JP2008098130A - 電気光学装置、電子機器および電気光学装置の製造方法 - Google Patents
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Abstract
【解決手段】複数の陽極11が形成された基板10と、基板10の上に形成された個別バンク70Aとを有する。個別バンク70Aには、複数の画素開口部50Aが設けられている。各画素開口部50Aは各陽極11に対応している。各画素開口部50Aの内部には、陽極11の上に、正孔注入層20、インターレイヤ21、発光層22が順に積層されている。発光層22の上に陰極30が形成されている。個別バンク70Aは、親液層12の上に撥液層13を積層して構成されている。撥液層13は互いに離間している複数の撥液部14から構成され、各撥液部14が各画素開口部50Aを画定している。
【選択図】図3
Description
注入層は電子又は正孔を有機半導体層に注入する機能を有する。有機半導体層では電子と正孔との再結合が行われることになる。有機半導体層は、有機材料から形成され、電子又は正孔の注入量に応じた輝度で発光する機能を有する。電気光学装置としては有機EL素子を、有機半導体層としては有機EL素子の発光層を例示することができる。画素開口部の内周面には親液層が露出しており、親液層は撥液層と比較して注入層を形成するための材料液に対する親和性が強いので、材料液は画素開口部の内部に濡れ広がる。親液層は、例えば無機材料から形成される。ここでいう無機材料としては、ケイ素酸化物、ケイ素窒化物、およびケイ素酸化窒化物を例示することができる。一方、撥液層は、親液層と比較して材料液に対する親和性が弱くなければならないため、水分を呼び込み易い材料(例えばアクリルやポリイミド等の水分を呼び込み易い有機材料)から形成される。また、有機半導体層は有機材料から形成されるから、有機半導体層上の電極をプラズマエッチング法等のドライエッチでエッチングすることは困難である。したがって、有機半導体層上の電極は複数の画素開口部に共通して形成され、複数の画素開口部を覆うことになる。
この電気光学装置では、複数の画素開口部の各々の周囲をそれぞれ囲んでいる複数の撥液部が互いに離間しており、これら複数の撥液部のみから撥液層が構成されている。つまり、有機半導体層上の電極側から見ると、撥液部にも画素開口部にも重ならない領域において親液層が露出する。よって、有機半導体層上の電極の下面において、水分を呼び込み易い撥液層に接触する領域が狭くなる(水分を呼び込み難い親液層に接触する領域が広くなる)。以上より、この電気光学装置によれば、有機半導体層の上の電極の酸化を遅くするとともに、薄膜封止の場合の封止層の形成を容易とすることができる。
また、この電気光学装置によれば、撥液層を形成する有機材料の量を少なく抑えることができるから、長寿命化を達成することができる。
<第1の実施の形態>
図1は、本発明の第1の実施の形態に係る電気光学装置の平面図である。本実施の形態に係る電気光学装置は、電子写真方式の画像形成装置において感光体ドラムなどの像担持体に潜像を形成する光ヘッド1Aである。図2は、図1に示す光ヘッド1AのZ1−Z1’における断面図である。図3は、図2に示す部分Mの斜視断面図である。但し、図2および図3においては、正孔注入層20、インターレイヤ21、発光層22、及び陰極30を除いてある。
続いて、本発明の第2の実施の形態に係る光ヘッド1Dについて説明する。光ヘッド1Dの構成は、図13(C)の部分断面図に示されているように、基本的には第1の実施の形態に係る光ヘッド1A(図4(F))と同様である。ただし、親液層12上に撥液性薄膜18が形成されている点、及び撥液層13がインクジェット法によって形成される点において光ヘッド1Aと異なる。以下では、光ヘッド1Dの製造方法及び構成について、図11から図14を用いて、光ヘッド1Aと異なる点を中心に説明する。ここで、図11は、光ヘッド1Dの製造方法を示すフローチャートであり、図12及び図13は、当該製造方法の各工程における光ヘッド1Dの断面図である。また、図14は、当該製造方法の各工程における光ヘッド1Dの部分斜視図である。なお、図1から図4の実施形態と同じ要素は同じ符号を付して示すことにして、その説明は省略する。
上記第2の実施の形態では、親液層12上に撥液性薄膜18を形成した後、撥液性薄膜18の一部を紫外線によって除去し、親液層12を露出させることで基板10上に撥液性の領域と親液性の領域との分布を形成したが、これに代えて、次のような方法を用いてもよい。
