JP2008074829A - グルココルチコイド受容体結合活性を有する新規１，２，３，４−テトラヒドロキノキサリン誘導体 - Google Patents
グルココルチコイド受容体結合活性を有する新規１，２，３，４−テトラヒドロキノキサリン誘導体 Download PDFInfo
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- JSMRMEYFZHIPJV-UHFFFAOYSA-N C1C2CCC1C2 Chemical compound C1C2CCC1C2 JSMRMEYFZHIPJV-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
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Abstract
【課題】新規１，２，３，４−テトラヒドロキノキサリン誘導体の合成研究及びその誘導体の薬理作用を見出す。
【解決手段】式（１）で表される化合物。式中、Ｒ1はハロゲン、アルキル、複素環基等、pは０〜５、Ｒ２はハロゲン、アルキル、ヒドロキシ、アルコキシ基等、ｑは０〜２、Ｒ３は水素、アルキル、アルキルカルボニルカルボニル基等、Ｒ４及びＲ5は水素、ハロゲン、アルキル、複素環基等、Ｒ6は水素、アルキル、複素環基等、Ａはアルキレン、Ｒ7はＯＲ８、ＮＲ８Ｒ９、ＳＲ８、Ｓ（Ｏ）Ｒ８、Ｓ（Ｏ）２Ｒ８、XはＯ、Ｓを示す。
【選択図】なし
【解決手段】式（１）で表される化合物。式中、Ｒ1はハロゲン、アルキル、複素環基等、pは０〜５、Ｒ２はハロゲン、アルキル、ヒドロキシ、アルコキシ基等、ｑは０〜２、Ｒ３は水素、アルキル、アルキルカルボニルカルボニル基等、Ｒ４及びＲ5は水素、ハロゲン、アルキル、複素環基等、Ｒ6は水素、アルキル、複素環基等、Ａはアルキレン、Ｒ7はＯＲ８、ＮＲ８Ｒ９、ＳＲ８、Ｓ（Ｏ）Ｒ８、Ｓ（Ｏ）２Ｒ８、XはＯ、Ｓを示す。
【選択図】なし
Description
本発明は医薬として有用な新規１，２，３，４−テトラヒドロキノキサリン誘導体又はその塩に関する。その誘導体はグルココルチコイド受容体に対する結合活性を有し、非ステロイド構造のグルココルチコイド受容体モジュレーター（グルココルチコイド受容体アゴニスト及び／又はグルココルチコイド受容体アンタゴニスト）として有用である。
グルココルチコイド受容体は、核内レセプタースーパーファミリーに属する９４ｋＤａのリガンド−活性化細胞内転写調節因子である。この受容体は炭水化物・タンパク質・脂肪等の代謝調節、免疫・炎症反応の抑制、中枢神経系の活性化、心血管系機能の調節、基礎・ストレス関連ホメオスタシス等、に影響を及ぼすグルココルチコイド作用のメディエーターである。グルココルチコイド作用が関与する疾患としては、糖尿病、肥満等の代謝異常疾患、関節炎、腸炎、慢性閉塞性肺疾患等の炎症性疾患、膠原病等の自己免疫疾患、喘息、アトピー性皮膚炎、アレルギー性鼻炎・結膜炎等のアレルギー性疾患、精神病、アルツハイマー、薬物使用障害等の中枢神経系疾患、高血圧、高カルシウム血症、高インシュリン血症、高脂血症等の心血管系疾患、神経・免疫・内分泌のバランス異常をきたすホメオスタシス関連疾患、緑内障等が知られている（
、 ）。
、
よって、グルココルチコイド受容体に対して結合活性を有する化合物は、これら疾患の予防及び／又は治療剤として有用であると考えられている。
グルココルチコイド受容体に対して結合活性を有する化合物としては、コルチゾール、コルチコステロン等の生体内で作られるグルココルチコイド受容体アゴニスト、デキサメタゾン、プレドニゾン、プレドニシロン等の合成グルココルチコイド受容体アゴニスト、ＲＵ４８６等の非選択的グルココルチコイド受容体アンタゴニスト等が知られている（
）。
一方、１，２，３，４−テトラヒドロキノキサリン構造を有する化合物が、特許文献２、特許文献３等に開示されている。特許文献２に開示されている化合物はカルボキシ基を必須とするプロテインチロシンフォスファターゼ阻害剤に関するものである。一方、特許文献３には、非常に膨大な数の１，２，３，４−テトラヒドロキノキサリン構造を有する化合物が、抗ウイルス剤として開示されている。しかし、いずれの文献にも本発明化合物の具体的な開示はなされていない。
総合臨床，５４（７），１９５１−２０７６（２００５） 特開２００２−１９３９５５号公報
国際公開第０４／０９９１９２号パンフレット
特開平５−１４８２４３号公報
総合臨床，５４（７），１９５１−２０７６（２００５）
新規１，２，３，４−テトラヒドロキノキサリン誘導体の合成研究及びその誘導体の薬理作用を見出すことは非常に興味深い課題である。
本発明者等は新たな化学構造を有する１，２，３，４−テトラヒドロキノキサリン誘導体の合成研究を行い、数多くの新規化合物を創製することに成功した。さらに、その誘導体の薬理作用について研究した結果、本発明者は、その誘導体がグルココルチコイド受容体に対して結合活性を有し、医薬として有用であることを見出し、本発明を完成させた。
すなわち、本発明は下記一般式（１）で表される化合物又はその塩（以下、「本発明化合物」とする）及びそれらを含む医薬組成物に関する。また、その医薬用途における好ましい発明は、グルココルチコイド受容体モジュレーターに関するものであり、その対象疾患としては、グルココルチコイド作用が関与する疾患、すなわち、糖尿病、肥満等の代謝異常疾患、関節炎、腸炎、慢性閉塞性肺疾患等の炎症性疾患、膠原病等の自己免疫疾患、喘息、アトピー性皮膚炎、アレルギー性鼻炎・結膜炎等のアレルギー性疾患、精神病、アルツハイマー、薬物使用障害等の中枢神経系疾患、高血圧、高カルシウム血症、高インシュリン血症、高脂血症等の心血管系疾患、神経・免疫・内分泌のバランス異常をきたすホメオスタシス関連疾患、緑内障等が挙げられる。特に好ましい発明は、これらの疾患の予防又は治療剤に関する発明である。
［Ｒ1はハロゲン原子、置換基を有してもよい低級アルキル基、置換基を有してもよい低級シクロアルキル基、置換基を有してもよいアリール基、置換基を有してもよい複素環基、ヒドロキシ基、ヒドロキシ基のエステル、置換基を有してもよい低級アルコキシ基、置換基を有してもよい低級シクロアルキルオキシ基、置換基を有してもよいアリールオキシ基、置換基を有してもよい複素環オキシ基、メルカプト基、メルカプト基のエステル、置換基を有してもよい低級アルキルチオ基、置換基を有してもよい低級シクロアルキルチオ基、置換基を有してもよいアリールチオ基、置換基を有してもよい複素環チオ基、アミノ基、置換基を有してもよい低級アルキルアミノ基、置換基を有してもよい低級シクロアルキルアミノ基、置換基を有してもよいアリールアミノ基、置換基を有してもよい複素環アミノ基、アミノ基のアミド、置換基を有してもよい低級アルキルアミノ基のアミド、置換基を有してもよい低級シクロアルキルアミノ基のアミド、置換基を有してもよいアリールアミノ基のアミド、置換基を有してもよい複素環アミノ基のアミド、ホルミル基、置換基を有してもよい低級アルキルカルボニル基、置換基を有してもよい低級シクロアルキルカルボニル基、置換基を有してもよいアリールカルボニル基、置換基を有してもよい複素環カルボニル基、カルボキシ基、カルボキシ基のエステル、カルボキシ基のアミド、置換基を有してもよい低級アルキルスルホニル基、置換基を有してもよい低級シクロアルキルスルホニル基、置換基を有してもよいアリールスルホニル基、置換基を有してもよい複素環スルホニル基、スルホン酸基、スルホン酸基のエステル、スルホン酸基のアミド、ニトロ基又はシアノ基を示し；
ｐは０〜５の整数を示し；
ｐが２〜５の場合、各Ｒ1は同一又は異なってもよく；
Ｒ2はハロゲン原子、置換基を有してもよい低級アルキル基、ヒドロキシ基、ヒドロキシ基のエステル又は置換基を有してもよい低級アルコキシ基を示し；
ｑは０〜２の整数を示し；
ｑが２の場合、各Ｒ2は同一又は異なってもよく；
Ｒ3は水素原子、置換基を有してもよい低級アルキル基、置換基を有してもよい低級アルケニル基、置換基を有してもよい低級アルキルカルボニル基、置換基を有してもよい低級アルケニルカルボニル基又は置換基を有してもよいアリールカルボニル基を示し；
Ｒ4及びＲ5は同一又は異なって、水素原子、ハロゲン原子、置換基を有してもよい低級アルキル基、置換基を有してもよい低級アルケニル基、置換基を有してもよい低級アルキニル基、置換基を有してもよい低級シクロアルキル基、置換基を有してもよいアリール基又は置換基を有してもよい複素環基を示し；
Ｒ4とＲ5は一緒になって置換基を有してもよい３〜８員の低級シクロアルカン環を形成してもよく；
Ｒ６は水素原子、置換基を有してもよい低級アルキル基、置換基を有してもよい低級アルケニル基、置換基を有してもよい低級アルキニル基、置換基を有してもよい低級シクロアルキル基、置換基を有してもよいアリール基又は置換基を有してもよい複素環基を示し；
Ａは置換基を有してもよい低級アルキレン基を示し；
Ｒ7はＯＲ8、ＮＲ8Ｒ9、ＳＲ8、S(O)Ｒ8又はS(O)2Ｒ8を示し；
Ｒ8及びＲ９は同一又は異なって、水素原子、置換基を有してもよい低級アルキル基、置換基を有してもよい低級アルケニル基、置換基を有してもよい低級アルキニル基、置換基を有してもよい低級シクロアルキル基、置換基を有してもよいアリール基、置換基を有してもよい複素環基、ホルミル基、置換基を有してもよい低級アルキルカルボニル基、置換基を有してもよい低級アルケニルカルボニル基、置換基を有してもよい低級アルキニルカルボニル基、置換基を有してもよい低級シクロアルキルカルボニル基、置換基を有してもよいアリールカルボニル基、置換基を有してもよい複素環カルボニル基、カルボキシ基、置換基を有してもよい低級アルコキシカルボニル基、置換基を有してもよい低級アルケニルオキシカルボニル基、置換基を有してもよい低級アルキニルオキシカルボニル基、置換基を有してもよい低級シクロアルキルオキシカルボニル基、置換基を有してもよいアリールオキシカルボニル基、置換基を有してもよい複素環オキシカルボニル基、置換基を有してもよい低級アルキルスルホニル基、置換基を有してもよい低級アルケニルスルホニル基、置換基を有してもよい低級アルキニルスルホニル基、置換基を有してもよい低級シクロアルキルスルホニル基、置換基を有してもよいアリールスルホニル基、置換基を有してもよい複素環スルホニル基、アミノカルボニル基、置換基を有してもよい低級アルキルアミノカルボニル基、置換基を有してもよい低級アルケニルアミノカルボニル基、置換基を有してもよい低級アルキニルアミノカルボニル基、置換基を有してもよい低級シクロアルキルアミノカルボニル基、置換基を有してもよいアリールアミノカルボニル基又は置換基を有してもよい複素環アミノカルボニル基を示し；
Ｒ7がＮＲ8Ｒ9の場合、Ｒ8とＲ9が一緒になって、置換基を有してもよい３〜８員の含窒素複素環を形成してもよく；
また、XはＯ又はＳを示す。以下、同じ。］
ｐは０〜５の整数を示し；
ｐが２〜５の場合、各Ｒ1は同一又は異なってもよく；
Ｒ2はハロゲン原子、置換基を有してもよい低級アルキル基、ヒドロキシ基、ヒドロキシ基のエステル又は置換基を有してもよい低級アルコキシ基を示し；
ｑは０〜２の整数を示し；
ｑが２の場合、各Ｒ2は同一又は異なってもよく；
Ｒ3は水素原子、置換基を有してもよい低級アルキル基、置換基を有してもよい低級アルケニル基、置換基を有してもよい低級アルキルカルボニル基、置換基を有してもよい低級アルケニルカルボニル基又は置換基を有してもよいアリールカルボニル基を示し；
Ｒ4及びＲ5は同一又は異なって、水素原子、ハロゲン原子、置換基を有してもよい低級アルキル基、置換基を有してもよい低級アルケニル基、置換基を有してもよい低級アルキニル基、置換基を有してもよい低級シクロアルキル基、置換基を有してもよいアリール基又は置換基を有してもよい複素環基を示し；
Ｒ4とＲ5は一緒になって置換基を有してもよい３〜８員の低級シクロアルカン環を形成してもよく；
Ｒ６は水素原子、置換基を有してもよい低級アルキル基、置換基を有してもよい低級アルケニル基、置換基を有してもよい低級アルキニル基、置換基を有してもよい低級シクロアルキル基、置換基を有してもよいアリール基又は置換基を有してもよい複素環基を示し；
Ａは置換基を有してもよい低級アルキレン基を示し；
Ｒ7はＯＲ8、ＮＲ8Ｒ9、ＳＲ8、S(O)Ｒ8又はS(O)2Ｒ8を示し；
Ｒ8及びＲ９は同一又は異なって、水素原子、置換基を有してもよい低級アルキル基、置換基を有してもよい低級アルケニル基、置換基を有してもよい低級アルキニル基、置換基を有してもよい低級シクロアルキル基、置換基を有してもよいアリール基、置換基を有してもよい複素環基、ホルミル基、置換基を有してもよい低級アルキルカルボニル基、置換基を有してもよい低級アルケニルカルボニル基、置換基を有してもよい低級アルキニルカルボニル基、置換基を有してもよい低級シクロアルキルカルボニル基、置換基を有してもよいアリールカルボニル基、置換基を有してもよい複素環カルボニル基、カルボキシ基、置換基を有してもよい低級アルコキシカルボニル基、置換基を有してもよい低級アルケニルオキシカルボニル基、置換基を有してもよい低級アルキニルオキシカルボニル基、置換基を有してもよい低級シクロアルキルオキシカルボニル基、置換基を有してもよいアリールオキシカルボニル基、置換基を有してもよい複素環オキシカルボニル基、置換基を有してもよい低級アルキルスルホニル基、置換基を有してもよい低級アルケニルスルホニル基、置換基を有してもよい低級アルキニルスルホニル基、置換基を有してもよい低級シクロアルキルスルホニル基、置換基を有してもよいアリールスルホニル基、置換基を有してもよい複素環スルホニル基、アミノカルボニル基、置換基を有してもよい低級アルキルアミノカルボニル基、置換基を有してもよい低級アルケニルアミノカルボニル基、置換基を有してもよい低級アルキニルアミノカルボニル基、置換基を有してもよい低級シクロアルキルアミノカルボニル基、置換基を有してもよいアリールアミノカルボニル基又は置換基を有してもよい複素環アミノカルボニル基を示し；
Ｒ7がＮＲ8Ｒ9の場合、Ｒ8とＲ9が一緒になって、置換基を有してもよい３〜８員の含窒素複素環を形成してもよく；
また、XはＯ又はＳを示す。以下、同じ。］
本発明は医薬として有用な１，２，３，４−テトラヒドロキノキサリン誘導体又はその塩を提供する。本発明化合物は優れたグルココルチコイド受容体結合活性を有し、グルココルチコイド受容体モジュレーターとして有用である。特にグルココルチコイド作用が関与する疾患、すなわち、糖尿病、肥満等の代謝異常疾患、関節炎、腸炎、慢性閉塞性肺疾患等の炎症性疾患、膠原病等の自己免疫疾患、喘息、アトピー性皮膚炎、アレルギー性鼻炎・結膜炎等のアレルギー性疾患、精神病、アルツハイマー、薬物使用障害等の中枢神経系疾患、高血圧、高カルシウム血症、高インシュリン血症、高脂血症等の心血管系疾患、神経・免疫・内分泌のバランス異常をきたすホメオスタシス関連疾患、緑内障等の疾患の予防又は治療剤として有用であることが期待される。
本明細書中で使用される文言（原子、基、環等）の定義について以下に詳しく説明する。
「ハロゲン原子」とは、フッ素、塩素、臭素又はヨウ素原子を示す。
「低級アルキル基」とは、炭素原子数が１〜８個の直鎖又は分枝のアルキル基を示す。具体例として、メチル、エチル、ｎ−プロピル、ｎ−ブチル、ｎ−ペンチル、ｎ−ヘキシル、ｎ−ヘプチル、ｎ−オクチル、イソプロピル、イソブチル、ｓｅｃ−ブチル、ｔｅｒｔ−ブチル、イソペンチル基等が挙げられる。
「低級アルケニル基」とは、炭素原子数が２〜８個の直鎖又は分枝のアルケニル基を示す。具体例として、ビニル、プロペニル、ブテニル、ペンテニル、ヘキセニル、ヘプテニル、オクテニル、イソプロペニル、２−メチル−１−プロペニル、２−メチル−２−ブテニル基等が挙げられる。
「低級アルキニル基」とは、炭素原子数が２〜８個の直鎖又は分枝のアルキニル基を示す。具体例として、エチニル、プロピニル、ブチニル、ペンチニル、ヘキシニル、ヘプチニル、オクチニル、イソブチニル、イソペンチニル基等が挙げられる。
「低級シクロアルキル基」とは、炭素原子数が３〜８個のシクロアルキル基を示す。具体例として、シクロプロピル、シクロブチル、シクロペンチル、シクロヘキシル、シクロヘプチル又はシクロオクチル基が挙げられる。
「低級シクロアルカン環」とは、炭素原子数が３〜８個のシクロアルカン環を示す。具体例として、シクロプロパン、シクロブタン、シクロペンタン、シクロヘキサン、シクロヘプタン又はシクロオクタン環が挙げられる。
「アリール基」とは、炭素原子数が６〜１４個の単環式芳香族炭化水素又は２環式若しくは３環式の縮合多環式芳香族炭化水素から水素１原子を除いた残基を示す。また、炭素原子数が６〜１４個の２環式若しくは３環式の縮合多環式炭化水素から水素１原子を除いた残基も本アリール基の範囲内である。具体例として、フェニル、ナフチル、アントリル、フェナントリル基、フルオレニル基等が挙げられる。
「複素環基」とは、窒素原子、酸素原子及び硫黄原子から選択される１又は複数個のヘテロ原子を環内に有する飽和若しくは不飽和単環式複素環又は２環式若しくは３環式の縮合多環式複素環から水素１原子を除いた残基を示す。
飽和の単環式複素環の具体例として、窒素原子を環内に有するピロリジン、ピラゾリジン、イミダゾリジン、トリアゾリジン、ピペリジン、ヘキサヒドロピリダジン、ヘキサヒドロピリミジン、ピペラジン、ホモピペリジン、ホモピペラジン環等が、酸素原子を環内に有するテトラヒドロフラン、テトラヒドロピラン環等が、硫黄原子を環内に有するテトラヒドロチオフェン、テトラヒドロチオピラン環等が、窒素原子と酸素原子を環内に有するオキサゾリジン、イソオキサゾリジン、モルホリン環等が、窒素原子と硫黄原子を環内に有するチアゾリジン、イソチアゾリジン、チオモルホリン環等が挙げられる。
また、それらの飽和の単環式複素環はベンゼン環等と縮合してジヒドロインドール、ジヒドロインダゾール、ジヒドロベンゾイミダゾール、テトラヒドロキノリン、テトラヒドロイソキノリン、テトラヒドロシンノリン、テトラヒドロフタラジン、テトラヒドロキナゾリン、テトラヒドロキノキサリン、ジヒドロベンゾフラン、ジヒドロイソベンゾフラン、クロマン、イソクロマン、ジヒドロベンゾチオフェン、ジヒドロイソベンゾチオフェン、チオクロマン、イソチオクロマン、ジヒドロベンゾオキサゾール、ジヒドロベンゾイソオキサゾール、ジヒドロベンゾオキサジン、ジヒドロベンゾチアゾール、ジヒドロベンゾイソチアゾール、ジヒドロベンゾチアジン、キサンテン、４ａ−カルバゾール、ペリミジン環等の２環式又は３環式の縮合多環式複素環を形成してもよい。
不飽和の単環式複素環の具体例として、窒素原子を環内に有するジヒドロピロール、ピロール、ジヒドロピラゾール、ピラゾール、ジヒドロイミダゾール、イミダゾール、ジヒドロトリアゾール、トリアゾール、テトラヒドロピリジン、ジヒドロピリジン、ピリジン、テトラヒドロピリダジン、ジヒドロピリダジン、ピリダジン、テトラヒドロピリミジン、ジヒドロピリミジン、ピリミジン、テトラヒドロピラジン、ジヒドロピラジン、ピラジン環等が、酸素原子を環内に有するジヒドロフラン、フラン、ジヒドロピラン、ピラン環等が、硫黄原子を環内に有するジヒドロチオフェン、チオフェン、ジヒドロチオピラン、チオピラン環等が、窒素原子と酸素原子を環内に有するジヒドロオキサゾール、オキサゾール、ジヒドロイソオキサゾール、イソオキサゾール、ジヒドロオキサジン、オキサジン環等が、窒素原子と硫黄原子を環内に有するジヒドロチアゾール、チアゾール、ジヒドロイソチアゾール、イソチアゾール、ジヒドロチアジン、チアジン環等が挙げられる。
また、それらの不飽和の単環式複素環はベンゼン環等と縮合してインドール、インダゾール、ベンゾイミダゾール、ベンゾトリアゾール、ジヒドロキノリン、キノリン、ジヒドロイソキノリン、イソキノリン、フェナントリジン、ジヒドロシンノリン、シンノリン、ジヒドロフタラジン、フタラジン、ジヒドロキナゾリン、キナゾリン、ジヒドロキノキサリン、キノキサリン、ベンゾフラン、イソベンゾフラン、クロメン、イソクロメン、ベンゾチオフェン、イソベンゾチオフェン、チオクロメン、イソチオクロメン、ベンゾオキサゾール、ベンゾイソオキサゾール、ベンゾオキサジン、ベンゾチアゾール、ベンゾイソチアゾール、ベンゾチアジン、フェノキサンチン、カルバゾール、β−カルボリン、フェナントリジン、アクリジン、フェナントロリン、フェナジン、フェノチアジン、フェノキサジン環等の２環式又は３環式の縮合多環式複素環を形成してもよい。
「低級アルコキシ基」とは、ヒドロキシ基の水素原子が低級アルキル基で置換された基を示す。具体例として、メトキシ、エトキシ、ｎ−プロポキシ、ｎ−ブトキシ、ｎ−ペントキシ、ｎ−ヘキシルオキシ、ｎ−ヘプチルオキシ、ｎ−オクチルオキシ、イソプロポキシ、イソブトキシ、ｓｅｃ−ブトキシ、ｔｅｒｔ−ブトキシ、イソペントキシ基等が挙げられる。
「低級アルケニルオキシ基」とは、ヒドロキシ基の水素原子が低級アルケニル基で置換された基を示す。具体例として、ビニルオキシ、プロペニルオキシ、ブテニルオキシ、ペンテニルオキシ、ヘキセニルオキシ、ヘプテニルオキシ、オクテニルオキシ、イソプロペニルオキシ、２−メチル−１−プロペニルオキシ、２−メチル−２−ブテニルオキシ基等が挙げられる。
「低級アルキニルオキシ基」とは、ヒドロキシ基の水素原子が低級アルキニル基で置換された基を示す。具体例として、エチニルオキシ、プロピニルオキシ、ブチニルオキシ、ペンチニルオキシ、ヘキシニルオキシ、ヘプチニルオキシ、オクチニルオキシ、イソブチニルオキシ、イソペンチニルオキシ基等が挙げられる。
「低級シクロアルキルオキシ基」とは、ヒドロキシ基の水素原子が低級シクロアルキル基で置換された基を示す。具体例として、シクロプロピルオキシ、シクロブチルオキシ、シクロペンチルオキシ、シクロヘキシルオキシ、シクロヘプチルオキシ、シクロオクチルオキシ基が挙げられる。
「アリールオキシ基」とは、ヒドロキシ基の水素原子がアリール基で置換された基を示す。具体例として、フェノキシ、ナフトキシ、アントリルオキシ、フェナントリルオキシ基等が挙げられる。
「複素環オキシ基」とは、ヒドロキシ基の水素原子が複素環基で置換された基を示す。
「低級アルキルチオ基」とは、メルカプト基の水素原子が低級アルキル基で置換された基を示す。具体例として、メチルチオ、エチルチオ、ｎ−プロピルチオ、ｎ−ブチルチオ、ｎ−ペンチルチオ、ｎ−ヘキシルチオ、ｎ−ヘプチルチオ、ｎ−オクチルチオ、イソプロピルチオ、イソブチルチオ、ｓｅｃ−ブチルチオ、ｔｅｒｔ−ブチルチオ、イソペンチルチオ基等が挙げられる。
「低級シクロアルキルチオ基」とは、メルカプト基の水素原子が低級シクロアルキル基で置換された基を示す。具体例として、シクロプロピルチオ、シクロブチルチオ、シクロペンチルチオ、シクロヘキシルチオ、シクロヘプチルチオ又はシクロオクチルチオ基が挙げられる。
「アリールチオ基」とは、メルカプト基の水素原子がアリール基で置換された基を示す。具体例として、フェニルチオ、ナフチルチオ、アントリルチオ、フェナントリルチオ基等が挙げられる。
「複素環チオ基」とは、メルカプト基の水素原子が複素環基で置換された基を示す。
「低級アルキルアミノ基」とは、アミノ基の一方又は両方の水素原子が低級アルキル基で置換された基を示す。具体例として、メチルアミノ、エチルアミノ、プロピルアミノ、ジメルアミノ、ジエチルアミノ、エチル（メチル）アミノ基等が挙げられる。
「低級シクロアルキルアミノ基」とは、アミノ基の一方若しくは両方の水素原子が低級シクロアルキル基で置換された基又はアミノ基の一方の水素原子が低級シクロアルキル基で、他方の水素原子が低級アルキル基、低級アルケニル基若しくは低級アルキニル基で置換された基を示す。具体例として、シクロプロピルアミノ、シクロブチルアミノ、シクロペンチルアミノ、シクロヘキシルアミノ、シクロヘプチルアミノ、シクロオクチルアミノ、ジシクロヘキシルアミノ、シクロヘキシル（メチル）アミノ、シクロヘキシル（ビニル）アミノ、シクロヘキシル（エチニル）アミノ基等が挙げられる。
「アリールアミノ基」とは、アミノ基の一方若しくは両方の水素原子がアリール基で置換された基又はアミノ基の一方の水素原子がアリール基で、他方の水素原子が低級アルキル基、低級アルケニル基、低級アルキニル基若しくは低級シクロアルキル基で置換された基を示す。具体例として、フェニルアミノ、ナフチルアミノ、アントリルアミノ、フェナントリルアミノ、ジフェニルアミノ、メチル（フェニル）アミノ、エチル（フェニル）アミノ、フェニル（ビニル）アミノ、エチニル（フェニル）アミノ、シクロヘキシル（フェニル）アミノ基等が挙げられる。
「複素環アミノ基」とは、アミノ基の一方若しくは両方の水素原子が複素環基で置換された基又はアミノ基の一方の水素原子が複素環基で、他方の水素原子が低級アルキル基、低級アルケニル基、低級アルキニル基、低級シクロアルキル基若しくはアリール基で置換された基を示す。
「低級アルキルカルボニル基」とは、ホルミル基の水素原子が低級アルキル基で置換された基を示す。具体例としてメチルカルボニル、エチルカルボニル、ｎ−プロピルカルボニル、ｎ−ブチルカルボニル、ｎ−ペンチルカルボニル、ｎ−ヘキシルカルボニル、ｎ−ヘプチルカルボニル、ｎ−オクチルカルボニル、イソプロピルカルボニル、イソブチルカルボニル、ｓｅｃ−ブチルカルボニル、ｔｅｒｔ−ブチルカルボニル、イソペンチルカルボニル基等が挙げられる。
「低級アルケニルカルボニル基」とは、ホルミル基の水素原子が低級アルケニル基で置換された基を示す。具体例として、ビニルカルボニル、プロペニルカルボニル、ブテニルカルボニル、ペンテニルカルボニル、ヘキセニルカルボニル、ヘプテニルカルボニル、オクテニルカルボニル、イソプロペニルカルボニル、２−メチル−１−プロペニルカルボニル、２−メチル−２−ブテニルカルボニル基等が挙げられる。
「低級アルキニルカルボニル基」とは、ホルミル基の水素原子が低級アルキニル基で置換された基を示す。具体例として、エチニルカルボニル、プロピニルカルボニル、ブチニルカルボニル、ペンチニルカルボニル、ヘキシニルカルボニル、ヘプチニルカルボニル、オクチニルカルボニル、イソブチニルカルボニル、イソペンチニルカルボニル基等が挙げられる。
「低級シクロアルキルカルボニル基」とは、ホルミル基の水素原子が低級シクロアルキル基で置換された基を示す。具体例として、シクロプロピルカルボニル、シクロブチルカルボニル、シクロペンチルカルボニル、シクロヘキシルカルボニル、シクロヘプチルカルボニル又はシクロオクチルカルボニル基が挙げられる。
「アリールカルボニル基」とは、ホルミル基の水素原子がアリール基で置換された基を示す。具体例として、フェニルカルボニル、ナフチルカルボニル、アントリルカルボニル、フェナントリルカルボニル基等が挙げられる。
「複素環カルボニル基」とは、ホルミル基の水素原子が複素環基で置換された基を示す。
「低級アルコキシカルボニル基」とは、ホルミル基の水素原子が低級アルコキシ基で置換された基を示す。具体例として、メトキシカルボニル、エトキシカルボニル、ｎ−プロポキシカルボニル、ｎ−ブトキシカルボニル、ｎ−ペントキシカルボニル、ｎ−ヘキシルオキシカルボニル、ｎ−ヘプチルオキシカルボニル、ｎ−オクチルオキシカルボニル、イソプロポキシカルボニル、イソブトキシカルボニル、ｓｅｃ−ブトキシカルボニル、ｔｅｒｔ−ブトキシカルボニル、イソペントキシカルボニル基等が挙げられる。
「低級アルケニルオキシカルボニル基」とは、ホルミル基の水素原子が低級アルケニルオキシ基で置換された基を示す。具体例として、ビニルオキシカルボニル、プロペニルオキシカルボニル、ブテニルオキシカルボニル、ペンテニルオキシカルボニル、ヘキセニルオキシカルボニル、ヘプテニルオキシカルボニル、オクテニルオキシカルボニル、イソプロペニルオキシカルボニル、２−メチル−１−プロペニルオキシカルボニル、２−メチル−２−ブテニルオキシカルボニル基等が挙げられる。
「低級アルキニルオキシカルボニル基」とは、ホルミル基の水素原子が低級アルキニルオキシ基で置換された基を示す。具体例として、エチニルオキシカルボニル、プロピニルオキシカルボニル、ブチニルオキシカルボニル、ペンチニルオキシカルボニル、ヘキシニルオキシカルボニル、ヘプチニルオキシカルボニル、オクチニルオキシカルボニル、イソブチニルオキシカルボニル、イソペンチニルオキシカルボニル基等が挙げられる。
「低級シクロアルキルオキシカルボニル基」とは、ホルミル基の水素原子が低級シクロアルキルオキシ基で置換された基を示す。具体例として、シクロプロピルオキシカルボニル、シクロブチルオキシカルボニル、シクロペンチルオキシカルボニル、シクロヘキシルオキシカルボニル、シクロヘプチルオキシカルボニル、シクロオクチルオキシカルボニル基が挙げられる。
「アリールオキシカルボニル基」とは、ホルミル基の水素原子がアリールオキシ基で置換された基を示す。具体例として、フェノキシカルボニル、ナフトキシカルボニル、アントリルオキシカルボニル、フェナントリルオキシカルボニル基等が挙げられる。
「複素環オキシカルボニル基」とは、ホルミル基の水素原子が複素環オキシ基で置換された基を示す。
「低級アルキルアミノカルボニル基」とは、ホルミル基の水素原子が低級アルキルアミノ基で置換された基を示す。具体例として、メチルアミノカルボニル、エチルアミノカルボニル、プロピルアミノカルボニル、ジメチルアミノカルボニル、ジエチルアミノカルボニル、エチルメチルアミノカルボニル基等が挙げられる。
「低級アルケニルアミノカルボニル基」とは、ホルミル基の水素原子が低級アルケニルアミノ基で置換された基を示す。具体例として、ビニルアミノカルボニル、プロペニルアミノカルボニル、ブテニルアミノカルボニル、ペンテニルアミノカルボニル、ヘキセニルアミノカルボニル、ヘプテニルアミノカルボニル、オクテニルアミノカルボニル、イソプロペニルアミノカルボニル、２−メチル−１−プロペニルアミノカルボニル、２−メチル−２−ブテニルアミノカルボニル、ジビニルアミノカルボニル、メチル（ビニル）アミノカルボニル基等が挙げられる。
「低級アルキニルアミノカルボニル基」とは、ホルミル基の水素原子が低級アルキニルアミノ基で置換された基を示す。具体例として、エチニルアミノカルボニル、プロピニルアミノカルボニル、ブチニルアミノカルボニル、ペンチニルアミノカルボニル、ヘキシニルアミノカルボニル、ヘプチニルアミノカルボニル、オクチニルアミノカルボニル、イソブチニルアミノカルボニル、イソペンチニルアミノカルボニル、ジエチニルアミノカルボニル、エチニル（メチル）アミノカルボニル、エチニル（ビニル）アミノカルボニル基等が挙げられる。
「低級シクロアルキルアミノカルボニル基」とは、ホルミル基の水素原子が低級シクロアルキルアミノ基で置換された基を示す。具体例として、シクロプロピルアミノカルボニル、シクロブチルアミノカルボニル、シクロペンチルアミノカルボニル、シクロヘキシルアミノカルボニル、シクロヘプチルアミノカルボニル、シクロオクチルアミノカルボニル、ジシクロヘキシルアミノカルボニル、シクロヘキシル（メチル）アミノカルボニル、シクロヘキシル（ビニル）アミノカルボニル、シクロヘキシル（エチニル）アミノカルボニル基等が挙げられる。
