JP2008087973A - 単結晶引上げ装置および単結晶引上げ方法 - Google Patents

単結晶引上げ装置および単結晶引上げ方法 Download PDF

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Abstract

【課題】 CZ法によるシリコン単結晶の引上げ育成において、ルツボ部材の損傷および脱ガスを低減させ、引上げ作業効率の向上を容易にする。
【解決手段】 カーボンルツボ14は、底部1、その外周縁から上方に延出する円筒状の直胴部2から成る。底部1の中心部に円形の開口部1a、底部1の下面に環状出っ張り部1bが形成される。環状出っ張り部1bは、第1のテーパ周面3、平坦周面4、第2のテーパ周面5を有している。このカーボンルツボ14は分割線6により分割された複数の分割片7から成る。そして、ルツボ受け皿15はカーボン製の円盤体である。ルツボ受け皿15の上面に突起部8が設けられ、その外周側に環状窪み部9が設けられる。環状窪み部9は、第1のテーパ周面3に接するテーパ周面、第2のテーパ周面5に当接する傾斜受け面10を有する。
【選択図】 図1

Description

本発明は、CZ法(Czochralski Method)によるシリコン単結晶の育成に用いられる単結晶引上げ装置および単結晶引上げ方法に関する。
現在、シリコンウェーハとして半導体デバイスに使用されるシリコン単結晶の多くは、いわゆるCZ法といわれる引上げ方法により育成されている。そして、この方法により育成されるシリコン単結晶インゴットは、例えば300mmφのような大口径化になり更にその長尺化が進められている。
CZ法によるシリコン単結晶引上げは、例えば図3に示すような単結晶引上げ装置を用いて行われる。ここで、図3はその単結晶引上げ装置内の状態を模式的に示した縦断面図である。単結晶引上げ装置には、円筒形状のメインチャンバ11内にシリコン融液12を保持する石英ルツボ13、該石英ルツボ13と共に二重構造ルツボを構成するカーボンルツボ14、該カーボンルツボ14を載置するルツボ受け皿15が備えられている。そして、二重構造ルツボを周囲から加熱するヒータ16、引上げられるシリコン単結晶17への輻射熱を遮蔽する輻射シールド18が設置されている。
更に、二重構造ルツボの回転および昇降を行うための支持軸19がルツボ受け皿15をその上端に固定して備えられ、ヒータ16の外側に位置しメインチャンバ11との間に断熱部材20が配置されている。そして、ワイヤから成る引上げ軸21が、シリコン単結晶17のネック上部の種結晶を保持するシードチャック(不図示)と連結しており、プルチャンバ22からメインチャンバ11内に垂下してシリコン単結晶を所定の速度で引上げるようになっている。
この引上げ装置においては、シリコン単結晶に例えばボロン、ヒ素、リンなどの有効不純物をドーピングする機構、部材等が備えられていても構わないが、発明の説明を簡明にするために省略される。
シリコン単結晶の引上げでは、初めに石英ルツボ13をカーボンルツボ14に装着しこれ等を支持軸19上のルツボ受け皿15に載置する。そして、原料シリコンを石英ルツボ13内に充填した後、メインチャンバ11内にアルゴン等の希ガスを導入すると共に真空引きし所定圧力に減圧する。そして、このような不活性ガス雰囲気で原料シリコンである多結晶シリコンをヒータ16により1420℃程度で加熱融解させて、シリコン融液12を石英ルツボ13内に形成する。
次いで、シードチャックに取り付けた種結晶をシリコン融液12に着液する。そして、引上げ軸21を一方向に回転させながら所定の速度で引上げ、同時に支持軸19により石英ルツボ13を同方向又は逆方向に回転させて、所要の直胴部の直径および長さのシリコン単結晶17を育成させる。ここで、支持軸19は上方駆動されシリコン融液12の融液面が一定の高さに維持される。このようにして、シリコン単結晶17は、例えばネック部、ショルダー部、ボディ部およびテール部の順に育成される。
