂層を配置(位置合わせをして積層する)して、例えば、加熱(更には加圧を行ってもよい)することで一括して積層構造部を得ることができる。また、同時に、第1の配線基板が備える導体パターンと第2の配線基板が備える導体パターンとは多層樹脂層が備える貫通導体を介して電気的に接続することができる。
この積層工程における積層条件は、上記積層条件(加熱温度及び加圧圧力など)をそのまま適用できる。
尚、上記多層樹脂層及び上記配線基板の各々2層以上を積層する際にも同様に行うことができる。即ち、例えば、第1の配線基板、多層樹脂層、第2の配線基板、多層樹脂層、第3の配線基板、というように、配線基板と多層樹脂層とを交互に配置した上で、一括して積層することができる。
In the above manufacturing method, when the multilayer resin layer has the second resin layer on both surfaces of the first resin layer, the first wiring substrate and the multilayer resin are laminated by laminating the wiring substrates on the front and back of the multilayer resin layer. A laminated structure portion in which the layers and the second wiring board are laminated in this order can be obtained collectively.
In this case, the wiring board and the multilayer resin layer are arranged (positioned and laminated) in the order described above, and for example, heated (and may be further pressurized) to collectively form a laminated structure. Part can be obtained. At the same time, the conductor pattern provided in the first wiring board and the conductor pattern provided in the second wiring board can be electrically connected via the through conductor provided in the multilayer resin layer.
As the lamination conditions in this lamination process, the above-mentioned lamination conditions (heating temperature, pressure, etc.) can be applied as they are.
The same can be done when two or more of the multilayer resin layer and the wiring board are laminated. That is, for example, the wiring board and the multilayer resin layer are arranged alternately, such as the first wiring board, the multilayer resin layer, the second wiring board, the multilayer resin layer, and the third wiring board. And can be laminated.

更に、上記製造方法において、多層樹脂層が第2の樹脂層を第1の樹脂層の両面に有する場合には、多層樹脂層の表裏一方に配線基板を積層し、他方に放熱板を積層することで、配線基板と多層樹脂層と放熱板とがこの順に積層された積層構造部を一括して得ることができる。
この場合には、上記の順に配線基板、多層樹脂層及び放熱板を配置(位置合わせをして積層する)して、例えば、加熱(更には加圧を行ってもよい)することで一括して積層構造部を得ることができる。また同時に、配線基板が備える導体パターンと放熱板とは多層樹脂層が備える貫通導体を介して電気的に接続することもできる(接続しなくてもよい)。
この積層工程における積層条件は、上記積層条件(加熱温度及び加圧圧力等)をそのまま適用できる。尚、上記放熱板には前記多層配線基板における放熱板をそのまま適当できる。
Further, in the above manufacturing method, when the multilayer resin layer has the second resin layer on both sides of the first resin layer, the wiring board is laminated on one side of the multilayer resin layer, and the heat sink is laminated on the other side. Thereby, the laminated structure part by which the wiring board, the multilayer resin layer, and the heat sink were laminated | stacked in this order can be obtained collectively.
In this case, the wiring board, the multilayer resin layer, and the heat radiating plate are arranged (positioned and laminated) in the order described above, and then collectively heated, for example, (may be further pressurized). Thus, a laminated structure part can be obtained. At the same time, the conductor pattern provided on the wiring board and the heat radiating plate can be electrically connected via the through conductor provided in the multilayer resin layer (not necessarily connected).
As the lamination conditions in this lamination process, the above-mentioned lamination conditions (heating temperature, pressure, etc.) can be applied as they are. In addition, the heat sink in the said multilayer wiring board can be used as it is for the said heat sink.

