JP2008090030A - 高効率耐熱性多層膜回折格子 - Google Patents
高効率耐熱性多層膜回折格子 Download PDFInfo
- Publication number
- JP2008090030A JP2008090030A JP2006271484A JP2006271484A JP2008090030A JP 2008090030 A JP2008090030 A JP 2008090030A JP 2006271484 A JP2006271484 A JP 2006271484A JP 2006271484 A JP2006271484 A JP 2006271484A JP 2008090030 A JP2008090030 A JP 2008090030A
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- diffraction grating
- multilayer film
- multilayer
- sio
- film
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Pending
Links
Landscapes
- Optical Filters (AREA)
- Diffracting Gratings Or Hologram Optical Elements (AREA)
Abstract
【解決手段】ラミナー型回折格子基板1、またはブレーズド型の格子溝を表面に有する回折格子基板に、モリブデン(Mo)2と窒化ホウ素(BN)3、またはMo2と酸化ケイ素(SiO2)3を成膜材料として用いた、Mo/BN多層膜、またはMo/SiO2多層膜を成膜する。
【選択図】図1
Description
2:モリブデン(Mo)を成膜物質として形成される層を示す。
3:窒化ホウ素(BN)、または酸化ケイ素(SiO2)を成膜物質として形成される層を示す。
4:ラミナー型回折格子の溝間隔を表す。
5:ラミナー型回折格子の凸部の幅を表す。
6:ラミナー型回折格子の凹部の幅を表す。
7:ラミナー型回折格子の溝深さを表す。
8:ブレーズド型回折格子基板を示す。
9:ブレーズド型回折格子の溝間隔を表す。
10:ブレーズド型回折格子のブレーズ角を表す。
11:シリコン(Si)基板を示す。
12:Moを成膜物質として形成された層を示す。
13:SiO2を成膜物質として形成された層を示す。
14:図4において、Mo/SiO2多層膜に対する熱処理温度示す。
15:図4において、Mo/SiO2多層膜の周期長、および反射率の相対変化率を示す。
16:Mo/SiO2多層膜の周期長の相対変化率を示す。
17:Mo/SiO2多層膜の反射率の相対変化率を示す。
18:図5において、多層膜に入射するX線のエネルギーを示す。
19:図5において、多層膜の反射率を示す。
20:Mo/BN多層膜の反射率曲線を示す。
21:Mo/SiO2多層膜の反射率曲線を示す。
Claims (3)
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP2006271484A JP2008090030A (ja) | 2006-10-03 | 2006-10-03 | 高効率耐熱性多層膜回折格子 |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP2006271484A JP2008090030A (ja) | 2006-10-03 | 2006-10-03 | 高効率耐熱性多層膜回折格子 |
Publications (1)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JP2008090030A true JP2008090030A (ja) | 2008-04-17 |
Family
ID=39374234
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP2006271484A Pending JP2008090030A (ja) | 2006-10-03 | 2006-10-03 | 高効率耐熱性多層膜回折格子 |
Country Status (1)
Country | Link |
---|---|
JP (1) | JP2008090030A (ja) |
Cited By (6)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP2011523782A (ja) * | 2008-05-30 | 2011-08-18 | エーエスエムエル ネザーランズ ビー.ブイ. | スペクトル純度フィルタを形成する方法 |
CN102520471A (zh) * | 2011-12-30 | 2012-06-27 | 中国科学院上海光学精密机械研究所 | 偏振无关宽带反射光栅 |
JP2015094892A (ja) * | 2013-11-13 | 2015-05-18 | 独立行政法人日本原子力研究開発機構 | 回折格子 |
CN105068166A (zh) * | 2014-05-27 | 2015-11-18 | 中国科学院上海微系统与信息技术研究所 | 一种高线密度极紫外多层膜闪耀光栅的制备方法 |
JP2017044556A (ja) * | 2015-08-26 | 2017-03-02 | 国立研究開発法人量子科学技術研究開発機構 | ラミナー型回折格子 |
JP2020128950A (ja) * | 2019-02-12 | 2020-08-27 | 株式会社島津製作所 | 多層膜回折格子 |
Citations (4)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPH06194497A (ja) * | 1992-12-24 | 1994-07-15 | Univ Tohoku | Bnを用いた高耐熱性軟x線多層膜反射鏡 |
JPH07244199A (ja) * | 1994-03-02 | 1995-09-19 | Hitachi Ltd | 投影露光方法及びその装置 |
JP2002277589A (ja) * | 2001-03-16 | 2002-09-25 | Japan Atom Energy Res Inst | Mo/Si多層膜及びその耐熱性を向上させる方法 |
JP2006133280A (ja) * | 2004-11-02 | 2006-05-25 | Japan Atomic Energy Agency | 多層膜不等間隔溝ラミナー型回折格子及び同分光装置 |
-
2006
- 2006-10-03 JP JP2006271484A patent/JP2008090030A/ja active Pending
Patent Citations (4)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPH06194497A (ja) * | 1992-12-24 | 1994-07-15 | Univ Tohoku | Bnを用いた高耐熱性軟x線多層膜反射鏡 |
JPH07244199A (ja) * | 1994-03-02 | 1995-09-19 | Hitachi Ltd | 投影露光方法及びその装置 |
JP2002277589A (ja) * | 2001-03-16 | 2002-09-25 | Japan Atom Energy Res Inst | Mo/Si多層膜及びその耐熱性を向上させる方法 |