「アリールアミノカルボニル基」とは、ホルミル基の水素原子がアリールアミノ基で置換された基を示す。具体例として、フェニルアミノカルボニル、ナフチルアミノカルボニル、アントリルアミノカルボニル、フェナントリルアミノカルボニル、ジフェニルアミノカルボニル、メチルフェニルアミノカルボニル、エチルフェニルアミノカルボニル、フェニル（ビニル）アミノカルボニル、エチニル（フェニル）アミノカルボニル、シクロヘキシル（フェニル）アミノカルボニル基等が挙げられる。
「複素環アミノカルボニル基」とは、ホルミル基の水素原子が複素環アミノ基で置換された基を示す。
「低級アルキルスルホニル基」とは、スルホン酸基のヒドロキシ基が低級アルキル基で置換された基を示す。具体例として、メチルスルホニル、エチルスルホニル、ｎ−プロピルスルホニル、ｎ−ブチルスルホニル、ｎ−ペンチルスルホニル、ｎ−ヘキシルスルホニル、ｎ−ヘプチルスルホニル、ｎ−オクチルスルホニル、イソプロピルスルホニル、イソブチルスルホニル、ｓｅｃ−ブチルスルホニル、ｔｅｒｔ−ブチルスルホニル、イソペンチルスルホニル基等が挙げられる。
「低級アルケニルスルホニル基」とは、スルホン酸基のヒドロキシ基が低級アルケニル基で置換された基を示す。具体例として、ビニルスルホニル、プロペニルスルホニル、ブテニルスルホニル、ペンテニルスルホニル、ヘキセニルスルホニル、ヘプテニルスルホニル、オクテニルスルホニル、イソプロペニルスルホニル、２−メチル−１−プロペニルスルホニル、２−メチル−２−ブテニルスルホニル基等が挙げられる。
「低級アルキニルスルホニル基」とは、スルホン酸基のヒドロキシ基が低級アルキニル基で置換された基を示す。具体例として、エチニルスルホニル、プロピニルスルホニル、ブチニルスルホニル、ペンチニルスルホニル、ヘキシニルスルホニル、ヘプチニルスルホニル、オクチニルスルホニル、イソブチニルスルホニル、イソペンチニルスルホニル基等が挙げられる。
「低級シクロアルキルスルホニル基」とは、スルホン酸基のヒドロキシ基が低級シクロアルキル基で置換された基を示す。具体例として、シクロプロピルスルホニル、シクロブチルスルホニル、シクロペンチルスルホニル、シクロヘキシルスルホニル、シクロヘプチルスルホニル、シクロオクチルスルホニル基が挙げられる。
「アリールスルホニル基」とは、スルホン酸基のヒドロキシ基がアリール基で置換された基を示す。具体例として、フェニルスルホニル、ナフチルスルホニル、アントリルスルホニル、フェナントリルスルホニル基等が挙げられる。
「複素環スルホニル基」とは、スルホン酸基のヒドロキシ基が複素環基で置換された基を示す。
「３〜８員の含窒素複素環」とは、環内に１又は２個の窒素原子を含む飽和単環式複素環を示す。具体例として、アジリジン、アゼチジン、ピロリジン、ピペリジン、イミダゾリジン、ピラゾリジン、ピペラジン、モルホリン環等が挙げられる。
「低級アルキレン基」とは、炭素原子数が１〜８個の直鎖又は分枝のアルキレン基を示す。具体例として、メチレン、エチレン、トリメチレン、テトラメチレン、ペンタメチレン、ヘキサメチレン、ヘプタメチレン、オクタメチレン、メチルメチレン、エチルメチレン基等が挙げられる。
「ヒドロキシ基のエステル」とは、ヒドロキシ基とカルボン酸類とから形成されるエステル及び／又は−ＯＣＯ−Ｒで表される基を示す。
ここで、Ｒは、水素原子、置換基を有してもよい低級アルキル基、置換基を有してもよい低級アルケニル基、置換基を有してもよい低級アルキニル基、置換基を有してもよい低級シクロアルキル基、置換基を有してもよいアリール基、置換基を有してもよい複素環基、置換基を有してもよい低級アルコキシ基、置換基を有してもよい低級アルケニルオキシ基、置換基を有してもよい低級アルキニルオキシ基、置換基を有してもよい低級シクロアルキルオキシ基、置換基を有してもよいアリールオキシ基、置換基を有してもよい複素環オキシ基、アミノ基、置換基を有してもよい低級アルキルアミノ基、置換基を有してもよい低級シクロアルキルアミノ基、置換基を有してもよいアリールアミノ基又は置換基を有してもよい複素環アミノ基を示す。以下、Ｒは同じ。
「メルカプト基のエステル」とは、メルカプト基とカルボン酸類とから形成されるチオエステル及び／又は−ＳＣＯ−Ｒで表される基を示す。ここで、Ｒは前記に同じ。
「アミノ基のアミド」とは、アミノ基とカルボン酸類とから形成されるアミド及び／又は−ＮＨＣＯ−Ｒで表される基を示す。ここで、Ｒは前記に同じ。
「低級アルキルアミノ基のアミド」とは低級アルキルアミノ基とカルボン酸類とから形成されるアミド及び／又は−ＮＲ’ＣＯ−Ｒで表される基を示す。ここで、Ｒ’ は置換基を有してもよい低級アルキル基を示し、Ｒは前記に同じ。
「低級シクロアルキルアミノ基のアミド」とは、低級シクロアルキルアミノ基とカルボン酸類とから形成されるアミド及び／又は−ＮＲ’’ＣＯ−Ｒで表される基を示す。ここで、Ｒ’’ は置換基を有してもよい低級シクロアルキル基を示し、Ｒは前記に同じ。
「アリールアミノ基のアミド」とは、アリールアミノ基とカルボン酸類とから形成されるアミド及び／又は−ＮＲ’’’ＣＯ−Ｒで表される基を示す。ここで、Ｒ’’’ は置換基を有してもよいアリール基を示し、Ｒは前記に同じ。
「複素環アミノ基のアミド」とは、複素環アミノ基とカルボン酸類とから形成されるアミド及び／又は−ＮＲ’’’’ＣＯ−Ｒで表される基をを示す。ここで、Ｒ’’’’ は置換基を有してもよい複素環基を示し、Ｒは前記に同じ。
「カルボン酸類」とは、ＲaＣＯＯＨ（Ｒaは水素原子、置換基を有してもよい低級アルキル基、置換基を有してもよい低級アルケニル基、置換基を有してもよい低級アルキニル基、置換基を有してもよい低級シクロアルキル基、置換基を有してもよいアリール基、置換基を有してもよい複素環基等を示す）で示される飽和脂肪族カルボン酸、不飽和脂肪族カルボン酸、アリールカルボン酸、複素環カルボン酸等を示す。具体例として、ギ酸、酢酸、プロピオン酸、酪酸、イソ酪酸、吉草酸、イソ吉草酸、ピバル酸、シクロプロパンカルボン酸、シクロブタンカルボン酸、シクロペンタンカルボン酸、シクロヘキサンカルボン酸等の飽和脂肪族カルボン酸；アクリル酸、プロピオル酸、クロトン酸、ケイ皮酸、シクロペンテンカルボン酸、シクロヘキセンカルボン酸等の不飽和脂肪族カルボン酸；安息香酸、フタル酸、イソフタル酸、テレフタル酸、ナフトエ酸、トルイル酸等のアリールカルボン酸；フランカルボン酸、チオフェンカルボン酸、ニコチン酸、イソニコチン酸等の複素環カルボン酸等が挙げられる。
「カルボキシ基のエステル」とは、カルボキシ基とアルコール類又はフェノール類とから形成されるエステルを示す。
「スルホン酸基のエステル」とは、スルホン酸基とアルコール類又はフェノール類とから形成されるエステルを示す。
「アルコール類」とは、ＲbＯＨ（Ｒbは置換基を有してもよい低級アルキル基、置換基を有してもよい低級アルケニル基、置換基を有してもよい低級アルキニル基、置換基を有してもよい低級シクロアルキル基、置換基を有してもよい複素環基等を示す）で示される飽和脂肪族ヒドロキシ化合物、不飽和脂肪族ヒドロキシ化合物、複素環ヒドロキシ化合物等を示す。具体例として、メタノール、エタノール、プロパノール、ブタノール、イソプロパノール、シクロプロパノール、シクロブタノール、シクロペンタノール、シクロヘキサノール、ベンジルアルコール、フェネチルアルコール等の飽和脂肪族ヒドロキシ化合物；ビニルアルコール、アリルアルコール、プロパルギルアルコール、シクロペンテノール、シクロヘキセノール等の不飽和脂肪族ヒドロキシ化合物；ヒドロキシピペリジン、ヒドロキシテトラヒドロピラン等の複素環ヒドロキシ化合物等が挙げられる。
「フェノール類」とは、ＲcＯＨ（Ｒcは置換基を有してもよいアリール基、置換基を有してもよい複素環基等を示す）で示されるアリールヒドロキシ化合物、複素環ヒドロキシ化合物等を示す。具体例として、フェノール、ナフトール、アントロール、フェナントロール等のアリールヒドロキシ化合物；ヒドロキシピリジン、ヒドロキシフラン、ヒドロキシチオフェン等の複素環ヒドロキシ化合物等が挙げられる。
「カルボキシ基のアミド」とは、カルボキシ基とアミン類とから形成される酸アミドを示す。
「スルホン酸基のアミド」とは、スルホン酸基とアミン類から形成される酸アミドを示す。
「アミン類」とは、ＨＮＲdＲe［ＲdとＲeは同一又は異なって、水素原子、置換基を有してもよい低級アルキル基、置換基を有してもよい低級アルケニル基、置換基を有してもよい低級アルキニル基、置換基を有してもよい低級シクロアルキル基、置換基を有してもよいアリール基、複素環基等を示し、また、ＲdとＲeとが一緒になって飽和環状アミンを形成してもよい］で示されるアンモニア、飽和脂肪族アミン化合物、不飽和脂肪族アミン化合物、アリールアミン化合物、複素環アミン化合物、飽和環状アミン化合物等を示す。具体例として、アンモニア；メチルアミン、エチルアミン、プロピルアミン、ペンチルアミン、ジメチルアミン、ジエチルアミン、エチルメチルアミン、シクロプロピルアミン、シクロブチルアミン、シクロペンチルアミン、シクロヘキシルアミン、ベンジルアミン、フェネチルアミン等の飽和脂肪族系アミン化合物；アリルアミン、プロパルギルアミン等の不飽和脂肪族系アミン化合物；フェニルアミン、ナフチルアミン、アントリルアミン、フェナントリルアミン、ジフェニルアミン、メチルフェニルアミン、エチルフェニルアミン等のアリールアミン化合物；フリルアミン、チエニルアミン、ピロリジルアミン、ピリジルアミン、キノリルアミン、メチルピリジルアミン等の複素環アミン化合物；アジリジン、アゼチジン、ピロリジン、ピペリジン、４−メチルピペリジン等の飽和環状アミン化合物等が挙げられる。
「置換基を有してもよい低級アルキル基」、「置換基を有してもよい低級アルケニル基」「置換基を有してもよい低級アルキニル基」、「置換基を有してもよい低級アルコキシ基」、「置換基を有してもよい低級アルキルチオ基」、「置換基を有してもよい低級アルキルアミノ基」、「置換基を有してもよい低級アルキルカルボニル基」、「置換基を有してもよい低級アルケニルカルボニル基」、「置換基を有してもよい低級アルキニルカルボニル基」、「置換基を有してもよい低級アルコキシカルボニル基」、「置換基を有してもよい低級アルケニルオキシルボニル基」、「置換基を有してもよい低級アルキニルオキシカルボニル基」、「置換基を有してもよい低級アルキルアミノカルボニル基」、「置換基を有してもよい低級アルケニルアミノカルボニル基」、「置換基を有してもよい低級アルキニルアミノカルボニル基」、「置換基を有してもよい低級アルキルスルホニル基」、「置換基を有してもよい低級アルケニルスルホニル基」、「置換基を有してもよい低級アルキニルスルホニル基」又は「置換基を有してもよい低級アルキルアミノ基のアミド」とは、下記、α1群から選択される１又は複数個の置換基を有してもよい「低級アルキル基」、「低級アルケニル基」、「低級アルキニル基」、「低級アルコキシ基」、「低級アルキルチオ基」、「低級アルキルアミノ基」、「低級アルキルカルボニル基」、「低級アルケニルカルボニル基」、「低級アルキニルカルボニル基」、「低級アルコキシカルボニル基」、「低級アルケニルオキシルボニル基」、「低級アルキニルオキシカルボニル基」、「低級アルキルアミノカルボニル基」、「低級アルケニルアミノカルボニル基」、「低級アルキニルアミノカルボニル基」、「低級アルキルスルホニル基」、「低級アルケニルスルホニル基」、「低級アルキニルスルホニル基」又は「低級アルキルアミノ基のアミド」を示す。
［α1群］
ハロゲン原子、低級シクロアルキル基、アリール基、複素環基、ヒドロキシ基、ヒドロキシ基のエステル、低級アルコキシ基、ハロゲンで置換された低級アルコキシ基、低級アルケニルオキシ基、低級アルキニルオキシ基、低級シクロアルキルオキシ基、アリールオキシ基、複素環オキシ基、メルカプト基、メルカプト基のエステル、低級アルキルチオ基、低級アルケニルチオ基、低級アルキニルチオ基、低級シクロアルキルチオ基、アリールチオ基、複素環チオ基、アミノ基、低級アルキルアミノ基、低級シクロアルキルアミノ基、アリールアミノ基、複素環アミノ基、アミノ基のアミド、低級アルキルアミノ基のアミド、低級シクロアルキルアミノ基のアミド、アリールアミノ基のアミド、複素環アミノ基のアミド、ホルミル基、低級アルキルカルボニル基、低級アルケニルカルボニル基、低級アルキニルカルボニル基、低級シクロアルキルカルボニル基、アリールカルボニル基、複素環カルボニル基、カルボキシ基、カルボキシ基のエステル、カルボキシ基のアミド、低級アルキルスルフィニル基、アリールスルフィニル基、低級アルキルスルホニル基、低級シクロアルキルスルホニル基、アリールスルホニル基、複素環スルホニル基、スルフィン酸基、スルフィン酸基のエステル、スルフィン酸基のアミド、スルホン酸基、スルホン酸基のエステル、スルホン酸基のアミド、ニトロ基及びシアノ基。
ハロゲン原子、低級シクロアルキル基、アリール基、複素環基、ヒドロキシ基、ヒドロキシ基のエステル、低級アルコキシ基、ハロゲンで置換された低級アルコキシ基、低級アルケニルオキシ基、低級アルキニルオキシ基、低級シクロアルキルオキシ基、アリールオキシ基、複素環オキシ基、メルカプト基、メルカプト基のエステル、低級アルキルチオ基、低級アルケニルチオ基、低級アルキニルチオ基、低級シクロアルキルチオ基、アリールチオ基、複素環チオ基、アミノ基、低級アルキルアミノ基、低級シクロアルキルアミノ基、アリールアミノ基、複素環アミノ基、アミノ基のアミド、低級アルキルアミノ基のアミド、低級シクロアルキルアミノ基のアミド、アリールアミノ基のアミド、複素環アミノ基のアミド、ホルミル基、低級アルキルカルボニル基、低級アルケニルカルボニル基、低級アルキニルカルボニル基、低級シクロアルキルカルボニル基、アリールカルボニル基、複素環カルボニル基、カルボキシ基、カルボキシ基のエステル、カルボキシ基のアミド、低級アルキルスルフィニル基、アリールスルフィニル基、低級アルキルスルホニル基、低級シクロアルキルスルホニル基、アリールスルホニル基、複素環スルホニル基、スルフィン酸基、スルフィン酸基のエステル、スルフィン酸基のアミド、スルホン酸基、スルホン酸基のエステル、スルホン酸基のアミド、ニトロ基及びシアノ基。
「置換基を有してもよい低級シクロアルキル基」、「置換基を有してもよいアリール基」、「置換基を有してもよい複素環基」、「置換基を有してもよい低級シクロアルキルオキシ基」、「置換基を有してもよいアリールオキシ基」、「置換基を有してもよい複素環オキシ基」、「置換基を有してもよい低級シクロアルキルチオ基」、「置換基を有してもよいアリールチオ基」、「置換基を有してもよい複素環チオ基」、「置換基を有してもよい低級シクロアルキルアミノ基」、「置換基を有してもよいアリールアミノ基」、「置換基を有してもよい複素環アミノ基」、「置換基を有してもよい低級シクロアルキルカルボニル基」、「置換基を有してもよいアリールカルボニル基」、「置換基を有してもよい複素環カルボニル基」、「置換基を有してもよい低級シクロアルキルオキシカルボニル基」、「置換基を有してもよいアリールオキシカルボニル基」、「置換基を有してもよい複素環オキシカルボニル基」、「置換基を有してもよい低級シクロアルキルアミノカルボニル基」、「置換基を有してもよいアリールアミノカルボニル基」、「置換基を有してもよい複素環アミノカルボニル基」、「置換基を有してもよい低級シクロアルキルスルホニル基」、「置換基を有してもよいアリールスルホニル基」、「置換基を有してもよい複素環スルホニル基」、「置換基を有してもよい低級シクロアルキルアミノ基のアミド」、「置換基を有してもよいアリールアミノ基のアミド」又は「置換基を有してもよい複素環アミノ基のアミド」とは、下記、β1群から選択される１又は複数個の置換基を有してもよい「低級シクロアルキル基」、「アリール基」、「複素環基」、「低級シクロアルキルオキシ基」、「アリールオキシ基」、「複素環オキシ基」、「低級シクロアルキルチオ基」、「アリールチオ基」、「複素環チオ基」、「低級シクロアルキルアミノ基」、「アリールアミノ基」、「複素環アミノ基」、「低級シクロアルキルカルボニル基」、「アリールカルボニル基」、「複素環カルボニル基」、「低級シクロアルキルオキシカルボニル基」、「アリールオキシカルボニル基」、「複素環オキシカルボニル基」、「低級シクロアルキルアミノカルボニル基」、「アリールアミノカルボニル基」、「複素環アミノカルボニル基」、「低級シクロアルキルスルホニル基」、「アリールスルホニル基」、「複素環スルホニル基」、「低級シクロアルキルアミノ基のアミド」、「アリールアミノ基のアミド」又は「複素環アミノ基のアミド」を示す。
［β1群］
ハロゲン原子、低級アルキル基、ハロゲン原子で置換された低級アルキル基、低級アルケニル基、低級アルキニル基、低級シクロアルキル基、アリール基、複素環基、ヒドロキシ基、ヒドロキシ基のエステル、低級アルコキシ基、ハロゲン原子で置換された低級アルコキシ基、低級アルケニルオキシ基、低級アルキニルオキシ基、低級シクロアルキルオキシ基、アリールオキシ基、複素環オキシ基、メルカプト基、メルカプト基のエステル、低級アルキルチオ基、低級アルケニルチオ基、低級アルキニルチオ基、低級シクロアルキルチオ基、アリールチオ基、複素環チオ基、アミノ基、低級アルキルアミノ基、低級シクロアルキルアミノ基、アリールアミノ基、複素環アミノ基、アミノ基のアミド、低級アルキルアミノ基のアミド、低級シクロアルキルアミノ基のアミド、アリールアミノ基のアミド、複素環アミノ基のアミド、ホルミル基、低級アルキルカルボニル基、低級アルケニルカルボニル基、低級アルキニルカルボニル基、低級シクロアルキルカルボニル基、アリールカルボニル基、複素環カルボニル基、カルボキシ基、カルボキシ基のエステル、カルボキシ基のアミド、低級アルキルスルフィニル基、アリールスルフィニル基、低級アルキルスルホニル基、低級シクロアルキルスルホニル基、アリールスルホニル基、複素環スルホニル基、スルフィン酸基、スルフィン酸基のエステル、スルフィン酸基のアミド、スルホン酸基、スルホン酸基のエステル、スルホン酸基のアミド、ニトロ基、シアノ基、低級アルキルアミノカルボニルオキシ基及びアリールアミノカルボニルオキシ基。
ハロゲン原子、低級アルキル基、ハロゲン原子で置換された低級アルキル基、低級アルケニル基、低級アルキニル基、低級シクロアルキル基、アリール基、複素環基、ヒドロキシ基、ヒドロキシ基のエステル、低級アルコキシ基、ハロゲン原子で置換された低級アルコキシ基、低級アルケニルオキシ基、低級アルキニルオキシ基、低級シクロアルキルオキシ基、アリールオキシ基、複素環オキシ基、メルカプト基、メルカプト基のエステル、低級アルキルチオ基、低級アルケニルチオ基、低級アルキニルチオ基、低級シクロアルキルチオ基、アリールチオ基、複素環チオ基、アミノ基、低級アルキルアミノ基、低級シクロアルキルアミノ基、アリールアミノ基、複素環アミノ基、アミノ基のアミド、低級アルキルアミノ基のアミド、低級シクロアルキルアミノ基のアミド、アリールアミノ基のアミド、複素環アミノ基のアミド、ホルミル基、低級アルキルカルボニル基、低級アルケニルカルボニル基、低級アルキニルカルボニル基、低級シクロアルキルカルボニル基、アリールカルボニル基、複素環カルボニル基、カルボキシ基、カルボキシ基のエステル、カルボキシ基のアミド、低級アルキルスルフィニル基、アリールスルフィニル基、低級アルキルスルホニル基、低級シクロアルキルスルホニル基、アリールスルホニル基、複素環スルホニル基、スルフィン酸基、スルフィン酸基のエステル、スルフィン酸基のアミド、スルホン酸基、スルホン酸基のエステル、スルホン酸基のアミド、ニトロ基、シアノ基、低級アルキルアミノカルボニルオキシ基及びアリールアミノカルボニルオキシ基。
本発明でいう「複数個の基」とは、夫々の基が同一であっても異なるものであってもよく、その個数は、２個の場合が好ましい。また、水素原子やハロゲン原子も「基」の概念に含まれる。
本発明でいう「グルココルチコイド受容体モジュレーター」とは、グルココルチコイド受容体と結合することにより、医薬的作用を発現させるものをいう。例えば、グルココルチコイド受容体アゴニスト、グルココルチコイド受容体アンタゴニスト等が挙げられる。
本発明化合物における「塩」とは、医薬として許容される塩であれば、特に制限はなく、塩酸、臭化水素酸、ヨウ化水素酸、硝酸、硫酸、リン酸等の無機酸との塩、酢酸、フマル酸、マレイン酸、コハク酸、クエン酸、酒石酸、アジピン酸、グルコン酸、グルコヘプト酸、グルクロン酸、テレフタル酸、メタンスルホン酸、乳酸、馬尿酸、１，２−エタンジスルホン酸、イセチオン酸、ラクトビオン酸、オレイン酸、パモ酸、ポリガラクツロン酸、ステアリン酸、タンニン酸、トリフルオロメタンスルホン酸、ベンゼンスルホン酸、ｐ−トルエンスルホン酸、硫酸ラウリルエステル、硫酸メチル、ナフタレンスルホン酸、スルホサリチル酸等の有機酸との塩、臭化メチル、ヨウ化メチル等との四級アンモニウム塩、臭素イオン、塩素イオン、ヨウ素イオン等のハロゲンイオンとの塩、リチウム、ナトリウム、カリウム等のアルカリ金属との塩、カルシウム、マグネシウム等のアルカリ土類金属との塩、鉄、亜鉛等との金属塩、アンモニアとの塩、トリエチレンジアミン、２−アミノエタノール、２，２−イミノビス（エタノール）、１−デオキシ−１−（メチルアミノ）−２−Ｄ−ソルビトール、２−アミノ−２−（ヒドロキシメチル）−１，３−プロパンジオール、プロカイン、Ｎ，Ｎ−ビス（フェニルメチル）−１，２−エタンジアミン等の有機アミンとの塩等が挙げられる。
本発明化合物に幾何異性体又は光学異性体が存在する場合は、それらの異性体も本発明の範囲に含まれる。
また、本発明化合物は水和物又は溶媒和物の形態をとっていてもよい。
本発明化合物にプロトン互変異性が存在する場合には、それらの互変異性体も本発明に含まれる。
本発明化合物に結晶多形が存在する場合には、それらの結晶多形体も本発明に含まれる。
（ａ）本発明化合物における好ましい例として、一般式（１）で示される化合物又はその塩において、各基が下記に示す基である化合物又はその塩が挙げられる。
一般式（１）において、
（ａ１）Ｒ1がハロゲン原子、低級アルキル基、低級シクロアルキル基、アリール基、複素環基、ヒドロキシ基、ヒドロキシ基のエステル、低級アルコキシ基、低級シクロアルキルオキシ基、アリールオキシ基、複素環オキシ基、メルカプト基、メルカプト基のエステル、低級アルキルチオ基、低級シクロアルキルチオ基、アリールチオ基、複素環チオ基、アミノ基、低級アルキルアミノ基、低級シクロアルキルアミノ基、アリールアミノ基、複素環アミノ基、アミノ基のアミド、低級アルキルアミノ基のアミド、低級シクロアルキルアミノ基のアミド、アリールアミノ基のアミド、複素環アミノ基のアミド、低級アルキルカルボニル基、低級シクロアルキルカルボニル基、アリールカルボニル基、複素環カルボニル基、カルボキシ基、カルボキシ基のエステル、カルボキシ基のアミド、低級アルキルスルホニル基、低級シクロアルキルスルホニル基、アリールスルホニル基、複素環スルホニル基、スルホン酸基、スルホン酸基のエステル、スルホン酸基のアミド、ニトロ基又はシアノ基を示し；
Ｒ1が低級アルキル基、低級アルコキシ基、低級アルキルチオ基、低級アルキルアミノ基、低級アルキルアミノ基のアミド、低級アルキルカルボニル基又は低級アルキルスルホニル基の場合、該低級アルキル基、該低級アルコキシ基、該低級アルキルチオ基、該低級アルキルアミノ基、該低級アルキルアミノ基のアミド、該低級アルキルカルボニル基又は該低級アルキルスルホニル基はハロゲン原子、低級シクロアルキル基、アリール基、複素環基、ヒドロキシ基、ヒドロキシ基のエステル、低級アルコキシ基、ハロゲン原子で置換された低級アルコキシ基、低級シクロアルキルオキシ基、アリールオキシ基、複素環オキシ基、低級アルキルチオ基、低級シクロアルキルチオ基、アリールチオ基、複素環チオ基、アミノ基、低級アルキルアミノ基、低級シクロアルキルアミノ基、アリールアミノ基、複素環アミノ基、アミノ基のアミド、低級アルキルアミノ基のアミド、低級シクロアルキルアミノ基のアミド、アリールアミノ基のアミド、複素環アミノ基のアミド、低級アルキルカルボニル基、低級シクロアルキルカルボニル基、アリールカルボニル基、複素環カルボニル基、カルボキシ基、カルボキシ基のエステル、カルボキシ基のアミド、低級アルキルスルホニル基、低級シクロアルキルスルホニル基、アリールスルホニル基、複素環スルホニル基、スルホン酸基、スルホン酸基のエステル、スルホン酸基のアミド、ニトロ基及びシアノ基から選択される１又は複数個の基を置換基として有してもよく；
Ｒ1が低級シクロアルキル基、アリール基、複素環基、低級シクロアルキルオキシ基、アリールオキシ基、複素環オキシ基、低級シクロアルキルチオ基、アリールチオ基、複素環チオ基、低級シクロアルキルアミノ基、アリールアミノ基、複素環アミノ基、低級シクロアルキルアミノ基のアミド、アリールアミノ基のアミド、複素環アミノ基のアミド、低級シクロアルキルカルボニル基、アリールカルボニル基、複素環カルボニル基、低級シクロアルキルスルホニル基、アリールスルホニル基又は複素環スルホニル基の場合、該低級シクロアルキル基、該アリール基、該複素環基、該低級シクロアルキルオキシ基、該アリールオキシ基、該複素環オキシ基、該低級シクロアルキルチオ基、該アリールチオ基、該複素環チオ基、該低級シクロアルキルアミノ基、該アリールアミノ基、該複素環アミノ基、該低級シクロアルキルアミノ基のアミド、該アリールアミノ基のアミド、該複素環アミノ基のアミド、該低級シクロアルキルカルボニル基、該アリールカルボニル基、該複素環カルボニル基、該低級シクロアルキルスルホニル基、該アリールスルホニル基又は該複素環スルホニル基はハロゲン原子、低級アルキル基、ハロゲン原子で置換された低級アルキル基、ヒドロキシ基、ヒドロキシ基のエステル、低級アルコキシ基、ハロゲン原子で置換された低級アルコキシ基、低級アルキルチオ基、アミノ基、低級アルキルアミノ基、アミノ基のアミド、低級アルキルアミノ基のアミド、低級アルキルカルボニル基、カルボキシ基、カルボキシ基のエステル、カルボキシ基のアミド、低級アルキルスルホニル基、スルホン酸基、スルホン酸基のエステル、スルホン酸基のアミド、ニトロ基及びシアノ基から選択される１又は複数個の基を置換基として有してもよく；及び／又は、
（ａ２）ｐが０〜３の整数を示し；
ｐが２又は３の場合、各Ｒ1は同一又は異なってもよく；及び／又は、
（ａ３）Ｒ2がハロゲン原子、低級アルキル基、ヒドロキシ基又は低級アルコキシ基を示し；
及び／又は、
（ａ４）ｑが０〜２の整数を示し；
ｑが２の場合、各Ｒ2は同一又は異なってもよく；及び／又は、
（ａ５）Ｒ3が水素原子、低級アルキル基、低級アルケニル基、低級アルキルカルボニル基、低級アルケニルカルボニル基又はアリールカルボニル基を示し；
Ｒ3が低級アルキル基又は低級アルキルカルボニル基の場合、該低級アルキル基又は該低級アルキルカルボニル基はハロゲン原子及びアリール基から選択される１又は複数個の基を置換基として有してもよく；
Ｒ3がアリールカルボニル基の場合、該アリールカルボニル基はハロゲン原子、低級アルキル基、ハロゲン原子で置換された低級アルキル基、低級アルコキシ基及びハロゲン原子で置換された低級アルコキシ基から選択される１又は複数個の基を置換基として有してもよく；及び／又は、
（ａ６）Ｒ4及びＲ5が同一又は異なって、水素原子、ハロゲン原子、低級アルキル基、低級シクロアルキル基、アリール又は複素環基を示し；
Ｒ4又はＲ5が低級アルキル基の場合、該低級アルキル基はハロゲン原子、低級シクロアルキル基、アリール基、複素環基、ヒドロキシ基、ヒドロキシ基のエステル、低級アルコキシ基、ハロゲン原子で置換された低級アルコキシ基、低級シクロアルキルオキシ基、アリールオキシ基、複素環オキシ基、低級アルキルチオ基、低級シクロアルキルチオ基、アリールチオ基、複素環チオ基、アミノ基、低級アルキルアミノ基、低級シクロアルキルアミノ基、アリールアミノ基、複素環アミノ基、アミノ基のアミド、低級アルキルアミノ基のアミド、低級シクロアルキルアミノ基のアミド、アリールアミノ基のアミド、複素環アミノ基のアミド、低級アルキルカルボニル基、低級シクロアルキルカルボニル基、アリールカルボニル基、複素環カルボニル基、カルボキシ基、カルボキシ基のエステル、カルボキシ基のアミド、ニトロ基及びシアノ基から選択される１又は複数個の基を置換基として有してもよく；
Ｒ4又はＲ5が低級シクロアルキル基、アリール又は複素環基の場合、該低級シクロアルキル基、該アリール又は該複素環基はハロゲン原子、低級アルキル基、ハロゲン原子で置換された低級アルキル基、ヒドロキシ基、ヒドロキシ基のエステル、低級アルコキシ基、ハロゲン原子で置換された低級アルコキシ基、低級アルキルチオ基、アミノ基、低級アルキルアミノ基、アミノ基のアミド、低級アルキルアミノ基のアミド、低級アルキルカルボニル基、カルボキシ基、カルボキシ基のエステル、カルボキシ基のアミド、低級アルキルスルホニル基、スルホン酸基、スルホン酸基のエステル、スルホン酸基のアミド、ニトロ基及びシアノ基から選択される１又は複数個の基を置換基として有してもよく；
Ｒ4とＲ5が一緒になって、３〜８員の低級シクロアルカン環を形成してもよく；及び／又は、
（ａ７）Ｒ6が水素原子、低級アルキル基、低級アルケニル基、低級アルキニル基又は低級シクロアルキル基を示し；
Ｒ6が低級アルキル基、低級アルケニル基、低級アルキニル基又は低級シクロアルキル基の場合、該低級アルキル基、該低級アルケニル基、該低級アルキニル基又は該低級シクロアルキル基はハロゲン原子及びアリール基から選択される１又は複数個の基を置換基として有してもよく；及び／又は、
（ａ８）Ａがヒドロキシ基又はハロゲン原子で置換されてもよい低級アルキレン基を示し；及び／又は、
（ａ９）Ｒ7がＯＲ8、ＮＲ8Ｒ9又はＳＲ8を示し；
Ｒ8及びＲ９が同一又は異なって、水素原子、低級アルキル基、低級アルケニル基、低級アルキニル基、低級シクロアルキル基、アリール基、複素環基、ホルミル基、低級アルキルカルボニル基、低級アルケニルカルボニル基、低級アルキニルカルボニル基、低級シクロアルキルカルボニル基、アリールカルボニル基、複素環カルボニル基、カルボキシ基、低級アルコキシカルボニル基、低級アルケニルオキシカルボニル基、低級アルキニルオキシカルボニル基、低級シクロアルキルオキシカルボニル基、アリールオキシカルボニル基、複素環オキシカルボニル基、低級アルキルスルホニル基、低級アルケニルスルホニル基、低級アルキニルスルホニル基、低級シクロアルキルスルホニル基、アリールスルホニル基、複素環スルホニル基、アミノカルボニル基、低級アルキルアミノカルボニル基、低級アルケニルアミノカルボニル基、低級アルキニルアミノカルボニル基、低級シクロアルキルアミノカルボニル基、アリールアミノカルボニル基又は複素環アミノカルボニル基を示し；
