JP2008087973A - 単結晶引上げ装置および単結晶引上げ方法 - Google Patents
単結晶引上げ装置および単結晶引上げ方法 Download PDFInfo
- Publication number
- JP2008087973A JP2008087973A JP2006266839A JP2006266839A JP2008087973A JP 2008087973 A JP2008087973 A JP 2008087973A JP 2006266839 A JP2006266839 A JP 2006266839A JP 2006266839 A JP2006266839 A JP 2006266839A JP 2008087973 A JP2008087973 A JP 2008087973A
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- crucible
- single crystal
- carbon
- peripheral surface
- tray
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Granted
Links
- 239000013078 crystal Substances 0.000 title claims abstract description 85
- 238000000034 method Methods 0.000 title claims abstract description 23
- 229910052799 carbon Inorganic materials 0.000 claims abstract description 125
- OKTJSMMVPCPJKN-UHFFFAOYSA-N Carbon Chemical compound [C] OKTJSMMVPCPJKN-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims abstract description 124
- 230000002093 peripheral effect Effects 0.000 claims abstract description 66
- XUIMIQQOPSSXEZ-UHFFFAOYSA-N Silicon Chemical compound [Si] XUIMIQQOPSSXEZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims abstract description 60
- 229910052710 silicon Inorganic materials 0.000 claims abstract description 60
- 239000010703 silicon Substances 0.000 claims abstract description 60
- 239000010453 quartz Substances 0.000 claims description 47
- VYPSYNLAJGMNEJ-UHFFFAOYSA-N silicon dioxide Inorganic materials O=[Si]=O VYPSYNLAJGMNEJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 47
- 238000010438 heat treatment Methods 0.000 claims description 13
- 238000001816 cooling Methods 0.000 claims description 5
- 230000003247 decreasing effect Effects 0.000 claims description 5
- 239000002994 raw material Substances 0.000 claims description 5
- 239000011261 inert gas Substances 0.000 claims description 3
- 230000007423 decrease Effects 0.000 claims description 2
- 238000007872 degassing Methods 0.000 abstract description 2
- XKRFYHLGVUSROY-UHFFFAOYSA-N Argon Chemical compound [Ar] XKRFYHLGVUSROY-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 10
- 239000007789 gas Substances 0.000 description 8
- 230000000052 comparative effect Effects 0.000 description 6
- 229910052786 argon Inorganic materials 0.000 description 5
- 238000005336 cracking Methods 0.000 description 3
- 229910021420 polycrystalline silicon Inorganic materials 0.000 description 2
- 230000005855 radiation Effects 0.000 description 2
- 238000010583 slow cooling Methods 0.000 description 2
- ZOXJGFHDIHLPTG-UHFFFAOYSA-N Boron Chemical compound [B] ZOXJGFHDIHLPTG-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- OAICVXFJPJFONN-UHFFFAOYSA-N Phosphorus Chemical compound [P] OAICVXFJPJFONN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 230000001154 acute effect Effects 0.000 description 1
- 229910052785 arsenic Inorganic materials 0.000 description 1
- RQNWIZPPADIBDY-UHFFFAOYSA-N arsenic atom Chemical compound [As] RQNWIZPPADIBDY-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229910052796 boron Inorganic materials 0.000 description 1