JP2006133280A (ja) * | 2004-11-02 | 2006-05-25 | Japan Atomic Energy Agency | 多層膜不等間隔溝ラミナー型回折格子及び同分光装置 |
Cited By (7)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP2011523782A (ja) * | 2008-05-30 | 2011-08-18 | エーエスエムエル ネザーランズ ビー.ブイ. | スペクトル純度フィルタを形成する方法 |
CN102520471A (zh) * | 2011-12-30 | 2012-06-27 | 中国科学院上海光学精密机械研究所 | 偏振无关宽带反射光栅 |
JP2015094892A (ja) * | 2013-11-13 | 2015-05-18 | 独立行政法人日本原子力研究開発機構 | 回折格子 |
CN105068166A (zh) * | 2014-05-27 | 2015-11-18 | 中国科学院上海微系统与信息技术研究所 | 一种高线密度极紫外多层膜闪耀光栅的制备方法 |
JP2017044556A (ja) * | 2015-08-26 | 2017-03-02 | 国立研究開発法人量子科学技術研究開発機構 | ラミナー型回折格子 |
JP2020128950A (ja) * | 2019-02-12 | 2020-08-27 | 株式会社島津製作所 | 多層膜回折格子 |
JP7259379B2 (ja) | 2019-02-12 | 2023-04-18 | 株式会社島津製作所 | 多層膜回折格子 |
Similar Documents
Publication | Publication Date | Title |
---|---|---|
US10634557B2 (en) | Super-dispersive off-axis meta-lenses for high resolution compact spectroscopy | |
JP2008090030A (ja) | 高効率耐熱性多層膜回折格子 | |
Young et al. | High-resolution x-ray spectrometer based on spherically bent crystals for investigations of femtosecond laser plasmas | |
US8331027B2 (en) | Ultra-high density diffraction grating | |
JP2005249787A (ja) | 回折計 | |
Wang et al. | Manufacturing of silicon immersion gratings for infrared spectrometers | |
CN115398563A (zh) | 具有经改进滤波的软x射线光学器件 | |
Surovtsev | Suppression of spurious background in low-frequency Raman spectroscopy | |
JP2008191547A (ja) | 多層膜不等間隔溝凹面回折格子及び同分光装置 | |
KR100949141B1 (ko) | X-선 튜브 광원에서의 특성방사선 획득 장치 | |
Moos et al. | Layered synthetic microstructures for soft x‐ray spectroscopy of magnetically confined plasmas | |
US11073766B2 (en) | Reflective optical element and optical system for EUV lithography having proportions of substances which differ across a surface | |
JP2011106842A (ja) | 回折格子分光器 | |
Cocco et al. | From Soft to Hard X‐ray with a Single Grating Monochromator | |
Popovici et al. | Multiwafer focusing neutron monochromators and applications | |
JP2006133280A (ja) | 多層膜不等間隔溝ラミナー型回折格子及び同分光装置 | |
BREILAND | Reflectance-correcting pyrometry in thin film deposition applications | |
JP2011075850A (ja) | 多層膜ラミナー型回折格子及び分光器 | |
Zeitner et al. | CUBES: prototyping the high efficiency UV transmission grating | |
WO2007119852A1 (ja) | 多層膜型回折格子 | |
Gilfrich et al. | X-ray characteristics and applications of layered synthetic microstructures | |
Arkadiev et al. | X-ray analysis with a highly oriented pyrolytic graphite-based von Hamos spectrometer | |
US10753798B2 (en) | Compact wideband VUV spectrometer | |
CN109920576B (zh) | 一种应用于软x射线分光的多层膜切片光栅 | |
JPH01502057A (ja) | 多層構造物 |
Legal Events
Date | Code | Title | Description |
---|---|---|---|
A621 | Written request for application examination |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A621 Effective date: 20091001 |
|
A521 | Written amendment |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A821 Effective date: 20091002 |
|
A977 | Report on retrieval |
Effective date: 20110623 Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A971007 |
|
A131 | Notification of reasons for refusal |
Effective date: 20110630 Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A131 |
|
RD04 | Notification of resignation of power of attorney |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A7424 Effective date: 20110912 |
|
A02 | Decision of refusal |
Effective date: 20111226 Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A02 |