シリコン単結晶引上げ後は、石英ルツボ13とカーボンルツボ14を取り外し、カーボンルツボ14は回収して、次の単結晶引上げで再使用する。
このCZ法によるシリコン単結晶17育成では、結晶の大口径化・大重量化に伴い使用されるルツボが大型化する。そのため、ハンドリング作業が容易でなく作業者への負担が大となってくる。また、引上げ終了後にカーボンルツボ14から石英ルツボ13を取り除く際に、石英とカーボンの熱膨張差によりカーボンルツボ14の内面に石英ルツボ13が強く張り付き、カーボンルツボ14が損傷を受けその回収が困難になる等の問題が生じ易くなる。これ等のため、カーボンルツボ14には、一体式カーボンルツボよりハンドリングが容易で、石英ルツボ13の脱着も容易な分割形式が広く使用される。
そして、最近のシリコン単結晶17の引上げでは、石英ルツボ13の再生・再使用の検討がなされ、石英ルツボ13をカーボンルツボ14から脱着させる際に、石英ルツボ13に損傷を与えないで回収できるとしたカーボンルツボおよびルツボ受け皿の構造が提案されている(例えば、特許文献1参照)
このようなカーボンルツボおよびルツボ受け皿の従来の一例について図4に示す。図4(a)は合体したカーボンルツボおよびルツボ受け皿の上面図、図4(b)はカーボンルツボおよびルツボ受け皿の図4(a)に記すX−X矢視の縦断面図である。以下、カーボンルツボおよびルツボ受け皿の構造の主要部について説明する。
図4に示すように、カーボンルツボ14は、全体として下へ凸のドーム状に形成された底部31と、底部31の外周縁から上方へ延出した円筒形状の直胴部32とからなる。底部31の中心部には、円形の開口部31aが設けられ、底部31の下面には、開口部31aの外周縁に隣接して環状凸部31bが形成され、その下面は平坦面である。一方、底部31の上面は下方へ凸の滑らかな湾曲面になる。
このカーボンルツボ14は、周方向に等間隔で並ぶ3本の半径方向の分割線33により、開口部31aの周囲で周方向に3分割され、3つの分割片34から成る。そして、これ等の分割片34は周方向に組み合わされ合体してカーボンルツボ14を構成する。
カーボンルツボ14が載置されるルツボ受け皿15は、カーボンルツボ14と同じカーボン製であり、円盤体となっている。ルツボ受け皿15のルツボ載置面である上面の中央部には、カーボンルツボ14の開口部31aに嵌合する円形の突起部35が設けられている。突起部35の外周縁は、上方に向かって外径が漸減するテーパ周面になり、開口部31aの外周縁も、これに対応するテーパ周面となる。突起部35の周囲には、カーボンルツボ14の環状凸部31bが嵌合する環状凹部36が設けられる。そして、この環状凹部36の外周側に湾曲状のアール部37が円盤体の縁端まで形成されている。
このような構造において、カーボンルツボ14とルツボ受け皿15の接触するアール部37が支点となり、分割片34の垂直部34aが外側に傾く自由度が確保される。また、分割片34が傾き倒れることにより、各分割片34の水平部34bの中心側縁端で石英ルツボ13の底部が突き上げられる。しかし、水平部34bの中心側縁端は、円形の開口部31aに接する円弧状になっているため、石英ルツボ13の底部に線接触し、底部31中心への局所的な集中応力が回避される。このようにして、3つの分割片34の倒れを許容するにもかかわらず、石英ルツボ13の損傷が防止され回収されるとしている。
特許第3617466号公報
しかしながら、シリコン結晶が300mmφと大口径化・大重量化しそれと共に石英ルツボ13が例えば800mmφと大型化してくると、ルツボ受け皿15にカーボンルツボ14を載置する際、上記環状凸部31bの環状凹部36への嵌合において環状凸部31bあるいは環状凹部36の角部が接触し破損することが見られる。
また、シリコン単結晶育成後のルツボの冷却において、石英ルツボ13とカーボンルツボ14の熱膨張係数の違いから、石英ルツボ13がカーボンルツボ14を水平方向に押圧する。加えて、石英ルツボ13内でシリコン融液が固化する際に体積が膨張して、石英ルツボ13がカーボンルツボ14を水平方向に押圧する。これらの押圧に伴い、カーボンルツボ14の環状凸部31bがルツボ受け皿15の環状凹部36を水平方向に押して、それ等の嵌合しているところで破損等の損傷が生じ易いという問題があった。