- 150000001721 carbon Chemical class 0.000 description 1
- 238000004140 cleaning Methods 0.000 description 1
- 238000007796 conventional method Methods 0.000 description 1
- 230000000694 effects Effects 0.000 description 1
- 230000001771 impaired effect Effects 0.000 description 1
- 239000012535 impurity Substances 0.000 description 1
- 238000009413 insulation Methods 0.000 description 1
- 239000010410 layer Substances 0.000 description 1
- 239000000155 melt Substances 0.000 description 1
- 238000012986 modification Methods 0.000 description 1
- 230000004048 modification Effects 0.000 description 1
- 229910052698 phosphorus Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000011574 phosphorus Substances 0.000 description 1
- 238000004064 recycling Methods 0.000 description 1
- 239000004065 semiconductor Substances 0.000 description 1
- 239000004575 stone Substances 0.000 description 1
- 239000000126 substance Substances 0.000 description 1
- 239000002344 surface layer Substances 0.000 description 1
- 235000012431 wafers Nutrition 0.000 description 1
Images
Landscapes
- Crystals, And After-Treatments Of Crystals (AREA)
Abstract
【解決手段】 カーボンルツボ14は、底部1、その外周縁から上方に延出する円筒状の直胴部2から成る。底部1の中心部に円形の開口部1a、底部1の下面に環状出っ張り部1bが形成される。環状出っ張り部1bは、第1のテーパ周面3、平坦周面4、第2のテーパ周面5を有している。このカーボンルツボ14は分割線6により分割された複数の分割片7から成る。そして、ルツボ受け皿15はカーボン製の円盤体である。ルツボ受け皿15の上面に突起部8が設けられ、その外周側に環状窪み部9が設けられる。環状窪み部9は、第1のテーパ周面3に接するテーパ周面、第2のテーパ周面5に当接する傾斜受け面10を有する。
【選択図】 図1
Description
更に、二重構造ルツボの回転および昇降を行うための支持軸19がルツボ受け皿15をその上端に固定して備えられ、ヒータ16の外側に位置しメインチャンバ11との間に断熱部材20が配置されている。そして、ワイヤから成る引上げ軸21が、シリコン単結晶17のネック上部の種結晶を保持するシードチャック(不図示)と連結しており、プルチャンバ22からメインチャンバ11内に垂下してシリコン単結晶を所定の速度で引上げるようになっている。
この引上げ装置においては、シリコン単結晶に例えばボロン、ヒ素、リンなどの有効不純物をドーピングする機構、部材等が備えられていても構わないが、発明の説明を簡明にするために省略される。
次いで、シードチャックに取り付けた種結晶をシリコン融液12に着液する。そして、引上げ軸21を一方向に回転させながら所定の速度で引上げ、同時に支持軸19により石英ルツボ13を同方向又は逆方向に回転させて、所要の直胴部の直径および長さのシリコン単結晶17を育成させる。ここで、支持軸19は上方駆動されシリコン融液12の融液面が一定の高さに維持される。このようにして、シリコン単結晶17は、例えばネック部、ショルダー部、ボディ部およびテール部の順に育成される。
シリコン単結晶引上げ後は、石英ルツボ13とカーボンルツボ14を取り外し、カーボンルツボ14は回収して、次の単結晶引上げで再使用する。
このカーボンルツボ14は、周方向に等間隔で並ぶ3本の半径方向の分割線33により、開口部31aの周囲で周方向に3分割され、3つの分割片34から成る。そして、これ等の分割片34は周方向に組み合わされ合体してカーボンルツボ14を構成する。
また、シリコン単結晶育成後のルツボの冷却において、石英ルツボ13とカーボンルツボ14の熱膨張係数の違いから、石英ルツボ13がカーボンルツボ14を水平方向に押圧する。加えて、石英ルツボ13内でシリコン融液が固化する際に体積が膨張して、石英ルツボ13がカーボンルツボ14を水平方向に押圧する。これらの押圧に伴い、カーボンルツボ14の環状凸部31bがルツボ受け皿15の環状凹部36を水平方向に押して、それ等の嵌合しているところで破損等の損傷が生じ易いという問題があった。
さらに、石製ルツボ13内のシリコン融液12が漏れた場合に、それがカーボンルツボ14の底部31下面に入り込み、シリコン単結晶育成後に、環状凸部31bと環状凹部36が固着し、カーボンルツボ14のルツボ受け皿15からの取り外しができなくなる場合があった。
また、新たなカーボンルツボ14とルツボ受け皿15を使用する場合に、カーボンルツボ14とルツボ受け皿15の間、あるいはそれぞれの内部に存在するガスのために、シリコン単結晶の引上げにおいてメインチャンバ11内を減圧にするための真空引きに要する時間が長くなるという問題があった。
また、傾斜角度θが40度を超えてくると、カーボンルツボ14の底部1がルツボ受け皿15に拘束され過ぎて、従来技術の場合のようにこれ等の係合部での破損等の損傷が生じ易くなる。そして、後述する分割片7の垂直部7aが外側に傾く自由度が損なわれ、単結晶引上げにおける石英ルツボ13の変形によりカーボンルツボ14あるいはルツボ受け皿15の一部破損が発生し易くなる。
また、シリコン単結晶育成後のルツボの冷却において、石英ルツボ13内でシリコン融液が固化する際に体積が膨張して、石英ルツボ13がカーボンルツボ14を径方向に押圧する場合であっても、環状出っ張り部5の第2のテーパ周面5は当接する傾斜受け面10と滑合していることから、それ等の当接部に破損等の損傷が生じることはなくなる。