以下、実施例により本発明を具体的に説明する。
[1]図4に示す多層配線基板の製造
(1)多層樹脂層110a
第1の樹脂層111;PEEK及びPEIを主成分として、厚さ約50μmに調整した樹脂製薄膜(三菱化学株式会社製、品名「IBUKI」)からなる層。
第2の樹脂層112;熱硬化性ポリイミド樹脂を主成分とする厚さ約10μmの半硬化熱硬化性樹脂層を第1の樹脂層の両面にラミネートした層。
貫通導体113 ;第1の樹脂層と第2の樹脂層とを備える複層物の全体を貫通するスルーホール(貫通孔)をレーザー穿孔機により直径120μmに形成する。その後、銀コート銅粉を含有する貫通導体用ペーストをスクリーン印刷により、上記スルーホール内に充填した後、硬化させてなる貫通導体。
Hereinafter, the present invention will be described specifically by way of examples.
[1] Manufacture of multilayer wiring board shown in FIG. 4 (1) Multilayer resin layer 110a
First resin layer 111; a layer made of a resin thin film (product name “IBUKI”, manufactured by Mitsubishi Chemical Corporation) with PEEK and PEI as main components and adjusted to a thickness of about 50 μm.
Second resin layer 112: a layer obtained by laminating a semi-cured thermosetting resin layer having a thickness of about 10 μm mainly composed of a thermosetting polyimide resin on both surfaces of the first resin layer.
Through-hole conductor 113; a through-hole (through-hole) penetrating the entire multilayer body including the first resin layer and the second resin layer is formed to a diameter of 120 μm by a laser drilling machine. Then, after penetrating through paste the paste for penetration conductor containing silver coat copper powder into the above-mentioned through hole by screen printing, the penetration conductor formed by hardening.

(2)フレキシブル基板120
約25μm厚みのポリイミドの両面に約12μm厚みの電解銅箔を備えた両面銅張り積層層板を用意する。その後、周知の方法にて、パターン及びビア形成を行い、フレキシブル基板を得る。
(2) Flexible substrate 120
A double-sided copper-clad laminate having about 12 μm thick electrolytic copper foil on both sides of about 25 μm thick polyimide is prepared. Thereafter, a pattern and a via are formed by a known method to obtain a flexible substrate.

(3)積層工程
多層樹脂層110aとフレキシブル基板120を交互に積層し、20Torr(≒2666Pa)以下の真空下で230℃以上の温度となるように加熱を行いながら積層方向(接合方向)に押圧力(4MPa)を加える(真空熱プレス)。
(4)配線パターン140
無電解めっき法及び電解めっき法を併用して得られた金属膜をフォトリソ法によりパターニングして形成する。
このようにして、図4に示す多層配線基板を得る。
(3) Lamination process The multilayer resin layers 110a and the flexible substrate 120 are alternately laminated and pressed in the lamination direction (bonding direction) while heating to a temperature of 230 ° C. or higher under a vacuum of 20 Torr (≈2666 Pa) or less. Apply pressure (4 MPa) (vacuum hot press).
(4) Wiring pattern 140
A metal film obtained by using both the electroless plating method and the electrolytic plating method is formed by patterning using a photolithography method.
In this way, the multilayer wiring board shown in FIG. 4 is obtained.

本発明は電子部品関連分野において広く利用できる。また、本発明の配線基板は、マザーボード等の通常の配線基板、フリップチップ用配線基板、CSP用配線基板及びMCP用配線基板等の半導体素子搭載用配線基板、アンテナスイッチモジュール用配線基板、ミキサーモジュール用配線基板、PLLモジュール用配線基板及びMCM用配線基板等のモジュール用配線基板等に好適である。   The present invention can be widely used in the field of electronic components. Further, the wiring board of the present invention includes a normal wiring board such as a mother board, a flip chip wiring board, a CSP wiring board, a semiconductor element mounting wiring board such as an MCP wiring board, an antenna switch module wiring board, and a mixer module. This is suitable for a module wiring board such as a wiring board for PLL, a wiring board for PLL module, and a wiring board for MCM.

