JP2008080540A - 積層フィルム - Google Patents
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Abstract
【解決手段】ポリエチレンナフタレート(PEN)からなる基材1の少なくとも一方の面に、リアクティブイオンエッチング(RIE)による前処理を施し、前記前処理を施した基材面上に透明プライマー層2を積層し、前記透明プライマー層上に無機化合物層3を積層することを特徴とする積層フィルム。前記前処理を施した基材面上に透明プライマー層を積層するので、前記基材と前記透明プライマー層との密着性が改善して、高温多湿の環境下でもガスバリア性が維持できる。
【選択図】図1
Description
リアクティブイオンエッチング(RIE)による前処理を施し、
前記前処理を施した基材面上に透明プライマー層を積層し、
前記透明プライマー層上に無機化合物層を積層する
ことを特徴とする積層フィルムとしたものである。
プラズマの自己バイアス値を200V以上2000V以下とし、
Ed値(プラズマ密度×処理時間)を100W・s・m-2以上10000W・s・m-2以下とする
低温プラズマ処理であることを特徴とする請求項1または2に記載の積層フィルムとしたものである。
水酸基含有高分子化合物と
金属アルコキシドおよびまたはその加水分解物およびまたはその重合物の少なくとも1種類以上とを
含有する複合被膜を設けたことを特徴とする請求項1〜8のいずれかに記載の積層フィルムとしたものである。
ップリング剤であることを特徴とする請求項9に記載の積層フィルムとしたものである。
誘導体モノマーを重合させて得られるポリオールもしくは、アクリル酸誘導体モノマーおよびその他のモノマーとを共重合させて得られるポリオールであるアクリルポリオールが特に好ましい。中でもエチルメタクリレート、ヒドロキシエチルメタクリレートやヒドロキシプロピルメタクリレート、ヒドロキシルブチルメタクリレートなどのアクリル酸誘導体モノマーを単独で重合させたものや、スチレン等のその他のモノマーを加え共重合させたアクリルポリオール等が好ましく用いられる。またイソシアネート化合物との反応性を考慮するとヒドロキシル価が5〜200(KOHmg/g)の間であることが好ましい。
とがより好ましい。また無機化合物層3とプラスチック基材1との密着性及び無機化合物層3の緻密性を向上させるために、プラズマアシスト法やイオンビームアシスト法を用いて蒸着することも可能である。また、無機化合物層3の透明性を上げるために蒸着の際、酸素等の各種ガスなど吹き込む反応蒸着を用いても一向に構わない。
的には10〜30μmの範囲である。
(A)希釈溶媒中、2−(エポキシシクロヘキシル)エチルトリメチルシラン(以下EETMSと略す)とアクリルポリオールをEETMSに対し、5.0倍量(重量比)量りとり混合し、さらに触媒として塩化錫(SnCl2)/メタノール溶液(0.003mol/gに調液したもの)をEETMSに対し1/135molになるように添加し攪拌する。ついでイソシアネート化合物としてトリレンジイソシアネート(以下TDIと略す)をアクリルポリオールのOH基に対しNCO基が等量となるように加えた混合溶液を任意の濃度に希釈したものを複合溶液Aとする。
プラスチック基材1として厚さ12μmのポリエチレンナフタレート(PEN)フィルムの片面に、プラズマを利用したリアクティブイオンエッチング(RIE)による前処理を施した。この時、電極には周波数13.56MHzの高周波電源を用い、処理ガスにはアルゴンを用いた。
無機化合物層3にアルミナを用いた以外は、実施例1と同様の方法で、実施例2の積層フィルムを作製した。
プラスチック基材1の片面に対してRIEによる前処理を行わなかった以外は、実施例1と同様の方法で、比較例1の積層フィルムを作製した。
プラスチック基材1の片面に対して、一般的なインラインプラズマ処理器(冷却ドラム、ガイドロールの対面側に処理器がある)を使用して、プラズマエッチングによる前処理を行い、処理ガスにアルゴンガスを用いた以外は、実施例1と同様の方法で、比較例2の積層フィルムを作製した。
上記各積層サンプルにおける積層フィルムと未延伸ポリエチレンとの間のラミネート強度を、オリエンテック社テンシロン万能試験機RTC−1250を用いて測定した(JIS Z1707準拠)。但し、測定の際に測定部位を水で湿潤させながら行った。結果を表1に示す。
上記各積層サンプルを用いて、105℃×100%RH×48時間のプレッシャークッカーテスト(PCT)を行い、水蒸気バリア性の変化を測定した。結果を表1に示す。
2…透明プライマー層
3…無機化合物層
4…複合被膜層
Claims (12)
- ポリエチレンナフタレート(PEN)からなる基材の少なくとも一方の面に、
リアクティブイオンエッチング(RIE)による前処理を施し、
前記前処理を施した基材面上に透明プライマー層を積層し、
前記透明プライマー層上に無機化合物層を積層する
ことを特徴とする積層フィルム。 - 前記RIEによる前処理が、アルゴン、窒素、酸素、水素、炭酸ガスのうちの1種類のガスまたはこれらの混合ガスを用いて1回以上行うことを特徴とする請求項1に記載の積層フィルム。
- 前記RIEによる前処理が、
プラズマの自己バイアス値を200V以上2000V以下とし、
Ed値(プラズマ密度×処理時間)を100W・s・m-2以上10000W・s・m-2以下とする
低温プラズマ処理であることを特徴とする請求項1または2に記載の積層フィルム。 - 前記透明プライマー層が、シランカップリング剤あるいはその加水分解物と、ポリオールとイソシアネート化合物との複合物からなることを特徴とする請求項1〜3のいずれかに記載の積層フィルム。
- 前記シランカップリング剤あるいはその加水分解物に、ポリオールの水酸基またはイソシアネート化合物のイソシアネート基の少なくともどちらか一方と反応する官能基を含むことを特徴とする請求項4に記載の積層フィルム。
- 前記複合物中に、一般式M(OR)n(M:金属元素、R:CH3、C2H5などのアルキル基、n:金属元素の酸化数)で表される金属アルコキシドあるいは前記金属アルコキシドの加水分解物を添加することを特徴とする請求項4または5に記載の積層フィルム。
- 前記透明プライマー層の厚さが0.01〜2μmであることを特徴とする請求項1〜6のいずれかに記載の積層フィルム。
- 前記無機化合物が、酸化アルミニウム、酸化珪素、酸化マグネシウム、酸化錫、酸化亜鉛あるいはそれらの混合物であることを特徴とする請求項1〜7のいずれかに記載の積層フィルム。
- 前記無機化合物層の上に
水酸基含有高分子化合物と
金属アルコキシドおよびまたはその加水分解物およびまたはその重合物の少なくとも1種類以上とを
含有する複合被膜を設けたことを特徴とする請求項1〜8のいずれかに記載の積層フィルム。 - 前記水酸基含有高分子化合物が、ポリビニルアルコールまたはポリ(ビニルアルコール−co−エチレン)、セルロース、デンプンのうち少なくとも1種類以上を含有することを特徴とする請求項9に記載の積層フィルム。
- 前記金属アルコキシドが、シランアルコキシド、シランカップリング剤であることを特徴とする請求項9に記載の積層フィルム。
- 前記金属アルコキシド中の金属がSi、Al、Ti、Zrあるいはそれらの混合物であることを特徴とする請求項6または9に記載の積層フィルム。
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