さらに、石英ルツボ13内のシリコン融液12が漏れた場合であっても、環状出っ張り部5および環状窪み部10に当接部は、従来技術の場合に較べて密着して接していることから、当接部の隙間へのシリコン融液12の流入量は少なく、シリコン単結晶育成後に、カーボンルツボ14のルツボ受け皿15からの取り外しができなくなる頻度は大きく低減する。
次に、メインチャンバ11内に希ガスである例えばアルゴンガスを導入する。また、メインチャンバ11内の設定圧力を例えば30〜70Torr(約3.99〜9.31×103Pa)の範囲にしたままで真空排気する。このようにして、ヒータ16により500〜800℃の温度範囲で10時間程度のあいだカーボンルツボ14およびルツボ受け皿15を加熱する。
その後、1〜2時間毎に100〜200℃の昇温を行い、1400〜1800℃の範囲の温度に保持する。この場合の保持時間は上記温度に依存するが1〜5時間程度でよい。そして、ヒータ16を停止させ上記アルゴンガス中で5時間以上の自然冷却による徐冷を加える。このように新しいカーボンルツボ14およびルツボ受け皿15には、上述したような熱処理を施した後に、メインチャンバ11内の圧力が例えば30〜70Torrの範囲の設定圧力になるように真空引きし減圧にして、図3で説明したようにしてシリコン単結晶の引上げを行う。
この実施例では、図3に示した単結晶引上げ装置に図1で説明した新しいカーボンルツボ14とルツボ受け皿15を装着し300mmφで長尺のシリコン単結晶17を引き上げ育成した。そして、このような単結晶引上げを100回行った。ここで、それぞれの引上げに用いた石英ルツボ13の内径は800mmφであり、原料シリコンである多結晶シリコンのチャージ量は300kgとした。そして、各引上げ後のカーボンルツボとルツボ受け皿の破損の有無について調査した。調査した破損は、カーボンルツボあるいはルツボ受け皿の変形、割れ、欠けおよびヒビである。
この比較例では、図4で説明した従来技術の構造のカーボンルツボ14とルツボ受け皿15を用いた以外は、実施例1と同じにして100回のシリコン単結晶引上げを行った。
この実施例では、実施例1と同様に図1で説明したカーボンルツボ14とルツボ受け皿15を用いた。そして、実施例1で説明したカーボンルツボ14とルツボ受け皿15の熱処理を施さないで、その他は実施例1と同じにして単結晶引上げを行った。
この比較例では、図4で説明した従来技術の構造のカーボンルツボ14とルツボ受け皿15を用いた以外は、実施例2と同じにして100回のシリコン単結晶引上げを行った。
また、単結晶引上げ前の新しいカーボンルツボおよびルツボ受け皿の上述したような熱処理は、単結晶引上げにおける設定圧力に達するに要する真空引きの時間を、従来の1/3〜1/4と大幅に短縮させることが確認された。
1a 開口部
1b 環状出っ張り部
2 直胴部
3 第1のテーパ周面
4 平坦周面
5 第2のテーパ周面
6 分割線
7 分割片
7a 垂直部
7b 水平部
8 突起部
9 環状窪み部
10 傾斜受け面
10a 縁端部
11 メインチャンバ
12 シリコン融液
13 石英ルツボ
14 カーボンルツボ
15 ルツボ受け皿
16 ヒータ
17 シリコン単結晶
18 輻射シールド
19 支持軸
20 断熱部材
21 引上げ軸
22 プルチャンバ
Claims (4)
- CZ法によりシリコン単結晶を引上げ育成する単結晶引上げ装置において、原料融液の容器の石英ルツボと、該石英ルツボを収容し、底部中央に開口部が設けられ該開口部の周囲で半径方向の分割線により2以上に分割されたカーボンルツボと、該カーボンルツボを載置し、中央に突起部が設けられたルツボ受け皿と、を備え、
前記カーボンルツボの底部下面であって前記開口部の外周側に位置して環状出っ張り部が設けられ、前記ルツボ受け皿の上面であって前記突起部の外周側に位置して環状窪み部が設けられ、
前記環状出っ張り部の内周縁は上方に向かって外径が漸減するテーパ周面となり、その底面は前記内周縁に連なる平坦周面となり、その外周縁は前記底面に連なり、上方に向かって外径が漸増する一定角度の傾斜周面となり、
前記環状窪み部の内周縁は上方に向かって外径が漸減するテーパ周面となり、その外周縁は上方に向かって外径が漸増する一定角度の傾斜周面となり、
前記カーボンルツボおよび前記ルツボ受け皿は、前記開口部と前記突起部の結合、前記環状出っ張り部と前記環状窪み部の当接により合体することを特徴とする単結晶引上げ装置。 - 前記傾斜周面は、前記環状出っ張り部の前記底面に対して10〜40度の範囲の傾斜角度を有することを特徴とする請求項1に記載の単結晶引上げ装置。
- 前記ルツボ受け皿の傾斜周面の縁端が湾曲面に加工されていることを特徴とする請求項1又は2に記載の単結晶引上げ装置。
- CZ法によるシリコン単結晶の引上げ育成において、請求項1,2又は3に記載のカーボンルツボおよびルツボ受け皿を用いるシリコン単結晶引上げ方法であって、
単結晶引上げ装置内に新しい前記カーボンルツボおよびルツボ受け皿をチャンバ内に取り付けた後、前記チャンバ内を不活性ガスの雰囲気にし前記カーボンルツボおよびルツボ受け皿を500〜800℃の温度範囲で加熱する工程と、
前記加熱後、1〜2時間毎に100〜200℃の昇温を行い、前記カーボンルツボおよびルツボ受け皿を1400〜1800℃の範囲の温度に保持する工程と、
その後、前記カーボンルツボおよびルツボ受け皿を徐冷する工程と、
を有することを特徴とする単結晶引上げ方法。
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP2006266839A JP4926633B2 (ja) | 2006-09-29 | 2006-09-29 | 単結晶引上げ方法 |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP2006266839A JP4926633B2 (ja) | 2006-09-29 | 2006-09-29 | 単結晶引上げ方法 |
Publications (2)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JP2008087973A true JP2008087973A (ja) | 2008-04-17 |
JP4926633B2 JP4926633B2 (ja) | 2012-05-09 |
Family
ID=39372502
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP2006266839A Active JP4926633B2 (ja) | 2006-09-29 | 2006-09-29 | 単結晶引上げ方法 |
Country Status (1)
Country | Link |
---|---|