多層樹脂層の一例の模式的な断面図である。It is typical sectional drawing of an example of a multilayer resin layer. 多層樹脂層の他例の模式的な断面図である。It is typical sectional drawing of the other example of a multilayer resin layer. 本発明の多層配線基板の一例の模式的な断面図である。It is typical sectional drawing of an example of the multilayer wiring board of this invention. 本発明の多層配線基板の他例の模式的な断面図である。It is typical sectional drawing of the other example of the multilayer wiring board of this invention. 本発明の多層配線基板の他例の模式的な断面図である。It is typical sectional drawing of the other example of the multilayer wiring board of this invention. 本発明の多層配線基板の他例の模式的な断面図である。It is typical sectional drawing of the other example of the multilayer wiring board of this invention. 本発明の多層配線基板の他例の模式的な断面図である。It is typical sectional drawing of the other example of the multilayer wiring board of this invention. 本発明の多層配線基板の他例の模式的な断面図である。It is typical sectional drawing of the other example of the multilayer wiring board of this invention. 本発明の多層配線基板の他例の模式的な断面図である。It is typical sectional drawing of the other example of the multilayer wiring board of this invention. 本発明の多層配線基板の他例の模式的な断面図である。It is typical sectional drawing of the other example of the multilayer wiring board of this invention. 本発明の多層配線基板の他例の模式的な断面図である。It is typical sectional drawing of the other example of the multilayer wiring board of this invention. 本発明の多層配線基板の他例の模式的な断面図である。It is typical sectional drawing of the other example of the multilayer wiring board of this invention.

符号の説明Explanation of symbols

100a、100b、100c、100d、100e、100f、100g、100h、100i、100j;多層配線基板、110a、110b;多層樹脂層、111;第1の樹脂層(熱可塑性樹脂を含む樹脂層)、112;第2の樹脂層(熱硬化樹脂を含む樹脂層)、113;貫通導体、120;配線基板(フレキシブル配線基板)、121;配線基板の樹脂層(樹脂部)、122;配線基板の貫通導体、123;配線基板の導体パターン、124;配線基板の高誘電率樹脂層、125;めっき層、130a、130b;他層、140;導体パターン、150;保護層、160;放熱板、200;リジッド部分、300;フレキシブル部分。   100a, 100b, 100c, 100d, 100e, 100f, 100g, 100h, 100i, 100j; multilayer wiring board, 110a, 110b; multilayer resin layer, 111; first resin layer (resin layer containing thermoplastic resin), 112 Second resin layer (resin layer containing thermosetting resin), 113; penetrating conductor, 120; wiring board (flexible wiring board), 121; resin layer (resin portion) of wiring board, 122; penetrating conductor of wiring board 123; Wiring board conductor pattern 124; High dielectric constant resin layer of wiring board 125; Plating layer 130a, 130b; Other layers 140; Conductor pattern 150; Protection layer 160; Heat sink 200; Rigid Part 300; flexible part.

Claims (9)