Ｒ8又はＲ9が低級アルキル基、低級アルケニル基、低級アルキニル基、低級アルキルカルボニル基、低級アルケニルカルボニル基、低級アルキニルカルボニル基、低級アルコキシカルボニル基、低級アルケニルオキシカルボニル基、低級アルキニルオキシカルボニル基、低級アルキルスルホニル基、低級アルケニルスルホニル基、低級アルキニルスルホニル基、低級アルキルアミノカルボニル基、低級アルケニルアミノカルボニル基又は低級アルキニルアミノカルボニル基の場合、該低級アルキル基、該低級アルケニル基、該低級アルキニル基、該低級アルキルカルボニル基、該低級アルケニルカルボニル基、該低級アルキニルカルボニル基、該低級アルコキシカルボニル基、該低級アルケニルオキシカルボニル基、該低級アルキニルオキシカルボニル基、該低級アルキルスルホニル基、該低級アルケニルスルホニル基、該低級アルキニルスルホニル基、該低級アルキルアミノカルボニル基、該低級アルケニルアミノカルボニル基又は該低級アルキニルアミノカルボニル基はハロゲン原子、低級シクロアルキル基、アリール基、複素環基、ヒドロキシ基、ヒドロキシ基のエステル、低級アルコキシ基、ハロゲン原子で置換された低級アルコキシ基、低級シクロアルキルオキシ基、アリールオキシ基、複素環オキシ基、低級アルキルチオ基、低級シクロアルキルチオ基、アリールチオ基、複素環チオ基、アミノ基、低級アルキルアミノ基、低級シクロアルキルアミノ基、アリールアミノ基、複素環アミノ基、アミノ基のアミド、低級アルキルアミノ基のアミド、低級シクロアルキルアミノ基のアミド、アリールアミノ基のアミド、複素環アミノ基のアミド、低級アルキルカルボニル基、低級シクロアルキルカルボニル基、アリールカルボニル基、複素環カルボニル基、カルボキシ基、カルボキシ基のエステル、カルボキシ基のアミド、低級アルキルスルホニル基、低級シクロアルキルスルホニル基、アリールスルホニル基、複素環スルホニル基、スルホン酸基、スルホン酸基のエステル、スルホン酸基のアミド、ニトロ基及びシアノ基から選択される１又は複数個の基を置換基として有してもよく；
Ｒ8又はＲ9が低級シクロアルキル基、アリール基、複素環基、低級シクロアルキルカルボニル基、アリールカルボニル基、複素環カルボニル基、低級シクロアルキルオキシカルボニル基、アリールオキシカルボニル基、複素環オキシカルボニル基、低級シクロアルキルスルホニル基、アリールスルホニル基、複素環スルホニル基、低級シクロアルキルアミノカルボニル基、アリールアミノカルボニル基又は複素環アミノカルボニル基の場合、該低級シクロアルキル基、該アリール基、該複素環基、該低級シクロアルキルカルボニル基、該アリールカルボニル基、該複素環カルボニル基、該低級シクロアルキルオキシカルボニル基、該アリールオキシカルボニル基、該複素環オキシカルボニル基、該低級シクロアルキルスルホニル基、該アリールスルホニル基、該複素環スルホニル基、該低級シクロアルキルアミノカルボニル基、該アリールアミノカルボニル基又は該複素環アミノカルボニル基はハロゲン原子、低級アルキル基、ハロゲン原子で置換された低級アルキル基、ヒドロキシ基で置換された低級アルキル基、低級アルケニル基、低級アルキニル基、低級シクロアルキル基、アリール基、複素環基、ヒドロキシ基、ヒドロキシ基のエステル、低級アルコキシ基、ハロゲン原子で置換された低級アルコキシ基、低級アルケニルオキシ基、低級アルキニルオキシ基、低級シクロアルキルオキシ基、アリールオキシ基、複素環オキシ基、低級アルキルチオ基、低級シクロアルキルチオ基、アリールチオ基、複素環チオ基、アミノ基、低級アルキルアミノ基、低級シクロアルキルアミノ基、アリールアミノ基、複素環アミノ基、アミノ基のアミド、低級アルキルアミノ基のアミド、低級シクロアルキルアミノ基のアミド、アリールアミノ基のアミド、複素環アミノ基のアミド、低級アルキルカルボニル基、低級シクロアルキルカルボニル基、アリールカルボニル基、複素環カルボニル基、カルボキシ基、カルボキシ基のエステル、カルボキシ基のアミド、低級アルキルスルホニル基、低級シクロアルキルスルホニル基、アリールスルホニル基、複素環スルホニル基、スルホン酸基、スルホン酸基のエステル、スルホン酸基のアミド、ニトロ基及びシアノ基から選択される１又は複数個の基を置換基として有してもよく；
Ｒ7がＮＲ8Ｒ9の場合、Ｒ8とＲ9が一緒になって、５又は６員の含窒素複素環を形成してもよく；及び／又は、
（ａ１０）XがＯ又はＳを示す化合物又はその塩。
（ａ１）Ｒ1がハロゲン原子、低級アルキル基、低級シクロアルキル基、アリール基、複素環基、ヒドロキシ基、ヒドロキシ基のエステル、低級アルコキシ基、低級シクロアルキルオキシ基、アリールオキシ基、複素環オキシ基、メルカプト基、メルカプト基のエステル、低級アルキルチオ基、低級シクロアルキルチオ基、アリールチオ基、複素環チオ基、アミノ基、低級アルキルアミノ基、低級シクロアルキルアミノ基、アリールアミノ基、複素環アミノ基、アミノ基のアミド、低級アルキルアミノ基のアミド、低級シクロアルキルアミノ基のアミド、アリールアミノ基のアミド、複素環アミノ基のアミド、低級アルキルカルボニル基、低級シクロアルキルカルボニル基、アリールカルボニル基、複素環カルボニル基、カルボキシ基、カルボキシ基のエステル、カルボキシ基のアミド、低級アルキルスルホニル基、低級シクロアルキルスルホニル基、アリールスルホニル基、複素環スルホニル基、スルホン酸基、スルホン酸基のエステル、スルホン酸基のアミド、ニトロ基又はシアノ基を示し；
Ｒ1が低級アルキル基、低級アルコキシ基、低級アルキルチオ基、低級アルキルアミノ基、低級アルキルアミノ基のアミド、低級アルキルカルボニル基又は低級アルキルスルホニル基の場合、該低級アルキル基、該低級アルコキシ基、該低級アルキルチオ基、該低級アルキルアミノ基、該低級アルキルアミノ基のアミド、該低級アルキルカルボニル基又は該低級アルキルスルホニル基はハロゲン原子、低級シクロアルキル基、アリール基、複素環基、ヒドロキシ基、ヒドロキシ基のエステル、低級アルコキシ基、ハロゲン原子で置換された低級アルコキシ基、低級シクロアルキルオキシ基、アリールオキシ基、複素環オキシ基、低級アルキルチオ基、低級シクロアルキルチオ基、アリールチオ基、複素環チオ基、アミノ基、低級アルキルアミノ基、低級シクロアルキルアミノ基、アリールアミノ基、複素環アミノ基、アミノ基のアミド、低級アルキルアミノ基のアミド、低級シクロアルキルアミノ基のアミド、アリールアミノ基のアミド、複素環アミノ基のアミド、低級アルキルカルボニル基、低級シクロアルキルカルボニル基、アリールカルボニル基、複素環カルボニル基、カルボキシ基、カルボキシ基のエステル、カルボキシ基のアミド、低級アルキルスルホニル基、低級シクロアルキルスルホニル基、アリールスルホニル基、複素環スルホニル基、スルホン酸基、スルホン酸基のエステル、スルホン酸基のアミド、ニトロ基及びシアノ基から選択される１又は複数個の基を置換基として有してもよく；
Ｒ1が低級シクロアルキル基、アリール基、複素環基、低級シクロアルキルオキシ基、アリールオキシ基、複素環オキシ基、低級シクロアルキルチオ基、アリールチオ基、複素環チオ基、低級シクロアルキルアミノ基、アリールアミノ基、複素環アミノ基、低級シクロアルキルアミノ基のアミド、アリールアミノ基のアミド、複素環アミノ基のアミド、低級シクロアルキルカルボニル基、アリールカルボニル基、複素環カルボニル基、低級シクロアルキルスルホニル基、アリールスルホニル基又は複素環スルホニル基の場合、該低級シクロアルキル基、該アリール基、該複素環基、該低級シクロアルキルオキシ基、該アリールオキシ基、該複素環オキシ基、該低級シクロアルキルチオ基、該アリールチオ基、該複素環チオ基、該低級シクロアルキルアミノ基、該アリールアミノ基、該複素環アミノ基、該低級シクロアルキルアミノ基のアミド、該アリールアミノ基のアミド、該複素環アミノ基のアミド、該低級シクロアルキルカルボニル基、該アリールカルボニル基、該複素環カルボニル基、該低級シクロアルキルスルホニル基、該アリールスルホニル基又は該複素環スルホニル基はハロゲン原子、低級アルキル基、ハロゲン原子で置換された低級アルキル基、ヒドロキシ基、ヒドロキシ基のエステル、低級アルコキシ基、ハロゲン原子で置換された低級アルコキシ基、低級アルキルチオ基、アミノ基、低級アルキルアミノ基、アミノ基のアミド、低級アルキルアミノ基のアミド、低級アルキルカルボニル基、カルボキシ基、カルボキシ基のエステル、カルボキシ基のアミド、低級アルキルスルホニル基、スルホン酸基、スルホン酸基のエステル、スルホン酸基のアミド、ニトロ基及びシアノ基から選択される１又は複数個の基を置換基として有してもよく；及び／又は、
（ａ２）ｐが０〜３の整数を示し；
ｐが２又は３の場合、各Ｒ1は同一又は異なってもよく；及び／又は、
（ａ３）Ｒ2がハロゲン原子、低級アルキル基、ヒドロキシ基又は低級アルコキシ基を示し；
及び／又は、
（ａ４）ｑが０〜２の整数を示し；
ｑが２の場合、各Ｒ2は同一又は異なってもよく；及び／又は、
（ａ５）Ｒ3が水素原子、低級アルキル基、低級アルケニル基、低級アルキルカルボニル基、低級アルケニルカルボニル基又はアリールカルボニル基を示し；
Ｒ3が低級アルキル基又は低級アルキルカルボニル基の場合、該低級アルキル基又は該低級アルキルカルボニル基はハロゲン原子及びアリール基から選択される１又は複数個の基を置換基として有してもよく；
Ｒ3がアリールカルボニル基の場合、該アリールカルボニル基はハロゲン原子、低級アルキル基、ハロゲン原子で置換された低級アルキル基、低級アルコキシ基及びハロゲン原子で置換された低級アルコキシ基から選択される１又は複数個の基を置換基として有してもよく；及び／又は、
（ａ６）Ｒ4及びＲ5が同一又は異なって、水素原子、ハロゲン原子、低級アルキル基、低級シクロアルキル基、アリール又は複素環基を示し；
Ｒ4又はＲ5が低級アルキル基の場合、該低級アルキル基はハロゲン原子、低級シクロアルキル基、アリール基、複素環基、ヒドロキシ基、ヒドロキシ基のエステル、低級アルコキシ基、ハロゲン原子で置換された低級アルコキシ基、低級シクロアルキルオキシ基、アリールオキシ基、複素環オキシ基、低級アルキルチオ基、低級シクロアルキルチオ基、アリールチオ基、複素環チオ基、アミノ基、低級アルキルアミノ基、低級シクロアルキルアミノ基、アリールアミノ基、複素環アミノ基、アミノ基のアミド、低級アルキルアミノ基のアミド、低級シクロアルキルアミノ基のアミド、アリールアミノ基のアミド、複素環アミノ基のアミド、低級アルキルカルボニル基、低級シクロアルキルカルボニル基、アリールカルボニル基、複素環カルボニル基、カルボキシ基、カルボキシ基のエステル、カルボキシ基のアミド、ニトロ基及びシアノ基から選択される１又は複数個の基を置換基として有してもよく；
Ｒ4又はＲ5が低級シクロアルキル基、アリール又は複素環基の場合、該低級シクロアルキル基、該アリール又は該複素環基はハロゲン原子、低級アルキル基、ハロゲン原子で置換された低級アルキル基、ヒドロキシ基、ヒドロキシ基のエステル、低級アルコキシ基、ハロゲン原子で置換された低級アルコキシ基、低級アルキルチオ基、アミノ基、低級アルキルアミノ基、アミノ基のアミド、低級アルキルアミノ基のアミド、低級アルキルカルボニル基、カルボキシ基、カルボキシ基のエステル、カルボキシ基のアミド、低級アルキルスルホニル基、スルホン酸基、スルホン酸基のエステル、スルホン酸基のアミド、ニトロ基及びシアノ基から選択される１又は複数個の基を置換基として有してもよく；
Ｒ4とＲ5が一緒になって、３〜８員の低級シクロアルカン環を形成してもよく；及び／又は、
（ａ７）Ｒ6が水素原子、低級アルキル基、低級アルケニル基、低級アルキニル基又は低級シクロアルキル基を示し；
Ｒ6が低級アルキル基、低級アルケニル基、低級アルキニル基又は低級シクロアルキル基の場合、該低級アルキル基、該低級アルケニル基、該低級アルキニル基又は該低級シクロアルキル基はハロゲン原子及びアリール基から選択される１又は複数個の基を置換基として有してもよく；及び／又は、
（ａ８）Ａがヒドロキシ基又はハロゲン原子で置換されてもよい低級アルキレン基を示し；及び／又は、
（ａ９）Ｒ7がＯＲ8、ＮＲ8Ｒ9又はＳＲ8を示し；
Ｒ8及びＲ９が同一又は異なって、水素原子、低級アルキル基、低級アルケニル基、低級アルキニル基、低級シクロアルキル基、アリール基、複素環基、ホルミル基、低級アルキルカルボニル基、低級アルケニルカルボニル基、低級アルキニルカルボニル基、低級シクロアルキルカルボニル基、アリールカルボニル基、複素環カルボニル基、カルボキシ基、低級アルコキシカルボニル基、低級アルケニルオキシカルボニル基、低級アルキニルオキシカルボニル基、低級シクロアルキルオキシカルボニル基、アリールオキシカルボニル基、複素環オキシカルボニル基、低級アルキルスルホニル基、低級アルケニルスルホニル基、低級アルキニルスルホニル基、低級シクロアルキルスルホニル基、アリールスルホニル基、複素環スルホニル基、アミノカルボニル基、低級アルキルアミノカルボニル基、低級アルケニルアミノカルボニル基、低級アルキニルアミノカルボニル基、低級シクロアルキルアミノカルボニル基、アリールアミノカルボニル基又は複素環アミノカルボニル基を示し；
Ｒ8又はＲ9が低級アルキル基、低級アルケニル基、低級アルキニル基、低級アルキルカルボニル基、低級アルケニルカルボニル基、低級アルキニルカルボニル基、低級アルコキシカルボニル基、低級アルケニルオキシカルボニル基、低級アルキニルオキシカルボニル基、低級アルキルスルホニル基、低級アルケニルスルホニル基、低級アルキニルスルホニル基、低級アルキルアミノカルボニル基、低級アルケニルアミノカルボニル基又は低級アルキニルアミノカルボニル基の場合、該低級アルキル基、該低級アルケニル基、該低級アルキニル基、該低級アルキルカルボニル基、該低級アルケニルカルボニル基、該低級アルキニルカルボニル基、該低級アルコキシカルボニル基、該低級アルケニルオキシカルボニル基、該低級アルキニルオキシカルボニル基、該低級アルキルスルホニル基、該低級アルケニルスルホニル基、該低級アルキニルスルホニル基、該低級アルキルアミノカルボニル基、該低級アルケニルアミノカルボニル基又は該低級アルキニルアミノカルボニル基はハロゲン原子、低級シクロアルキル基、アリール基、複素環基、ヒドロキシ基、ヒドロキシ基のエステル、低級アルコキシ基、ハロゲン原子で置換された低級アルコキシ基、低級シクロアルキルオキシ基、アリールオキシ基、複素環オキシ基、低級アルキルチオ基、低級シクロアルキルチオ基、アリールチオ基、複素環チオ基、アミノ基、低級アルキルアミノ基、低級シクロアルキルアミノ基、アリールアミノ基、複素環アミノ基、アミノ基のアミド、低級アルキルアミノ基のアミド、低級シクロアルキルアミノ基のアミド、アリールアミノ基のアミド、複素環アミノ基のアミド、低級アルキルカルボニル基、低級シクロアルキルカルボニル基、アリールカルボニル基、複素環カルボニル基、カルボキシ基、カルボキシ基のエステル、カルボキシ基のアミド、低級アルキルスルホニル基、低級シクロアルキルスルホニル基、アリールスルホニル基、複素環スルホニル基、スルホン酸基、スルホン酸基のエステル、スルホン酸基のアミド、ニトロ基及びシアノ基から選択される１又は複数個の基を置換基として有してもよく；
Ｒ8又はＲ9が低級シクロアルキル基、アリール基、複素環基、低級シクロアルキルカルボニル基、アリールカルボニル基、複素環カルボニル基、低級シクロアルキルオキシカルボニル基、アリールオキシカルボニル基、複素環オキシカルボニル基、低級シクロアルキルスルホニル基、アリールスルホニル基、複素環スルホニル基、低級シクロアルキルアミノカルボニル基、アリールアミノカルボニル基又は複素環アミノカルボニル基の場合、該低級シクロアルキル基、該アリール基、該複素環基、該低級シクロアルキルカルボニル基、該アリールカルボニル基、該複素環カルボニル基、該低級シクロアルキルオキシカルボニル基、該アリールオキシカルボニル基、該複素環オキシカルボニル基、該低級シクロアルキルスルホニル基、該アリールスルホニル基、該複素環スルホニル基、該低級シクロアルキルアミノカルボニル基、該アリールアミノカルボニル基又は該複素環アミノカルボニル基はハロゲン原子、低級アルキル基、ハロゲン原子で置換された低級アルキル基、ヒドロキシ基で置換された低級アルキル基、低級アルケニル基、低級アルキニル基、低級シクロアルキル基、アリール基、複素環基、ヒドロキシ基、ヒドロキシ基のエステル、低級アルコキシ基、ハロゲン原子で置換された低級アルコキシ基、低級アルケニルオキシ基、低級アルキニルオキシ基、低級シクロアルキルオキシ基、アリールオキシ基、複素環オキシ基、低級アルキルチオ基、低級シクロアルキルチオ基、アリールチオ基、複素環チオ基、アミノ基、低級アルキルアミノ基、低級シクロアルキルアミノ基、アリールアミノ基、複素環アミノ基、アミノ基のアミド、低級アルキルアミノ基のアミド、低級シクロアルキルアミノ基のアミド、アリールアミノ基のアミド、複素環アミノ基のアミド、低級アルキルカルボニル基、低級シクロアルキルカルボニル基、アリールカルボニル基、複素環カルボニル基、カルボキシ基、カルボキシ基のエステル、カルボキシ基のアミド、低級アルキルスルホニル基、低級シクロアルキルスルホニル基、アリールスルホニル基、複素環スルホニル基、スルホン酸基、スルホン酸基のエステル、スルホン酸基のアミド、ニトロ基及びシアノ基から選択される１又は複数個の基を置換基として有してもよく；
Ｒ7がＮＲ8Ｒ9の場合、Ｒ8とＲ9が一緒になって、５又は６員の含窒素複素環を形成してもよく；及び／又は、
（ａ１０）XがＯ又はＳを示す化合物又はその塩。
すなわち、一般式（１）で示される化合物において、上記（ａ１）、（ａ２）、（ａ３）、（ａ４）、（ａ５）、（ａ６）、（ａ７）、（ａ８）、（ａ９）及び（ａ１０）から選択される１又は２以上の各組み合わせからなる化合物又はその塩。
（ｂ）本発明化合物におけるより好ましい例として、一般式（１）で示される化合物又はその塩において、各基が下記に示す基である化合物又はその塩が挙げられる。
一般式（１）において、
（ｂ１）Ｒ1がハロゲン原子、低級アルキル基、ヒドロキシ基、ヒドロキシ基のエステル、低級アルコキシ基、低級アルキルチオ基、アミノ基、低級アルキルアミノ基、アミノ基のアミド、低級アルキルアミノ基のアミド、低級アルキルカルボニル基、カルボキシ基、カルボキシ基のエステル、カルボキシ基のアミド、低級アルキルスルホニル基、ニトロ基又はシアノ基を示し；
Ｒ1が低級アルキル基、低級アルコキシ基、低級アルキルチオ基、低級アルキルアミノ基、低級アルキルアミノ基のアミド、低級アルキルカルボニル基又は低級アルキルスルホニル基の場合、該低級アルキル基、該低級アルコキシ基、該低級アルキルチオ基、該低級アルキルアミノ基、該低級アルキルアミノ基のアミド、該低級アルキルカルボニル基又は該低級アルキルスルホニル基はハロゲン原子、低級シクロアルキル基、アリール基、複素環基、ヒドロキシ基、ヒドロキシ基のエステル、低級アルコキシ基、ハロゲン原子で置換された低級アルコキシ基、低級シクロアルキルオキシ基、アリールオキシ基、複素環オキシ基、低級アルキルチオ基、低級シクロアルキルチオ基、アリールチオ基、複素環チオ基、アミノ基、低級アルキルアミノ基、低級シクロアルキルアミノ基、アリールアミノ基、複素環アミノ基、アミノ基のアミド、低級アルキルアミノ基のアミド、低級シクロアルキルアミノ基のアミド、アリールアミノ基のアミド、複素環アミノ基のアミド、低級アルキルカルボニル基、低級シクロアルキルカルボニル基、アリールカルボニル基、複素環カルボニル基、カルボキシ基、カルボキシ基のエステル、カルボキシ基のアミド、低級アルキルスルホニル基、低級シクロアルキルスルホニル基、アリールスルホニル基、複素環スルホニル基、スルホン酸基、スルホン酸基のエステル、スルホン酸基のアミド、ニトロ基及びシアノ基から選択される１又は複数個の基を置換基として有してもよく；及び／又は、
（ｂ２）ｐが０〜３の整数を示し；
ｐが２又は３の場合、各Ｒ1は同一又は異なってもよく；及び／又は、
（ｂ３）ｑが０を示し；及び／又は、
（ｂ４）Ｒ3が水素原子、低級アルキル基、低級アルケニル基、低級アルキルカルボニル基、低級アルケニルカルボニル基又はアリールカルボニル基を示し；
Ｒ3が低級アルキル基の場合、該低級アルキル基は１又は複数個のアリール基を置換基として有してもよく；
Ｒ3がアリールカルボニル基の場合、該アリールカルボニル基はハロゲン原子及び低級アルキル基から選択される１又は複数個の基を置換基として有してもよく；及び／又は、
（ｂ５）Ｒ4及びＲ5が同一又は異なって、水素原子、ハロゲン原子、低級アルキル基、低級シクロアルキル基、アリール又は複素環基を示し；
Ｒ4又はＲ5が低級アルキル基の場合、該低級アルキル基はハロゲン原子、ヒドロキシ基、ヒドロキシ基のエステル、低級アルコキシ基、ハロゲン原子で置換された低級アルコキシ基、低級アルキルチオ基、アミノ基、低級アルキルアミノ基、アミノ基のアミド、低級アルキルアミノ基のアミド、低級アルキルカルボニル基、カルボキシ基、カルボキシ基のエステル、カルボキシ基のアミド、ニトロ基又はシアノ基から選択される１又は複数個の基を置換基として有してもよく；
Ｒ4又はＲ5が低級シクロアルキル基、アリール又は複素環基の場合、該低級シクロアルキル基、該アリール又は該複素環基はハロゲン原子、低級アルキル基、ハロゲン原子で置換された低級アルキル基、ヒドロキシ基、ヒドロキシ基のエステル、低級アルコキシ基、ハロゲン原子で置換された低級アルコキシ基、低級アルキルチオ基、アミノ基、低級アルキルアミノ基、アミノ基のアミド、低級アルキルアミノ基のアミド、低級アルキルカルボニル基、カルボキシ基、カルボキシ基のエステル、カルボキシ基のアミド、低級アルキルスルホニル基、ニトロ基又はシアノ基から選択される１又は複数個の基を置換基として有してもよく；
Ｒ4とＲ5が一緒になって３〜８員の低級シクロアルカン環を形成してもよく；及び／又は、
（ｂ６）Ｒ6が水素原子、低級アルキル基、低級アルケニル基、低級アルキニル基又は低級シクロアルキル基を示し；
Ｒ6が低級アルキル基、低級アルケニル基、低級アルキニル基又は低級シクロアルキル基の場合、該低級アルキル基、該低級アルケニル基、該低級アルキニル基又は該低級シクロアルキル基はハロゲン原子及びアリール基から選択される１又は複数個の基を置換基として有してもよく；及び／又は、
（ｂ７）Ａが低級アルキレン基を示し；及び／又は、
（ｂ８）Ｒ7がＯＲ8、ＮＲ8Ｒ9又はＳＲ8を示し；
Ｒ8及びＲ９が同一又は異なって、水素原子、低級アルキル基、低級アルケニル基、低級アルキニル基、低級シクロアルキル基、アリール基、複素環基、ホルミル基、低級アルキルカルボニル基、低級アルケニルカルボニル基、低級アルキニルカルボニル基、低級シクロアルキルカルボニル基、アリールカルボニル基、複素環カルボニル基、カルボキシ基、低級アルコキシカルボニル基、低級アルケニルオキシカルボニル基、低級アルキニルオキシカルボニル基、低級シクロアルキルオキシカルボニル基、アリールオキシカルボニル基、複素環オキシカルボニル基、低級アルキルスルホニル基、低級アルケニルスルホニル基、低級アルキニルスルホニル基、低級シクロアルキルスルホニル基、アリールスルホニル基、複素環スルホニル基、アミノカルボニル基、低級アルキルアミノカルボニル基、低級アルケニルアミノカルボニル基、低級アルキニルアミノカルボニル基、低級シクロアルキルアミノカルボニル基、アリールアミノカルボニル基又は複素環アミノカルボニル基を示し；
Ｒ8又はＲ9が低級アルキル基、低級アルケニル基、低級アルキニル基、低級アルキルカルボニル基、低級アルケニルカルボニル基、低級アルキニルカルボニル基、低級アルコキシカルボニル基、低級アルケニルオキシカルボニル基、低級アルキニルオキシカルボニル基、低級アルキルスルホニル基、低級アルケニルスルホニル基、低級アルキニルスルホニル基、低級アルキルアミノカルボニル基、低級アルケニルアミノカルボニル基又は低級アルキニルアミノカルボニル基の場合、該低級アルキル基、該低級アルケニル基、該低級アルキニル基、該低級アルキルカルボニル基、該低級アルケニルカルボニル基、該低級アルキニルカルボニル基、該低級アルコキシカルボニル基、該低級アルケニルオキシカルボニル基、該低級アルキニルオキシカルボニル基、該低級アルキルスルホニル基、該低級アルケニルスルホニル基、該低級アルキニルスルホニル基、該低級アルキルアミノカルボニル基、該低級アルケニルアミノカルボニル基又は該低級アルキニルアミノカルボニル基はハロゲン原子、低級シクロアルキル基、アリール基、複素環基、ヒドロキシ基、ヒドロキシ基のエステル、低級アルコキシ基、ハロゲン原子で置換された低級アルコキシ基、低級アルキルチオ基、アミノ基、低級アルキルアミノ基、アミノ基のアミド、低級アルキルアミノ基のアミド、低級アルキルカルボニル基、カルボキシ基、カルボキシ基のエステル、カルボキシ基のアミド、低級アルキルスルホニル基、ニトロ基又はシアノ基から選択される１又は複数個の基を置換基として有してもよく；
Ｒ8又はＲ9が低級シクロアルキル基、アリール基、複素環基、低級シクロアルキルカルボニル基、アリールカルボニル基、複素環カルボニル基、低級シクロアルキルオキシカルボニル基、アリールオキシカルボニル基、複素環オキシカルボニル基、低級シクロアルキルスルホニル基、アリールスルホニル基、複素環スルホニル基、低級シクロアルキルアミノカルボニル基、アリールアミノカルボニル基又は複素環アミノカルボニル基の場合、該低級シクロアルキル基、該アリール基、該複素環基、該低級シクロアルキルカルボニル基、該アリールカルボニル基、該複素環カルボニル基、該低級シクロアルキルオキシカルボニル基、該アリールオキシカルボニル基、該複素環オキシカルボニル基、該低級シクロアルキルスルホニル基、該アリールスルホニル基、該複素環スルホニル基、該低級シクロアルキルアミノカルボニル基、該アリールアミノカルボニル基又は該複素環アミノカルボニル基はハロゲン原子、低級アルキル基、ハロゲン原子で置換された低級アルキル基、ヒドロキシ基で置換された低級アルキル基、低級アルケニル基、低級アルキニル基、低級シクロアルキル基、アリール基、複素環基、ヒドロキシ基、ヒドロキシ基のエステル、低級アルコキシ基、ハロゲン原子で置換された低級アルコキシ基、低級アルケニルオキシ基、低級アルキニルオキシ基、低級アルキルチオ基、アミノ基、低級アルキルアミノ基、アミノ基のアミド、低級アルキルアミノ基のアミド、低級アルキルカルボニル基、カルボキシ基、カルボキシ基のエステル、カルボキシ基のアミド、低級アルキルスルホニル基、ニトロ基又はシアノ基から選択される１又は複数個の基を置換基として有してもよく；
Ｒ7がＮＲ8Ｒ9の場合、Ｒ8とＲ9が一緒になって、５又は６員の含窒素複素環を形成してもよく；及び／又は、
（ｂ９）XがＯを示す化合物又はその塩。
（ｂ１）Ｒ1がハロゲン原子、低級アルキル基、ヒドロキシ基、ヒドロキシ基のエステル、低級アルコキシ基、低級アルキルチオ基、アミノ基、低級アルキルアミノ基、アミノ基のアミド、低級アルキルアミノ基のアミド、低級アルキルカルボニル基、カルボキシ基、カルボキシ基のエステル、カルボキシ基のアミド、低級アルキルスルホニル基、ニトロ基又はシアノ基を示し；
Ｒ1が低級アルキル基、低級アルコキシ基、低級アルキルチオ基、低級アルキルアミノ基、低級アルキルアミノ基のアミド、低級アルキルカルボニル基又は低級アルキルスルホニル基の場合、該低級アルキル基、該低級アルコキシ基、該低級アルキルチオ基、該低級アルキルアミノ基、該低級アルキルアミノ基のアミド、該低級アルキルカルボニル基又は該低級アルキルスルホニル基はハロゲン原子、低級シクロアルキル基、アリール基、複素環基、ヒドロキシ基、ヒドロキシ基のエステル、低級アルコキシ基、ハロゲン原子で置換された低級アルコキシ基、低級シクロアルキルオキシ基、アリールオキシ基、複素環オキシ基、低級アルキルチオ基、低級シクロアルキルチオ基、アリールチオ基、複素環チオ基、アミノ基、低級アルキルアミノ基、低級シクロアルキルアミノ基、アリールアミノ基、複素環アミノ基、アミノ基のアミド、低級アルキルアミノ基のアミド、低級シクロアルキルアミノ基のアミド、アリールアミノ基のアミド、複素環アミノ基のアミド、低級アルキルカルボニル基、低級シクロアルキルカルボニル基、アリールカルボニル基、複素環カルボニル基、カルボキシ基、カルボキシ基のエステル、カルボキシ基のアミド、低級アルキルスルホニル基、低級シクロアルキルスルホニル基、アリールスルホニル基、複素環スルホニル基、スルホン酸基、スルホン酸基のエステル、スルホン酸基のアミド、ニトロ基及びシアノ基から選択される１又は複数個の基を置換基として有してもよく；及び／又は、
（ｂ２）ｐが０〜３の整数を示し；
ｐが２又は３の場合、各Ｒ1は同一又は異なってもよく；及び／又は、
（ｂ３）ｑが０を示し；及び／又は、
（ｂ４）Ｒ3が水素原子、低級アルキル基、低級アルケニル基、低級アルキルカルボニル基、低級アルケニルカルボニル基又はアリールカルボニル基を示し；
Ｒ3が低級アルキル基の場合、該低級アルキル基は１又は複数個のアリール基を置換基として有してもよく；
Ｒ3がアリールカルボニル基の場合、該アリールカルボニル基はハロゲン原子及び低級アルキル基から選択される１又は複数個の基を置換基として有してもよく；及び／又は、
（ｂ５）Ｒ4及びＲ5が同一又は異なって、水素原子、ハロゲン原子、低級アルキル基、低級シクロアルキル基、アリール又は複素環基を示し；
Ｒ4又はＲ5が低級アルキル基の場合、該低級アルキル基はハロゲン原子、ヒドロキシ基、ヒドロキシ基のエステル、低級アルコキシ基、ハロゲン原子で置換された低級アルコキシ基、低級アルキルチオ基、アミノ基、低級アルキルアミノ基、アミノ基のアミド、低級アルキルアミノ基のアミド、低級アルキルカルボニル基、カルボキシ基、カルボキシ基のエステル、カルボキシ基のアミド、ニトロ基又はシアノ基から選択される１又は複数個の基を置換基として有してもよく；
Ｒ4又はＲ5が低級シクロアルキル基、アリール又は複素環基の場合、該低級シクロアルキル基、該アリール又は該複素環基はハロゲン原子、低級アルキル基、ハロゲン原子で置換された低級アルキル基、ヒドロキシ基、ヒドロキシ基のエステル、低級アルコキシ基、ハロゲン原子で置換された低級アルコキシ基、低級アルキルチオ基、アミノ基、低級アルキルアミノ基、アミノ基のアミド、低級アルキルアミノ基のアミド、低級アルキルカルボニル基、カルボキシ基、カルボキシ基のエステル、カルボキシ基のアミド、低級アルキルスルホニル基、ニトロ基又はシアノ基から選択される１又は複数個の基を置換基として有してもよく；
Ｒ4とＲ5が一緒になって３〜８員の低級シクロアルカン環を形成してもよく；及び／又は、
（ｂ６）Ｒ6が水素原子、低級アルキル基、低級アルケニル基、低級アルキニル基又は低級シクロアルキル基を示し；
Ｒ6が低級アルキル基、低級アルケニル基、低級アルキニル基又は低級シクロアルキル基の場合、該低級アルキル基、該低級アルケニル基、該低級アルキニル基又は該低級シクロアルキル基はハロゲン原子及びアリール基から選択される１又は複数個の基を置換基として有してもよく；及び／又は、
（ｂ７）Ａが低級アルキレン基を示し；及び／又は、
（ｂ８）Ｒ7がＯＲ8、ＮＲ8Ｒ9又はＳＲ8を示し；
Ｒ8及びＲ９が同一又は異なって、水素原子、低級アルキル基、低級アルケニル基、低級アルキニル基、低級シクロアルキル基、アリール基、複素環基、ホルミル基、低級アルキルカルボニル基、低級アルケニルカルボニル基、低級アルキニルカルボニル基、低級シクロアルキルカルボニル基、アリールカルボニル基、複素環カルボニル基、カルボキシ基、低級アルコキシカルボニル基、低級アルケニルオキシカルボニル基、低級アルキニルオキシカルボニル基、低級シクロアルキルオキシカルボニル基、アリールオキシカルボニル基、複素環オキシカルボニル基、低級アルキルスルホニル基、低級アルケニルスルホニル基、低級アルキニルスルホニル基、低級シクロアルキルスルホニル基、アリールスルホニル基、複素環スルホニル基、アミノカルボニル基、低級アルキルアミノカルボニル基、低級アルケニルアミノカルボニル基、低級アルキニルアミノカルボニル基、低級シクロアルキルアミノカルボニル基、アリールアミノカルボニル基又は複素環アミノカルボニル基を示し；