JP (1) | JP4926633B2 (ja) |
Cited By (3)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP2008087997A (ja) * | 2006-09-29 | 2008-04-17 | Sumco Techxiv株式会社 | シリコン単結晶引上げ装置及び該装置に使用される黒鉛部材並びに黒鉛部材の劣化防止方法 |
KR100921442B1 (ko) | 2009-02-10 | 2009-10-13 | 김차현 | 허니콤 타입의 냉각수단을 구비한 콤팩트 타입의 잉곳 제조장치 |
US8363329B2 (en) | 2008-07-28 | 2013-01-29 | Sony Corporation | Liquid lens apparatus and manufacturing method of the same |
Citations (3)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPH01142463A (ja) * | 1987-11-28 | 1989-06-05 | Shimadzu Corp | バルブの開閉方法 |
JP2004522684A (ja) * | 2001-01-09 | 2004-07-29 | エムイーエムシー・エレクトロニック・マテリアルズ・インコーポレイテッド | 単一結晶半導体材料を成長せしめる結晶引き上げ器及び方法 |
JP3617466B2 (ja) * | 2001-03-16 | 2005-02-02 | 三菱住友シリコン株式会社 | 単結晶引上げ装置 |
-
2006
- 2006-09-29 JP JP2006266839A patent/JP4926633B2/ja active Active
Patent Citations (3)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPH01142463A (ja) * | 1987-11-28 | 1989-06-05 | Shimadzu Corp | バルブの開閉方法 |
JP2004522684A (ja) * | 2001-01-09 | 2004-07-29 | エムイーエムシー・エレクトロニック・マテリアルズ・インコーポレイテッド | 単一結晶半導体材料を成長せしめる結晶引き上げ器及び方法 |
JP3617466B2 (ja) * | 2001-03-16 | 2005-02-02 | 三菱住友シリコン株式会社 | 単結晶引上げ装置 |
Cited By (4)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP2008087997A (ja) * | 2006-09-29 | 2008-04-17 | Sumco Techxiv株式会社 | シリコン単結晶引上げ装置及び該装置に使用される黒鉛部材並びに黒鉛部材の劣化防止方法 |
US9212431B2 (en) | 2006-09-29 | 2015-12-15 | Sumco Techxiv Corporation | Silicon single crystal pulling device and graphite member used therein |
US8363329B2 (en) | 2008-07-28 | 2013-01-29 | Sony Corporation | Liquid lens apparatus and manufacturing method of the same |
KR100921442B1 (ko) | 2009-02-10 | 2009-10-13 | 김차현 | 허니콤 타입의 냉각수단을 구비한 콤팩트 타입의 잉곳 제조장치 |
Also Published As
Publication number | Publication date |
---|---|
JP4926633B2 (ja) | 2012-05-09 |
Similar Documents
Publication | Publication Date | Title |
---|---|---|
JP4918130B2 (ja) | 黒鉛ルツボ及びシリコン単結晶製造装置 | |
JP5482643B2 (ja) | 炭化珪素単結晶インゴットの製造装置 | |
EP1498516B1 (en) | Single crystal silicon producing method, single crystal silicon wafer and ingot produced thereby | |
JP4926633B2 (ja) | 単結晶引上げ方法 | |
JP4894717B2 (ja) | 炭化珪素単結晶基板の製造方法 | |
JP5741163B2 (ja) | 石英ガラスルツボ及びその製造方法、並びにシリコン単結晶の製造方法 | |
US9453291B2 (en) | Single crystal pulling apparatus and low heat conductive member used for single crystal pulling apparatus | |
WO2023051691A1 (zh) | 一种坩埚组件及拉晶炉 | |
JP2007091532A (ja) | シリカガラスルツボ | |
JP2004522684A (ja) | 単一結晶半導体材料を成長せしめる結晶引き上げ器及び方法 | |
JP5543327B2 (ja) | 石英ガラスルツボ | |
JP2005231969A (ja) | シリコン単結晶の育成装置 | |
JP5136278B2 (ja) | シリコン単結晶の製造方法 | |
JP2002274991A (ja) | 単結晶引上げ装置 | |
JP2000169285A (ja) | 融液収容ルツボ | |
JP2004123516A (ja) | 単結晶引上装置 | |
JP5645252B2 (ja) | るつぼとサスセプタとの間のガスを排気するための方法及び装置 | |
JP2011057460A (ja) | シリコン単結晶の育成方法 | |
KR101629445B1 (ko) | 대구경 단결정 성장장치 | |
JP4702266B2 (ja) | 単結晶の引上げ方法 | |
JP2001072490A (ja) | 単結晶の成長装置および製造方法 | |
JP2000247780A (ja) | 単結晶引き上げ装置 | |
JP2008087972A (ja) | シリコン単結晶の製造方法 | |
JP2003100648A (ja) | 半導体ウエハ熱処理用治具 | |
JP5488519B2 (ja) | 石英ガラスルツボ及びその製造方法、並びにシリコン単結晶の製造方法 |
Legal Events