図6は、本発明の第3の実施の形態に係る電気光学装置の平面図である。本実施の形態に係る電気光学装置は、RGBストライプ配列の表示装置1Cである。例えば、40インチディスプレイであって、基板81の上に1920×RGB×1080の画素(発光素子P2)を備える。表示装置1Cは、光ヘッド1Aと同様の構成を有する。すなわち、基板81の上には親液層82が形成され、親液層82の上には発光素子P2と同数の撥液部84のみを有する撥液層83が形成され、親液層82および撥液層83が個別バンクとして機能し、各発光素子P2の陽極(画素電極)と個別バンクとに画定される各画素開口部内には陽極側から正孔注入層、インターレイヤ、発光層が積層されており、すべての発光層を覆って共通陰極(陰極90)が形成されており、共通陰極および個別バンクは封止層に覆われている。
(1)上述した各実施の形態を変形し、正孔注入層と発光層との間にインターレイヤが存在しない形態としてもよいし、基板側の上に陰極、電子を輸送する電子注入層、発光層、陽極を順に積層して発光素子を形成してもよい。この場合にも、電子注入層を形成するための材料溶液を水系で構成することにより、画素開口部の内部に材料溶液を濡れ広げることができる。ただし、画素開口部内に形成される層は、採用する塗布方法(例えばインクジェット法)で形成可能なものでなければならない。
Claims (9)
- 複数の画素電極が形成された基板と、
前記基板の上に形成され、前記複数の画素電極に各々対応する複数の画素開口部が設けられた個別バンクと、
前記複数の画素開口部の各々内に形成され、電子又は正孔を注入する注入層と、
前記複数の画素開口部の各々内であって前記注入層の上に形成された有機半導体層と、
前記有機半導体層の上に形成された電極とを備え、
前記個別バンクは、前記基板の上に形成された親液層と、前記親液層の上に形成された撥液層とを有し、
前記複数の画素開口部の各々は、前記親液層および前記撥液層を貫通しており、
前記撥液層は、前記親液層と比較して前記注入層を形成するための材料液に対する親和性が弱く、前記複数の画素開口部に各々対応する複数の撥液部から構成され、
前記複数の撥液部は、互いに離間しており、
前記複数の撥液部の各々は、当該撥液部に対応する前記画素開口部の周囲を囲んでいる、
ことを特徴とする電気光学装置。 - 前記複数の画素開口部には、互いに形状の異なる2以上の画素開口部が含まれている、
ことを特徴とする請求項1に記載の電気光学装置。 - 前記画素開口部を前記親液層及び撥液層に同一形状で形成したことを特徴とする請求項1に記載の電気光学装置。
- 前記親液層は、無機材料から形成されている、
ことを特徴とする請求項1乃至3のうちいずれか1項に記載の電気光学装置。 - 前記撥液層は、有機材料から形成されている、
ことを特徴とする請求項1乃至4のうちいずれか1項に記載の電気光学装置。 - 請求項1乃至5のうちいずれか1項に記載の電気光学装置を有する電子機器。
- 複数の画素開口部を有する電気光学装置の製造方法であって、
基板上の前記画素開口部に対応する領域に画素電極を形成するステップと、
前記基板上に、前記画素電極を覆うように、親液層及び撥液性薄膜をこの順に積層するステップと、
前記撥液性薄膜の表面の領域であって、前記画素開口部を囲む環状の領域にエネルギを照射することにより、前記基板の表面のうち前記環状の領域における親液性を、前記環状の領域を除いた領域における親液性より高めるステップAと、
前記基板の表面のうち前記環状の領域に、液滴吐出法により環状の撥液層を形成するステップと、
前記環状の領域に囲まれた領域に形成された前記撥液性薄膜及び前記親液層を除去するステップと、
前記環状の領域に囲まれた領域に形成された凹部の底部に、液滴吐出法を用いて注入層及び有機半導体層をこの順に形成するステップと、
前記有機半導体層上に陰極を形成するステップと、
を有することを特徴とする電気光学装置の製造方法。 - 請求項7に記載の電気光学装置の製造方法であって、
前記撥液性薄膜は単分子膜であり、
前記ステップAは、
前記単分子膜上のうち前記環状の領域を除いた領域にマスクを配置するステップと、
前記基板の表面に紫外線を照射して、前記環状の領域に形成された前記単分子膜を除去するステップと、
を含むことを特徴とする電気光学装置の製造方法。 - 請求項7に記載の電気光学装置の製造方法であって、
前記ステップAは、
前記撥液性薄膜上のうち前記環状の領域を除いた領域にマスクを配置するステップと、
前記基板の表面をプラズマ処理するステップと、
を含むことを特徴とする電気光学装置の製造方法。
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