Ｒ8又はＲ9が低級アルキル基、低級アルケニル基、低級アルキニル基、低級アルキルカルボニル基、低級アルケニルカルボニル基、低級アルキニルカルボニル基、低級アルコキシカルボニル基、低級アルケニルオキシカルボニル基、低級アルキニルオキシカルボニル基、低級アルキルスルホニル基、低級アルケニルスルホニル基、低級アルキニルスルホニル基、低級アルキルアミノカルボニル基、低級アルケニルアミノカルボニル基又は低級アルキニルアミノカルボニル基の場合、該低級アルキル基、該低級アルケニル基、該低級アルキニル基、該低級アルキルカルボニル基、該低級アルケニルカルボニル基、該低級アルキニルカルボニル基、該低級アルコキシカルボニル基、該低級アルケニルオキシカルボニル基、該低級アルキニルオキシカルボニル基、該低級アルキルスルホニル基、該低級アルケニルスルホニル基、該低級アルキニルスルホニル基、該低級アルキルアミノカルボニル基、該低級アルケニルアミノカルボニル基又は該低級アルキニルアミノカルボニル基はハロゲン原子、低級シクロアルキル基、アリール基、複素環基、ヒドロキシ基、ヒドロキシ基のエステル、低級アルコキシ基、ハロゲン原子で置換された低級アルコキシ基、低級アルキルチオ基、アミノ基、低級アルキルアミノ基、アミノ基のアミド、低級アルキルアミノ基のアミド、低級アルキルカルボニル基、カルボキシ基、カルボキシ基のエステル、カルボキシ基のアミド、低級アルキルスルホニル基、ニトロ基又はシアノ基から選択される１又は複数個の基を置換基として有してもよく；
Ｒ8又はＲ9が低級シクロアルキル基、アリール基、複素環基、低級シクロアルキルカルボニル基、アリールカルボニル基、複素環カルボニル基、低級シクロアルキルオキシカルボニル基、アリールオキシカルボニル基、複素環オキシカルボニル基、低級シクロアルキルスルホニル基、アリールスルホニル基、複素環スルホニル基、低級シクロアルキルアミノカルボニル基、アリールアミノカルボニル基又は複素環アミノカルボニル基の場合、該低級シクロアルキル基、該アリール基、該複素環基、該低級シクロアルキルカルボニル基、該アリールカルボニル基、該複素環カルボニル基、該低級シクロアルキルオキシカルボニル基、該アリールオキシカルボニル基、該複素環オキシカルボニル基、該低級シクロアルキルスルホニル基、該アリールスルホニル基、該複素環スルホニル基、該低級シクロアルキルアミノカルボニル基、該アリールアミノカルボニル基又は該複素環アミノカルボニル基はハロゲン原子、低級アルキル基、ハロゲン原子で置換された低級アルキル基、ヒドロキシ基で置換された低級アルキル基、低級アルケニル基、低級アルキニル基、低級シクロアルキル基、アリール基、複素環基、ヒドロキシ基、ヒドロキシ基のエステル、低級アルコキシ基、ハロゲン原子で置換された低級アルコキシ基、低級アルケニルオキシ基、低級アルキニルオキシ基、低級アルキルチオ基、アミノ基、低級アルキルアミノ基、アミノ基のアミド、低級アルキルアミノ基のアミド、低級アルキルカルボニル基、カルボキシ基、カルボキシ基のエステル、カルボキシ基のアミド、低級アルキルスルホニル基、ニトロ基又はシアノ基から選択される１又は複数個の基を置換基として有してもよく；
Ｒ7がＮＲ8Ｒ9の場合、Ｒ8とＲ9が一緒になって、５又は６員の含窒素複素環を形成してもよく；及び／又は、
（ｂ９）XがＯを示す化合物又はその塩。
すなわち、一般式（１）で示される化合物において、上記（ｂ１）、（ｂ２）、（ｂ３）、（ｂ４）、（ｂ５）、（ｂ６）、（ｂ７）、（ｂ８）及び（ｂ９）から選択される１又は２以上の各組み合わせからなる化合物又はその塩。
（ｃ）本発明化合物におけるさらに好ましい例として、一般式（１）で示される化合物又はその塩において、各基が下記に示す基である化合物又はその塩が挙げられる。
一般式（１）において、
（ｃ１）Ｒ1がハロゲン原子、低級アルキル基、ヒドロキシ基、ヒドロキシ基のエステル、低級アルコキシ基、低級アルキルチオ基、アミノ基、アミノ基のアミド、低級アルキルアミノ基のアミド、低級アルキルカルボニル基、カルボキシ基、カルボキシ基のエステル、ニトロ基又はシアノ基を示し；
Ｒ1が低級アルキル基又は低級アルコキシ基の場合、該低級アルキル基又は該低級アルコキシ基はハロゲン原子、ヒドロキシ基及び低級アルコキシ基から選択される１又は複数個の基を置換基として有してもよく；及び／又は、
（ｃ２）ｐが１、２又は３を示し；
ｐが２又は３の場合、各Ｒ1は同一又は異なってもよく；及び／又は、
（ｃ３）ｑが０を示し；及び／又は、
（ｃ４）Ｒ3が水素原子を示し；及び／又は、
（ｃ５）Ｒ4及びＲ5が同一又は異なって、低級アルキル基を示し；及び／又は、
（ｃ６）Ｒ6が水素原子、低級アルキル基又は低級アルケニル基を示し；及び／又は、
（ｃ７）Ａが低級アルキレン基を示し；及び／又は、
（ｃ８）Ｒ7がＯＲ8又はＮＲ8Ｒ9を示し；
Ｒ8及びＲ9が同一又は異なって、水素原子、アリール基、アリールカルボニル基又は複素環カルボニル基を示し；
Ｒ8又はＲ9がアリール基、アリールカルボニル基又は複素環カルボニル基の場合、該アリール基、該アリールカルボニル基又は該複素環カルボニル基はハロゲン原子、低級アルキル基、ハロゲン原子で置換された低級アルキル基、ヒドロキシ基で置換された低級アルキル基、低級アルケニル基、アリール基、低級アルコキシ基、低級アルキルカルボニル基、カルボキシ基のエステル、ニトロ基及びシアノ基から選択される１又は複数個の基を置換基として有してもよく；及び／又は、
（ｃ９）XがＯを示す化合物又はその塩。
すなわち、一般式（１）で示される化合物において、上記（ｃ１）、（ｃ２）、（ｃ３）、（ｃ４）、（ｃ５）、（ｃ６）、（ｃ７）、（ｃ８）及び（ｃ９）から選択される１又は２以上の各組み合わせからなる化合物又はその塩。
（ｄ）本発明化合物における特に好ましい例として、一般式（１）で示される化合物又はその塩において、各基が下記に示す基である化合物又はその塩が挙げられる。
一般式（１）において、
（ｄ１）Ｒ1がハロゲン原子、ヒドロキシ基、ヒドロキシ基のエステル、低級アルコキシ基、アミノ基のアミド又は低級アルキルアミノ基のアミドを示し；及び／又は、
（ｄ２）ｐが２又は３を示し、この時、各Ｒ1は同一又は異なってもよく；及び／又は、
（ｄ３）ｑが０を示し；及び／又は、
（ｄ４）Ｒ3が水素原子を示し；及び／又は、
（ｄ５）Ｒ4及びＲ5が同一又は異なって、低級アルキル基を示し；及び／又は、
（ｄ６）Ｒ6が低級アルキル基を示し；及び／又は、
（ｄ７）Ａが低級アルキレン基を示し；及び／又は、
（ｄ８）Ｒ7がＯＲ8又はＮＲ8Ｒ9を示し；
Ｒ8がアリール基、アリールカルボニル基又は複素環カルボニル基を示し、この時、該アリール基、該アリールカルボニル基又は該複素環カルボニル基はハロゲン原子、低級アルキル基、ハロゲン原子で置換された低級アルキル基、ヒドロキシ基で置換された低級アルキル基、低級アルケニル基、アリール基、低級アルコキシ基、低級アルキルカルボニル基、カルボキシ基のエステル、ニトロ基及びシアノ基から選択される１又は複数個の基を置換基として有してもよく；
Ｒ9が水素原子を示し；及び／又は、
（ｄ９）XがＯを示す化合物又はその塩。
（ｄ１）Ｒ1がハロゲン原子、ヒドロキシ基、ヒドロキシ基のエステル、低級アルコキシ基、アミノ基のアミド又は低級アルキルアミノ基のアミドを示し；及び／又は、
（ｄ２）ｐが２又は３を示し、この時、各Ｒ1は同一又は異なってもよく；及び／又は、
（ｄ３）ｑが０を示し；及び／又は、
（ｄ４）Ｒ3が水素原子を示し；及び／又は、
（ｄ５）Ｒ4及びＲ5が同一又は異なって、低級アルキル基を示し；及び／又は、
（ｄ６）Ｒ6が低級アルキル基を示し；及び／又は、
（ｄ７）Ａが低級アルキレン基を示し；及び／又は、
（ｄ８）Ｒ7がＯＲ8又はＮＲ8Ｒ9を示し；
Ｒ8がアリール基、アリールカルボニル基又は複素環カルボニル基を示し、この時、該アリール基、該アリールカルボニル基又は該複素環カルボニル基はハロゲン原子、低級アルキル基、ハロゲン原子で置換された低級アルキル基、ヒドロキシ基で置換された低級アルキル基、低級アルケニル基、アリール基、低級アルコキシ基、低級アルキルカルボニル基、カルボキシ基のエステル、ニトロ基及びシアノ基から選択される１又は複数個の基を置換基として有してもよく；
Ｒ9が水素原子を示し；及び／又は、
（ｄ９）XがＯを示す化合物又はその塩。
すなわち、一般式（１）で示される化合物において、上記（ｄ１）、（ｄ２）、（ｄ３）、（ｄ４）、（ｄ５）、（ｄ６）、（ｄ７）、（ｄ８）及び（ｄ９）から選択される１又は２以上の各組み合わせからなる化合物又はその塩。
（ｅ）本発明化合物におけるＲ1の好ましい例として、下記の条件を充足する化合物又はその塩が挙げられる。
一般式（１）において、Ｒ1がハロゲン原子、ヒドロキシ基、ヒドロキシ基のエステル、低級アルコキシ基、アミノ基のアミド又は低級アルキルアミノ基のアミドであり、及び上記（a）、(ｂ)又は（ｃ）のいずれかの条件を充足する化合物又はその塩。
（ｆ）本発明化合物におけるＲ4、Ｒ5及びＲ6の好ましい例として、下記の条件を充足する化合物又はその塩が挙げられる。
一般式（１）において、Ｒ4、Ｒ5及びＲ6がメチル基であり、及び上記（a）、(ｂ)、（ｃ）又は（ｄ）のいずれかの条件を充足する化合物又はその塩。
（g）本発明化合物におけるＲ8の好ましい例として、下記の条件を充足する化合物又はその塩が挙げられる。
一般式（１）において、Ｒ8がアリール基、アリールカルボニル基又は複素環カルボニル基であり、かつ、該アリール基がフェニル基、該アリールカルボニル基がフェニルカルボニル基及び／又は該複素環カルボニル基がチオフェンカルボニル基であり、及び上記（a）、(ｂ)、（ｃ）又は（ｄ）のいずれかの条件を充足する化合物又はその塩。
（ｈ）本発明化合物におけるＡの好ましい例として、下記の条件を充足する化合物又はその塩が挙げられる。
一般式（１）において、Ａがメチレン基であり、及び上記（a）、(ｂ)、（ｃ）又は（ｄ）のいずれかの条件を充足する化合物又はその塩。
（ｉ）本発明化合物におけるＲ1がヒドロキシ基のエステルの場合の好ましい例として、下記の条件を充足する化合物又はその塩が挙げられる。
一般式（１）のＲ1において、ヒドロキシ基のエステルが−ＯＣＯ−Ｒa1を示し、該Ｒa1が、水素原子、置換基を有してもよい低級アルキル基、置換基を有してもよい低級アルケニル基、置換基を有してもよい低級アルキニル基、置換基を有してもよい低級シクロアルキル基、置換基を有してもよいアリール基、置換基を有してもよい複素環基、置換基を有してもよい低級アルコキシ基、置換基を有してもよい低級アルケニルオキシ基、置換基を有してもよい低級アルキニルオキシ基、置換基を有してもよい低級シクロアルキルオキシ基、置換基を有してもよいアリールオキシ基、置換基を有してもよい複素環オキシ基、アミノ基、置換基を有してもよい低級アルキルアミノ基、置換基を有してもよい低級シクロアルキルアミノ基、置換基を有してもよいアリールアミノ基又は置換基を有してもよい複素環アミノ基であり、
より好ましくは、該Ｒa1が、水素原子、低級アルキル基、低級アルケニル基、低級シクロアルキル基、アリール基、複素環基、低級アルコキシ基、低級アルケニルオキシ基、低級シクロアルキルオキシ基、アリールオキシ基、複素環オキシ基、アミノ基、低級アルキルアミノ基、低級シクロアルキルアミノ基、アリールアミノ基又は複素環アミノ基を示し、
Ｒa1が低級アルキル基、低級アルケニル基、低級アルコキシ基、低級アルケニルオキシ基又は低級アルキルアミノ基の場合、該低級アルキル基、該低級アルケニル基、該低級アルコキシ基、該低級アルケニルオキシ基又は該低級アルキルアミノ基はハロゲン原子、アリール基、複素環基、ヒドロキシ基、ヒドロキシ基のエステル、アミノ基、低級アルキルアミノ基、カルボキシ基及びカルボキシ基のエステルから選択される１又は複数個の基を置換基として有してもよく、
Ｒa1が低級シクロアルキル基、アリール基、複素環基、低級シクロアルキルオキシ基、アリールオキシ基、複素環オキシ基、低級シクロアルキルアミノ基、アリールアミノ基又は複素環アミノ基の場合、該低級シクロアルキル基、該アリール基、該複素環基、該低級シクロアルキルオキシ基、該アリールオキシ基、該複素環オキシ基、該低級シクロアルキルアミノ基、該アリールアミノ基又は該複素環アミノ基はハロゲン原子、低級アルキル基、ハロゲン原子で置換された低級アルキル基、ヒドロキシ基、ヒドロキシ基のエステル、低級アルコキシ基、メルカプト基、低級アルキルチオ基、ホルミル基、低級アルキルカルボニル基、カルボキシ基、カルボキシ基本のエステル、ニトロ基及びシアノ基から選択される１又は複数個の基を置換基として有してもよい基であり、
特に好ましくは、該Ｒa1が、低級アルキル基、低級アルケニル基、低級シクロアルキル基、アリール基、複素環基、低級アルコキシ基、アリールオキシ基、低級アルキルアミノ基、低級シクロアルキルアミノ基、アリールアミノ基又は複素環アミノ基を示し、
Ｒa1が低級アルキル基の場合、該低級アルキル基はアリール基及び低級アルキルアミノ基から選択される１又は複数個の基を置換基として有してもよく、
Ｒa1がアリール基の場合、該アリール基はハロゲン原子、低級アルキル基、ハロゲン原子で置換された低級アルキル基、ヒドロキシ基のエステル、低級アルコキシ基、低級アルキルチオ基、低級アルキルカルボニル基、カルボキシ基のエステル及びニトロ基から選択される１又は複数個の基を置換基として有してもよく、
Ｒa1が複素環基の場合、該複素環基は、ハロゲン原子、低級アルキル基、ヒドロキシ基及び低級アルコキシ基から選択される１又は複数個の基を置換基として有してもよく；
Ｒa1が低級アルキルアミノ基の場合、該低級アルキルアミノ基は、アリール基、複素環基及びカルボキシ基のエステルから選択される１又は複数個の基を置換基として有してもよく、
Ｒa1がアリールアミノ基の場合、該アリールアミノ基はハロゲン原子、低級アルキル基、及び低級アルコキシ基から選択される１又は複数個の基を置換基として有してもよい基であり、及び上記（a）、(ｂ)、（ｃ）、（ｄ）又は（ｅ）のいずれかの条件を充足する化合物又はその塩。
（ｊ）本発明化合物におけるＲ1がアミノ基のアミドの場合のより好ましい例として、下記の条件を充足する化合物又はその塩が挙げられる。
一般式（１）のＲ1において、アミノ基のアミドが−ＮＨＣＯ−Ｒb1を示し、該Ｒb1が、水素原子、置換基を有してもよい低級アルキル基、置換基を有してもよい低級アルケニル基、置換基を有してもよい低級アルキニル基、置換基を有してもよい低級シクロアルキル基、置換基を有してもよいアリール基、置換基を有してもよい複素環基、置換基を有してもよい低級アルコキシ基、置換基を有してもよい低級アルケニルオキシ基、置換基を有してもよい低級アルキニルオキシ基、置換基を有してもよい低級シクロアルキルオキシ基、置換基を有してもよいアリールオキシ基、置換基を有してもよい複素環オキシ基、アミノ基、置換基を有してもよい低級アルキルアミノ基、置換基を有してもよい低級シクロアルキルアミノ基、置換基を有してもよいアリールアミノ基又は置換基を有してもよい複素環アミノ基であり、
より好ましくは、該Ｒb1が水素原子、低級アルキル基、低級アルケニル基、低級シクロアルキル基、アリール基、複素環基、低級アルコキシ基、低級アルケニルオキシ基、低級シクロアルキルオキシ基、アリールオキシ基、複素環オキシ基、アミノ基、低級アルキルアミノ基、低級シクロアルキルアミノ基、アリールアミノ基又は複素環アミノ基を示し、
Ｒb1が低級アルキル基、低級アルケニル基、低級アルコキシ基、低級アルケニルオキシ基又は低級アルキルアミノ基の場合、該低級アルキル基、該低級アルケニル基、該低級アルコキシ基、該低級アルケニルオキシ基又は該低級アルキルアミノ基はハロゲン原子、アリール基、複素環基、ヒドロキシ基、ヒドロキシ基のエステル、アミノ基、低級アルキルアミノ基、カルボキシ基及びカルボキシ基のエステルから選択される１又は複数個の基を置換基として有してもよく、
Ｒb1が低級シクロアルキル基、アリール基、複素環基、低級シクロアルキルオキシ基、アリールオキシ基、複素環オキシ基、低級シクロアルキルアミノ基、アリールアミノ基又は複素環アミノ基の場合、該低級シクロアルキル基、該アリール基、該複素環基、該低級シクロアルキルオキシ基、該アリールオキシ基、該複素環オキシ基、該低級シクロアルキルアミノ基、該アリールアミノ基又は該複素環アミノ基はハロゲン原子、低級アルキル基、ハロゲン原子で置換された低級アルキル基、ヒドロキシ基、ヒドロキシ基のエステル、低級アルコキシ基、メルカプト基、低級アルキルチオ基、ホルミル基、低級アルキルカルボニル基、カルボキシ基、カルボキシ基本のエステル、ニトロ基及びシアノ基から選択される１又は複数個の基を置換基として有してもよい基であり、
特に好ましくは、該Ｒb1が、低級アルキル基、アリール基、複素環基、アリールオキシ基、低級アルキルアミノ基又はアリールアミノ基を示し、
Ｒb1が低級アルキル基の場合、該低級アルキル基は１又は複数個のアミノ基を置換基として有してもよく、
Ｒb1がアリール基の場合、該アリール基はハロゲン原子、低級アルキル基、ハロゲン原子で置換された低級アルキル基、ヒドロキシ基のエステル、低級アルコキシ基、低級アルキルチオ基、低級アルキルカルボニル基、カルボキシ基のエステル及びニトロ基から選択される１又は複数個の基を置換基として有してもよく、
Ｒb1が複素環基の場合、該複素環基は、ハロゲン原子、低級アルキル基、ヒドロキシ基及び低級アルコキシ基から選択される１又は複数個の基を置換基として有してもよく、
Ｒb1が低級アルキルアミノ基の場合、該低級アルキルアミノ基は１又は複数個のアリール基を置換基として有してもよい基であり、及び上記（a）、(ｂ)、（ｃ）、（ｄ）又は（ｅ）のいずれかの条件を充足する化合物又はその塩。
（ｋ）本発明化合物におけるＲ1が低級アルキルアミノ基のアミドの場合の好ましい例として、下記の条件を充足する化合物又はその塩が挙げられる。
一般式（１）のＲ1において、低級アルキルアミノ基のアミドが−ＮＲc1ＣＯ−Ｒc2を示し、該Ｒc1が、置換基を有してもよい低級アルキル基を示し、また、該Ｒc2が、水素原子、置換基を有してもよい低級アルキル基、置換基を有してもよい低級アルケニル基、置換基を有してもよい低級アルキニル基、置換基を有してもよい低級シクロアルキル基、置換基を有してもよいアリール基、置換基を有してもよい複素環基、置換基を有してもよい低級アルコキシ基、置換基を有してもよい低級アルケニルオキシ基、置換基を有してもよい低級アルキニルオキシ基、置換基を有してもよい低級シクロアルキルオキシ基、置換基を有してもよいアリールオキシ基、置換基を有してもよい複素環オキシ基、アミノ基、置換基を有してもよい低級アルキルアミノ基、置換基を有してもよい低級シクロアルキルアミノ基、置換基を有してもよいアリールアミノ基又は置換基を有してもよい複素環アミノ基であり、
より好ましくは該Ｒc1が低級アルキル基を示し、また、該Ｒc2が水素原子、低級アルキル基、低級アルケニル基、低級シクロアルキル基、アリール基、複素環基、低級アルコキシ基、低級アルケニルオキシ基、低級シクロアルキルオキシ基、アリールオキシ基、複素環オキシ基、アミノ基、低級アルキルアミノ基、低級シクロアルキルアミノ基、アリールアミノ基又は複素環アミノ基を示し、
Ｒc2が低級アルキル基、低級アルケニル基、低級アルコキシ基、低級アルケニルオキシ基又は低級アルキルアミノ基の場合、該低級アルキル基、該低級アルケニル基、該低級アルコキシ基、該低級アルケニルオキシ基又は該低級アルキルアミノ基はハロゲン原子、アリール基、複素環基、ヒドロキシ基、ヒドロキシ基のエステル、アミノ基、低級アルキルアミノ基、カルボキシ基及びカルボキシ基のエステルから選択される１又は複数個の基を置換基として有してもよく、
Ｒc2が低級シクロアルキル基、アリール基、複素環基、低級シクロアルキルオキシ基、アリールオキシ基、複素環オキシ基、低級シクロアルキルアミノ基、アリールアミノ基又は複素環アミノ基の場合、該低級シクロアルキル基、該アリール基、該複素環基、該低級シクロアルキルオキシ基、該アリールオキシ基、該複素環オキシ基、該低級シクロアルキルアミノ基、該アリールアミノ基又は該複素環アミノ基はハロゲン原子、低級アルキル基、ハロゲン原子で置換された低級アルキル基、ヒドロキシ基、ヒドロキシ基のエステル、低級アルコキシ基、メルカプト基、低級アルキルチオ基、ホルミル基、低級アルキルカルボニル基、カルボキシ基、カルボキシ基本のエステル、ニトロ基及びシアノ基から選択される１又は複数個の基を置換基として有してもよい基であり、
特に好ましくは、該Ｒc1が低級アルキル基を示し、また、該Ｒc2が低級アルキル基、アリール基又は複素環基を示し、
Ｒc2が低級アルキル基の場合、該低級アルキル基は１又は複数個のアミノ基を置換基として有してもよく、
Ｒc2がアリール基の場合、該アリール基はハロゲン原子、低級アルキル基、ハロゲン原子で置換された低級アルキル基、ヒドロキシ基のエステル、低級アルコキシ基、低級アルキルチオ基、低級アルキルカルボニル基、カルボキシ基のエステル及びニトロ基から選択される１又は複数個の基を置換基として有してもよく、
Ｒc2が複素環基の場合、該複素環基は、ハロゲン原子、低級アルキル基、ヒドロキシ基及び低級アルコキシ基から選択される１又は複数個の基を置換基として有してもよく、
Ｒc2が低級アルキルアミノ基の場合、該低級アルキルアミノ基は１又は複数個のアリール基を置換基として有してもよい基であり、及び上記（a）、(ｂ)、（ｃ）、（ｄ）又は（ｅ）のいずれかの条件を充足する化合物又はその塩。
（ｌ）本発明化合物における特に好ましい具体例として下記の化合物又はその塩が挙げられる。
・７−［２−メトキシ−４−（２−メチルベンゾイルオキシ）フェニル］−８−(４−メトキシベンゾイルオキシメチル）−３，３−ジメチル−３，４−ジヒドロ−１Ｈ−キノキサリン−２−オン。
・７−（５−フルオロ−２−メトキシフェニル）−８−(４−メチルベンゾイルオキシメチル)−３，３−ジメチル−３，４−ジヒドロ−１Ｈ−キノキサリン−２−オン。
・７−（４−フルオロ−２−メトキシフェニル）−８−(５−メチルチオフェン−２−イルカルボニルオキシメチル）−１，３，３−トリメチル−３，４−ジヒドロ−１Ｈ−キノキサリン−２−オン。
・８−(５−ブロモロチオフェン−２−イルカルボニルオキシメチル）−７−（４−フルオロ−２−メトキシフェニル）−１，３，３−トリメチル−３，４−ジヒドロ−１Ｈ−キノキサリン−２−オン。
・７−（４−フルオロ−２−メトキシフェニル）−８−（２−メチル−５−ニトロフェノキシメチル）−１，３，３−トリメチル−３，４−ジヒドロ−１Ｈ−キノキサリン−２−オン。
・７−（５−クロロ−２−メトキシフェニル）−８−［２−（２−ヒドロキシエチル）フェノキシメチル］−１，３，３−トリメチル−３，４−ジヒドロ−１Ｈ−キノキサリン−２−オン。
・８−（５−クロロ−２−メチルフェノキシメチル）−７−（４−フルオロ−２−メトキシフェニル）−１，３，３−トリメチル−３，４−ジヒドロ−１Ｈ−キノキサリン−２−オン。
・７−（４−フルオロ−２−メトキシフェニル）−８−（２−メトキシ−５−ニトロフェノキシメチル）−１，３，３−トリメチル−３，４−ジヒドロ−１Ｈ−キノキサリン−２−オン。
・８−（２−アリルフェノキシメチル）−７−（４−フルオロ−２−メトキシフェニル）−１，３，３−トリメチル−３，４−ジヒドロ−１Ｈ−キノキサリン−２−オン。
・７−（４−フルオロ−２−メトキシフェニル）−８−（２−メトキシ−５−メチルフェニルアミノメチル）−１，３，３−トリメチル−３，４−ジヒドロ−１Ｈ−キノキサリン−２−オン。
・７−（５−クロロ−２−メトキシフェニル）−８−（５−フルオロ−２−メチルフェニルアミノメチル）−１，３，３−トリメチル−３，４−ジヒドロ−１Ｈ−キノキサリン−２−オン。
・７−（５−クロロ−２−メトキシフェニル）−８−（２−イソプロピルフェニルアミノメチル）−１，３，３−トリメチル−３，４−ジヒドロ−１Ｈ−キノキサリン−２−オン。
・７−（４−フルオロ−２−メトキシフェニル）−８−（２−メトキシフェニルアミノメチル）−１，３，３−トリメチル−３，４−ジヒドロ−１Ｈ−キノキサリン−２−オン。
・８−ベンゾイルオキシメチル−７−（５−フルオロ−２−メトキシフェニル）−１，３，３−トリメチル−３，４−ジヒドロ−１Ｈ−キノキサリン−２−オン。
・７−（５−フルオロ−２−メトキシフェニル）−８−フェノキシメチル−１，３，３−トリメチル−３，４−ジヒドロ−１Ｈ−キノキサリン−２−オン。
・７−（５−フルオロ−２−メトキシフェニル）−８−フェニルアミノメチル−１，３，３−トリメチル−３，４−ジヒドロ−１Ｈ−キノキサリン−２−オン。
・１−エチル−７−（５−フルオロ−２−メトキシフェニル）−８−（４−メチルベンゾイルオキシメチル）−３，３−ジメチル−３，４−ジヒドロ−１Ｈ−キノキサリン−２−オン。
・１−（プロペン−３−イル）−７−（５−フルオロ−２−メトキシフェニル）−８−（４−メチルベンゾイルオキシメチル）−３，３−ジメチル−３，４−ジヒドロ−１Ｈ−キノキサリン−２−オン。
・７−［２−メトキシ−４−（２−メチルベンゾイルオキシ）フェニル］−８−(４−メトキシベンゾイルオキシメチル）−１，３，３−トリメチル−３，４−ジヒドロ−１Ｈ−キノキサリン−２−オン。
・７−［２−メトキシ−４−（２−メチルベンゾイルオキシ）フェニル］−８−(２−メトキシ−５−ニトロフェノキシメチル）−１，３，３−トリメチル−３，４−ジヒドロ−１Ｈ−キノキサリン−２−オン。
・８−(３−フルオロベンゾイルオキシメチル）−７−［２−メトキシ−４−（２−メチルベンゾイルオキシ）フェニル］−１，３，３−トリメチル−３，４−ジヒドロ−１Ｈ−キノキサリン−２−オン。
・７−（２−クロロフェニル）−８−（５−フルオロ−２−メチルフェノキシメチル）−１，３，３−トリメチル−３，４−ジヒドロ−１Ｈ−キノキサリン−２−オン。
・８−（５−フルオロ−２−メチルフェノキシメチル）−７−（２−メトキシフェニル）−１，３，３−トリメチル−３，４−ジヒドロ−１Ｈ−キノキサリン−２−オン。
・８−（５−フルオロ−２−メチルフェノキシメチル）−７−（２−メチルチオフェニル）−１，３，３−トリメチル−３，４−ジヒドロ−１Ｈ−キノキサリン−２−オン。
・７−（４−フルオロ−２−メトキシフェニル）−８−（５−フルオロ−２−メチルフェノキシメチル）−１，３，３−トリメチル−３，４−ジヒドロ−１Ｈ−キノキサリン−２−オン。
・７−（５−クロロ−２−メトキシフェニル）−８−（５−フルオロ−２−メチルフェノキシメチル）−１，３，３−トリメチル−３，４−ジヒドロ−１Ｈ−キノキサリン−２−オン。
・８−（５−フルオロ−２−メチルフェノキシメチル）−７−（２−メトキシ−５−トリフルオロメチルフェニル）−１，３，３−トリメチル−３，４−ジヒドロ−１Ｈ−キノキサリン−２−オン。
・７−（６−フルオロ−２−メトキシフェニル）−８−（５−フルオロ−２−メチルフェノキシメチル）−１，３，３−トリメチル−３，４−ジヒドロ−１Ｈ−キノキサリン−２−オン。
・８−（５−フルオロ−２−メチルフェノキシメチル）−７−（２−メトキシ−５−ニトロフェニル）−１，３，３−トリメチル−３，４−ジヒドロ−１Ｈ−キノキサリン−２−オン。
・７−（５−ベンゾイルオキシ−２−メトキシフェニル）−８−（５−フルオロ−２−メチルフェノキシメチル）−１，３，３−トリメチル−３，４−ジヒドロ−１Ｈ−キノキサリン−２−オン。
・８−（２−メトキシフェニルアミノメチル）−７−（２−メトキシ−５−トリフルオロメチルフェニル）−１，３，３−トリメチル−３，４−ジヒドロ−１Ｈ−キノキサリン−２−オン。
・７−（４−アミノ−２−メトキシフェニル）−８−（５−フルオロ−２−メチルフェノキシメチル）−１，３，３−トリメチル−３，４−ジヒドロ−１Ｈ−キノキサリン−２−オン。
・８−（５−フルオロ−２−メチルフェノキシメチル）−７−（５−ヒドロキシメチル−２−メトキシフェニル）−１，３，３−トリメチル−３，４−ジヒドロ−１Ｈ−キノキサリン−２−オン。
・８−（５−フルオロ−２−メチルフェノキシメチル）−７−（４−ヒドロキシ−２−メトキシフェニル）−１，３，３−トリメチル−３，４−ジヒドロ−１Ｈ−キノキサリン−２−オン。
・７−（４−ヒドロキシ−２−メトキシフェニル）−８−(５−メチルチオフェン−２−イルカルボニルオキシメチル）−１，３，３−トリメチル−３，４−ジヒドロ−１Ｈ−キノキサリン−２−オン。
・８−（５−フルオロ−２−メチルフェノキシメチル）−７−［２−メトキシ−４−（２−メチルベンゾイルオキシ）フェニル］−１，３，３−トリメチル−３，４−ジヒドロ−１Ｈ−キノキサリン−２−オン。
・７−［４−（２−クロロベンゾイルオキシ）−２−メトキシフェニル］−８−（５−フルオロ−２−メチルフェノキシメチル）−１，３，３−トリメチル−３，４−ジヒドロ−１Ｈ−キノキサリン−２−オン。
・８−（５−フルオロ−２−メチルフェノキシメチル）−７−［４−（フラン−３−イルカルボニルオキシ）−２−メトキシフェニル］−１，３，３−トリメチル−３，４−ジヒドロ−１Ｈ−キノキサリン−２−オン。
・８−（５−フルオロ−２−メチルフェノキシメチル）−７−［２−メトキシ−４−（ピリジン−４−イルカルボニルアミノ）フェニル］−１，３，３−トリメチル−３，４−ジヒドロ−１Ｈ−キノキサリン−２−オン。
・７−［４−（２−クロロベンゾイルアミノ）−２−メトキシフェニル］−８−（５−フルオロ−２−メチルフェノキシメチル）−１，３，３−トリメチル−３，４−ジヒドロ−１Ｈ−キノキサリン−２−オン。
・８−（５−フルオロ−２−メチルフェノキシメチル）−７−［２−メトキシ−４−（４−メトキシベンゾイルオキシ）フェニル］−１，３，３−トリメチル−３，４−ジヒドロ−１Ｈ−キノキサリン−２−オン。
・７−（４−アクリロイルオキシ−２−メトキシフェニル）−８−（５−フルオロ−２−メチルフェノキシメチル）−１，３，３−トリメチル−３，４−ジヒドロ−１Ｈ−キノキサリン−２−オン。
・８−（５−フルオロ−２−メチルフェノキシメチル）−７−（２−メトキシ−４−メトキシカルボニルオキシフェニル）−１，３，３−トリメチル−３，４−ジヒドロ−１Ｈ−キノキサリン−２−オン。
・８−（５−フルオロ−２−メチルフェノキシメチル）−７−（２−メトキシ−４−フェノキシカルボニルオキシフェニル）−１，３，３−トリメチル−３，４−ジヒドロ−１Ｈ−キノキサリン−２−オン。
・８−（５−フルオロ−２−メチルフェノキシメチル）−７−（２−メトキシ−４−フェノキシカルボニルアミノフェニル）−１，３，３−トリメチル−３，４−ジヒドロ−１Ｈ−キノキサリン−２−オン。
・７−［４−（２−フルオロベンゾイルオキシ）−２−メトキシフェニル］−８−(５−メチルチオフェン−２−イルカルボニルオキシメチル）−１，３，３−トリメチル−３，４−ジヒドロ−１Ｈ−キノキサリン−２−オン。
・８−（５−フルオロ−２−メチルフェノキシメチル）−７−［２−メトキシ−４−（３−メトキシカルボニルベンゾイルオキシ）フェニル］−１，３，３−トリメチル−３，４−ジヒドロ−１Ｈ−キノキサリン−２−オン。