Date | Code | Title | Description |
---|---|---|---|
A621 | Written request for application examination |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A621 Effective date: 20090319 |
|
A977 | Report on retrieval |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A971007 Effective date: 20101126 |
|
A131 | Notification of reasons for refusal |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A131 Effective date: 20101207 |
|
A521 | Request for written amendment filed |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A523 Effective date: 20110204 |
|
A131 | Notification of reasons for refusal |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A131 Effective date: 20110322 |
|
A521 | Request for written amendment filed |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A523 Effective date: 20110419 |
|
TRDD | Decision of grant or rejection written | ||
A01 | Written decision to grant a patent or to grant a registration (utility model) |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A01 Effective date: 20120207 |
|
A01 | Written decision to grant a patent or to grant a registration (utility model) |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A01 |
|
A61 | First payment of annual fees (during grant procedure) |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A61 Effective date: 20120208 |
|
FPAY | Renewal fee payment (event date is renewal date of database) |
Free format text: PAYMENT UNTIL: 20150217 Year of fee payment: 3 |
|
R150 | Certificate of patent or registration of utility model |
Ref document number: 4926633 Country of ref document: JP Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R150 Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R150 |
|
S111 | Request for change of ownership or part of ownership |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R313111 |
|
FPAY | Renewal fee payment (event date is renewal date of database) |
Free format text: PAYMENT UNTIL: 20150217 Year of fee payment: 3 |
|
R350 | Written notification of registration of transfer |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R350 |
|
R250 | Receipt of annual fees |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250 |
|
R250 | Receipt of annual fees |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250 |
|
R250 | Receipt of annual fees |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250 |
|
R250 | Receipt of annual fees |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250 |
|
R250 | Receipt of annual fees |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250 |
|
R250 | Receipt of annual fees |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250 |
|
R250 | Receipt of annual fees |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250 |
|
R250 | Receipt of annual fees |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250 |
|
R250 | Receipt of annual fees |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250 |
|
R250 | Receipt of annual fees |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250 |