さらに、石製ルツボ13内のシリコン融液12が漏れた場合に、それがカーボンルツボ14の底部31下面に入り込み、シリコン単結晶育成後に、環状凸部31bと環状凹部36が固着し、カーボンルツボ14のルツボ受け皿15からの取り外しができなくなる場合があった。
また、新たなカーボンルツボ14とルツボ受け皿15を使用する場合に、カーボンルツボ14とルツボ受け皿15の間、あるいはそれぞれの内部に存在するガスのために、シリコン単結晶の引上げにおいてメインチャンバ11内を減圧にするための真空引きに要する時間が長くなるという問題があった。
本発明は、上述の事情に鑑みてなされたもので、シリコン単結晶の引上げにおいて、上記問題を解消するカーボンルツボとルツボ受け皿を有する単結晶引上げ装置を提供すると共に、単結晶引上げにおいてメインチャンバ内を減圧にするための真空引きに要する時間を簡便に短縮させる単結晶引上げ方法を提供することを目的とする。
上記目的を達成するために、本発明にかかるシリコン単結晶引上げ装置は、CZ法によりシリコン単結晶を引上げ育成する単結晶引上げ装置において、原料融液の容器の石英ルツボと、該石英ルツボを収容し、底部中央に開口部が設けられ該開口部の周囲で半径方向の分割線により2以上に分割されたカーボンルツボと、該カーボンルツボを載置し、中央に突起部が設けられたルツボ受け皿と、を備え、前記カーボンルツボの底部下面であって前記開口部の外周側に位置して環状出っ張り部が設けられ、前記ルツボ受け皿の上面であって前記突起部の外周側に位置して環状窪み部が設けられ、前記環状出っ張り部の内周縁は上方に向かって外径が漸減するテーパ周面となり、その底面は前記内周縁に連なる平坦周面とになり、その外周縁は前記底面に連なり、上方に向かって外径が漸増する一定角度の傾斜周面となり、前記環状窪み部の内周縁は上方に向かって外径が漸減するテーパ周面となり、その外周縁は上方に向かって外径が漸増する一定角度の傾斜周面となり、前記カーボンルツボおよび前記ルツボ受け皿は、前記開口部と前記突起部の結合、前記環状出っ張り部と前記環状窪み部の当接により合体する、という構成になっている。
上記発明の好適な態様では、前記傾斜周面は、前記環状出っ張り部の前記底面に対して10〜40度の範囲の傾斜角度を有するように形成される。
そして、本発明にかかるシリコン単結晶引上げ方法は、CZ法によるシリコン単結晶の引上げ育成において、上記発明のカーボンルツボおよびルツボ受け皿を用いるシリコン単結晶引上げ方法であって、単結晶引上げ装置内に新しい前記カーボンルツボおよびルツボ受け皿をチャンバ内に取り付けた後、前記チャンバ内を不活性ガスの雰囲気にし前記カーボンルツボおよびルツボ受け皿を500〜800℃の温度範囲で加熱する工程と、前記加熱後、1〜2時間毎に100〜200℃の昇温を行い、前記カーボンルツボおよびルツボ受け皿を1400〜1800℃の範囲の温度に保持する工程と、その後、前記カーボンルツボおよびルツボ受け皿を徐冷する工程と、を有する構成になっている。
本発明の構成により、例えばシリコン単結晶の大口径化・大重量化に伴う石英ルツボの大型化にあっても、単結晶引上げにおける石英ルツボ、カーボンルツボ等の損傷が防止され、しかもそのハンドリング作業が容易になる。また、単結晶引上げの作業時間が短縮しシリコン単結晶が高い生産性で低コストに製造できる。
以下、本発明の好適な実施形態について図面を参照して説明する。図1は本実施形態にかかるカーボンルツボとルツボ受け皿の構造の一例を示す縦断面図、図2は図1の領域Pを拡大した模式的な一部拡大図である。図面において互いに同一または類似の部分には共通の符号を付す。