熱可塑性樹脂を含む第1の樹脂層、該第1の樹脂層の少なくとも片面に設けられた熱硬化樹脂を含む第2の樹脂層、及び、該第1の樹脂層と該第2の樹脂層とを貫通した貫通導体、を有する多層樹脂層と、
少なくとも片面に導体パターンを有する配線基板と、を備え、
該多層樹脂層と該配線基板とが、該第2の樹脂層側と該導体パターン側とで積層され、且つ該貫通導体と該導体パターンとが電気的に接続されている積層構造部を備えることを特徴とする多層配線基板。
A first resin layer containing a thermoplastic resin, a second resin layer containing a thermosetting resin provided on at least one surface of the first resin layer, and the first resin layer and the second resin layer A multilayer resin layer having a through conductor penetrating through
A wiring board having a conductor pattern on at least one side,
The multilayer resin layer and the wiring board are laminated on the second resin layer side and the conductor pattern side, and have a laminated structure portion in which the through conductor and the conductor pattern are electrically connected. A multilayer wiring board characterized by that.
上記多層樹脂層は、上記第2の樹脂層を上記第1の樹脂層の両面に有し、
上記積層構造部は、上記配線基板を2つ備え、且つ、該配線基板のうちの第1の配線基板と、上記多層樹脂層と、該配線基板のうちの第2の配線基板とがこの順に積層され、
該多層樹脂層と該第1の配線基板とは、一面の該第2の樹脂層側と該第1の配線基板が備える導体パターン側とで積層され、
該多層樹脂層と該第2の配線基板とは、他面の該第2の樹脂層側と該第2の配線基板が備える導体パターン側とで積層され、
且つ該第1の配線基板が備える導体パターンと該第2の配線基板が備える導体パターンとが該貫通導体を介して電気的に接続されている請求項1に記載の多層配線基板。
The multilayer resin layer has the second resin layer on both sides of the first resin layer,
The laminated structure section includes two wiring boards, and the first wiring board of the wiring boards, the multilayer resin layer, and the second wiring board of the wiring boards are in this order. Laminated,
The multilayer resin layer and the first wiring board are laminated on the second resin layer side of one surface and the conductor pattern side included in the first wiring board,
The multilayer resin layer and the second wiring board are laminated on the second resin layer side of the other surface and the conductor pattern side included in the second wiring board,
The multilayer wiring board according to claim 1, wherein a conductor pattern provided in the first wiring board and a conductor pattern provided in the second wiring board are electrically connected through the through conductor.
上記多層樹脂層は、上記第2の樹脂層を上記第1の樹脂層の両面に有し、
上記積層構造部は、金属からなる放熱板を備え、且つ、上記配線基板と、上記多層樹脂層と、該放熱板とがこの順に積層されている請求項1に記載の多層配線基板。
The multilayer resin layer has the second resin layer on both sides of the first resin layer,
The multilayer wiring board according to claim 1, wherein the laminated structure portion includes a heat sink made of metal, and the wiring board, the multilayer resin layer, and the heat sink are stacked in this order.
上記配線基板は、フレキシブル基板である請求項1乃至3のうちのいずれかに記載の多層配線基板。   The multilayer wiring board according to claim 1, wherein the wiring board is a flexible board. 上記配線基板を構成する樹脂部は、1%重量減温度が300℃以上である請求項1乃至4のうちのいずれかに記載の多層配線基板。   The multilayer wiring board according to any one of claims 1 to 4, wherein the resin portion constituting the wiring board has a 1% weight loss temperature of 300 ° C or higher. 上記配線基板を構成する樹脂部は、ガラス転移点が180℃以上である請求項5に記載の多層配線基板。   The multilayer wiring board according to claim 5, wherein the resin portion constituting the wiring board has a glass transition point of 180 ° C. or higher. 上記第2の樹脂層の厚さは、上記第1の樹脂層の厚さの1/40〜1/2である請求項1乃至6のうちのいずれかに記載の多層配線基板。   The multilayer wiring board according to claim 1, wherein a thickness of the second resin layer is 1/40 to 1/2 of a thickness of the first resin layer. 上記第1の樹脂層の平面方向の熱膨張係数をα x−yとし、該第1の樹脂層の厚さ方向の熱膨張係数をα zとし、上記貫通導体の熱膨張係数をαとした場合に、
−10×10−6≦α x−y(/℃)≦30×10−6であり、
且つ、α ≧αである請求項1乃至7のうちのいずれかに記載の多層配線基板。
The thermal expansion coefficient in the planar direction of the first resin layer is α 1 xy , the thermal expansion coefficient in the thickness direction of the first resin layer is α 1 z, and the thermal expansion coefficient of the through conductor is α 3
−10 × 10 −6 ≦ α 1 xy (/ ° C.) ≦ 30 × 10 −6 ,
The multilayer wiring board according to claim 1 , wherein α 1 z ≧ α 3 .
上記第2の樹脂層の平面方向の熱膨張係数をα x−yとし、該第2の樹脂層の厚さ方向の熱膨張係数をα とした場合に、
10×10−6≦α x−y(/℃)≦60×10−6であり、
且つ、10×10−6≦α (/℃)≦60×10−6である請求項1乃至8のうちのいずれかに記載の多層配線基板。
When the thermal expansion coefficient in the planar direction of the second resin layer is α 2 xy, and the thermal expansion coefficient in the thickness direction of the second resin layer is α 2 z ,
10 × 10 −6 ≦ α 2 xy (/ ° C.) ≦ 60 × 10 −6 ,
The multilayer wiring board according to claim 1, wherein 10 × 10 −6 ≦ α 2 z (/ ° C.) ≦ 60 × 10 −6 .
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