・８−（５−フルオロ−２−メチルフェノキシメチル）−７−［２−メトキシ−４−（２−メチルピリジン−３−イルカルボニルオキシ）フェニル］−１，３，３−トリメチル−３，４−ジヒドロ−１Ｈ−キノキサリン−２−オン。
・７−［４−（２−アセトキシベンゾイルオキシ）−２−メトキシフェニル］−８−（５−フルオロ−２−メチルフェノキシメチル）−１，３，３−トリメチル−３，４−ジヒドロ−１Ｈ−キノキサリン−２−オン。
・８−（５−フルオロ−２−メチルフェノキシメチル）−７−［２−メトキシ−４−（２−メチルチオベンゾイルオキシ）フェニル］−１，３，３−トリメチル−３，４−ジヒドロ−１Ｈ−キノキサリン−２−オン。
・８−（５−フルオロ−２−メチルフェノキシメチル）−７−［２−メトキシ−４−（６−メチルピリジン−３−イルカルボニルオキシ）フェニル］−１，３，３−トリメチル−３，４−ジヒドロ−１Ｈ−キノキサリン−２−オン。
・８−（５−フルオロ−２−メチルフェノキシメチル）−７−［２−メトキシ−４−（オキサゾール−４−イルカルボニルオキシ）フェニル］−１，３，３−トリメチル−３，４−ジヒドロ−１Ｈ−キノキサリン−２−オン。
・７−［４−（３−アセチルベンゾイルオキシ）−２−メトキシフェニル］−８−（５−フルオロ−２−メチルフェノキシメチル）−１，３，３−トリメチル−３，４−ジヒドロ−１Ｈ−キノキサリン−２−オン。
・７−［４−（３−クロロチオフェン−２−イルカルボニルオキシ）−２−メトキシフェニル］−８−（５−フルオロ−２−メチルフェノキシメチル）−１，３，３−トリメチル−３，４−ジヒドロ−１Ｈ−キノキサリン−２−オン。
・８−（５−フルオロ−２−メチルフェノキシメチル）−７−［２−メトキシ−４−（２−メトキシピリジン−３−イルカルボニルオキシ）フェニル］−１，３，３−トリメチル−３，４−ジヒドロ−１Ｈ−キノキサリン−２−オン。
・７−［２−メトキシ−４−（２−メチルチオベンゾイルオキシ）フェニル］−８−(５−メチルチオフェン−２−イルカルボニルオキシメチル）−１，３，３−トリメチル−３，４−ジヒドロ−１Ｈ−キノキサリン−２−オン。
・７−［４−（Ｎ−アセチル−Ｎ−メチルアミノ）−２−メトキシフェニル］−８−（５−フルオロ−２−メチルフェノキシメチル）−１，３，３−トリメチル−３，４−ジヒドロ−１Ｈ−キノキサリン−２−オン。
・８−（５−フルオロ−２−メチルフェノキシメチル）−７−［２−メトキシ−４−（ピリジン−３−イルアミノカルボニルオキシ）フェニル］−１，３，３−トリメチル−３，４−ジヒドロ−１Ｈ−キノキサリン−２−オン。
・７−（２−メトキシ−４−フェニルアミノカルボニルオキシフェニル）−８−(５−メチルチオフェン−２−イルカルボニルオキシメチル）−１，３，３−トリメチル−３，４−ジヒドロ−１Ｈ−キノキサリン−２−オン。
・８−（５−フルオロ−２−メチルフェノキシメチル）−７−［２−メトキシ−４−（モルホリン−４−イルカルボニルオキシ）フェニル］−１，３，３−トリメチル−３，４−ジヒドロ−１Ｈ−キノキサリン−２−オン。
・７−（４−ジメチルアミノカルボニルオキシ−２−メトキシフェニル）−８−（５−フルオロ−２−メチルフェノキシメチル）−１，３，３−トリメチル−３，４−ジヒドロ−１Ｈ−キノキサリン−２−オン。
・７−（４−ヒドロキシ−２−メトキシフェニル）−８−（２−メトキシフェニルアミノメチル）−１，３，３−トリメチル−３，４−ジヒドロ−１Ｈ−キノキサリン−２−オン。
・７−（４−ブチリルオキシ−２−メトキシフェニル）−８−（２−メトキシフェニルアミノメチル）−１，３，３−トリメチル−３，４−ジヒドロ−１Ｈ−キノキサリン−２−オン。
・７−［２−メトキシ−４−（２−メチルピリジン−３−イルカルボニルオキシ）フェニル］−８−（２−メトキシフェニルアミノメチル）−１，３，３−トリメチル−３，４−ジヒドロ−１Ｈ−キノキサリン−２−オン。
・８−（２−メトキシフェニルアミノメチル）−７−［２−メトキシ−４−（チアゾール−４−イルカルボニルオキシ）フェニル］−１，３，３−トリメチル−３，４−ジヒドロ−１Ｈ−キノキサリン−２−オン。
・８−［N−（５−フルオロ−２−メチルフェニル）−N−（９−フルオレニルメトキシカルボニル）アミノメチル］−７−（４−ヒドロキシ−２−メトキシフェニル）−１，３，３−トリメチル−３，４−ジヒドロ−１Ｈ−キノキサリン−２−オン。
・７−［２−メトキシ−４−（２−メチルベンゾイルオキシ）フェニル］−８−(２−メトキシ−５−ニトロフェノキシメチル）−３，３−ジメチル−３，４−ジヒドロ−１Ｈ−キノキサリン−２−オン。
・８−（５−フルオロ−２−メチルフェノキシメチル）−７−（２−メチルフェニル）−１，３，３−トリメチル−３，４−ジヒドロ−１Ｈ−キノキサリン−２−オン。
・７−（４−ベンゾイルオキシ−２−メトキシフェニル）−８−（５−フルオロ−２−メチルフェノキシメチル）−１，３，３−トリメチル−３，４−ジヒドロ−１Ｈ−キノキサリン−２−オン。
・７−（４−ベンゾイルオキシ−２−メトキシフェニル）−８−(５−メチルチオフェン−２−イルカルボニルオキシメチル）−１，３，３−トリメチル−３，４−ジヒドロ−１Ｈ−キノキサリン−２−オン。
・７−［４−（フラン−２−イルカルボニルオキシ）−２−メトキシフェニル］−８−(５−メチルチオフェン−２−イルカルボニルオキシメチル）−１，３，３−トリメチル−３，４−ジヒドロ−１Ｈ−キノキサリン−２−オン。
・７−［２−メトキシ−４−（２−メトキシベンゾイルオキシ）フェニル］−８−(５−メチルチオフェン−２−イルカルボニルオキシメチル）−１，３，３−トリメチル−３，４−ジヒドロ−１Ｈ−キノキサリン−２−オン。
・７−［２−メトキシ−４−（３−メトキシカルボニルベンゾイルオキシ）フェニル］−８−(５−メチルチオフェン−２−イルカルボニルオキシメチル）−１，３，３−トリメチル−３，４−ジヒドロ−１Ｈ−キノキサリン−２−オン。
・７−［２−メトキシ−４−（３−メチルフラン−２−イルカルボニルオキシ）フェニル］−８−(５−メチルチオフェン−２−イルカルボニルオキシメチル）−１，３，３−トリメチル−３，４−ジヒドロ−１Ｈ−キノキサリン−２−オン。
・７−［４−（３−ベンジルウレイド）−２−メトキシフェニル］−８−（５−フルオロ−２−メチルフェノキシメチル）−１，３，３−トリメチル−３，４−ジヒドロ−１Ｈ−キノキサリン−２−オン。
・８−（５−フルオロ−２−メチルフェノキシメチル）−７−［２−メトキシ−４−（３−フェニルウレイド）フェニル］−１，３，３−トリメチル−３，４−ジヒドロ−１Ｈ−キノキサリン−２−オン。
・８−（２−メトキシフェニルアミノメチル）−７−［２−メトキシ−４−（ピリジン−３−イルカルボニルオキシ）フェニル］−１，３，３−トリメチル−３，４−ジヒドロ−１Ｈ−キノキサリン−２−オン。
・７−［２−メトキシ−４−（２−メトキシベンゾイルオキシ）フェニル］−８−（２−メトキシフェニルアミノメチル）−１，３，３−トリメチル−３，４−ジヒドロ−１Ｈ−キノキサリン−２−オン。
・８−（２−メトキシフェニルアミノメチル）−７−［２−メトキシ−４−（チオフェン−３−イルカルボニルオキシ）フェニル］−１，３，３−トリメチル−３，４−ジヒドロ−１Ｈ−キノキサリン−２−オン。
・７−［２−メトキシ−４−（２−メチルベンゾイルオキシ）フェニル］−８−（２−メトキシフェニルアミノメチル）−１，３，３−トリメチル−３，４−ジヒドロ−１Ｈ−キノキサリン−２−オン。
本発明化合物は、以下の方法により製造することができる。尚、個々の具体的な製造方法については、後述の実施例中の製造例の項で詳細に説明する。また、これらの例示は本発明をよりよく理解するためのものであり、本発明の範囲を限定するものではない。尚、下記の合成経路中で示されているＨａｌはハロゲン原子、ＭＯＭはメトキシメチル、Ｆｍｏｃは９−フルオレニルメトキシカルボニルを示す。
本発明化合物（Ｉ）−（ａ）（一般式（１）においてＡがメチレン基、XがＯである化合物）は合成経路１に従い合成することができる。すなわち、本発明化合物（Ｉ）−（ｂ）（一般式（１）においてＡがメチレン基、XがＯ、Ｒ６がＨである化合物）と対応するハロゲン化物（ＩＩ）をＮ，Ｎ−ジメチルホルムアミド（以下、ＤＭＦとする）、テトラヒドロフラン（以下、ＴＨＦとする）、１，４−ジオキサン、ジクロロメタン等の有機溶媒中、炭酸セシウム、炭酸カリウム等の塩基存在下、０℃から５０℃で、１時間から２４時間反応させることにより、化合物（Ｉ）−（ａ）を得ることができる。
本発明化合物（Ｉ）−（ｂ）（一般式（１）においてＡがメチレン基、XがＯ、Ｒ６がＨ、Ｒ７がＯＲ８、ＮＲ８Ｒ９又はＳＲ８である化合物）は合成経路２に従い合成することができる。すなわち、化合物（ＩＩＩ）と対応するアルコール、カルボン酸、フェノール、アミン、チオール、チオフェノール等（ＩＶ）をＤＭＦ、ＴＨＦ、エタノール等の有機溶媒中、炭酸カリウム、水素化ナトリウム等の塩基存在下、０℃から１００℃で、１時間から４８時間反応させることにより、化合物（Ｉ）−（ｂ）を得ることができる。
本発明化合物（Ｉ）−（ｃ）（一般式（１）においてＡがメチレン基、XがＯ、Ｒ７がＯＲ８である化合物）は合成経路３に従い合成することができる。すなわち、化合物（Ｖ）と対応するハロゲン化物（ＶＩ）をＤＭＦ、ＴＨＦ、ジクロロメタン等の有機溶媒中、トリエチルアミン、炭酸カリウム等の塩基存在下、０℃から５０℃で、１時間から４８時間反応させることにより、化合物（Ｉ）−（ｃ）を得ることができる。
前記の化合物（ＩＩＩ）及び（Ｖ）は合成経路４に従い合成することができる。すなわち、化合物（ＶＩＩ）と対応するボロン酸又はそのエステル（ＶＩＩＩ）をＤＭＦ、１，４−ジオキサン、エタノール、トルエン、水等の溶媒中、炭酸セシウム、炭酸ナトリウム、炭酸水素ナトリウム、燐酸カリウム等の塩基と二塩化ビス（トリフェニルホスフィン）パラジウム（ＩＩ）やテトラキス(トリフェニルホスフィン)パラジウム(０)等の触媒存在下、５０℃から１２０℃で、１時間から４８時間反応させることにより、化合物（IX）が得られる。得られる化合物（IX）をジエチルエーテル、ＴＨＦ等の有機溶媒中、水素化リチウムアルミニウム等の還元剤存在下、−３０℃から室温で、１時間から２４時間処理することにより、化合物（Ｖ）を得ることができる。さらに、得られる化合物（Ｖ）を塩化メタンスルホニルでジクロロメタン、ＴＨＦ等の有機溶媒中、トリエチルアミン、ジイソプロピルエチルアミン（以下、ＤＩＥＡとする）等の塩基存在下、０℃から室温で、３０分間から１２時間処理することにより、化合物（ＩＩＩ）を得ることができる。
前記の化合物（ＶＩＩ）は合成経路５に従い合成することができる。すなわち、化合物（X）をメタノール、エタノール、ＤＭＦ等の有機溶媒中、塩化スズ（ＩＩ）、塩化鉄（ＩＩ）等の還元剤存在下、５０℃から１２０℃で、１時間から１２時間処理することにより、化合物（XI）が得られる。得られる化合物（XI）を塩化アセチル、無水酢酸等のアセチル化剤でジクロロメタン、ＴＨＦ等の有機溶媒中、トリエチルアミン、ＤＩＥＡ等の塩基存在下、０℃から５０℃で、１時間から１２時間処理することにより、化合物（XII）が得られる。得られる化合物（XII）を硝酸で水等の溶媒中、硫酸等の酸存在下、−２０℃から室温で、３０分間から１２時間処理することにより、化合物（XIII）を得ることができる。得られる化合物（XIII）をメタノール等の有機溶媒中、三フッ化ホウ素ジエチルエーテル錯体等の酸存在下、５０℃から還流下で、１時間から１２時間処理することにより、化合物（XIV）が得られる。得られる化合物（XIV）と対応するハロゲン化物（XV）を炭酸セシウム、炭酸カリウム等の塩基存在下、５０℃から１２０℃で、１時間から１２０時間反応させることにより、化合物（XVI）が得られる。得られる化合物（XVI）をメタノール、エタノール、ＤＭＦ等の有機溶媒中、塩化スズ（ＩＩ）、塩化鉄（ＩＩ）等の還元剤存在下、５０℃から１２０℃で、１時間から１２時間処理することにより、化合物（ＶＩＩ）を得ることができる。
また、本発明化合物（Ｉ）−（ａ）（一般式（１）においてＡがメチレン基、XがＯである化合物）は合成経路６に従い合成することもできる。すなわち、化合物（XVII）と対応するボロン酸又はそのエステル（ＶＩＩＩ）をＤＭＦ、１，４−ジオキサン、エタノール、トルエン、水等の溶媒中、炭酸セシウム、炭酸ナトリウム、炭酸水素ナトリウム、燐酸カリウム等の塩基と二塩化ビス（トリフェニルホスフィン）パラジウム（ＩＩ）やテトラキス(トリフェニルホスフィン)パラジウム(０)等の触媒存在下、５０℃から１２０℃で、１時間から４８時間反応させることにより、化合物（Ｉ）−（ａ）を得ることができる。
さらに、本発明化合物（Ｉ）−（ａ）（一般式（１）においてＡがメチレン基、XがＯである化合物）は合成経路７に従い合成することもできる。すなわち、化合物（XVIII）と対応するハロゲン化物（XIX）をＤＭＦ、１，４−ジオキサン、エタノール、トルエン、水等の溶媒中、炭酸セシウム、炭酸ナトリウム、炭酸水素ナトリウム、燐酸カリウム等の塩基と二塩化ビス（トリフェニルホスフィン）パラジウム（ＩＩ）やテトラキス(トリフェニルホスフィン)パラジウム(０)等の触媒存在下、５０℃から１２０℃で、１時間から４８時間反応させることにより、化合物（Ｉ）−（ａ）を得ることができる。
前記の化合物（XVII）及び（XVIII）は合成経路８に従い合成することができる。すなわち、化合物（ＶＩＩ）をジエチルエーテル、ＴＨＦ等の有機溶媒中、水素化リチウムアルミニウム等の還元剤存在下、０℃から５０℃で、１時間から２４時間処理することにより、化合物（XX）を得ることができる。得られる化合物（XX）と対応するハロゲン化物（ＩＩ）をＤＭＦ、ＴＨＦ、１，４−ジオキサン、ジクロロメタン等の有機溶媒中、炭酸セシウム、炭酸カリウム等の塩基存在下、０℃から５０℃で、１時間から２４時間反応させることにより、化合物（XXI）を得ることができる。さらに、得られる化合物（XXI）を塩化メタンスルホニルでジクロロメタン、ＴＨＦ等の有機溶媒中、トリエチルアミン、ＤIＥＡ等の塩基存在下、０℃から室温で、３０分間から１２時間処理することにより、化合物（XXII）を得ることができる。得られる化合物（XXII）と対応するアルコール、カルボン酸、フェノール、アミン、チオール、チオフェノール等（IＶ）をＤＭＦ、ＴＨＦ、エタノール等の有機溶媒中、炭酸カリウム、水素化ナトリウム等の塩基存在下、０℃から１００℃で、１時間から４８時間反応させることにより、化合物（XVII）を得ることができる。得られる化合物（XVII）と対応するジボロン（XXIII）やボラン（XXIV）などをジメチルスルホキシド、ＤＭＦ、１，４−ジオキサン等の溶媒中、酢酸カリウム、トリエチルアミン等の塩基と二塩化［１，１’−ビス（ジフェニルホスフィノ）フェロセン］パラジウム（II）や二塩化ビス（トリフェニルホスフィン）パラジウム（II）等の触媒存在下、５０℃から１２０℃で、１0分間から４８時間反応させることにより、化合物（XVIII）を得ることができる。
本発明化合物（I）−（ｄ）（一般式（１）においてＡがメチレン基、XがＯ、Ｒ１の１つがＯＲ１０、Ｒ１０が置換基を有してもよい低級アルキル基、置換基を有してもよい低級アルキルカルボニル基、置換基を有してもよいアリールカルボニル基、置換基を有してもよい複素環カルボニル基、置換基を有してもよい低級アルコキシカルボニル基、置換基を有してもよいアリールオキシカルボニル基などである化合物）は合成経路９に従い合成することができる。すなわち、本発明化合物（I）−（ｅ）（一般式（１）においてＡがメチレン基、XがＯ、Ｒ１の１つがＯＨである化合物）と対応するハロゲン化物（XXV）をＴＨＦ、ジクロロメタン、ＤＭＦ等の有機溶媒中、トリエチルアミン、ＤＩＥＡ、炭酸カリウム等の塩基存在下、０℃から１００℃で、１時間から２４時間反応させることにより、化合物（Ｉ）−（ｄ）を得ることができる。
本発明化合物（Ｉ）−（ｆ）（一般式（１）においてＡがメチレン基、XがＯ、Ｒ１の１つがＯＣＯＲ１１、Ｒ１１が置換基を有してもよい低級アルキル基、置換基を有してもよいアリール基、置換基を有してもよい複素環基などである化合物）は合成経路１０に従い合成することができる。すなわち、本発明化合物（Ｉ）−（ｅ）（一般式（１）においてＡがメチレン基、XがＯ、Ｒ１の１つがＯＨである化合物）と対応するカルボン酸（XXVI）をＤＭＦ、ジクロロメタン等の有機溶媒中、Ｎ，Ｎ’−ジシクロヘキシルカルボジイミド（以下、ＤＣＣとする）、Ｏ−（７−アザベンゾトリアゾール−１−イル）−Ｎ，Ｎ，Ｎ，Ｎ−テトラメチルウロニウムヘキサフルオロホスフェート（以下、ＨＡＴＵとする）等の縮合剤およびＤＩＥＡ等の塩基存在下、室温から５０℃で、１時間から３日間反応させることにより、化合物（Ｉ）−（ｆ）を得ることができる。
本発明化合物（Ｉ）−（ｇ）（一般式（１）においてＡがメチレン基、XがＯ、Ｒ１の１つがＯＣＯＮＲ１２Ｒ１３、Ｒ１２及びＲ１３が同一又は異なって置換基を有してもよい低級アルキル基、置換基を有してもよいアリール基などである化合物）は合成経路１１に従い合成することができる。すなわち、本発明化合物（Ｉ）−（ｅ）（一般式（１）においてＡがメチレン基、XがＯ、Ｒ１の１つがＯＨである化合物）と１，１’−カルボニルジイミダゾール（以下、ＣＤＩとする）をジクロロメタン、ＴＨＦ等の有機溶媒中、室温から５０℃で、３０分間から１２時間反応させた後、さらに対応するアミン（XXVII）と反応させることにより、化合物（Ｉ）−（ｇ）を得ることができる。
本発明化合物（Ｉ）−（ｅ）（一般式（１）においてＡがメチレン基、XがＯ、Ｒ１の１つがＯＨである化合物）は合成経路１２に従い合成することができる。すなわち、化合物（XVII）と対応するボロン酸又はそのエステル（XXVIII）をＤＭＦ、１，４−ジオキサン、エタノール、トルエン、水等の溶媒中、炭酸セシウム、炭酸ナトリウム、炭酸水素ナトリウム、燐酸カリウム等の塩基と二塩化ビス（トリフェニルホスフィン）パラジウム（ＩＩ）やテトラキス(トリフェニルホスフィン)パラジウム(０)等の触媒存在下、５０℃から１２０℃で、１時間から４８時間反応させることにより、本発明化合物（Ｉ）−（ｈ）を得ることができる。得られる化合物（Ｉ）−（ｈ）を１，４−ジオキサン、ジクロロメタン等の有機溶媒中、塩化水素、トリフルオロ酢酸等の酸存在下、０℃から５０℃で、１時間から２４時間処理することにより、化合物（Ｉ）−（ｅ）を得ることができる。
また、本発明化合物（Ｉ）−（ｅ）（一般式（１）においてＡがメチレン基、XがＯ、Ｒ１の１つがＯＨである化合物）は合成経路１３に従い合成することもできる。すなわち、化合物（VII）と対応するボロン酸又はそのエステル（XXVIII）をＤＭＦ、１，４−ジオキサン、エタノール、トルエン、水等の溶媒中、炭酸セシウム、炭酸ナトリウム、炭酸水素ナトリウム、燐酸カリウム等の塩基と二塩化ビス（トリフェニルホスフィン）パラジウム（ＩＩ）やテトラキス(トリフェニルホスフィン)パラジウム(０)等の触媒存在下、５０℃から１２０℃で、１時間から４８時間反応させることにより、化合物（XXIX）を得ることができる。得られる化合物（XXIX）をジエチルエーテル、ＴＨＦ等の有機溶媒中、水素化リチウムアルミニウム等の還元剤存在下、−３０℃から室温で、１時間から２４時間処理することにより、化合物（XXX）を得ることができる。さらに、得られる化合物（XXX）を塩化メタンスルホニルでジクロロメタン、ＴＨＦ等の有機溶媒中、トリエチルアミン、ＤＩＥＡ等の塩基存在下、０℃から室温で、３０分間から１２時間処理するることにより、化合物（XXXI）を得ることができる。得られる化合物（XXXI）と対応するアルコール、カルボン酸、フェノール、アミン、チオール、チオフェノール等（ＩＶ）をＤＭＦ、ＴＨＦ、エタノール等の有機溶媒中、炭酸カリウム、水素化ナトリウム等の塩基存在下、０℃から１００℃で、１時間から４８時間反応させることにより、本発明化合物（Ｉ）−（ｉ）を得ることができる。得られる化合物（Ｉ）−（ｉ）と対応するハロゲン化物（ＩＩ）をＤＭＦ、ＴＨＦ、１，４−ジオキサン、ジクロロメタン等の有機溶媒中、炭酸セシウム、炭酸カリウム等の塩基存在下、０℃から５０℃で、１時間から２４時間反応させることにより、本発明化合物（Ｉ）−（ｈ）を得ることができる。得られる化合物（Ｉ）−（ｈ）を１，４−ジオキサン、ジクロロメタン等の有機溶媒中、塩化水素、トリフルオロ酢酸等の酸存在下、０℃から５０℃で、１時間から２４時間処理することにより、化合物（Ｉ）−（ｅ）を得ることができる。
本発明化合物（Ｉ）−（ｊ）（一般式（１）においてＡがメチレン基、XがＯ、Ｒ１の１つがＯＲ１０、Ｒ７がＮＨＲ８、Ｒ１０が置換基を有してもよい低級アルキル基、置換基を有してもよい低級アルキルカルボニル基、置換基を有してもよいアリールカルボニル基、置換基を有してもよい複素環カルボニル基、置換基を有してもよい低級アルコキシカルボニル基、置換基を有してもよいアリールオキシカルボニル基などである化合物）、本発明化合物（Ｉ）−（ｋ）（一般式（１）においてＡがメチレン基、XがＯ、Ｒ１の１つがＯＣＯＲ１１、Ｒ７がＮＨＲ８、Ｒ１１が置換基を有してもよい低級アルキル基、置換基を有してもよいアリール基、置換基を有してもよい複素環基などである化合物）及び本発明化合物（Ｉ）−（ｌ）（一般式（１）においてＡがメチレン基、XがＯ、Ｒ１の１つがＯＣＯＮＲ１２Ｒ１３、Ｒ７がＮＨＲ８、Ｒ１２及びＲ１３が同一又は異なって置換基を有してもよい低級アルキル基、置換基を有してもよいアリール基などである化合物）は合成経路１４に従い合成することができる。すなわち、本発明化合物（Ｉ）−（ｍ）（一般式（１）においてＡがメチレン基、XがＯ、Ｒ１の１つがＯＨ、Ｒ７がＮＲ８（Ｆｍｏｃ）である化合物）と対応するハロゲン化物（XXV）、対応するカルボン酸（XXVI）、対応するアミン（XXVII）をそれぞれ合成経路９、１０、１１の方法に従い反応させた後、反応生成物をＤＭＦ、ジクロロメタン等の有機溶媒中、ピペリジン等の塩基存在下、０℃から５０℃で、５分間から２４時間処理することにより、化合物（Ｉ）−（ｊ）、化合物（Ｉ）−（ｋ）及び化合物（Ｉ）−（ｌ）を得ることができる。
本発明化合物（Ｉ）−（ｍ）（一般式（１）においてＡがメチレン基、XがＯ、Ｒ１の１つがＯＨ、Ｒ７がＮＲ８（Ｆｍｏｃ）である化合物）は合成経路１５に従い合成することができる。すなわち、化合物（XXII）と対応するアミン（XXXII）をＤＭＦ、ＴＨＦ、エタノール等の有機溶媒中、炭酸カリウム、水素化ナトリウム等の塩基存在下、０℃から１００℃で、１時間から４８時間反応させることにより、化合物（XXXIII）を得ることができる。得られる化合物（XXXIII）と対応するボロン酸又はそのエステル（XXVIII）をＤＭＦ、１，４−ジオキサン、エタノール、トルエン、水等の溶媒中、炭酸セシウム、炭酸ナトリウム、炭酸水素ナトリウム、燐酸カリウム等の塩基と二塩化ビス（トリフェニルホスフィン）パラジウム（ＩＩ）やテトラキス(トリフェニルホスフィン)パラジウム(０)等の触媒存在下、５０℃から１２０℃で、１時間から４８時間反応させることにより、本発明化合物（Ｉ）−（ｏ）を得ることができる。得られる化合物（Ｉ）−（ｏ）と塩化９−フルオレニルメトキシカルボニルを１，４−ジオキサン、水等の溶媒中、炭酸水素ナトリウム等の塩基存在下、０℃から５０℃で、１時間から２４時間反応させることにより、本発明化合物（Ｉ）−（ｎ）を得ることができる。得られる化合物（Ｉ）−（ｎ）を１，４−ジオキサン、ジクロロメタン等の有機溶媒中、塩化水素、トリフルオロ酢酸等の酸存在下、０℃から５０℃で、１時間から２４時間処理することにより化合物（Ｉ）−（ｍ）を得ることができる。
本発明化合物（Ｉ）−（ｐ）（一般式（１）においてＡがメチレン基、XがＯ、Ｒ１の１つがＯＲ１０、Ｒ７がＯＲ８、Ｒ１０が置換基を有してもよい低級アルキル基、置換基を有してもよい低級アルキルカルボニル基、置換基を有してもよいアリールカルボニル基、置換基を有してもよい複素環カルボニル基、置換基を有してもよい低級アルコキシカルボニル基、置換基を有してもよいアリールオキシカルボニル基などである化合物）は合成経路１６に従い合成することができる。すなわち、化合物（XXX）を１，４−ジオキサン、ジクロロメタン等の有機溶媒中、塩化水素、トリフルオロ酢酸等の酸存在下、０℃から５０℃で、１時間から２４時間処理することにより化合物（XXXIV）を得ることができる。得られる化合物（XXXIV）と対応するハロゲン化物（XXV）をＴＨＦ、ジクロロメタン、ＤＭＦ等の有機溶媒中、トリエチルアミン、ＤＩＥＡ、炭酸カリウム等の塩基存在下、０℃から１００℃で、１時間から２４時間反応させることにより、化合物（XXXV）を得ることができる。得られる化合物（XXXV）と対応するハロゲン化物（ＶＩ）をＤＭＦ、ＴＨＦ、ジクロロメタン等の有機溶媒中、トリエチルアミン、炭酸カリウム等の塩基存在下、０℃から５０℃で、１時間から４８時間反応させることにより、化合物（Ｉ）−（ｑ）を得ることができる。得られる化合物（Ｉ）−（ｑ）と対応するハロゲン化物（ＩＩ）をＤＭＦ、ＴＨＦ、１，４−ジオキサン、ジクロロメタン等の有機溶媒中、炭酸セシウム、炭酸カリウム等の塩基存在下、０℃から５０℃で、１時間から２４時間反応させることにより、化合物（Ｉ）−（ｐ）を得ることができる。
本発明化合物の医薬としての有用性を見出すために、グルココルチコイド受容体競合アッセイキットを使用し、偏光蛍光法によるグルココルチコイド受容体競合アッセイを実施した。その結果、本発明化合物は優れたグルココルチコイド受容体結合活性を示した。尚、前述したようにグルココルチコイド受容体は種々の疾患の発現に関係しており、グルココルチコイド受容体に優れた結合活性を有する本発明化合物はグルココルチコイド受容体モジュレーターとして有用であることが期待される。
また、この詳細については、後述の実施例「薬理試験の項」で詳細に説明する。
本発明化合物は経口でも、非経口でも投与することができる。投与剤型として、錠剤、カプセル剤、顆粒剤、散剤、注射剤、点眼剤等が挙げられ、それらは汎用される技術を使用して製剤化することができる。
例えば、錠剤、カプセル剤、顆粒剤、散剤等の経口剤は、乳糖、マンニトール、デンプン、結晶セルロース、軽質無水ケイ酸、炭酸カルシウム、リン酸水素カルシウム等の賦形剤、ステアリン酸、ステアリン酸マグネシウム、タルク等の滑沢剤、デンプン、ヒドロキシプロピルセルロース、ヒドロキシプロピルメチルセルロース、ポリビニルピロリドン等の結合剤、カルボキシメチルセルロース、低置換度ヒドロキシプロピルメチルセルロース、クエン酸カルシウム等の崩壊剤、ヒドロキシプロピルメチルセルロース、マクロゴール、シリコーン樹脂等のコーティング剤、パラオキシ安息香酸エチル、ベンジルアルコール等の安定化剤、甘味料、酸味料、香料等の矯味矯臭剤等を必要に応じて、必要量を使用し、調製することができる。
また、注射剤、点眼剤等の非経口剤は、塩化ナトリウム、濃グリセリン、プロピレングリコール、ポリエチレングリコール、塩化カリウム、ソルビトール、マンニトール等の等張化剤、リン酸ナトリウム、リン酸水素ナトリウム、酢酸ナトリウム、クエン酸，氷酢酸、トロメタモール等の緩衝化剤、ポリソルベート８０、ステアリン酸ポリオキシ４０、ポリオキシエチレン硬化ヒマシ油６０等の界面活性剤、クエン酸ナトリウム、エデト酸ナトリウム等の安定化剤、塩化ベンザルコニウム、パラベン、塩化ベンゾトニウム、パラオキシ安息香酸エステル、安息香酸ナトリウム、クロロブタノール等の防腐剤、塩酸、クエン酸、リン酸、氷酢酸、水酸化ナトリウム、炭酸ナトリウム、炭酸水素ナトリウム等のｐＨ調整剤、ベンジルアルコール等の無痛化剤等を必要に応じて、必要量を使用し、調製することができる。
本発明化合物の投与量は、症状、年齢、剤型等により適宜選択して使用することができる。例えば、経口剤では通常１日当たり０．０１〜１０００ｍｇ、好ましくは１〜１００ｍｇを１回又は数回に分けて投与することができる。また、点眼剤は通常０．０００１％〜１０％（ｗ／ｖ）、好ましくは０．０１％〜５％（ｗ／ｖ）の濃度のものを１回又は数回に分けて投与することができる。
以下に本発明化合物の製造例、製剤例及び薬理試験の結果を示す。尚、これらの例示は本発明をよりよく理解するためのものであり、本発明の範囲を限定するものではない。
また、製造例における化学構造式中のＦｍｏｃは９−フルオレニルメトキシカルボニル基を示す。
［製造例］
参考例１
７−ブロモ−８−メトキシカルボニル−３，３−ジメチル−３，４−ジヒドロ−１Ｈ−キノキサリン−２−オン（参考化合物１）
５−アミノ−２−ブロモ安息香酸メチル（参考化合物１−（１））
２−ブロモ−５−ニトロ安息香酸メチル（２５．３ｇ、９７．３ｍｍｏl）を無水メタノール（５００ｍL）に溶解し、塩化スズ（ＩＩ）（９３．３ｇ、４８７ｍｍｏl）を加え、２時間加熱還流した。反応液を放冷し、酢酸エチル（５００ｍL）及び水（１００ｍL）を加え、４規定水酸化ナトリウム水溶液で中和し、セライトろ過した。ろ液を減圧下濃縮し、酢酸エチル（２００ｍL）を加え、飽和炭酸水素ナトリウム水溶液（２００ｍL、２回）、水（２００ｍL）及び飽和食塩水（２００ｍL）で順次洗浄した。無水硫酸マグネシウムで乾燥後、減圧下溶媒を留去することにより標記参考化合物（２１．０ｇ）を黄色油状物として得た。（収率９４％）
参考例１
７−ブロモ−８−メトキシカルボニル−３，３−ジメチル−３，４−ジヒドロ−１Ｈ−キノキサリン−２−オン（参考化合物１）
５−アミノ−２−ブロモ安息香酸メチル（参考化合物１−（１））
２−ブロモ−５−ニトロ安息香酸メチル（２５．３ｇ、９７．３ｍｍｏl）を無水メタノール（５００ｍL）に溶解し、塩化スズ（ＩＩ）（９３．３ｇ、４８７ｍｍｏl）を加え、２時間加熱還流した。反応液を放冷し、酢酸エチル（５００ｍL）及び水（１００ｍL）を加え、４規定水酸化ナトリウム水溶液で中和し、セライトろ過した。ろ液を減圧下濃縮し、酢酸エチル（２００ｍL）を加え、飽和炭酸水素ナトリウム水溶液（２００ｍL、２回）、水（２００ｍL）及び飽和食塩水（２００ｍL）で順次洗浄した。無水硫酸マグネシウムで乾燥後、減圧下溶媒を留去することにより標記参考化合物（２１．０ｇ）を黄色油状物として得た。（収率９４％）
５−アセチルアミノ−２−ブロモ安息香酸メチル（参考化合物１−（２））
５−アミノ−２−ブロモ安息香酸メチル（参考化合物１−（１）、２１．０ｇ、９１．２ｍｍｏl）を無水ジクロロメタン（４５０ｍL）に溶解し、氷冷下、トリエチルアミン（１９．０ｍL、１３７ｍｍｏl）及び塩化アセチル（１３．０ｍL、１８２ｍｍｏl）を３０分かけて、その順で滴下後、０℃で２時間撹拌した。反応液を水（２００ｍL、２回）、飽和炭酸水素ナトリウム水溶液（２００ｍL、２回）及び飽和食塩水（２００ｍL）で順次洗浄し、無水硫酸マグネシウムで乾燥後、減圧下溶媒を留去した。得られた残留物をヘキサン−酢酸エチル（２０：１）で濾取することにより標記参考化合物（２４．２ｇ）を淡黄色固体として得た。（収率９８％）
５−アミノ−２−ブロモ安息香酸メチル（参考化合物１−（１）、２１．０ｇ、９１．２ｍｍｏl）を無水ジクロロメタン（４５０ｍL）に溶解し、氷冷下、トリエチルアミン（１９．０ｍL、１３７ｍｍｏl）及び塩化アセチル（１３．０ｍL、１８２ｍｍｏl）を３０分かけて、その順で滴下後、０℃で２時間撹拌した。反応液を水（２００ｍL、２回）、飽和炭酸水素ナトリウム水溶液（２００ｍL、２回）及び飽和食塩水（２００ｍL）で順次洗浄し、無水硫酸マグネシウムで乾燥後、減圧下溶媒を留去した。得られた残留物をヘキサン−酢酸エチル（２０：１）で濾取することにより標記参考化合物（２４．２ｇ）を淡黄色固体として得た。（収率９８％）