本実施形態の単結晶引上げ装置の特徴は、図3で説明した単結晶引上げ育成に用いられるカーボンルツボ14およびルツボ受け皿15の新規な構造にある。本実施形態のカーボンルツボ14においても、その上面から見た構造は図4(a)に示したものとほぼ同じになっている。そして、図1は図4(a)に記したX−X矢視の縦断面図に相当する。図1に示すように、カーボンルツボ14は、従来の技術の場合と同じように全体として下へ凸のドーム状に形成された底部1、該底部1の外周縁から上方へ延出する円筒状の直胴部2から成っている。
上記底部1の中心部には円形の開口部1aが設けられている。そして、底部1の下面に開口部1aの外周側に隣接して環状出っ張り部1bが形成されている。ここで、環状出っ張り部1bは、その内周縁に形成した第1のテーパ周面3、その底面に形成した平坦周面4、およびその外周縁に向かって形成した傾斜周面である第2のテーパ周面5を有する。上記第1のテーパ周面3は、上方に向かって外径が漸減するテーパ周面であり、第2のテーパ周面5は、逆に上方に向かって外径が漸増するテーパ周面である。そして、第2のテーパ周面5の縁端から上記直胴部2の間は任意の面形状になっていて構わない。一方、底部31の上面は下方に凸の緩やかに変化し滑らかな湾曲面になる。
このカーボンルツボ14は、周方向に等間隔で並ぶ例えば3本の半径方向の分割線6により、開口部1aの周囲で周方向に3分割され、例えば3つの分割片7から成る。そして、これ等の分割片7は周方向に組み合わされ合体してカーボンルツボ14を構成する。
カーボンルツボ14が載置されるルツボ受け皿15は、カーボンルツボ14と同じカーボン製であり、円盤体である。ルツボ受け皿15のルツボ載置面である上面の中央部には、カーボンルツボ14の開口部1aと結合する円形の突起部8が設けられている。突起部8の周縁は、上方に向かって外径が漸減するテーパ周面となって、環状出っ張り部1bの第1のテーパ周面3に接するようになり、突起部8の外周側に環状窪み部9が設けられる。ここで、環状窪み部9は、環状出っ張り部1bに形成された第2のテーパ周面5が接する傾斜受け面10を有する。また、環状窪み部9は、図1に示すように、環状出っ張り部1bに形成された平坦周面4が接する平坦周面を備えていてもよいし、そのような平坦周面がなくても構わない。但し、環状窪み部9表面は鋭角の部分が生じないように形成するのが好ましい。これは、環状出っ張り部1b表面についても同じである。
このような構造において、カーボンルツボ14をルツボ受け皿15に載置する場合、カーボンルツボ14の分割片7が、環状出っ張り部1bと環状窪み部9とによりその径方向で固定される。そして、カーボンルツボおよび前記ルツボ受け皿は、開口部1aと突起部8の結合、環状出っ張り部1bと環状窪み部9の当接により合体される。ここで、カーボンルツボ14は、傾斜受け面10と第2のテーパ周面5の当接により、ルツボ受け皿15において上記径方向に対する固定は充分になされる。
環状出っ張り部1bに形成された第2のテーパ周面5および環状窪み部9に形成された傾斜受け面10は適度な傾斜角度を有する。図2の一部拡大図に示すように、その傾斜角度θは10度〜40度の範囲が好適である。ここで、傾斜角度θが10度未満になると、上記径方向の固定が充分でなくなり図3で説明した支持軸19に固定されているルツボ受け皿15に対して、カーボンルツボ14が不安定になる。そして、カーボンルツボ14への石英ルツボ13の装着、それ等のルツボ受け皿15への載置における作業性が悪くなってしまう。
また、傾斜角度θが40度を超えてくると、カーボンルツボ14の底部1がルツボ受け皿15に拘束され過ぎて、従来技術の場合のようにこれ等の係合部での破損等の損傷が生じ易くなる。そして、後述する分割片7の垂直部7aが外側に傾く自由度が損なわれ、単結晶引上げにおける石英ルツボ13の変形によりカーボンルツボ14あるいはルツボ受け皿15の一部破損が発生し易くなる。
更に、図2に示すように、カーボンルツボ14とルツボ受け皿15が接触する傾斜受け面10の特に縁端部10aはアール加工が施され湾曲面に形成されると好適である。その他に、分割片7の垂直部7aの上端もアール加工が施されていることが好ましい。このようにして、カーボンルツボ14の割れ、欠け等の損傷が低減する。