３−アセチルアミノ−６−ブロモ−２−ニトロ安息香酸メチル（参考化合物１−（３））
０℃で濃硫酸（１５０ｍL）に、５−アセチルアミノ−２−ブロモ安息香酸メチル（参考化合物１−（２）、１８．５ｇ、６８．１ｍｍｏｌ）を少しずつ加えた後、濃硝酸（１５０ｍL）を1時間かけて滴下した。３０分間撹拌した後、反応液を氷水（１L）に加えて、酢酸エチル（５００ｍL、２回）で抽出した。有機層を水（１L、２回）、飽和炭酸水素ナトリウム水溶液（１L）及び飽和食塩水（１L）で順次洗浄し、無水硫酸マグネシウムで乾燥後、減圧下溶媒を留去した。得られた残留物をシリカゲルカラムクロマトグラフィー（ヘキサン−酢酸エチル）にて精製することにより標記参考化合物（１３．４ｇ）を黄色固体として得た。(収率６２％)
０℃で濃硫酸（１５０ｍL）に、５−アセチルアミノ−２−ブロモ安息香酸メチル（参考化合物１−（２）、１８．５ｇ、６８．１ｍｍｏｌ）を少しずつ加えた後、濃硝酸（１５０ｍL）を1時間かけて滴下した。３０分間撹拌した後、反応液を氷水（１L）に加えて、酢酸エチル（５００ｍL、２回）で抽出した。有機層を水（１L、２回）、飽和炭酸水素ナトリウム水溶液（１L）及び飽和食塩水（１L）で順次洗浄し、無水硫酸マグネシウムで乾燥後、減圧下溶媒を留去した。得られた残留物をシリカゲルカラムクロマトグラフィー（ヘキサン−酢酸エチル）にて精製することにより標記参考化合物（１３．４ｇ）を黄色固体として得た。(収率６２％)
３−アミノ−６−ブロモ−２−ニトロ安息香酸メチル（参考化合物１−（４））
３−アセチルアミノ−６−ブロモ−２−ニトロ安息香酸メチル（参考化合物１−（３）、１３．４ｇ、４２．２ｍｍｏｌ）をメタノール（２４０ｍL）に溶解し、三フッ化ホウ素ジエチルエーテル錯体（２４．０ｍL、１９０ｍｍｏｌ）を加え、２．５時間加熱還流した。炭酸水素ナトリウム（４８ｇ）で反応液を中和した後、反応液を減圧下濃縮した。反応液に酢酸エチル（５００ｍL）及び水（７００ｍL）を加えて分配した後、酢酸エチル層を水（７００ｍL）及び飽和食塩水（７００ｍL）で順次洗浄し、無水硫酸マグネシウムで乾燥後、減圧下溶媒を留去することにより標記参考化合物（１１．６ｇ）を橙色固体として得た。（収率１００％）
３−アセチルアミノ−６−ブロモ−２−ニトロ安息香酸メチル（参考化合物１−（３）、１３．４ｇ、４２．２ｍｍｏｌ）をメタノール（２４０ｍL）に溶解し、三フッ化ホウ素ジエチルエーテル錯体（２４．０ｍL、１９０ｍｍｏｌ）を加え、２．５時間加熱還流した。炭酸水素ナトリウム（４８ｇ）で反応液を中和した後、反応液を減圧下濃縮した。反応液に酢酸エチル（５００ｍL）及び水（７００ｍL）を加えて分配した後、酢酸エチル層を水（７００ｍL）及び飽和食塩水（７００ｍL）で順次洗浄し、無水硫酸マグネシウムで乾燥後、減圧下溶媒を留去することにより標記参考化合物（１１．６ｇ）を橙色固体として得た。（収率１００％）
６−ブロモ−３−[（２−エトキシカルボニル）プロパン−２−イル]アミノ−２−ニトロ安息香酸メチル（参考化合物１−（５））
３−アミノ−６−ブロモ−２−ニトロ安息香酸メチル（参考化合物１−（４）、１１．６ｇ、４２．０ｍｍｏl）、２−ブロモイソ酪酸エチル（６０．４ｍL、４１２ｍｍｏl）、よう化カリウム（７．７６ｇ、４６．２ｍｍｏl）及び炭酸セシウム（５６．１ｇ、１７２ｍｍｏl）の混合物を、８５℃で４日間攪拌した。放冷後、反応液に酢酸エチル（５００ｍL）及び水（５００ｍL）を加えて分配し、水層を酢酸エチル（３００ｍL）で抽出した。有機層を合わせて、水（１L、２回）及び飽和食塩水（１L）で順次洗浄し、無水硫酸マグネシウムで乾燥後、減圧下溶媒を留去した。得られた残留物をシリカゲルカラムクロマトグラフィー（ヘキサン−酢酸エチル）で精製することにより標記参考化合物（５．０８ｇ）を橙色油状物として得た。（収率３１％）
３−アミノ−６−ブロモ−２−ニトロ安息香酸メチル（参考化合物１−（４）、１１．６ｇ、４２．０ｍｍｏl）、２−ブロモイソ酪酸エチル（６０．４ｍL、４１２ｍｍｏl）、よう化カリウム（７．７６ｇ、４６．２ｍｍｏl）及び炭酸セシウム（５６．１ｇ、１７２ｍｍｏl）の混合物を、８５℃で４日間攪拌した。放冷後、反応液に酢酸エチル（５００ｍL）及び水（５００ｍL）を加えて分配し、水層を酢酸エチル（３００ｍL）で抽出した。有機層を合わせて、水（１L、２回）及び飽和食塩水（１L）で順次洗浄し、無水硫酸マグネシウムで乾燥後、減圧下溶媒を留去した。得られた残留物をシリカゲルカラムクロマトグラフィー（ヘキサン−酢酸エチル）で精製することにより標記参考化合物（５．０８ｇ）を橙色油状物として得た。（収率３１％）
７−ブロモ−８−メトキシカルボニル−３，３−ジメチル−３，４−ジヒドロ−１Ｈ−キノキサリン−２−オン（参考化合物１）
６−ブロモ−３−[（２−エトキシカルボニル）プロパン−２−イル]アミノ−２−ニトロ安息香酸メチル(参考化合物１−（５）、１０５ｍｇ、０．２６ｍｍｏl）を無水エタノール（４．５ｍL）に溶解し、塩化スズ（ＩＩ）（２４７ｍｇ、１．３０ｍｍｏl）を加え、５時間加熱還流した。放冷後、反応液に酢酸エチル（２５ｍL）を加え、飽和炭酸水素ナトリウム水溶液で中和し、セライトろ過した。ろ液を分配した後、水層を酢酸エチル（１０ｍL、２回）で抽出し、合わせた有機層を水（５０ｍL、２回）、飽和食塩水（５０ｍL）で順次洗浄し、無水硫酸マグネシウムで乾燥後、減圧下溶媒を留去した。得られた残留物をシリカゲルカラムクロマトグラフィー（ヘキサン−酢酸エチル）で精製することにより標記参考化合物（５６．３ｍｇ）を淡黄色固体として得た。（収率７０％）
６−ブロモ−３−[（２−エトキシカルボニル）プロパン−２−イル]アミノ−２−ニトロ安息香酸メチル(参考化合物１−（５）、１０５ｍｇ、０．２６ｍｍｏl）を無水エタノール（４．５ｍL）に溶解し、塩化スズ（ＩＩ）（２４７ｍｇ、１．３０ｍｍｏl）を加え、５時間加熱還流した。放冷後、反応液に酢酸エチル（２５ｍL）を加え、飽和炭酸水素ナトリウム水溶液で中和し、セライトろ過した。ろ液を分配した後、水層を酢酸エチル（１０ｍL、２回）で抽出し、合わせた有機層を水（５０ｍL、２回）、飽和食塩水（５０ｍL）で順次洗浄し、無水硫酸マグネシウムで乾燥後、減圧下溶媒を留去した。得られた残留物をシリカゲルカラムクロマトグラフィー（ヘキサン−酢酸エチル）で精製することにより標記参考化合物（５６．３ｍｇ）を淡黄色固体として得た。（収率７０％）
参考例２
８−メトキシカルボニル−７−（２−メトキシフェニル）−３，３−ジメチル−３，４−ジヒドロ−１Ｈ−キノキサリン−２−オン（参考化合物２−１）
７−ブロモ−８−メトキシカルボニル−３，３−ジメチル−３，４−ジヒドロ−１Ｈ−キノキサリン−２−オン（参考化合物１、２０３ｍｇ、０．６４ｍｍｏl）、２−メトキシフェニルボロン酸（１９６ｍｇ、１．２８ｍｍｏl）、炭酸セシウム（６２９ｍｇ、１．９２ｍｍｏl）及び二塩化ビス（トリフェニルホスフィン）パラジウム（ＩＩ）（４５．８ｍｇ、０．０６ｍｍｏl）の混合物を無水Ｎ，Ｎ−ジメチルホルムアミド（３ｍL）に懸濁し、８０℃で２時間攪拌した。放冷後、酢酸エチル（３０ｍL）及び水（３０ｍL）を加えて分配した。有機層を水（３０ｍL）及び飽和食塩水（３０ｍL）で順次洗浄し、無水硫酸マグネシウムで乾燥後、減圧下溶媒を留去した。得られた残留物をシリカゲルカラムクロマトグラフィー（ヘキサン−酢酸エチル）で精製することにより標記参考化合物（１１６ｍｇ）を淡黄色アモルファスとして得た。（収率５３％）
８−メトキシカルボニル−７−（２−メトキシフェニル）−３，３−ジメチル−３，４−ジヒドロ−１Ｈ−キノキサリン−２−オン（参考化合物２−１）
７−ブロモ−８−メトキシカルボニル−３，３−ジメチル−３，４−ジヒドロ−１Ｈ−キノキサリン−２−オン（参考化合物１、２０３ｍｇ、０．６４ｍｍｏl）、２−メトキシフェニルボロン酸（１９６ｍｇ、１．２８ｍｍｏl）、炭酸セシウム（６２９ｍｇ、１．９２ｍｍｏl）及び二塩化ビス（トリフェニルホスフィン）パラジウム（ＩＩ）（４５．８ｍｇ、０．０６ｍｍｏl）の混合物を無水Ｎ，Ｎ−ジメチルホルムアミド（３ｍL）に懸濁し、８０℃で２時間攪拌した。放冷後、酢酸エチル（３０ｍL）及び水（３０ｍL）を加えて分配した。有機層を水（３０ｍL）及び飽和食塩水（３０ｍL）で順次洗浄し、無水硫酸マグネシウムで乾燥後、減圧下溶媒を留去した。得られた残留物をシリカゲルカラムクロマトグラフィー（ヘキサン−酢酸エチル）で精製することにより標記参考化合物（１１６ｍｇ）を淡黄色アモルファスとして得た。（収率５３％）
以下、参考化合物１、１８−３、１８−５及び市販化合物から選択される化合物を使用し、参考化合物２−１の製造方法に準じて、参考化合物２−２〜２−５を得た。
参考例３
８−ヒドロキシメチル−７−（２−メトキシフェニル）−３，３−ジメチル−３，４−ジヒドロ−１Ｈ−キノキサリン−２−オン（参考化合物３−１）
窒素雰囲気下、水素化リチウムアルミニウム（２６．０ｍｇ、０．６４ｍｍｏl）を無水テトラヒドロフラン（０．５ｍL）に懸濁した。０℃で、８−メトキシカルボニル−７−（２−メトキシフェニル）−３，３−ジメチル−３，４−ジヒドロ−１Ｈ−キノキサリン−２−オン（参考化合物２−１、１０８ｍｇ、０．３２ｍｍｏl）の無水テトラヒドロフラン（１．５ｍL）溶液を滴下し、同温で３時間攪拌した。反応液に酢酸エチル（３ｍL）及び水（３ｍL）を順次滴下した後、酢酸エチル（３０ｍL）、水（３０ｍL）及び１規定塩酸（５ｍL）を加えて分配した。水層を酢酸エチル（２０ｍL）で抽出した後、有機層を合わせた。有機層を水（５０ｍL、２回）及び飽和食塩水（５０ｍL）で順次洗浄し、無水硫酸マグネシウムで乾燥後、減圧下溶媒を留去した。得られた残留物をシリカゲルカラムクロマトグラフィー（ヘキサン−酢酸エチル）で精製することにより標記参考化合物（６１．０ｍｇ）を淡黄色アモルファスとして得た。（収率６１％）
８−ヒドロキシメチル−７−（２−メトキシフェニル）−３，３−ジメチル−３，４−ジヒドロ−１Ｈ−キノキサリン−２−オン（参考化合物３−１）
窒素雰囲気下、水素化リチウムアルミニウム（２６．０ｍｇ、０．６４ｍｍｏl）を無水テトラヒドロフラン（０．５ｍL）に懸濁した。０℃で、８−メトキシカルボニル−７−（２−メトキシフェニル）−３，３−ジメチル−３，４−ジヒドロ−１Ｈ−キノキサリン−２−オン（参考化合物２−１、１０８ｍｇ、０．３２ｍｍｏl）の無水テトラヒドロフラン（１．５ｍL）溶液を滴下し、同温で３時間攪拌した。反応液に酢酸エチル（３ｍL）及び水（３ｍL）を順次滴下した後、酢酸エチル（３０ｍL）、水（３０ｍL）及び１規定塩酸（５ｍL）を加えて分配した。水層を酢酸エチル（２０ｍL）で抽出した後、有機層を合わせた。有機層を水（５０ｍL、２回）及び飽和食塩水（５０ｍL）で順次洗浄し、無水硫酸マグネシウムで乾燥後、減圧下溶媒を留去した。得られた残留物をシリカゲルカラムクロマトグラフィー（ヘキサン−酢酸エチル）で精製することにより標記参考化合物（６１．０ｍｇ）を淡黄色アモルファスとして得た。（収率６１％）
以下、参考化合物２−２〜２−５から選択される化合物を使用し、参考化合物３−１の製造方法に準じて、参考化合物３−２〜３−５を得た。
参考例４
８−クロロメチル−７−（４−フルオロ−２−メトキシフェニル）−３，３−ジメチル−３，４−ジヒドロ−１Ｈ−キノキサリン−２−オン（参考化合物４−１）
７−（４−フルオロ−２−メトキシフェニル）−８−ヒドロキシメチル−３，３−ジメチル−３，４−ジヒドロ−１Ｈ−キノキサリン−２−オン（参考化合物３−２、７０．０ｍｇ、０．２１ｍｍｏL）を無水ジクロロメタン（１ｍL）及び無水テトラヒドロフラン（１．５ｍL）の混合溶媒に溶解し、トリエチルアミン（３５μL、０．２５ｍｍｏL）及び塩化メタンスルホニル（１８μL、０，２３ｍｍｏL）を順次加えた。反応液を室温で一晩攪拌した。反応液に酢酸エチル（３０ｍL）及び水（３０ｍL）加えて分配した。有機層を水（３０ｍL）及び飽和食塩水（３０ｍL）で順次洗浄し、無水硫酸マグネシウムで乾燥後、減圧下溶媒を留去した。得られた残留物をシリカゲルカラムクロマトグラフィー（ヘキサン−酢酸エチル）で精製することにより標記参考化合物（４９．５ｍｇ）を淡黄色固体として得た。（収率６８％）
８−クロロメチル−７−（４−フルオロ−２−メトキシフェニル）−３，３−ジメチル−３，４−ジヒドロ−１Ｈ−キノキサリン−２−オン（参考化合物４−１）
７−（４−フルオロ−２−メトキシフェニル）−８−ヒドロキシメチル−３，３−ジメチル−３，４−ジヒドロ−１Ｈ−キノキサリン−２−オン（参考化合物３−２、７０．０ｍｇ、０．２１ｍｍｏL）を無水ジクロロメタン（１ｍL）及び無水テトラヒドロフラン（１．５ｍL）の混合溶媒に溶解し、トリエチルアミン（３５μL、０．２５ｍｍｏL）及び塩化メタンスルホニル（１８μL、０，２３ｍｍｏL）を順次加えた。反応液を室温で一晩攪拌した。反応液に酢酸エチル（３０ｍL）及び水（３０ｍL）加えて分配した。有機層を水（３０ｍL）及び飽和食塩水（３０ｍL）で順次洗浄し、無水硫酸マグネシウムで乾燥後、減圧下溶媒を留去した。得られた残留物をシリカゲルカラムクロマトグラフィー（ヘキサン−酢酸エチル）で精製することにより標記参考化合物（４９．５ｍｇ）を淡黄色固体として得た。（収率６８％）
以下、参考化合物３−３及び３−４から選択される化合物を使用し、参考化合物４−１の製造方法に準じて、参考化合物４−２及び４−３を得た。
参考例５
７−ブロモ−８−ヒドロキシメチル−３，３−ジメチル−３，４−ジヒドロ−１Ｈ−キノキサリン−２−オン（参考化合物５）
窒素雰囲気下、水素化リチウムアルミニウム（３８．５ｍｇ、１．０１ｍｍｏl）を無水テトラヒドロフラン（０．５ｍL）に懸濁した。０℃で、７−ブロモ−８−メトキシカルボニル−３，３−ジメチル−３，４−ジヒドロ−１Ｈ−キノキサリン−２−オン（参考化合物１、１０１ｍｇ、０．３２３ｍｍｏl）の無水テトラヒドロフラン（１．５ｍL）溶液を滴下し、同温で１時間攪拌した。反応液に酢酸エチル（１０ｍL）、水（１０ｍL）及び１規定塩酸（２ｍＬ）を順次加えて分配した。有機層を飽和食塩水（１０ｍL）で洗浄し、無水硫酸マグネシウムで乾燥後、減圧下溶媒を留去した。得られた残留物をシリカゲルカラムクロマトグラフィー（ヘキサン−酢酸エチル）で精製することにより標記参考化合物（６７．４ｍｇ）を橙色アモルファスとして得た。（収率７４％）
７−ブロモ−８−ヒドロキシメチル−３，３−ジメチル−３，４−ジヒドロ−１Ｈ−キノキサリン−２−オン（参考化合物５）
窒素雰囲気下、水素化リチウムアルミニウム（３８．５ｍｇ、１．０１ｍｍｏl）を無水テトラヒドロフラン（０．５ｍL）に懸濁した。０℃で、７−ブロモ−８−メトキシカルボニル−３，３−ジメチル−３，４−ジヒドロ−１Ｈ−キノキサリン−２−オン（参考化合物１、１０１ｍｇ、０．３２３ｍｍｏl）の無水テトラヒドロフラン（１．５ｍL）溶液を滴下し、同温で１時間攪拌した。反応液に酢酸エチル（１０ｍL）、水（１０ｍL）及び１規定塩酸（２ｍＬ）を順次加えて分配した。有機層を飽和食塩水（１０ｍL）で洗浄し、無水硫酸マグネシウムで乾燥後、減圧下溶媒を留去した。得られた残留物をシリカゲルカラムクロマトグラフィー（ヘキサン−酢酸エチル）で精製することにより標記参考化合物（６７．４ｍｇ）を橙色アモルファスとして得た。（収率７４％）
参考例６
７−ブロモ−８−ヒドロキシメチル−１，３，３−トリメチル−３，４−ジヒドロ−１Ｈ−キノキサリン−２−オン（参考化合物６）
７−ブロモ−８−ヒドロキシメチル−３，３−ジメチル−３，４−ジヒドロ−１Ｈ−キノキサリン−２−オン（参考化合物５、６２．７ｍｇ、０．２２０ｍｍｏｌ）、よう化メチル（６８．６μL、１．１０ｍｍｏｌ）及び炭酸セシウム（１８０ｍｇ、０．５５２ｍｍｏｌ）の混合物を無水Ｎ，Ｎ−ジメチルホルムアミド（１ｍL）に懸濁し、室温で２．５時間攪拌した。反応液に酢酸エチル（１０ｍL）及び水（１０ｍL）を加えて分配した。有機層を飽和食塩水（１０ｍL）で洗浄し、無水硫酸マグネシウムで乾燥後、減圧下溶媒を留去した。得られた残留物をシリカゲルカラムクロマトグラフィー（ヘキサン−酢酸エチル）で精製することにより標記参考化合物（４５．５ｍｇ）を橙色アモルファスとして得た。（収率６９％）
７−ブロモ−８−ヒドロキシメチル−１，３，３−トリメチル−３，４−ジヒドロ−１Ｈ−キノキサリン−２−オン（参考化合物６）
７−ブロモ−８−ヒドロキシメチル−３，３−ジメチル−３，４−ジヒドロ−１Ｈ−キノキサリン−２−オン（参考化合物５、６２．７ｍｇ、０．２２０ｍｍｏｌ）、よう化メチル（６８．６μL、１．１０ｍｍｏｌ）及び炭酸セシウム（１８０ｍｇ、０．５５２ｍｍｏｌ）の混合物を無水Ｎ，Ｎ−ジメチルホルムアミド（１ｍL）に懸濁し、室温で２．５時間攪拌した。反応液に酢酸エチル（１０ｍL）及び水（１０ｍL）を加えて分配した。有機層を飽和食塩水（１０ｍL）で洗浄し、無水硫酸マグネシウムで乾燥後、減圧下溶媒を留去した。得られた残留物をシリカゲルカラムクロマトグラフィー（ヘキサン−酢酸エチル）で精製することにより標記参考化合物（４５．５ｍｇ）を橙色アモルファスとして得た。（収率６９％）
参考例７
７−ブロモ−８−クロロメチル−１，３，３−トリメチル−３，４−ジヒドロ−１Ｈ−キノキサリン−２−オン（参考化合物７）
７−ブロモ−８−ヒドロキシメチル−１，３，３−トリメチル−３，４−ジヒドロ−１Ｈ−キノキサリン−２−オン（参考化合物６、３７．５ｍｇ、０．１２５ｍｍｏｌ）を無水ジクロロメタン（１ｍＬ）に溶解し、トリエチルアミン（２０．９μL、０．１５０ｍｍｏｌ）及び塩化メタンスルホニル（１０．７μL、０．１３８ｍｍｏｌ）を順次加えた。反応液を室温で一晩攪拌した。反応液に酢酸エチル（１０ｍL）及び水（１０ｍL）を加えて分配した。有機層を飽和食塩水（１０ｍL）で洗浄し、無水硫酸マグネシウムで乾燥後、減圧下溶媒を留去した。得られた残留物をシリカゲルカラムクロマトグラフィー（ヘキサン−酢酸エチル）で精製することにより標記参考化合物（２８．７ｍｇ）を橙色アモルファスとして得た。（収率７２％）
７−ブロモ−８−クロロメチル−１，３，３−トリメチル−３，４−ジヒドロ−１Ｈ−キノキサリン−２−オン（参考化合物７）
７−ブロモ−８−ヒドロキシメチル−１，３，３−トリメチル−３，４−ジヒドロ−１Ｈ−キノキサリン−２−オン（参考化合物６、３７．５ｍｇ、０．１２５ｍｍｏｌ）を無水ジクロロメタン（１ｍＬ）に溶解し、トリエチルアミン（２０．９μL、０．１５０ｍｍｏｌ）及び塩化メタンスルホニル（１０．７μL、０．１３８ｍｍｏｌ）を順次加えた。反応液を室温で一晩攪拌した。反応液に酢酸エチル（１０ｍL）及び水（１０ｍL）を加えて分配した。有機層を飽和食塩水（１０ｍL）で洗浄し、無水硫酸マグネシウムで乾燥後、減圧下溶媒を留去した。得られた残留物をシリカゲルカラムクロマトグラフィー（ヘキサン−酢酸エチル）で精製することにより標記参考化合物（２８．７ｍｇ）を橙色アモルファスとして得た。（収率７２％）
参考例８
７−ブロモ−８−（５−フルオロ−２−メチルフェノキシメチル）−１，３，３−トリメチル−３，４−ジヒドロ−１Ｈ−キノキサリン−２−オン（参考化合物８−１）
７−ブロモ−８−クロロメチル−１，３，３−トリメチル−３，４−ジヒドロ−１Ｈ−キノキサリン−２−オン（参考化合物７、８０１ｍｇ、２．５２ｍｍｏｌ）、５−フルオロ−２−メチルフェノール（３３０μL、３．０２ｍｍｏｌ）及び炭酸カリウム（５２４ｍｇ、３．７９ｍｍｏｌ）の混合物を無水Ｎ，Ｎ−ジメチルホルムアミド（１０ｍL）に懸濁し、８０℃で一晩攪拌した。放冷後、酢酸エチル（８０ｍL）及び水（５０ｍL）を加えて分配した。有機層を飽和食塩水（５０ｍL）で洗浄し、無水硫酸マグネシウムで乾燥後、減圧下溶媒を留去した。得られた残留物をシリカゲルカラムクロマトグラフィー（ヘキサン−酢酸エチル）で精製することにより標記参考化合物（９４５ｍｇ）を無色固体として得た。（収率９２％）
７−ブロモ−８−（５−フルオロ−２−メチルフェノキシメチル）−１，３，３−トリメチル−３，４−ジヒドロ−１Ｈ−キノキサリン−２−オン（参考化合物８−１）
７−ブロモ−８−クロロメチル−１，３，３−トリメチル−３，４−ジヒドロ−１Ｈ−キノキサリン−２−オン（参考化合物７、８０１ｍｇ、２．５２ｍｍｏｌ）、５−フルオロ−２−メチルフェノール（３３０μL、３．０２ｍｍｏｌ）及び炭酸カリウム（５２４ｍｇ、３．７９ｍｍｏｌ）の混合物を無水Ｎ，Ｎ−ジメチルホルムアミド（１０ｍL）に懸濁し、８０℃で一晩攪拌した。放冷後、酢酸エチル（８０ｍL）及び水（５０ｍL）を加えて分配した。有機層を飽和食塩水（５０ｍL）で洗浄し、無水硫酸マグネシウムで乾燥後、減圧下溶媒を留去した。得られた残留物をシリカゲルカラムクロマトグラフィー（ヘキサン−酢酸エチル）で精製することにより標記参考化合物（９４５ｍｇ）を無色固体として得た。（収率９２％）
以下、参考化合物７及び市販化合物から選択される化合物を使用し、参考化合物８−１の製造方法に準じて、参考化合物８−２〜８−４を得た。
参考例９
７−ブロモ−８−メトキシカルボニル−１，３，３−トリメチル−３，４−ジヒドロ−１Ｈ−キノキサリン−２−オン（参考化合物９）
７−ブロモ−８−メトキシカルボニル−３，３−ジメチル−３，４−ジヒドロ−１Ｈ−キノキサリン−２−オン（参考化合物１、１０２ｍｇ、０．３２６ｍｍｏｌ）、よう化メチル（１００μL、１．６０ｍｍｏｌ）及び炭酸セシウム（２７２ｍｇ、０．８３５ｍｍｏｌ）の混合物を無水Ｎ，Ｎ−ジメチルホルムアミド（５ｍL）に懸濁し、室温で２時間攪拌した。反応液に酢酸エチル（２５ｍL）及び水（２５ｍL）を加えて分配した。有機層を飽和食塩水（２０ｍL）で洗浄し、無水硫酸マグネシウムで乾燥後、減圧下溶媒を留去した。得られた残留物をシリカゲルカラムクロマトグラフィー（ヘキサン−酢酸エチル）で精製することにより標記参考化合物（８６．０ｍｇ）を淡黄色固体として得た。（収率８３％）
７−ブロモ−８−メトキシカルボニル−１，３，３−トリメチル−３，４−ジヒドロ−１Ｈ−キノキサリン−２−オン（参考化合物９）
７−ブロモ−８−メトキシカルボニル−３，３−ジメチル−３，４−ジヒドロ−１Ｈ−キノキサリン−２−オン（参考化合物１、１０２ｍｇ、０．３２６ｍｍｏｌ）、よう化メチル（１００μL、１．６０ｍｍｏｌ）及び炭酸セシウム（２７２ｍｇ、０．８３５ｍｍｏｌ）の混合物を無水Ｎ，Ｎ−ジメチルホルムアミド（５ｍL）に懸濁し、室温で２時間攪拌した。反応液に酢酸エチル（２５ｍL）及び水（２５ｍL）を加えて分配した。有機層を飽和食塩水（２０ｍL）で洗浄し、無水硫酸マグネシウムで乾燥後、減圧下溶媒を留去した。得られた残留物をシリカゲルカラムクロマトグラフィー（ヘキサン−酢酸エチル）で精製することにより標記参考化合物（８６．０ｍｇ）を淡黄色固体として得た。（収率８３％）
参考例１０
７−（５−クロロ−２−メトキシフェニル）−８−メトキシカルボニル−１，３，３−トリメチル−３，４−ジヒドロ−１Ｈ−キノキサリン−２−オン（参考化合物１０−１）
アルゴン雰囲気下、７−ブロモ−８−メトキシカルボニル−１，３，３−トリメチル−３，４−ジヒドロ−１Ｈ−キノキサリン−２−オン（参考化合物９、３．７５ｇ、１１．５ｍｍｏl）、５−クロロ−２−メトキシフェニルボロン酸（２．５７ｇ、１３．８ｍｍｏl）、炭酸セシウム（７．４９ｇ、２３．０ｍｍｏl）及びテトラキス（トリフェニルホスフィン）パラジウム（０）（１．３３ｇ、１．１６ｍｍｏｌ）の混合物を無水Ｎ，Ｎ−ジメチルホルムアミド（７０ｍL）に懸濁し、８０℃で一晩攪拌した。放冷後、酢酸エチル（３００ｍL）、ジエチルエーテル（１５０ｍＬ）及び水（４００ｍL）を加えて分配した。有機層を水（２５０ｍＬ）及び飽和食塩水（１５０ｍL）で順次洗浄し、無水硫酸マグネシウムで乾燥後、減圧下溶媒を留去した。得られた残留物をシリカゲルカラムクロマトグラフィー（ヘキサン−酢酸エチル）で精製することにより標記参考化合物（３．８４ｇ）を無色アモルファスとして得た。（収率８６％）
７−（５−クロロ−２−メトキシフェニル）−８−メトキシカルボニル−１，３，３−トリメチル−３，４−ジヒドロ−１Ｈ−キノキサリン−２−オン（参考化合物１０−１）
アルゴン雰囲気下、７−ブロモ−８−メトキシカルボニル−１，３，３−トリメチル−３，４−ジヒドロ−１Ｈ−キノキサリン−２−オン（参考化合物９、３．７５ｇ、１１．５ｍｍｏl）、５−クロロ−２−メトキシフェニルボロン酸（２．５７ｇ、１３．８ｍｍｏl）、炭酸セシウム（７．４９ｇ、２３．０ｍｍｏl）及びテトラキス（トリフェニルホスフィン）パラジウム（０）（１．３３ｇ、１．１６ｍｍｏｌ）の混合物を無水Ｎ，Ｎ−ジメチルホルムアミド（７０ｍL）に懸濁し、８０℃で一晩攪拌した。放冷後、酢酸エチル（３００ｍL）、ジエチルエーテル（１５０ｍＬ）及び水（４００ｍL）を加えて分配した。有機層を水（２５０ｍＬ）及び飽和食塩水（１５０ｍL）で順次洗浄し、無水硫酸マグネシウムで乾燥後、減圧下溶媒を留去した。得られた残留物をシリカゲルカラムクロマトグラフィー（ヘキサン−酢酸エチル）で精製することにより標記参考化合物（３．８４ｇ）を無色アモルファスとして得た。（収率８６％）
以下、参考化合物９及び市販化合物から選択される化合物を使用し、参考化合物１０−１の製造方法に準じて、参考化合物１０−２を得た。
参考例１１
９−クロロ−２，２，４−トリメチル−１，４−ジヒドロ−２Ｈ−６−オキサ−１，４−ジアザクリセン−３，５−ジオン（参考化合物１１−１）
７−（５−クロロ−２−メトキシフェニル）−８−メトキシカルボニル−１，３，３−トリメチル−３，４−ジヒドロ−１Ｈ−キノキサリン−２−オン（参考化合物１０−１、３．８１ｇ、９．８０ｍｍｏl）を無水ジクロロメタン（３０ｍL）に溶解し、−７８℃で三臭化ホウ素（７．６２ｇ、３０．４ｍｍｏl）を加えた後、室温で１時間攪拌した。反応液を氷水（５００ｍＬ）に注ぎ、酢酸エチル（５００ｍL）を加えて分配した。有機層を飽和食塩水（２００ｍL）で洗浄し、無水硫酸マグネシウムで乾燥後、減圧下溶媒を留去した。得られた残留物を無水Ｎ，Ｎ−ジメチルホルムアミド（５０ｍL）に溶解し、６０％水素化ナトリウム（２３．１ｍｇ、０．５７８ｍｍｏl）を加え、７０℃で一晩攪拌した。６０％水素化ナトリウム（３１．２ｍｇ、０．７８０ｍｍｏl）を追加し、８０℃で一晩攪拌した。放冷後、酢酸エチル（２００ｍL）、ジエチルエーテル（２００ｍＬ）及び水（３００ｍL）を加えて分配した。有機層を水（２００ｍＬ）及び飽和食塩水（２００ｍL）で順次洗浄し、無水硫酸マグネシウムで乾燥後、減圧下溶媒を留去した。得られた残留物を酢酸エチル／ヘキサン（１／４、３０ｍＬ）でろ取することにより標記参考化合物（２．０４ｇ）を淡黄色固体として得た。（収率６１％）
９−クロロ−２，２，４−トリメチル−１，４−ジヒドロ−２Ｈ−６−オキサ−１，４−ジアザクリセン−３，５−ジオン（参考化合物１１−１）
７−（５−クロロ−２−メトキシフェニル）−８−メトキシカルボニル−１，３，３−トリメチル−３，４−ジヒドロ−１Ｈ−キノキサリン−２−オン（参考化合物１０−１、３．８１ｇ、９．８０ｍｍｏl）を無水ジクロロメタン（３０ｍL）に溶解し、−７８℃で三臭化ホウ素（７．６２ｇ、３０．４ｍｍｏl）を加えた後、室温で１時間攪拌した。反応液を氷水（５００ｍＬ）に注ぎ、酢酸エチル（５００ｍL）を加えて分配した。有機層を飽和食塩水（２００ｍL）で洗浄し、無水硫酸マグネシウムで乾燥後、減圧下溶媒を留去した。得られた残留物を無水Ｎ，Ｎ−ジメチルホルムアミド（５０ｍL）に溶解し、６０％水素化ナトリウム（２３．１ｍｇ、０．５７８ｍｍｏl）を加え、７０℃で一晩攪拌した。６０％水素化ナトリウム（３１．２ｍｇ、０．７８０ｍｍｏl）を追加し、８０℃で一晩攪拌した。放冷後、酢酸エチル（２００ｍL）、ジエチルエーテル（２００ｍＬ）及び水（３００ｍL）を加えて分配した。有機層を水（２００ｍＬ）及び飽和食塩水（２００ｍL）で順次洗浄し、無水硫酸マグネシウムで乾燥後、減圧下溶媒を留去した。得られた残留物を酢酸エチル／ヘキサン（１／４、３０ｍＬ）でろ取することにより標記参考化合物（２．０４ｇ）を淡黄色固体として得た。（収率６１％）
以下、参考化合物１０−２を使用し、参考化合物１１−１の製造方法に準じて、参考化合物１１−２を得た。
参考例１２
７−（５−クロロ−２−ヒドロキシフェニル）−８−ヒドロキシメチル−１，３，３−トリメチル−３，４−ジヒドロ−１Ｈ−キノキサリン−２−オン（参考化合物１２−１）
窒素雰囲気下、水素化リチウムアルミニウム（４４２ｍｇ、１１．７ｍｍｏl）を無水テトラヒドロフラン（１０ｍL）に懸濁した。−１０℃で、９−クロロ−２，２，４−トリメチル−１，４−ジヒドロ−２Ｈ−６−オキサ−１，４−ジアザクリセン−３，５−ジオン（参考化合物１１−１、１．９９ｇ、５．８１ｍｍｏl）の無水テトラヒドロフラン（４０ｍL）溶液を滴下し、同温で１０分間攪拌した。反応液に酢酸エチル（１ｍL）及び水（１ｍL）を順次加えた後、酢酸エチル（３００ｍＬ）及び食塩水（３００ｍＬ）を加えて分配した。有機層を飽和食塩水（１５０ｍL）で洗浄し、無水硫酸マグネシウムで乾燥後、減圧下溶媒を留去した。得られた残留物をシリカゲルカラムクロマトグラフィー（ヘキサン−酢酸エチル）で精製することにより標記参考化合物（１．３８ｇ）を淡黄色固体として得た。（収率６９％）
７−（５−クロロ−２−ヒドロキシフェニル）−８−ヒドロキシメチル−１，３，３−トリメチル−３，４−ジヒドロ−１Ｈ−キノキサリン−２−オン（参考化合物１２−１）
窒素雰囲気下、水素化リチウムアルミニウム（４４２ｍｇ、１１．７ｍｍｏl）を無水テトラヒドロフラン（１０ｍL）に懸濁した。−１０℃で、９−クロロ−２，２，４−トリメチル−１，４−ジヒドロ−２Ｈ−６−オキサ−１，４−ジアザクリセン−３，５−ジオン（参考化合物１１−１、１．９９ｇ、５．８１ｍｍｏl）の無水テトラヒドロフラン（４０ｍL）溶液を滴下し、同温で１０分間攪拌した。反応液に酢酸エチル（１ｍL）及び水（１ｍL）を順次加えた後、酢酸エチル（３００ｍＬ）及び食塩水（３００ｍＬ）を加えて分配した。有機層を飽和食塩水（１５０ｍL）で洗浄し、無水硫酸マグネシウムで乾燥後、減圧下溶媒を留去した。得られた残留物をシリカゲルカラムクロマトグラフィー（ヘキサン−酢酸エチル）で精製することにより標記参考化合物（１．３８ｇ）を淡黄色固体として得た。（収率６９％）
以下、参考化合物１１−２を使用し、参考化合物１２−１の製造方法に準じて、参考化合物１２−２を得た。
参考例１３
７−（５−クロロ−２−メトキシフェニル）−８−ヒドロキシメチル−１，３，３−トリメチル−３，４−ジヒドロ−１Ｈ−キノキサリン−２−オン（参考化合物１３−１）
７−（５−クロロ−２−ヒドロキシフェニル）−８−ヒドロキシメチル−１，３，３−トリメチル−３，４−ジヒドロ−１Ｈ−キノキサリン−２−オン（参考化合物１２−１、１．３６ｇ、３．９２ｍｍｏｌ）、よう化メチル（２４４μL、３．９２ｍｍｏｌ）及び炭酸カリウム（１．０８ｇ、７．８１ｍｍｏｌ）の混合物を無水Ｎ，Ｎ−ジメチルホルムアミド（２０ｍL）に懸濁し、５０℃で１時間攪拌した。放冷後、酢酸エチル（７０ｍL）、ジエチルエーテル（７０ｍＬ）及び水（１５０ｍL）を加えて分配した。有機層を水（１００ｍＬ）及び飽和食塩水（５０ｍL）で順次洗浄し、無水硫酸マグネシウムで乾燥後、減圧下溶媒を留去した。得られた残留物をシリカゲルカラムクロマトグラフィー（ヘキサン−酢酸エチル）で精製することにより標記参考化合物（１．３６ｇ）を淡黄色アモルファスとして得た。（収率９６％）