このようなカーボンルツボ14とルツボ受け皿15の構造において、カーボンルツボ14とルツボ受け皿15が接触する傾斜受け面10、特に縁端部10aの領域が支点となり、分割片7の垂直部7aが外側に傾く自由度が容易に確保される。そして、カーボンルツボ14は、その中に置かれた英ルツボ13の変形、例えばカーボンルツボ14に対する相対的な径方向の拡がりのような膨張に対して柔軟に追随することができるようになる。
また、分割片7が傾き倒れることにより、各分割片7の水平部7bの中心側縁端で石英ルツボ13の底部が突き上げられる。しかし、水平部7bの中心側縁端は、従来の技術で説明したように円形の開口部31aに接する円弧状になっているため、石英ルツボ13の底部に線接触し、底部中心への局所的な集中応力が回避される。このようにして、3つの分割片7の倒れを許容するにもかかわらず、石英ルツボ13の損傷が防止され容易に回収できるようになる。
更に、本実施形態のカーボンルツボ14をルツボ受け皿15の構造であると、上記環状出っ張り部5および環状窪み部10には、従来技術の環状凸部31bおよび環状凹部36のように尖った角部が形成されないために、石英ルツボ13が大型化しても、ルツボ受け皿15にカーボンルツボ14を載置する際に、カーボンルツボ14あるいはルツボ受け皿15の損傷の発生頻度は大きく低減するようになる。
また、シリコン単結晶育成後のルツボの冷却において、石英ルツボ13内でシリコン融液が固化する際に体積が膨張して、石英ルツボ13がカーボンルツボ14を径方向に押圧する場合であっても、環状出っ張り部5の第2のテーパ周面5は当接する傾斜受け面10と滑合していることから、それ等の当接部に破損等の損傷が生じることはなくなる。
さらに、石英ルツボ13内のシリコン融液12が漏れた場合であっても、環状出っ張り部5および環状窪み部10に当接部は、従来技術の場合に較べて密着して接していることから、当接部の隙間へのシリコン融液12の流入量は少なく、シリコン単結晶育成後に、カーボンルツボ14のルツボ受け皿15からの取り外しができなくなる頻度は大きく低減する。
次に本実施形態の単結晶引上げ方法について説明する。本実施形態の単結晶引上げでは、全ての分割片7を合体させてカーボンルツボ14を形成する。この合体したカーボンルツボ14の内側に石英ルツボ13を装着し、石英ルツボ13を内側に保持した状態で、カーボンルツボ14を支持軸19に固定されているルツボ受け皿15の上に載置し合体させる。それ以降の引上げ工程は、図3で説明したのと同じになる。
そして、単結晶引上げ育成後では、石英ルツボ13と共にカーボンルツボ14を回収し、カーボンルツボ14から石英ルツボ13を分離する。そして、カーボンルツボ14を回収し、次の単結晶引上げに使用する。あるいは、石英ルツボ13を回収し、その再生を行う。例えば、石英ルツボ13の底部に残存するシリコン融液の固化物の除去、および石英ルツボ13の物理的/化学的ダメージ層となった表層部の除去を行い、洗浄処理等を施して再使用できるようにする。
更に、本実施形態の単結晶引上げ方法では、上述した特徴的な構造を有するカーボンルツボ14およびルツボ受け皿15を初めて単結晶引上げ装置で使用する場合に、以下のような熱処理を施すと好適である。すなわち、新しいルツボ受け皿15を支持軸19に固定して取り付け、そのルツボ受け皿15に新しいカーボンルツボ14を載置する。
次に、メインチャンバ11内に希ガスである例えばアルゴンガスを導入する。また、メインチャンバ11内の設定圧力を例えば30〜70Torr(約3.99〜9.31×103Pa)の範囲にしたままで真空排気する。このようにして、ヒータ16により500〜800℃の温度範囲で10時間程度のあいだカーボンルツボ14およびルツボ受け皿15を加熱する。
その後、1〜2時間毎に100〜200℃の昇温を行い、1400〜1800℃の範囲の温度に保持する。この場合の保持時間は上記温度に依存するが1〜5時間程度でよい。そして、ヒータ16を停止させ上記アルゴンガス中で5時間以上の自然冷却による徐冷を加える。このように新しいカーボンルツボ14およびルツボ受け皿15には、上述したような熱処理を施した後に、メインチャンバ11内の圧力が例えば30〜70Torrの範囲の設定圧力になるように真空引きし減圧にして、図3で説明したようにしてシリコン単結晶の引上げを行う。
上述したカーボンルツボ14とルツボ受け皿15の熱処理により、カーボンルツボ14とルツボ受け皿15の間、あるいはそれぞれの内部に存在するガスの脱ガスが効果的に行われる。そして、従来技術で生じていた、シリコン単結晶の引上げにおいてメインチャンバ11内を減圧にするための真空引きの時間が長くなるという問題は解消される。なお、この熱処理の効果は、本実施形態のカーボンルツボとルツボ受け皿の構造に限らず、従来技術で説明した構造の場合にもその程度の差はあるが同様に生じる。
以下、実施例により本発明を更に詳細に説明する。なお、本発明はこれらの実施例のみに限定されるものでないことに言及しておく。
(実施例1)
この実施例では、図3に示した単結晶引上げ装置に図1で説明した新しいカーボンルツボ14とルツボ受け皿15を装着し300mmφで長尺のシリコン単結晶17を引き上げ育成した。そして、このような単結晶引上げを100回行った。ここで、それぞれの引上げに用いた石英ルツボ13の内径は800mmφであり、原料シリコンである多結晶シリコンのチャージ量は300kgとした。そして、各引上げ後のカーボンルツボとルツボ受け皿の破損の有無について調査した。調査した破損は、カーボンルツボあるいはルツボ受け皿の変形、割れ、欠けおよびヒビである。
また、各引上げにおいて、それぞれ新しく使用するカーボンルツボ14とルツボ受け皿15をメインチャンバ11内に取り付けた後には以下の熱処理を施した。すなわち、メインチャンバ11内にアルゴンガスを導入し、600℃温度で10時間のあいだカーボンルツボ14およびルツボ受け皿15を加熱した。その後、1時間で150℃の昇温を行い、1600℃の温度に1時間保持し、ヒータ16を停止させ上記アルゴンガス中で5時間の自然冷却による徐冷を行った。その後、図3で説明したシリコン単結晶の引上げを行った。この引上げにおいて、炉内の設定圧力が50Torr(約6.65×103Pa)になるように真空引きを行った。
実施例1では、100回のシリコン単結晶の引上げにおいて、カーボンルツボあるいはルツボ受け皿の破損回数は2回であった。また、カーボンルツボあるいはルツボ受け皿の熱処理後の引上げにおいて、上記設定圧力に達するまでに要する真空引きの時間は、100回の平均で40分であった。
(比較例1)
この比較例では、図4で説明した従来技術の構造のカーボンルツボ14とルツボ受け皿15を用いた以外は、実施例1と同じにして100回のシリコン単結晶引上げを行った。
比較例1では、100回のシリコン単結晶の引上げにおいて、カーボンルツボあるいはルツボ受け皿の破損回数は5回であった。また、カーボンルツボあるいはルツボ受け皿の熱処理後の引上げにおいて、上記設定圧力に達するまでに要する真空引きの時間は、100回の平均で40分であった。
(実施例2)
この実施例では、実施例1と同様に図1で説明したカーボンルツボ14とルツボ受け皿15を用いた。そして、実施例1で説明したカーボンルツボ14とルツボ受け皿15の熱処理を施さないで、その他は実施例1と同じにして単結晶引上げを行った。
実施例2では、100回のシリコン単結晶の引上げにおいて、カーボンルツボあるいはルツボ受け皿の破損回数は3回であった。また、カーボンルツボあるいはルツボ受け皿の熱処理後の引上げにおいて、上記設定圧力に達するまでに要する真空引きの時間は、100回の平均で150分であった。
(比較例2)
この比較例では、図4で説明した従来技術の構造のカーボンルツボ14とルツボ受け皿15を用いた以外は、実施例2と同じにして100回のシリコン単結晶引上げを行った。