７−（５−クロロ−２−メトキシフェニル）−８−ヒドロキシメチル−１，３，３−トリメチル−３，４−ジヒドロ−１Ｈ−キノキサリン−２−オン（参考化合物１３−１）
７−（５−クロロ−２−ヒドロキシフェニル）−８−ヒドロキシメチル−１，３，３−トリメチル−３，４−ジヒドロ−１Ｈ−キノキサリン−２−オン（参考化合物１２−１、１．３６ｇ、３．９２ｍｍｏｌ）、よう化メチル（２４４μL、３．９２ｍｍｏｌ）及び炭酸カリウム（１．０８ｇ、７．８１ｍｍｏｌ）の混合物を無水Ｎ，Ｎ−ジメチルホルムアミド（２０ｍL）に懸濁し、５０℃で１時間攪拌した。放冷後、酢酸エチル（７０ｍL）、ジエチルエーテル（７０ｍＬ）及び水（１５０ｍL）を加えて分配した。有機層を水（１００ｍＬ）及び飽和食塩水（５０ｍL）で順次洗浄し、無水硫酸マグネシウムで乾燥後、減圧下溶媒を留去した。得られた残留物をシリカゲルカラムクロマトグラフィー（ヘキサン−酢酸エチル）で精製することにより標記参考化合物（１．３６ｇ）を淡黄色アモルファスとして得た。（収率９６％）
以下、参考化合物１２−２を使用し、参考化合物１３−１の製造方法に準じて、参考化合物１３−２を得た。
参考例１４
７−（５−クロロ−２−メトキシフェニル）−８−クロロメチル−１，３，３−トリメチル−３，４−ジヒドロ−１Ｈ−キノキサリン−２−オン（参考化合物１４−１）
７−（５−クロロ−２−メトキシフェニル）−８−ヒドロキシメチル−１，３，３−トリメチル−３，４−ジヒドロ−１Ｈ−キノキサリン−２−オン（参考化合物１３−１、１．３４ｇ、３．７１ｍｍｏｌ）を無水ジクロロメタン（１９ｍＬ）に溶解し、トリエチルアミン（６２１μL、４．４６ｍｍｏｌ）及び塩化メタンスルホニル（３１６μL、４．０８ｍｍｏｌ）を順次加えた。反応液を室温で一晩攪拌した。反応液に酢酸エチル（２００ｍL）を加え、水（２００ｍL）で洗浄し、無水硫酸マグネシウムで乾燥後、減圧下溶媒を留去した。得られた残留物をシリカゲルカラムクロマトグラフィー（ヘキサン−酢酸エチル）で精製することにより標記参考化合物（１．１４ｇ）を無色アモルファスとして得た。（収率８１％）
７−（５−クロロ−２−メトキシフェニル）−８−クロロメチル−１，３，３−トリメチル−３，４−ジヒドロ−１Ｈ−キノキサリン−２−オン（参考化合物１４−１）
７−（５−クロロ−２−メトキシフェニル）−８−ヒドロキシメチル−１，３，３−トリメチル−３，４−ジヒドロ−１Ｈ−キノキサリン−２−オン（参考化合物１３−１、１．３４ｇ、３．７１ｍｍｏｌ）を無水ジクロロメタン（１９ｍＬ）に溶解し、トリエチルアミン（６２１μL、４．４６ｍｍｏｌ）及び塩化メタンスルホニル（３１６μL、４．０８ｍｍｏｌ）を順次加えた。反応液を室温で一晩攪拌した。反応液に酢酸エチル（２００ｍL）を加え、水（２００ｍL）で洗浄し、無水硫酸マグネシウムで乾燥後、減圧下溶媒を留去した。得られた残留物をシリカゲルカラムクロマトグラフィー（ヘキサン−酢酸エチル）で精製することにより標記参考化合物（１．１４ｇ）を無色アモルファスとして得た。（収率８１％）
以下、参考化合物１３−２を使用し、参考化合物１４−１の製造方法に準じて、参考化合物１４−２を得た。
参考例１５
４−ベンゾイルオキシアニソール（参考化合物１５−１）
４−ヒドロキシアニソール（１．２５ｇ、１０．１ｍｍｏｌ）を無水ジクロロメタン（１０ｍＬ）に溶解し、トリエチルアミン（４．２５ｍL、３０．５ｍｍｏｌ）及び塩化ベンゾイル（１．４０ｍL、１２．１ｍｍｏｌ）を順次加えた。反応液を室温で４時間攪拌した。反応液にクロロホルム（５０ｍL）及び水（５０ｍL）を加えて分配した。有機層を飽和食塩水（５０ｍL）で洗浄し、無水硫酸マグネシウムで乾燥後、減圧下溶媒を留去した。得られた残留物をヘキサン（５０ｍＬ）でろ取することにより標記参考化合物（２．２４ｇ）を無色固体として得た。（収率９８％）
４−ベンゾイルオキシアニソール（参考化合物１５−１）
４−ヒドロキシアニソール（１．２５ｇ、１０．１ｍｍｏｌ）を無水ジクロロメタン（１０ｍＬ）に溶解し、トリエチルアミン（４．２５ｍL、３０．５ｍｍｏｌ）及び塩化ベンゾイル（１．４０ｍL、１２．１ｍｍｏｌ）を順次加えた。反応液を室温で４時間攪拌した。反応液にクロロホルム（５０ｍL）及び水（５０ｍL）を加えて分配した。有機層を飽和食塩水（５０ｍL）で洗浄し、無水硫酸マグネシウムで乾燥後、減圧下溶媒を留去した。得られた残留物をヘキサン（５０ｍＬ）でろ取することにより標記参考化合物（２．２４ｇ）を無色固体として得た。（収率９８％）
以下、参考化合物１６−３を使用し、参考化合物１５−１の製造方法に準じて、参考化合物１５−２を得た。
参考例１６
２−ブロモ−４−クロロ−５−フルオロアニソール（参考化合物１６−１）
４−クロロ−３−フルオロアニソール（１２４μL、１．００ｍｍｏｌ）及びＮ−ブロモスクシンイミド（１８３ｍｇ、１．０３ｍｍｏｌ）の混合物を無水Ｎ，Ｎ−ジメチルホルムアミド（０．５ｍL）及び無水ジクロロメタン（１ｍＬ）の混合溶媒に溶解し、４０℃で３日間攪拌した。放冷後、クロロホルム（３０ｍL）及び水（３０ｍL）を加えて分配した。水層をクロロホルム（３０ｍL、２回）で抽出した後、有機層を合わせた。有機層を飽和食塩水（３０ｍL）で洗浄し、無水硫酸マグネシウムで乾燥後、減圧下溶媒を留去した。得られた残留物をシリカゲルカラムクロマトグラフィー（ヘキサン−酢酸エチル）で精製することにより標記参考化合物（１９５ｍｇ）を無色固体として得た。（収率８２％）
２−ブロモ−４−クロロ−５−フルオロアニソール（参考化合物１６−１）
４−クロロ−３−フルオロアニソール（１２４μL、１．００ｍｍｏｌ）及びＮ−ブロモスクシンイミド（１８３ｍｇ、１．０３ｍｍｏｌ）の混合物を無水Ｎ，Ｎ−ジメチルホルムアミド（０．５ｍL）及び無水ジクロロメタン（１ｍＬ）の混合溶媒に溶解し、４０℃で３日間攪拌した。放冷後、クロロホルム（３０ｍL）及び水（３０ｍL）を加えて分配した。水層をクロロホルム（３０ｍL、２回）で抽出した後、有機層を合わせた。有機層を飽和食塩水（３０ｍL）で洗浄し、無水硫酸マグネシウムで乾燥後、減圧下溶媒を留去した。得られた残留物をシリカゲルカラムクロマトグラフィー（ヘキサン−酢酸エチル）で精製することにより標記参考化合物（１９５ｍｇ）を無色固体として得た。（収率８２％）
以下、参考化合物１５−１及び市販化合物から選択される化合物を使用し、参考化合物１６−１の製造方法に準じて、参考化合物１６−２〜１６−３を得た。
参考例１７
５−クロロ−４−フルオロ−２−メトキシフェニルボロン酸（参考化合物１７）
２−ブロモ−４−クロロ−５−フルオロアニソール（参考化合物１６−１、２３９ｍｇ、１．００ｍｍｏｌ）を無水トルエン（２ｍL）及び無水テトラヒドロフラン（０．５ｍＬ）の混合溶媒に溶解し、−４０℃でｎ−ブチルリチウムの１．６Ｍヘキサン溶液（７５０μＬ、１．２０ｍｍｏｌ）を滴下した後、同温で３０分間攪拌した。反応液にボロン酸トリイソプロピル（２７７μＬ、１．２０ｍｍｏｌ）を滴下し、１０分間かけて−２０℃まで昇温させた後、２規定塩酸（１ｍＬ）を加えた。反応液を室温で２０分間攪拌した後、酢酸エチル（２０ｍL）及び水（２０ｍL）を加えて分配した。有機層を飽和食塩水（２０ｍL）で洗浄し、無水硫酸マグネシウムで乾燥後、減圧下溶媒を留去することにより標記参考化合物（１８１ｍｇ）を無色固体として得た。（収率８９％）
５−クロロ−４−フルオロ−２−メトキシフェニルボロン酸（参考化合物１７）
２−ブロモ−４−クロロ−５−フルオロアニソール（参考化合物１６−１、２３９ｍｇ、１．００ｍｍｏｌ）を無水トルエン（２ｍL）及び無水テトラヒドロフラン（０．５ｍＬ）の混合溶媒に溶解し、−４０℃でｎ−ブチルリチウムの１．６Ｍヘキサン溶液（７５０μＬ、１．２０ｍｍｏｌ）を滴下した後、同温で３０分間攪拌した。反応液にボロン酸トリイソプロピル（２７７μＬ、１．２０ｍｍｏｌ）を滴下し、１０分間かけて−２０℃まで昇温させた後、２規定塩酸（１ｍＬ）を加えた。反応液を室温で２０分間攪拌した後、酢酸エチル（２０ｍL）及び水（２０ｍL）を加えて分配した。有機層を飽和食塩水（２０ｍL）で洗浄し、無水硫酸マグネシウムで乾燥後、減圧下溶媒を留去することにより標記参考化合物（１８１ｍｇ）を無色固体として得た。（収率８９％）
参考例１８
２−（５，５−ジメチル［１，３，２］ジオキサボリナン−２−イル）−４−ニトロアニソール （参考化合物１８−１）
２−ブロモ−４−ニトロアニソール（１００ｍｇ、０．４３１ｍｍｏｌ）、ビス（ネオペンチルグリコレート）ジボロン（１５１ｍｇ、０．６６８ｍｍｏｌ）、酢酸カリウム（１２９ｍｇ、１．３１ｍｍｏｌ）及び二塩化［１，１’−ビス（ジフェニルホスフィノ）フェロセン］パラジウム（ＩＩ）ジクロロメタンコンプレックス（１：１）（３５．５ｍｇ、０．０４３５ｍｍｏｌ）の混合物をジメチルスルホキシド（３ｍＬ）に懸濁し、マイクロ波を照射して８０℃で１０分間攪拌した。放冷後、反応液に酢酸エチル（３０ｍL）及び水（３０ｍL）を加えて分配した。有機層を飽和食塩水（３０ｍL）で洗浄し、無水硫酸マグネシウムで乾燥後、減圧下溶媒を留去することにより標記参考化合物（７２．５ｍｇ）を黄色固体として得た。（収率８５％）
２−（５，５−ジメチル［１，３，２］ジオキサボリナン−２−イル）−４−ニトロアニソール （参考化合物１８−１）
２−ブロモ−４−ニトロアニソール（１００ｍｇ、０．４３１ｍｍｏｌ）、ビス（ネオペンチルグリコレート）ジボロン（１５１ｍｇ、０．６６８ｍｍｏｌ）、酢酸カリウム（１２９ｍｇ、１．３１ｍｍｏｌ）及び二塩化［１，１’−ビス（ジフェニルホスフィノ）フェロセン］パラジウム（ＩＩ）ジクロロメタンコンプレックス（１：１）（３５．５ｍｇ、０．０４３５ｍｍｏｌ）の混合物をジメチルスルホキシド（３ｍＬ）に懸濁し、マイクロ波を照射して８０℃で１０分間攪拌した。放冷後、反応液に酢酸エチル（３０ｍL）及び水（３０ｍL）を加えて分配した。有機層を飽和食塩水（３０ｍL）で洗浄し、無水硫酸マグネシウムで乾燥後、減圧下溶媒を留去することにより標記参考化合物（７２．５ｍｇ）を黄色固体として得た。（収率８５％）
以下、参考化合物１５−２、１６−２、２３及び市販化合物から選択される化合物を使用し、参考化合物１８−１の製造方法に準じて、参考化合物１８−２〜１８−７を得た。
参考例１９
５−シアノ−２−トリフルオロメチルスルホニルオキシアニソール（参考化合物１９−１）
アルゴン雰囲気下、５−シアノ−２−ヒドロキシアニソール（６００ｍｇ、４．０２ｍｍｏｌ）及びトリエチルアミン（１．４０ｍL、１０．０ｍｍｏｌ）の混合物を無水テトラヒドロフラン（２０ｍL）に溶解した。−１０℃で、塩化トリフルオロメタンスルホニル（６４２μＬ、６．０３ｍｍｏl）を滴下し、同温で１時間攪拌した。反応液に酢酸エチル（１００ｍL）及び水（１００ｍL）を加えて分配した。有機層を飽和食塩水（５０ｍL）で洗浄し、無水硫酸マグネシウムで乾燥後、減圧下溶媒を留去した。得られた残留物をシリカゲルカラムクロマトグラフィー（ヘキサン−酢酸エチル）で精製することにより標記参考化合物（９７９ｍｇ）を無色固体として得た。（収率８７％）
５−シアノ−２−トリフルオロメチルスルホニルオキシアニソール（参考化合物１９−１）
アルゴン雰囲気下、５−シアノ−２−ヒドロキシアニソール（６００ｍｇ、４．０２ｍｍｏｌ）及びトリエチルアミン（１．４０ｍL、１０．０ｍｍｏｌ）の混合物を無水テトラヒドロフラン（２０ｍL）に溶解した。−１０℃で、塩化トリフルオロメタンスルホニル（６４２μＬ、６．０３ｍｍｏl）を滴下し、同温で１時間攪拌した。反応液に酢酸エチル（１００ｍL）及び水（１００ｍL）を加えて分配した。有機層を飽和食塩水（５０ｍL）で洗浄し、無水硫酸マグネシウムで乾燥後、減圧下溶媒を留去した。得られた残留物をシリカゲルカラムクロマトグラフィー（ヘキサン−酢酸エチル）で精製することにより標記参考化合物（９７９ｍｇ）を無色固体として得た。（収率８７％）
以下、市販化合物を使用し、参考化合物１９−１の製造方法に準じて、参考化合物１９−２〜１９−４を得た。
参考例２０
５−シアノ−２−（４，４，５，５−テトラメチル［１，３，２］ジオキサボロラン−２−イル）アニソール（参考化合物２０−１）
アルゴン雰囲気下、５−シアノ−２−トリフルオロメチルスルホニルオキシアニソール（参考化合物１９−１、２００ｍｇ、０．７１１ｍｍｏｌ）、ビス（ピナコレート）ジボロン（２００ｍｇ、０．７８８ｍｍｏｌ）、酢酸カリウム（２１３ｍｇ、２．１７ｍｍｏｌ）、１，１’−ビス（ジフェニルホスフィノ）フェロセン（２０．０ｍｇ、０．０３６１ｍｍｏｌ）及び二塩化［１，１’−ビス（ジフェニルホスフィノ）フェロセン］パラジウム（ＩＩ）ジクロロメタンコンプレックス（１：１）（２９．４ｍｇ、０．０３６０ｍｍｏｌ）の混合物を１，４−ジオキサン（４ｍＬ）に懸濁し、８０℃で一晩攪拌した。放冷後、酢酸エチル（１００ｍL）及び水（１００ｍL）を加えて分配した。有機層を飽和食塩水（５０ｍL）で洗浄し、無水硫酸マグネシウムで乾燥後、減圧下溶媒を留去した。得られた残留物をシリカゲルカラムクロマトグラフィー（ヘキサン−酢酸エチル）で精製することにより標記参考化合物（１２３ｍｇ）を無色固体として得た。（収率６７％）
５−シアノ−２−（４，４，５，５−テトラメチル［１，３，２］ジオキサボロラン−２−イル）アニソール（参考化合物２０−１）
アルゴン雰囲気下、５−シアノ−２−トリフルオロメチルスルホニルオキシアニソール（参考化合物１９−１、２００ｍｇ、０．７１１ｍｍｏｌ）、ビス（ピナコレート）ジボロン（２００ｍｇ、０．７８８ｍｍｏｌ）、酢酸カリウム（２１３ｍｇ、２．１７ｍｍｏｌ）、１，１’−ビス（ジフェニルホスフィノ）フェロセン（２０．０ｍｇ、０．０３６１ｍｍｏｌ）及び二塩化［１，１’−ビス（ジフェニルホスフィノ）フェロセン］パラジウム（ＩＩ）ジクロロメタンコンプレックス（１：１）（２９．４ｍｇ、０．０３６０ｍｍｏｌ）の混合物を１，４−ジオキサン（４ｍＬ）に懸濁し、８０℃で一晩攪拌した。放冷後、酢酸エチル（１００ｍL）及び水（１００ｍL）を加えて分配した。有機層を飽和食塩水（５０ｍL）で洗浄し、無水硫酸マグネシウムで乾燥後、減圧下溶媒を留去した。得られた残留物をシリカゲルカラムクロマトグラフィー（ヘキサン−酢酸エチル）で精製することにより標記参考化合物（１２３ｍｇ）を無色固体として得た。（収率６７％）
以下、参考化合物１９−４を使用し、参考化合物２０−１の製造方法に準じて、参考化合物２０−２を得た。
参考例２１
７−（５，５−ジメチル［１，３，２］ジオキサボリナン−２−イル）−８−（５−フルオロ−２−メチルフェノキシメチル）−１，３，３−トリメチル−３，４−ジヒドロ−１Ｈ−キノキサリン−２−オン（参考化合物２１）
アルゴン雰囲気下、７−ブロモ−８−（５−フルオロ−２−メチルフェノキシメチル）−１，３，３−トリメチル−３，４−ジヒドロ−１Ｈ−キノキサリン−２−オン（参考化合物８−１、９８．７ｍｇ、０．２４２ｍｍｏｌ）、ビス（ネオペンチルグリコレート）ジボロン（１７０ｍｇ、０．７５３ｍｍｏｌ）、酢酸カリウム（１１２ｍｇ、１．１４ｍｍｏｌ）及び二塩化［１，１’−ビス（ジフェニルホスフィノ）フェロセン］パラジウム（ＩＩ）ジクロロメタンコンプレックス（１：１）（２０．７ｍｇ、０．０２５３ｍｍｏｌ）の混合物をジメチルスルホキシド（２ｍＬ）に懸濁し、マイクロ波を照射して８０℃で１５分間攪拌した。放冷後、反応液に酢酸エチル（１５ｍL）及び水（１５ｍL）を加えて分配した。有機層を飽和食塩水（１５ｍL）で洗浄し、無水硫酸マグネシウムで乾燥後、減圧下溶媒を留去した。得られた残留物をシリカゲルカラムクロマトグラフィー（１回目ヘキサン−酢酸エチル、２回目クロロホルム）で精製した。得られた残留物をヘキサン（５ｍＬ）でろ取することにより標記参考化合物（７０．２ｍｇ）を無色固体として得た。（収率６５％）
７−（５，５−ジメチル［１，３，２］ジオキサボリナン−２−イル）−８−（５−フルオロ−２−メチルフェノキシメチル）−１，３，３−トリメチル−３，４−ジヒドロ−１Ｈ−キノキサリン−２−オン（参考化合物２１）
アルゴン雰囲気下、７−ブロモ−８−（５−フルオロ−２−メチルフェノキシメチル）−１，３，３−トリメチル−３，４−ジヒドロ−１Ｈ−キノキサリン−２−オン（参考化合物８−１、９８．７ｍｇ、０．２４２ｍｍｏｌ）、ビス（ネオペンチルグリコレート）ジボロン（１７０ｍｇ、０．７５３ｍｍｏｌ）、酢酸カリウム（１１２ｍｇ、１．１４ｍｍｏｌ）及び二塩化［１，１’−ビス（ジフェニルホスフィノ）フェロセン］パラジウム（ＩＩ）ジクロロメタンコンプレックス（１：１）（２０．７ｍｇ、０．０２５３ｍｍｏｌ）の混合物をジメチルスルホキシド（２ｍＬ）に懸濁し、マイクロ波を照射して８０℃で１５分間攪拌した。放冷後、反応液に酢酸エチル（１５ｍL）及び水（１５ｍL）を加えて分配した。有機層を飽和食塩水（１５ｍL）で洗浄し、無水硫酸マグネシウムで乾燥後、減圧下溶媒を留去した。得られた残留物をシリカゲルカラムクロマトグラフィー（１回目ヘキサン−酢酸エチル、２回目クロロホルム）で精製した。得られた残留物をヘキサン（５ｍＬ）でろ取することにより標記参考化合物（７０．２ｍｇ）を無色固体として得た。（収率６５％）
参考例２２
８−（５−フルオロ−２−メチルフェノキシメチル）−７−（４，４，５，５−テトラメチル［１，３，２］ジオキサボロラン−２−イル）−１，３，３−トリメチル−３，４−ジヒドロ−１Ｈ−キノキサリン−２−オン（参考化合物２２）
７−ブロモ−８−（５−フルオロ−２−メチルフェノキシメチル）−１，３，３−トリメチル−３，４−ジヒドロ−１Ｈ−キノキサリン−２−オン（参考化合物８−１、１０１ｍｇ、０．２４８ｍｍｏｌ）、ビス（ピナコレート）ジボロン（１５６ｍｇ、０．６１４ｍｍｏｌ）、酢酸カリウム（７５．５ｍｇ、０．７６９ｍｍｏｌ）、１，１’−ビス（ジフェニルホスフィノ）フェロセン（７．２ｍｇ、０．０１３ｍｍｏｌ）及び二塩化［１，１’−ビス（ジフェニルホスフィノ）フェロセン］パラジウム（ＩＩ）ジクロロメタンコンプレックス（１：１）（１０．７ｍｇ、０．０１３１ｍｍｏｌ）の混合物を１，４−ジオキサン（２ｍＬ）に懸濁し、８０℃で一晩攪拌した。放冷後、酢酸エチル（１５ｍL）及び水（１５ｍL）を加えて分配した。有機層を飽和食塩水（１５ｍL）で洗浄し、無水硫酸マグネシウムで乾燥後、減圧下溶媒を留去した。得られた残留物をシリカゲルカラムクロマトグラフィー（１回目ヘキサン−酢酸エチル、２回目クロロホルム−メタノール）で精製することにより標記参考化合物（８７．９ｍｇ）を無色アモルファスとして得た。（収率７８％）
８−（５−フルオロ−２−メチルフェノキシメチル）−７−（４，４，５，５−テトラメチル［１，３，２］ジオキサボロラン−２−イル）−１，３，３−トリメチル−３，４−ジヒドロ−１Ｈ−キノキサリン−２−オン（参考化合物２２）
７−ブロモ−８−（５−フルオロ−２−メチルフェノキシメチル）−１，３，３−トリメチル−３，４−ジヒドロ−１Ｈ−キノキサリン−２−オン（参考化合物８−１、１０１ｍｇ、０．２４８ｍｍｏｌ）、ビス（ピナコレート）ジボロン（１５６ｍｇ、０．６１４ｍｍｏｌ）、酢酸カリウム（７５．５ｍｇ、０．７６９ｍｍｏｌ）、１，１’−ビス（ジフェニルホスフィノ）フェロセン（７．２ｍｇ、０．０１３ｍｍｏｌ）及び二塩化［１，１’−ビス（ジフェニルホスフィノ）フェロセン］パラジウム（ＩＩ）ジクロロメタンコンプレックス（１：１）（１０．７ｍｇ、０．０１３１ｍｍｏｌ）の混合物を１，４−ジオキサン（２ｍＬ）に懸濁し、８０℃で一晩攪拌した。放冷後、酢酸エチル（１５ｍL）及び水（１５ｍL）を加えて分配した。有機層を飽和食塩水（１５ｍL）で洗浄し、無水硫酸マグネシウムで乾燥後、減圧下溶媒を留去した。得られた残留物をシリカゲルカラムクロマトグラフィー（１回目ヘキサン−酢酸エチル、２回目クロロホルム−メタノール）で精製することにより標記参考化合物（８７．９ｍｇ）を無色アモルファスとして得た。（収率７８％）
参考例２３
２−ブロモ−５−メトキシメトキシアニソール（参考化合物２３）
４−ブロモ−３−メトキシフェノール（５００ｍｇ、２．４６ｍｍｏｌ）、クロロジメチルエーテル（２８１μL、３．７０ｍｍｏｌ）及び炭酸カリウム（８５０ｍｇ、６．１５ｍｍｏｌ）の混合物を無水Ｎ，Ｎ−ジメチルホルムアミド（８ｍL）に懸濁し、５０℃で１時間攪拌した。放冷後、酢酸エチル（１５０ｍL）を加えて希釈した。水（１５０ｍＬ）及び飽和食塩水（５０ｍL）で順次洗浄し、無水硫酸マグネシウムで乾燥後、減圧下溶媒を留去した。得られた残留物をシリカゲルカラムクロマトグラフィー（ヘキサン−酢酸エチル）で精製することにより標記参考化合物（４２１ｍｇ）を無色油状物して得た。（収率６９％）
２−ブロモ−５−メトキシメトキシアニソール（参考化合物２３）
４−ブロモ−３−メトキシフェノール（５００ｍｇ、２．４６ｍｍｏｌ）、クロロジメチルエーテル（２８１μL、３．７０ｍｍｏｌ）及び炭酸カリウム（８５０ｍｇ、６．１５ｍｍｏｌ）の混合物を無水Ｎ，Ｎ−ジメチルホルムアミド（８ｍL）に懸濁し、５０℃で１時間攪拌した。放冷後、酢酸エチル（１５０ｍL）を加えて希釈した。水（１５０ｍＬ）及び飽和食塩水（５０ｍL）で順次洗浄し、無水硫酸マグネシウムで乾燥後、減圧下溶媒を留去した。得られた残留物をシリカゲルカラムクロマトグラフィー（ヘキサン−酢酸エチル）で精製することにより標記参考化合物（４２１ｍｇ）を無色油状物して得た。（収率６９％）
参考例２４
８−ヒドロキシメチル−７−［２−メトキシ−４−（２−メチルベンゾイルオキシ）フェニル］−３，３−ジメチル−３，４−ジヒドロ−１Ｈ−キノキサリン−２−オン（参考化合物２４）
７−（４−ヒドロキシ−２−メトキシフェニル）−８−ヒドロキシメチル−３，３−ジメチル−３，４−ジヒドロ−１Ｈ−キノキサリン−２−オン（参考化合物３−５、４３０ｍｇ、１．３１ｍｍｏｌ）をテトラヒドロフラン（１０ｍL）に溶解し、０℃にてトリエチルアミン（３６５μL、２．６２ｍｍｏｌ）及び塩化２−メチルベンゾイル（２２２μL、１．７０ｍｍｏｌ）を順次加えた。反応液を同温で８０分間攪拌した後、酢酸エチル（２００ｍL）で希釈した。水（１００ｍL）及び飽和食塩水（１００ｍL）で順次洗浄し、無水硫酸マグネシウムで乾燥後、減圧下溶媒を留去した。得られた残留物をシリカゲルカラムクロマトグラフィー（ヘキサン−酢酸エチル）で精製することにより標記参考化合物（３６２ｍｇ）を無色固体として得た。（収率６２％）
８−ヒドロキシメチル−７−［２−メトキシ−４−（２−メチルベンゾイルオキシ）フェニル］−３，３−ジメチル−３，４−ジヒドロ−１Ｈ−キノキサリン−２−オン（参考化合物２４）
７−（４−ヒドロキシ−２−メトキシフェニル）−８−ヒドロキシメチル−３，３−ジメチル−３，４−ジヒドロ−１Ｈ−キノキサリン−２−オン（参考化合物３−５、４３０ｍｇ、１．３１ｍｍｏｌ）をテトラヒドロフラン（１０ｍL）に溶解し、０℃にてトリエチルアミン（３６５μL、２．６２ｍｍｏｌ）及び塩化２−メチルベンゾイル（２２２μL、１．７０ｍｍｏｌ）を順次加えた。反応液を同温で８０分間攪拌した後、酢酸エチル（２００ｍL）で希釈した。水（１００ｍL）及び飽和食塩水（１００ｍL）で順次洗浄し、無水硫酸マグネシウムで乾燥後、減圧下溶媒を留去した。得られた残留物をシリカゲルカラムクロマトグラフィー（ヘキサン−酢酸エチル）で精製することにより標記参考化合物（３６２ｍｇ）を無色固体として得た。（収率６２％）
参考例２５
塩化５−ブロモチオフェン−２−カルボニル（参考化合物２５）
５−ブロモチオフェン−２−カルボン酸（３００ｍｇ、１．４５ｍｍｏｌ）、塩化チオニル（４２３μL、５．８０ｍｍｏｌ）及びＮ，Ｎ−ジメチルホルムアミド（１滴）の混合物をクロロホルム（３ｍL）に溶解し、１時間加熱還流した。放冷後、反応液を減圧下濃縮することにより標記参考化合物（３２４ｍｇ）を淡黄色固体して得た。（収率９９％）
塩化５−ブロモチオフェン−２−カルボニル（参考化合物２５）
５−ブロモチオフェン−２−カルボン酸（３００ｍｇ、１．４５ｍｍｏｌ）、塩化チオニル（４２３μL、５．８０ｍｍｏｌ）及びＮ，Ｎ−ジメチルホルムアミド（１滴）の混合物をクロロホルム（３ｍL）に溶解し、１時間加熱還流した。放冷後、反応液を減圧下濃縮することにより標記参考化合物（３２４ｍｇ）を淡黄色固体して得た。（収率９９％）
［実施例］
実施例１
８−ベンゾイルオキシメチル−７−（２−メトキシフェニル）−３，３−ジメチル−３，４−ジヒドロ−１Ｈ−キノキサリン−２−オン（化合物１−１）
８−ヒドロキシメチル−７−（２−メトキシフェニル）−３，３−ジメチル−３，４−ジヒドロ−１Ｈ−キノキサリン−２−オン（参考化合物３−１、５４．２ｍｇ、０．１７ｍｍｏｌ）を無水テトラヒドロフラン（１．５ｍL）に溶解し、トリエチルアミン（７３．０μL、０．５２ｍｍｏｌ）及び塩化ベンゾイル（３０．０μL、０．２６ｍｍｏｌ）を順次加えた。反応液を室温で２４時間攪拌した。反応液に酢酸エチル（３０ｍL）及び水（３０ｍL）を加え分配した。有機層を水（３０ｍL）及び飽和食塩水（３０ｍL）で順次洗浄し、無水硫酸マグネシウムで乾燥後、減圧下溶媒を留去した。得られた残留物を酢酸エチルで濾取することにより標記化合物（５４．１ｍｇ）を無色固体として得た。（収率７６％）
実施例１
８−ベンゾイルオキシメチル−７−（２−メトキシフェニル）−３，３−ジメチル−３，４−ジヒドロ−１Ｈ−キノキサリン−２−オン（化合物１−１）
８−ヒドロキシメチル−７−（２−メトキシフェニル）−３，３−ジメチル−３，４−ジヒドロ−１Ｈ−キノキサリン−２−オン（参考化合物３−１、５４．２ｍｇ、０．１７ｍｍｏｌ）を無水テトラヒドロフラン（１．５ｍL）に溶解し、トリエチルアミン（７３．０μL、０．５２ｍｍｏｌ）及び塩化ベンゾイル（３０．０μL、０．２６ｍｍｏｌ）を順次加えた。反応液を室温で２４時間攪拌した。反応液に酢酸エチル（３０ｍL）及び水（３０ｍL）を加え分配した。有機層を水（３０ｍL）及び飽和食塩水（３０ｍL）で順次洗浄し、無水硫酸マグネシウムで乾燥後、減圧下溶媒を留去した。得られた残留物を酢酸エチルで濾取することにより標記化合物（５４．１ｍｇ）を無色固体として得た。（収率７６％）
以下、参考化合物３−２、３−３、２４及び２５から選択される化合物を使用し、化合物１−１の製造方法に準じて、化合物１−２〜１−７を得た。
実施例２
７−（５−フルオロ−２−メトキシフェニル）−８−(５−メチルチオフェン−２−イルカルボニルオキシメチル）−３，３−ジメチル−３，４−ジヒドロ−１Ｈ−キノキサリン−２−オン（化合物２−１）
８−クロロメチル−７−（５−フルオロ−２−メトキシフェニル）−３，３−ジメチル−３，４−ジヒドロ−１Ｈ−キノキサリン−２−オン（参考化合物４−２、５０．９ｍｇ、０．１４ｍｍｏｌ）、５−メチル−２−チオフェンカルボン酸（６２．５ｍｇ、０．４４ｍｍｏｌ）及び炭酸カリウム（７９．９mｇ、０．５８ｍｍｏｌ）を無水Ｎ，Ｎ−ジメチルホルムアミド（１．５ｍL）に懸濁し、８０℃で４．５時間攪拌した。反応液に酢酸エチル（３０ｍL）及び水（３０ｍL）を加え分配した。有機層を水（３０ｍL）及び飽和食塩水（３０ｍL）で順次洗浄し、無水硫酸マグネシウムで乾燥後、減圧下溶媒を留去した。得られた残留物をシリカゲルカラムクロマトグラフィー（ヘキサン−酢酸エチル）で精製することにより標記化合物（５５．０ｍｇ）を無色固体として得た。（収率８５％）
７−（５−フルオロ−２−メトキシフェニル）−８−(５−メチルチオフェン−２−イルカルボニルオキシメチル）−３，３−ジメチル−３，４−ジヒドロ−１Ｈ−キノキサリン−２−オン（化合物２−１）
８−クロロメチル−７−（５−フルオロ−２−メトキシフェニル）−３，３−ジメチル−３，４−ジヒドロ−１Ｈ−キノキサリン−２−オン（参考化合物４−２、５０．９ｍｇ、０．１４ｍｍｏｌ）、５−メチル−２−チオフェンカルボン酸（６２．５ｍｇ、０．４４ｍｍｏｌ）及び炭酸カリウム（７９．９mｇ、０．５８ｍｍｏｌ）を無水Ｎ，Ｎ−ジメチルホルムアミド（１．５ｍL）に懸濁し、８０℃で４．５時間攪拌した。反応液に酢酸エチル（３０ｍL）及び水（３０ｍL）を加え分配した。有機層を水（３０ｍL）及び飽和食塩水（３０ｍL）で順次洗浄し、無水硫酸マグネシウムで乾燥後、減圧下溶媒を留去した。得られた残留物をシリカゲルカラムクロマトグラフィー（ヘキサン−酢酸エチル）で精製することにより標記化合物（５５．０ｍｇ）を無色固体として得た。（収率８５％）
以下、参考化合物４−１〜４−３、１４−１、１４−２及び市販化合物から選択される化合物を使用し、化合物２−１の製造方法に準じて、化合物２−２〜２−１９を得た。
実施例３
７−（４−フルオロ−２−メトキシフェニル）−８−フェノキシメチル−３，３−ジメチル−３，４−ジヒドロ−１Ｈ−キノキサリン−２−オン(化合物３−１)
８−クロロメチル−７−（４−フルオロ−２−メトキシフェニル）−３，３−ジメチル−３，４−ジヒドロ−１Ｈ−キノキサリン−２−オン（参考化合物４−１、４７．１ｍｇ、０．１４ｍｍｏｌ）、フェノール（３７．５ｍｇ、０．４０ｍｍｏｌ）及び炭酸カリウム（７３．０ｍｇ、０．５３ｍｍｏｌ）の混合物を無水Ｎ，Ｎ−ジメチルホルムアミド（１．５ｍL）に懸濁し、８０℃で１９時間攪拌した。放冷後、酢酸エチル（３０ｍL）及び水（３０ｍL）を加えて分配した。有機層を水（３０ｍL）及び飽和食塩水（３０ｍL）で順次洗浄し、無水硫酸マグネシウムで乾燥後、減圧下溶媒を留去した。得られた残留物をシリカゲルカラムクロマトグラフィー（ヘキサン−酢酸エチル）で精製することにより標記化合物（３５．７ｍｇ）を淡黄色固体として得た。（収率６７％）
７−（４−フルオロ−２−メトキシフェニル）−８−フェノキシメチル−３，３−ジメチル−３，４−ジヒドロ−１Ｈ−キノキサリン−２−オン(化合物３−１)
８−クロロメチル−７−（４−フルオロ−２−メトキシフェニル）−３，３−ジメチル−３，４−ジヒドロ−１Ｈ−キノキサリン−２−オン（参考化合物４−１、４７．１ｍｇ、０．１４ｍｍｏｌ）、フェノール（３７．５ｍｇ、０．４０ｍｍｏｌ）及び炭酸カリウム（７３．０ｍｇ、０．５３ｍｍｏｌ）の混合物を無水Ｎ，Ｎ−ジメチルホルムアミド（１．５ｍL）に懸濁し、８０℃で１９時間攪拌した。放冷後、酢酸エチル（３０ｍL）及び水（３０ｍL）を加えて分配した。有機層を水（３０ｍL）及び飽和食塩水（３０ｍL）で順次洗浄し、無水硫酸マグネシウムで乾燥後、減圧下溶媒を留去した。得られた残留物をシリカゲルカラムクロマトグラフィー（ヘキサン−酢酸エチル）で精製することにより標記化合物（３５．７ｍｇ）を淡黄色固体として得た。（収率６７％）
以下、参考化合物４−２、１４−１、１４−２及び市販化合物から選択される化合物を使用し、化合物３−１の製造方法に準じて、化合物３−２〜３−１９を得た。
実施例４
７−（５−フルオロ−２−メトキシフェニル）−８−（４−メチルフェニルアミノメチル）−３，３−ジメチル−３，４−ジヒドロ−１Ｈ−キノキサリン−２−オン（化合物４−１）