比較例2では、100回のシリコン単結晶の引上げにおいて、カーボンルツボあるいはルツボ受け皿の破損回数は6回であった。また、カーボンルツボあるいはルツボ受け皿の熱処理後の引上げにおいて、上記設定圧力に達するまでに要する真空引きの時間は、100回の平均で155分であった。
これ等の具体例から、本実施形態の構造のカーボンルツボおよびルツボ受け皿は、従来技術の構造のカーボンルツボおよびルツボ受け皿の場合よりも単結晶引上げ作業で発生するそれ等の損傷が約1/2程度と大きく低減することが確認された。
また、単結晶引上げ前の新しいカーボンルツボおよびルツボ受け皿の上述したような熱処理は、単結晶引上げにおける設定圧力に達するに要する真空引きの時間を、従来の1/3〜1/4と大幅に短縮させることが確認された。
以上、本発明の好適な実施形態について説明したが、上述した実施形態は本発明を限定するものでない。当業者にあっては、具体的な実施態様において本発明の技術思想および技術範囲から逸脱せずに種々の変形・変更を加えることが可能である。
例えば、上記実施形態では、シリコン単結晶が例えば300〜400mmφと大口径化して大重量化する場合に好適になるものであるが、その口径が200mmφ以下のシリコン単結晶の場合であっても同様に実施できる。
本発明の実施形態にかかるカーボンルツボとルツボ受け皿の一例を示す縦断面図である。 本発明の実施形態にかかるカーボンルツボとルツボ受け皿の一部を模式的に示した拡大縦断面図である。 本発明を説明するための単結晶引上げ装置内の状態を模式的に示した縦断面図である。 従来の技術におけるカーボンルツボとルツボ受け皿の説明図であって、(a)はカーボンルツボとルツボ受け皿の合体した上面図であり、(b)はその縦断面図である。
符号の説明
1 底部
1a 開口部
1b 環状出っ張り部
2 直胴部
3 第1のテーパ周面
4 平坦周面
5 第2のテーパ周面
6 分割線
7 分割片
7a 垂直部
7b 水平部
8 突起部
9 環状窪み部
10 傾斜受け面
10a 縁端部
11 メインチャンバ
12 シリコン融液
13 石英ルツボ
14 カーボンルツボ
15 ルツボ受け皿
16 ヒータ
17 シリコン単結晶
18 輻射シールド
19 支持軸
20 断熱部材
21 引上げ軸
22 プルチャンバ

Claims (4)

  1. CZ法によりシリコン単結晶を引上げ育成する単結晶引上げ装置において、原料融液の容器の石英ルツボと、該石英ルツボを収容し、底部中央に開口部が設けられ該開口部の周囲で半径方向の分割線により2以上に分割されたカーボンルツボと、該カーボンルツボを載置し、中央に突起部が設けられたルツボ受け皿と、を備え、
    前記カーボンルツボの底部下面であって前記開口部の外周側に位置して環状出っ張り部が設けられ、前記ルツボ受け皿の上面であって前記突起部の外周側に位置して環状窪み部が設けられ、
    前記環状出っ張り部の内周縁は上方に向かって外径が漸減するテーパ周面となり、その底面は前記内周縁に連なる平坦周面となり、その外周縁は前記底面に連なり、上方に向かって外径が漸増する一定角度の傾斜周面となり、
    前記環状窪み部の内周縁は上方に向かって外径が漸減するテーパ周面となり、その外周縁は上方に向かって外径が漸増する一定角度の傾斜周面となり、
    前記カーボンルツボおよび前記ルツボ受け皿は、前記開口部と前記突起部の結合、前記環状出っ張り部と前記環状窪み部の当接により合体することを特徴とする単結晶引上げ装置。
  2. 前記傾斜周面は、前記環状出っ張り部の前記底面に対して10〜40度の範囲の傾斜角度を有することを特徴とする請求項1に記載の単結晶引上げ装置。
  3. 前記ルツボ受け皿の傾斜周面の縁端が湾曲面に加工されていることを特徴とする請求項1又は2に記載の単結晶引上げ装置。
  4. CZ法によるシリコン単結晶の引上げ育成において、請求項1,2又は3に記載のカーボンルツボおよびルツボ受け皿を用いるシリコン単結晶引上げ方法であって、
    単結晶引上げ装置内に新しい前記カーボンルツボおよびルツボ受け皿をチャンバ内に取り付けた後、前記チャンバ内を不活性ガスの雰囲気にし前記カーボンルツボおよびルツボ受け皿を500〜800℃の温度範囲で加熱する工程と、
    前記加熱後、1〜2時間毎に100〜200℃の昇温を行い、前記カーボンルツボおよびルツボ受け皿を1400〜1800℃の範囲の温度に保持する工程と、
    その後、前記カーボンルツボおよびルツボ受け皿を徐冷する工程と、
    を有することを特徴とする単結晶引上げ方法。
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Cited By (3)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2008087997A (ja) * 2006-09-29 2008-04-17 Sumco Techxiv株式会社 シリコン単結晶引上げ装置及び該装置に使用される黒鉛部材並びに黒鉛部材の劣化防止方法
KR100921442B1 (ko) 2009-02-10 2009-10-13 김차현 허니콤 타입의 냉각수단을 구비한 콤팩트 타입의 잉곳 제조장치
US8363329B2 (en) 2008-07-28 2013-01-29 Sony Corporation Liquid lens apparatus and manufacturing method of the same

Citations (3)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPH01142463A (ja) * 1987-11-28 1989-06-05 Shimadzu Corp バルブの開閉方法
JP2004522684A (ja) * 2001-01-09 2004-07-29 エムイーエムシー・エレクトロニック・マテリアルズ・インコーポレイテッド 単一結晶半導体材料を成長せしめる結晶引き上げ器及び方法
JP3617466B2 (ja) * 2001-03-16 2005-02-02 三菱住友シリコン株式会社 単結晶引上げ装置

Patent Citations (3)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPH01142463A (ja) * 1987-11-28 1989-06-05 Shimadzu Corp バルブの開閉方法
JP2004522684A (ja) * 2001-01-09 2004-07-29 エムイーエムシー・エレクトロニック・マテリアルズ・インコーポレイテッド 単一結晶半導体材料を成長せしめる結晶引き上げ器及び方法
JP3617466B2 (ja) * 2001-03-16 2005-02-02 三菱住友シリコン株式会社 単結晶引上げ装置

Cited By (4)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2008087997A (ja) * 2006-09-29 2008-04-17 Sumco Techxiv株式会社 シリコン単結晶引上げ装置及び該装置に使用される黒鉛部材並びに黒鉛部材の劣化防止方法
US9212431B2 (en) 2006-09-29 2015-12-15 Sumco Techxiv Corporation Silicon single crystal pulling device and graphite member used therein
US8363329B2 (en) 2008-07-28 2013-01-29 Sony Corporation Liquid lens apparatus and manufacturing method of the same
KR100921442B1 (ko) 2009-02-10 2009-10-13 김차현 허니콤 타입의 냉각수단을 구비한 콤팩트 타입의 잉곳 제조장치

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