８−クロロメチル−７−（５−フルオロ−２−メトキシフェニル）−３，３−ジメチル−３，４−ジヒドロ−１Ｈ−キノキサリン−２−オン（参考化合物４−２、５０．７ｍｇ、０．１５ｍｍｏl）、４−メチルアニリン（１９．３ｍｇ、０．１８ｍｍｏl）及び炭酸カリウム（６０．６ｍｇ、０．４４ｍｍｏl）の混合物を無水Ｎ，Ｎ−ジメチルホルムアミド（１ｍL）に懸濁し、８０℃で一晩攪拌した。放冷後、酢酸エチル（３０ｍL）及び水（３０ｍL）を加え分配した。有機層を水（３０ｍL）及び飽和食塩水（３０ｍL）で順次洗浄し、無水硫酸マグネシウムで乾燥後、減圧下溶媒を留去した。得られた残留物をシリカゲルカラムクロマトグラフィー（ヘキサン−酢酸エチル）で精製することにより標記化合物（４８．２ｍｇ）を淡黄色固体として得た。（収率８０％）
７−（５−フルオロ−２−メトキシフェニル）−８−（４−メチルフェニルアミノメチル）−３，３−ジメチル−３，４−ジヒドロ−１Ｈ−キノキサリン−２−オン（化合物４−１）
８−クロロメチル−７−（５−フルオロ−２−メトキシフェニル）−３，３−ジメチル−３，４−ジヒドロ−１Ｈ−キノキサリン−２−オン（参考化合物４−２、５０．７ｍｇ、０．１５ｍｍｏl）、４−メチルアニリン（１９．３ｍｇ、０．１８ｍｍｏl）及び炭酸カリウム（６０．６ｍｇ、０．４４ｍｍｏl）の混合物を無水Ｎ，Ｎ−ジメチルホルムアミド（１ｍL）に懸濁し、８０℃で一晩攪拌した。放冷後、酢酸エチル（３０ｍL）及び水（３０ｍL）を加え分配した。有機層を水（３０ｍL）及び飽和食塩水（３０ｍL）で順次洗浄し、無水硫酸マグネシウムで乾燥後、減圧下溶媒を留去した。得られた残留物をシリカゲルカラムクロマトグラフィー（ヘキサン−酢酸エチル）で精製することにより標記化合物（４８．２ｍｇ）を淡黄色固体として得た。（収率８０％）
以下、参考化合物４−２、１４−１、１４−２及び市販化合物から選択される化合物を使用し、化合物４−１の製造方法に準じて、化合物４−２〜４−１１を得た。
実施例５
８−ベンゾイルオキシメチル−７−（５−フルオロ−２−メトキシフェニル）−１，３，３−トリメチル−３，４−ジヒドロ−１Ｈ−キノキサリン−２−オン（化合物５−１）
８−ベンゾイルオキシメチル−７−（５−フルオロ−２−メトキシフェニル）−３，３−ジメチル−３，４−ジヒドロ−１Ｈ−キノキサリン−２−オン（化合物１−３、４２．９ｍｇ、０．０９９ｍｍｏｌ）、よう化メチル（３０．７μL、０．４９ｍｍｏｌ）及び炭酸セシウム（８９．０ｍｇ、０．２７ｍｍｏｌ）の混合物を無水Ｎ，Ｎ−ジメチルホルムアミド（１ｍL）に懸濁し、室温で１．５時間攪拌した。酢酸エチル（１００ｍL）を加え希釈した。水（１００ｍL）及び飽和食塩水（５０ｍL）で順次洗浄し、無水硫酸マグネシウムで乾燥後、減圧下溶媒を留去した。得られた残留物をシリカゲルカラムクロマトグラフィー（ヘキサン−酢酸エチル）で精製することにより標記化合物（３５．０ｍｇ）を無色アモルファスとして得た。（収率７９％）
８−ベンゾイルオキシメチル−７−（５−フルオロ−２−メトキシフェニル）−１，３，３−トリメチル−３，４−ジヒドロ−１Ｈ−キノキサリン−２−オン（化合物５−１）
８−ベンゾイルオキシメチル−７−（５−フルオロ−２−メトキシフェニル）−３，３−ジメチル−３，４−ジヒドロ−１Ｈ−キノキサリン−２−オン（化合物１−３、４２．９ｍｇ、０．０９９ｍｍｏｌ）、よう化メチル（３０．７μL、０．４９ｍｍｏｌ）及び炭酸セシウム（８９．０ｍｇ、０．２７ｍｍｏｌ）の混合物を無水Ｎ，Ｎ−ジメチルホルムアミド（１ｍL）に懸濁し、室温で１．５時間攪拌した。酢酸エチル（１００ｍL）を加え希釈した。水（１００ｍL）及び飽和食塩水（５０ｍL）で順次洗浄し、無水硫酸マグネシウムで乾燥後、減圧下溶媒を留去した。得られた残留物をシリカゲルカラムクロマトグラフィー（ヘキサン−酢酸エチル）で精製することにより標記化合物（３５．０ｍｇ）を無色アモルファスとして得た。（収率７９％）
以下、化合物１−４〜１−７、２−１〜２−６、２−１３、３−１〜３−６、４−１〜４−４、２２及び市販化合物から選択される化合物を使用し、化合物５−１の製造方法に準じて、化合物５−２〜５−２５を得た。
実施例６
８−（５−フルオロ−２−メチルフェノキシメチル）−７−（２−メトキシ−４−トリフルオロメトキシフェニル）−１，３，３−トリメチル−３，４−ジヒドロ−１Ｈ−キノキサリン−２−オン（化合物６−１）
アルゴン雰囲気下、７−ブロモ−８−（５−フルオロ−２−メチルフェノキシメチル）−１，３，３−トリメチル−３，４−ジヒドロ−１Ｈ−キノキサリン−２−オン（参考化合物８−１、４９．７ｍｇ、０．１２２ｍｍｏl）、２−メトキシ−４−トリフルオロメトキシフェニルボロン酸（５８．１ｍｇ、０．２４６ｍｍｏl）、炭酸セシウム（１１９ｍｇ、０．３６ｍｍｏl）及び二塩化ビス（トリフェニルホスフィン）パラジウム（ＩＩ）（１２．０ｍｇ、０．０１７１ｍｍｏｌ）の混合物を無水Ｎ，Ｎ−ジメチルホルムアミド（０．５ｍL）に懸濁し、８０℃で２時間攪拌した。放冷後、酢酸エチル（１００ｍL）及び水（１００ｍL）を加えて分配した。有機層を飽和食塩水（５０ｍL）で洗浄し、無水硫酸マグネシウムで乾燥後、減圧下溶媒を留去した。得られた残留物をシリカゲルカラムクロマトグラフィー（ヘキサン−酢酸エチル）で精製することにより標記化合物（５２．７ｍｇ）を無色アモルファスとして得た。（収率８５％）
８−（５−フルオロ−２−メチルフェノキシメチル）−７−（２−メトキシ−４−トリフルオロメトキシフェニル）−１，３，３−トリメチル−３，４−ジヒドロ−１Ｈ−キノキサリン−２−オン（化合物６−１）
アルゴン雰囲気下、７−ブロモ−８−（５−フルオロ−２−メチルフェノキシメチル）−１，３，３−トリメチル−３，４−ジヒドロ−１Ｈ−キノキサリン−２−オン（参考化合物８−１、４９．７ｍｇ、０．１２２ｍｍｏl）、２−メトキシ−４−トリフルオロメトキシフェニルボロン酸（５８．１ｍｇ、０．２４６ｍｍｏl）、炭酸セシウム（１１９ｍｇ、０．３６ｍｍｏl）及び二塩化ビス（トリフェニルホスフィン）パラジウム（ＩＩ）（１２．０ｍｇ、０．０１７１ｍｍｏｌ）の混合物を無水Ｎ，Ｎ−ジメチルホルムアミド（０．５ｍL）に懸濁し、８０℃で２時間攪拌した。放冷後、酢酸エチル（１００ｍL）及び水（１００ｍL）を加えて分配した。有機層を飽和食塩水（５０ｍL）で洗浄し、無水硫酸マグネシウムで乾燥後、減圧下溶媒を留去した。得られた残留物をシリカゲルカラムクロマトグラフィー（ヘキサン−酢酸エチル）で精製することにより標記化合物（５２．７ｍｇ）を無色アモルファスとして得た。（収率８５％）
以下、参考化合物８−１〜８−４、１７、１８−１〜１８−５、２０−１、２０−２及び市販化合物から選択される化合物を使用し、化合物６−１の製造方法に準じて、化合物６−２〜６−３４及び６−３７〜６−４３を得た。また、参考化合物１９−２、１９−３及び市販化合物から選択される化合物を使用し、参考化合物２０−１の製造方法に準じた後、さらに参考化合物８−１及び市販化合物から選択される化合物を使用し、化合物６−１の製造方法に準じて、化合物６−３５及び６−３６を得た。
実施例７
８−（５−フルオロ−２−メチルフェノキシメチル）−７−（２−ニトロフェニル）−１，３，３−トリメチル−３，４−ジヒドロ−１Ｈ−キノキサリン−２−オン（化合物７−１）
７−（５，５−ジメチル［１，３，２］ジオキサボリナン−２−イル）−８−（５−フルオロ−２−メチルフェノキシメチル）−１，３，３−トリメチル−３，４−ジヒドロ−１Ｈ−キノキサリン−２−オン（参考化合物２１、６８．２ｍｇ、０．１５５ｍｍｏl）、２−ニトロ−１−ヨードベンゼン（７９．０ｍｇ、０．３１７ｍｍｏl）、炭酸水素ナトリウム（４１．５ｍｇ、０．４９４ｍｍｏl）及びテトラキス（トリフェニルホスフィン）パラジウム（０）（１９．０ｍｇ、０．０１６４ｍｍｏｌ）の混合物をＮ，Ｎ−ジメチルホルムアミド（０．５ｍL）及び水（０．５ｍL）の混合溶媒に懸濁し、マイクロ波を照射して１２０℃で３０分間攪拌した。放冷後、酢酸エチル（１５ｍL）及び水（１５ｍL）を加えて分配した。有機層を飽和食塩水（１５ｍL）で洗浄し、無水硫酸マグネシウムで乾燥後、減圧下溶媒を留去した。得られた残留物をシリカゲルカラムクロマトグラフィー（ヘキサン−酢酸エチル）で精製することにより標記化合物（４２．６ｍｇ）を黄色固体として得た。（収率６１％）
８−（５−フルオロ−２−メチルフェノキシメチル）−７−（２−ニトロフェニル）−１，３，３−トリメチル−３，４−ジヒドロ−１Ｈ−キノキサリン−２−オン（化合物７−１）
７−（５，５−ジメチル［１，３，２］ジオキサボリナン−２−イル）−８−（５−フルオロ−２−メチルフェノキシメチル）−１，３，３−トリメチル−３，４−ジヒドロ−１Ｈ−キノキサリン−２−オン（参考化合物２１、６８．２ｍｇ、０．１５５ｍｍｏl）、２−ニトロ−１−ヨードベンゼン（７９．０ｍｇ、０．３１７ｍｍｏl）、炭酸水素ナトリウム（４１．５ｍｇ、０．４９４ｍｍｏl）及びテトラキス（トリフェニルホスフィン）パラジウム（０）（１９．０ｍｇ、０．０１６４ｍｍｏｌ）の混合物をＮ，Ｎ−ジメチルホルムアミド（０．５ｍL）及び水（０．５ｍL）の混合溶媒に懸濁し、マイクロ波を照射して１２０℃で３０分間攪拌した。放冷後、酢酸エチル（１５ｍL）及び水（１５ｍL）を加えて分配した。有機層を飽和食塩水（１５ｍL）で洗浄し、無水硫酸マグネシウムで乾燥後、減圧下溶媒を留去した。得られた残留物をシリカゲルカラムクロマトグラフィー（ヘキサン−酢酸エチル）で精製することにより標記化合物（４２．６ｍｇ）を黄色固体として得た。（収率６１％）
以下、参考化合物２２及び市販化合物から選択される化合物を使用し、化合物７−１の製造方法に準じて、化合物７−２を得た。
実施例８
７−（５−アミノ−２−メトキシフェニル）−８−（５−フルオロ−２−メチルフェノキシメチル）−１，３，３−トリメチル−３，４−ジヒドロ−１Ｈ−キノキサリン−２−オン（化合物８−１）
８−（５−フルオロ−２−メチルフェノキシメチル）−７−（２−メトキシ−５−ニトロフェニル）−１，３，３−トリメチル−３，４−ジヒドロ−１Ｈ−キノキサリン−２−オン（化合物６−２７、１８．８ｍｇ、０．０３９２ｍｍｏl）及び塩化すず（ＩＩ）（２３．０ｍｇ、０．１２１ｍｍｏｌ）の混合物を無水Ｎ，Ｎ−ジメチルホルムアミド（０．２５ｍL）及び無水エタノール（０．５ｍＬ）の混合溶媒に懸濁し、８０℃で一晩攪拌した。放冷後、酢酸エチル（１０ｍL）で希釈した後、ｐＨが９になるまで飽和炭酸水素ナトリウム水溶液を加えた。析出する固体をろ去した後、母液を水（５０ｍＬ）及び飽和食塩水（５０ｍL）で順次洗浄し、無水硫酸マグネシウムで乾燥後、減圧下溶媒を留去した。得られた残留物をシリカゲルカラムクロマトグラフィー（ヘキサン−酢酸エチル）で精製することにより標記化合物（８．２ｍｇ）を茶色固体として得た。（収率４７％）
７−（５−アミノ−２−メトキシフェニル）−８−（５−フルオロ−２−メチルフェノキシメチル）−１，３，３−トリメチル−３，４−ジヒドロ−１Ｈ−キノキサリン−２−オン（化合物８−１）
８−（５−フルオロ−２−メチルフェノキシメチル）−７−（２−メトキシ−５−ニトロフェニル）−１，３，３−トリメチル−３，４−ジヒドロ−１Ｈ−キノキサリン−２−オン（化合物６−２７、１８．８ｍｇ、０．０３９２ｍｍｏl）及び塩化すず（ＩＩ）（２３．０ｍｇ、０．１２１ｍｍｏｌ）の混合物を無水Ｎ，Ｎ−ジメチルホルムアミド（０．２５ｍL）及び無水エタノール（０．５ｍＬ）の混合溶媒に懸濁し、８０℃で一晩攪拌した。放冷後、酢酸エチル（１０ｍL）で希釈した後、ｐＨが９になるまで飽和炭酸水素ナトリウム水溶液を加えた。析出する固体をろ去した後、母液を水（５０ｍＬ）及び飽和食塩水（５０ｍL）で順次洗浄し、無水硫酸マグネシウムで乾燥後、減圧下溶媒を留去した。得られた残留物をシリカゲルカラムクロマトグラフィー（ヘキサン−酢酸エチル）で精製することにより標記化合物（８．２ｍｇ）を茶色固体として得た。（収率４７％）
以下、化合物６−２８を使用し、化合物８−１の製造方法に準じて、化合物８−２を得た。
実施例９
８−（５−フルオロ−２−メチルフェノキシメチル）−７−（５−ヒドロキシメチル−２−メトキシフェニル）−１，３，３−トリメチル−３，４−ジヒドロ−１Ｈ−キノキサリン−２−オン（化合物９−１）
８−（５−フルオロ−２−メチルフェノキシメチル）−７−（２−メトキシ−５−メトキシカルボニルフェニル）−１，３，３−トリメチル−３，４−ジヒドロ−１Ｈ−キノキサリン−２−オン（化合物６−３７、５０．２ｍｇ、０．１０２ｍｍｏl）を無水テトラヒドロフラン（０．５ｍL）に溶解し、０℃で水素化リチウムアルミニウム（６．８ｍｇ、０．１８ｍｍｏl）を加えた。同温で３０分間攪拌した後、反応液に酢酸エチル（１ｍL）及び水（１ｍL）を順次加えた。さらに酢酸エチル（１０ｍL）及び水（１０ｍL）を加えて分配した。有機層を飽和食塩水（１０ｍL）で洗浄し、無水硫酸マグネシウムで乾燥後、減圧下溶媒を留去した。得られた残留物をシリカゲルカラムクロマトグラフィー（ヘキサン−酢酸エチル）で精製することにより標記化合物（２９．８ｍｇ）を淡黄色固体して得た。（収率６３％）
８−（５−フルオロ−２−メチルフェノキシメチル）−７−（５−ヒドロキシメチル−２−メトキシフェニル）−１，３，３−トリメチル−３，４−ジヒドロ−１Ｈ−キノキサリン−２−オン（化合物９−１）
８−（５−フルオロ−２−メチルフェノキシメチル）−７−（２−メトキシ−５−メトキシカルボニルフェニル）−１，３，３−トリメチル−３，４−ジヒドロ−１Ｈ−キノキサリン−２−オン（化合物６−３７、５０．２ｍｇ、０．１０２ｍｍｏl）を無水テトラヒドロフラン（０．５ｍL）に溶解し、０℃で水素化リチウムアルミニウム（６．８ｍｇ、０．１８ｍｍｏl）を加えた。同温で３０分間攪拌した後、反応液に酢酸エチル（１ｍL）及び水（１ｍL）を順次加えた。さらに酢酸エチル（１０ｍL）及び水（１０ｍL）を加えて分配した。有機層を飽和食塩水（１０ｍL）で洗浄し、無水硫酸マグネシウムで乾燥後、減圧下溶媒を留去した。得られた残留物をシリカゲルカラムクロマトグラフィー（ヘキサン−酢酸エチル）で精製することにより標記化合物（２９．８ｍｇ）を淡黄色固体して得た。（収率６３％）
以下、化合物６−４２を使用し、化合物９−１の製造方法に準じて、化合物９−２を得た。
実施例１０
７−（５−カルボキシ−２−メトキシフェニル）−８−（５−フルオロ−２−メチルフェノキシメチル）−１，３，３−トリメチル−３，４−ジヒドロ−１Ｈ−キノキサリン−２−オン（化合物１０−１）
８−（５−フルオロ−２−メチルフェノキシメチル）−７−（２−メトキシ−５−メトキシカルボニルフェニル）−１，３，３−トリメチル−３，４−ジヒドロ−１Ｈ−キノキサリン−２−オン（化合物６−３７、５０．５ｍｇ、０．１０３ｍｍｏl）をテトラヒドロフラン（１ｍL）及びメタノール（１ｍL）の混合溶媒に溶解し、４規定水酸化ナトリウム水溶液（０．５ｍＬ）を加え、室温で一晩攪拌した。反応液に酢酸エチル（１５ｍL）及び０．２５規定塩酸（２０ｍL）を加えて分配した。有機層を飽和食塩水（１５ｍL）で洗浄し、無水硫酸マグネシウムで乾燥後、減圧下溶媒を留去した。得られた残留物をシリカゲルカラムクロマトグラフィー（ヘキサン−酢酸エチル）で精製した。得られた残留物をクロロホルム（３ｍＬ）でろ取することにより標記化合物（２０．３ｍｇ）を淡黄色固体して得た。（収率４２％）
７−（５−カルボキシ−２−メトキシフェニル）−８−（５−フルオロ−２−メチルフェノキシメチル）−１，３，３−トリメチル−３，４−ジヒドロ−１Ｈ−キノキサリン−２−オン（化合物１０−１）
８−（５−フルオロ−２−メチルフェノキシメチル）−７−（２−メトキシ−５−メトキシカルボニルフェニル）−１，３，３−トリメチル−３，４−ジヒドロ−１Ｈ−キノキサリン−２−オン（化合物６−３７、５０．５ｍｇ、０．１０３ｍｍｏl）をテトラヒドロフラン（１ｍL）及びメタノール（１ｍL）の混合溶媒に溶解し、４規定水酸化ナトリウム水溶液（０．５ｍＬ）を加え、室温で一晩攪拌した。反応液に酢酸エチル（１５ｍL）及び０．２５規定塩酸（２０ｍL）を加えて分配した。有機層を飽和食塩水（１５ｍL）で洗浄し、無水硫酸マグネシウムで乾燥後、減圧下溶媒を留去した。得られた残留物をシリカゲルカラムクロマトグラフィー（ヘキサン−酢酸エチル）で精製した。得られた残留物をクロロホルム（３ｍＬ）でろ取することにより標記化合物（２０．３ｍｇ）を淡黄色固体して得た。（収率４２％）
以下、化合物６−４２を使用し、化合物１０−１の製造方法に準じて、化合物１０−２を得た。
実施例１１
８−（５−フルオロ−２−メチルフェノキシメチル）−７−（４−ヒドロキシ−２−メトキシフェニル）−１，３，３−トリメチル−３，４−ジヒドロ−１Ｈ−キノキサリン−２−オン（化合物１１）
７−（４−ベンゾイルオキシ−２−メトキシフェニル）−８−（５−フルオロ−２−メチルフェノキシメチル）−１，３，３−トリメチル−３，４−ジヒドロ−１Ｈ−キノキサリン−２−オン（化合物６−３１、４２２ｍｇ、０．７６１ｍｍｏｌ）をメタノール（２ｍL）及びテトラヒドロフラン（２ｍL）の混合溶液に溶解し、４規定水酸化ナトリウム水溶液（０．７６１ｍL、３．０４ｍｍｏｌ）を加えた。反応液を室温で４０分間攪拌した後、水（１００ｍL）及び１N塩酸（４ｍL）を加えた。酢酸エチル（１００ｍL）で抽出した後、有機層を水（１００ｍL）及び飽和食塩水（５０ｍL）で順次洗浄し、無水硫酸マグネシウムで乾燥後、減圧下溶媒を留去した。得られた残留物をヘキサン（１０ｍL）及び酢酸エチル（１０ｍL）の混合溶液で濾取することにより標記化合物（２９２ｍｇ）を無色固体として得た。（収率８５％）
８−（５−フルオロ−２−メチルフェノキシメチル）−７−（４−ヒドロキシ−２−メトキシフェニル）−１，３，３−トリメチル−３，４−ジヒドロ−１Ｈ−キノキサリン−２−オン（化合物１１）
７−（４−ベンゾイルオキシ−２−メトキシフェニル）−８−（５−フルオロ−２−メチルフェノキシメチル）−１，３，３−トリメチル−３，４−ジヒドロ−１Ｈ−キノキサリン−２−オン（化合物６−３１、４２２ｍｇ、０．７６１ｍｍｏｌ）をメタノール（２ｍL）及びテトラヒドロフラン（２ｍL）の混合溶液に溶解し、４規定水酸化ナトリウム水溶液（０．７６１ｍL、３．０４ｍｍｏｌ）を加えた。反応液を室温で４０分間攪拌した後、水（１００ｍL）及び１N塩酸（４ｍL）を加えた。酢酸エチル（１００ｍL）で抽出した後、有機層を水（１００ｍL）及び飽和食塩水（５０ｍL）で順次洗浄し、無水硫酸マグネシウムで乾燥後、減圧下溶媒を留去した。得られた残留物をヘキサン（１０ｍL）及び酢酸エチル（１０ｍL）の混合溶液で濾取することにより標記化合物（２９２ｍｇ）を無色固体として得た。（収率８５％）
実施例１２
７−（２−メトキシ−４−メトキシメトキシフェニル）−８−［N−（２−メトキシフェニル）−N−（９−フルオレニルメトキシカルボニル）アミノメチル］−１，３，３−トリメチル−３，４−ジヒドロ−１Ｈ−キノキサリン−２−オン（化合物１２−１）
７−（２−メトキシ−４−メトキシメトキシフェニル）−８−（２−メトキシフェニルアミノメチル）−１，３，３−トリメチル−３，４−ジヒドロ−１Ｈ−キノキサリン−２−オン（化合物６−３９、１０４ｍｇ、０．２１２ｍｍｏｌ）及び炭酸水素ナトリウム（２２．０ｍｇ、０．２６２ｍｍｏｌ）を１，４−ジオキサン（１．５ｍL）及び水（１ｍL）の混合溶液に溶解し、塩化９−フルオレニルメトキシカルボニル（６０．３ｍｇ、０．２３３ｍｍｏｌ）を加えた。反応液を室温で３０分間攪拌した後、酢酸エチル（５０ｍL）を加え希釈した。水（５０ｍL）及び飽和食塩水（５０ｍL）で順次洗浄し、無水硫酸マグネシウムで乾燥後、減圧下溶媒を留去した。得られた残留物をシリカゲルカラムクロマトグラフィー（ヘキサン−酢酸エチル）で精製することにより標記化合物（１４９ｍｇ）を無色アモルファスとして得た。（収率９９％）
７−（２−メトキシ−４−メトキシメトキシフェニル）−８−［N−（２−メトキシフェニル）−N−（９−フルオレニルメトキシカルボニル）アミノメチル］−１，３，３−トリメチル−３，４−ジヒドロ−１Ｈ−キノキサリン−２−オン（化合物１２−１）
７−（２−メトキシ−４−メトキシメトキシフェニル）−８−（２−メトキシフェニルアミノメチル）−１，３，３−トリメチル−３，４−ジヒドロ−１Ｈ−キノキサリン−２−オン（化合物６−３９、１０４ｍｇ、０．２１２ｍｍｏｌ）及び炭酸水素ナトリウム（２２．０ｍｇ、０．２６２ｍｍｏｌ）を１，４−ジオキサン（１．５ｍL）及び水（１ｍL）の混合溶液に溶解し、塩化９−フルオレニルメトキシカルボニル（６０．３ｍｇ、０．２３３ｍｍｏｌ）を加えた。反応液を室温で３０分間攪拌した後、酢酸エチル（５０ｍL）を加え希釈した。水（５０ｍL）及び飽和食塩水（５０ｍL）で順次洗浄し、無水硫酸マグネシウムで乾燥後、減圧下溶媒を留去した。得られた残留物をシリカゲルカラムクロマトグラフィー（ヘキサン−酢酸エチル）で精製することにより標記化合物（１４９ｍｇ）を無色アモルファスとして得た。（収率９９％）
以下、化合物６−４１及び市販化合物から選択される化合物を使用し、化合物１２−１の製造方法に準じて、化合物１２−２を得た。
実施例１３
７−（４−ヒドロキシ−２−メトキシフェニル）−８−［N−（２−メトキシフェニル）−N−（９−フルオレニルメトキシカルボニル）アミノメチル］−１，３，３−トリメチル−３，４−ジヒドロ−１Ｈ−キノキサリン−２−オン（化合物１３−１）
７−（２−メトキシ−４−メトキシメトキシフェニル）−８−［N−（２−メトキシフェニル）−N−（９−フルオレニルメトキシカルボニル）アミノメチル］−１，３，３−トリメチル−３，４−ジヒドロ−１Ｈ−キノキサリン−２−オン（化合物１２−１、１３７ｍｇ、０．１９２ｍｍｏｌ）を１，４−ジオキサン（１ｍL）に溶解し、４規定塩化水素／１，４−ジオキサン溶液（１４４μL、０．５７６ｍｍｏｌ）を加えた。反応液を室温で２時間攪拌した後、酢酸エチル（１００ｍL）を加え希釈した。水（１００ｍL）及び飽和食塩水（５０ｍL）で順次洗浄し、無水硫酸マグネシウムで乾燥後、減圧下溶媒を留去した。得られた残留物をシリカゲルカラムクロマトグラフィー（ヘキサン−酢酸エチル）で精製することにより標記化合物（７１．６ｍｇ）を無色固体として得た。（収率５６％）
７−（４−ヒドロキシ−２−メトキシフェニル）−８−［N−（２−メトキシフェニル）−N−（９−フルオレニルメトキシカルボニル）アミノメチル］−１，３，３−トリメチル−３，４−ジヒドロ−１Ｈ−キノキサリン−２−オン（化合物１３−１）
７−（２−メトキシ−４−メトキシメトキシフェニル）−８−［N−（２−メトキシフェニル）−N−（９−フルオレニルメトキシカルボニル）アミノメチル］−１，３，３−トリメチル−３，４−ジヒドロ−１Ｈ−キノキサリン−２−オン（化合物１２−１、１３７ｍｇ、０．１９２ｍｍｏｌ）を１，４−ジオキサン（１ｍL）に溶解し、４規定塩化水素／１，４−ジオキサン溶液（１４４μL、０．５７６ｍｍｏｌ）を加えた。反応液を室温で２時間攪拌した後、酢酸エチル（１００ｍL）を加え希釈した。水（１００ｍL）及び飽和食塩水（５０ｍL）で順次洗浄し、無水硫酸マグネシウムで乾燥後、減圧下溶媒を留去した。得られた残留物をシリカゲルカラムクロマトグラフィー（ヘキサン−酢酸エチル）で精製することにより標記化合物（７１．６ｍｇ）を無色固体として得た。（収率５６％）
以下、化合物５−２０及び１２−２を使用し、化合物１３−１の製造方法に準じて、化合物１３−２及び１３−３を得た。
実施例１４
７−（４−ブチリルオキシ−２−メトキシフェニル）−８−（５−フルオロ−２−メチルフェノキシメチル）−１，３，３−トリメチル−３，４−ジヒドロ−１Ｈ−キノキサリン−２−オン（化合物１４−１）
８−（５−フルオロ−２−メチルフェノキシメチル）−７−（４−ヒドロキシ−２−メトキシフェニル）−１，３，３−トリメチル−３，４−ジヒドロ−１Ｈ−キノキサリン−２−オン（化合物１１、２５ｍｇ、０．０５５ｍｍｏｌ）をテトラヒドロフラン（１ｍL）に溶解し、トリエチルアミン（２０μL、０．１４ｍｍｏｌ）及び塩化ブチリル（７．６μL、０．０７３ｍｍｏｌ）を順次加えた。反応液を室温で１時間攪拌した後、シリカゲルカラムクロマトグラフィー（ヘキサン−酢酸エチル）で精製することにより標記化合物（２７ｍｇ）を無色アモルファスとして得た。（収率９２％）
７−（４−ブチリルオキシ−２−メトキシフェニル）−８−（５−フルオロ−２−メチルフェノキシメチル）−１，３，３−トリメチル−３，４−ジヒドロ−１Ｈ−キノキサリン−２−オン（化合物１４−１）
８−（５−フルオロ−２−メチルフェノキシメチル）−７−（４−ヒドロキシ−２−メトキシフェニル）−１，３，３−トリメチル−３，４−ジヒドロ−１Ｈ−キノキサリン−２−オン（化合物１１、２５ｍｇ、０．０５５ｍｍｏｌ）をテトラヒドロフラン（１ｍL）に溶解し、トリエチルアミン（２０μL、０．１４ｍｍｏｌ）及び塩化ブチリル（７．６μL、０．０７３ｍｍｏｌ）を順次加えた。反応液を室温で１時間攪拌した後、シリカゲルカラムクロマトグラフィー（ヘキサン−酢酸エチル）で精製することにより標記化合物（２７ｍｇ）を無色アモルファスとして得た。（収率９２％）
以下、化合物８−２、１１、１３−２及び市販化合物から選択される化合物を使用し、化合物１４−１の製造方法に準じて、化合物１４−２〜１４−６２を得た。
実施例１５
８−（５−フルオロ−２−メチルフェノキシメチル）−７−［２−メトキシ−４−（３−メトキシカルボニルベンゾイルオキシ）フェニル］−１，３，３−トリメチル−３，４−ジヒドロ−１Ｈ−キノキサリン−２−オン（化合物１５−１）
８−（５−フルオロ−２−メチルフェノキシメチル）−７−（４−ヒドロキシ−２−メトキシフェニル）−１，３，３−トリメチル−３，４−ジヒドロ−１Ｈ−キノキサリン−２−オン（化合物１１、２５．３ｍｇ、０．０５６２ｍｍｏｌ）、イソフタル酸モノメチル（２０．５ｍｇ、０．１１４ｍｍｏｌ）、Ｎ，Ｎ−ジイソプロピルエチルアミン（３８．８μＬ、０．２２３ｍｍｏ）及びＯ−（７−アザベンゾトリアゾール−１−イル）−Ｎ，Ｎ，Ｎ，Ｎ−テトラメチルウロニウムヘキサフルオロホスフェート（４３．４ｍｇ、０．１１４ｍｍｏｌ）の混合物を無水Ｎ，Ｎ−ジメチルホルムアミド（０．５ｍｌ）に溶解し、室温で一晩攪拌した。反応液に酢酸エチル（１５ｍL）を加え希釈した。水（１５ｍL）及び飽和食塩水（１５ｍL）で順次洗浄し、無水硫酸マグネシウムで乾燥後、減圧下溶媒を留去した。得られた残留物をシリカゲルカラムクロマトグラフィー（ヘキサン−酢酸エチル）で精製することにより標記化合物（２２．０ｍｇ）を無色固体として得た。（収率６４％）
８−（５−フルオロ−２−メチルフェノキシメチル）−７−［２−メトキシ−４−（３−メトキシカルボニルベンゾイルオキシ）フェニル］−１，３，３−トリメチル−３，４−ジヒドロ−１Ｈ−キノキサリン−２−オン（化合物１５−１）
８−（５−フルオロ−２−メチルフェノキシメチル）−７−（４−ヒドロキシ−２−メトキシフェニル）−１，３，３−トリメチル−３，４−ジヒドロ−１Ｈ−キノキサリン−２−オン（化合物１１、２５．３ｍｇ、０．０５６２ｍｍｏｌ）、イソフタル酸モノメチル（２０．５ｍｇ、０．１１４ｍｍｏｌ）、Ｎ，Ｎ−ジイソプロピルエチルアミン（３８．８μＬ、０．２２３ｍｍｏ）及びＯ−（７−アザベンゾトリアゾール−１−イル）−Ｎ，Ｎ，Ｎ，Ｎ−テトラメチルウロニウムヘキサフルオロホスフェート（４３．４ｍｇ、０．１１４ｍｍｏｌ）の混合物を無水Ｎ，Ｎ−ジメチルホルムアミド（０．５ｍｌ）に溶解し、室温で一晩攪拌した。反応液に酢酸エチル（１５ｍL）を加え希釈した。水（１５ｍL）及び飽和食塩水（１５ｍL）で順次洗浄し、無水硫酸マグネシウムで乾燥後、減圧下溶媒を留去した。得られた残留物をシリカゲルカラムクロマトグラフィー（ヘキサン−酢酸エチル）で精製することにより標記化合物（２２．０ｍｇ）を無色固体として得た。（収率６４％）
以下、化合物８−２、１１、１３−２及び市販化合物から選択される化合物を使用し、化合物１５−１の製造方法に準じて、化合物１５−２〜１５−３２を得た。
実施例１６
８−（５−フルオロ−２−メチルフェノキシメチル）−７−［２−メトキシ−４−［Ｎ−メチル−Ｎ−（ピリジン−４−イルカルボニル）アミノ］フェニル］−１，３，３−トリメチル−３，４−ジヒドロ−１Ｈ−キノキサリン−２−オン（化合物１６−１）
８−（５−フルオロ−２−メチルフェノキシメチル）−７−［２−メトキシ−４−（ピリジン−４−イルカルボニルアミノ）フェニル］−１，３，３−トリメチル−３，４−ジヒドロ−１Ｈ−キノキサリン−２−オン（化合物１４−２１、１３．９ｍｇ、０．０２５１ｍｍｏｌ）、炭酸セシウム（４１．７ｍｇ、０．１２８ｍｍｏｌ）及びよう化メチル（４．７μＬ、０．０７５ｍｍｏｌ）の混合物を無水Ｎ，Ｎ−ジメチルホルムアミド（０．５ｍｌ）に懸濁し、室温で３時間攪拌した。反応液に酢酸エチル（１０ｍL）を加え希釈した。水（１０ｍL）及び飽和食塩水（１０ｍL）で順次洗浄し、無水硫酸マグネシウムで乾燥後、減圧下溶媒を留去した。得られた残留物をシリカゲルカラムクロマトグラフィー（ヘキサン−酢酸エチル）で精製することにより標記化合物（４．６ｍｇ）を黄色アモルファスとして得た。（収率３２％）
８−（５−フルオロ−２−メチルフェノキシメチル）−７−［２−メトキシ−４−［Ｎ−メチル−Ｎ−（ピリジン−４−イルカルボニル）アミノ］フェニル］−１，３，３−トリメチル−３，４−ジヒドロ−１Ｈ−キノキサリン−２−オン（化合物１６−１）
８−（５−フルオロ−２−メチルフェノキシメチル）−７−［２−メトキシ−４−（ピリジン−４−イルカルボニルアミノ）フェニル］−１，３，３−トリメチル−３，４−ジヒドロ−１Ｈ−キノキサリン−２−オン（化合物１４−２１、１３．９ｍｇ、０．０２５１ｍｍｏｌ）、炭酸セシウム（４１．７ｍｇ、０．１２８ｍｍｏｌ）及びよう化メチル（４．７μＬ、０．０７５ｍｍｏｌ）の混合物を無水Ｎ，Ｎ−ジメチルホルムアミド（０．５ｍｌ）に懸濁し、室温で３時間攪拌した。反応液に酢酸エチル（１０ｍL）を加え希釈した。水（１０ｍL）及び飽和食塩水（１０ｍL）で順次洗浄し、無水硫酸マグネシウムで乾燥後、減圧下溶媒を留去した。得られた残留物をシリカゲルカラムクロマトグラフィー（ヘキサン−酢酸エチル）で精製することにより標記化合物（４．６ｍｇ）を黄色アモルファスとして得た。（収率３２％）
以下、化合物１４−１７〜１４−２０及び市販化合物から選択される化合物を使用し、化合物１６−１の製造方法に準じて、化合物１６−２〜１６−５を得た。
実施例１７
７−［４−（３−クロロフェニルアミノカルボニルオキシ）−２−メトキシフェニル］−８−（５−フルオロ−２−メチルフェノキシメチル）−１，３，３−トリメチル−３，４−ジヒドロ−１Ｈ−キノキサリン−２−オン（化合物１７−１）
８−（５−フルオロ−２−メチルフェノキシメチル）−７−（４−ヒドロキシ−２−メトキシフェニル）−１，３，３−トリメチル−３，４−ジヒドロ−１Ｈ−キノキサリン−２−オン（化合物１１、２０．３ｍｇ、０．０４５１ｍｍｏｌ）を無水ジクロロメタン（０．５ｍL）に溶解し、トリエチルアミン（１３．６μL、０．０９７７ｍｍｏｌ）及びイソシアン酸３−クロロフェニル（６μL、０．０５ｍｍｏｌ）を順次加えた。反応液を室温で１時間攪拌した後、シリカゲルカラムクロマトグラフィー（ヘキサン−酢酸エチル）で精製することにより標記化合物（２２．４ｍｇ）を無色固体として得た。（収率８２％）
７−［４−（３−クロロフェニルアミノカルボニルオキシ）−２−メトキシフェニル］−８−（５−フルオロ−２−メチルフェノキシメチル）−１，３，３−トリメチル−３，４−ジヒドロ−１Ｈ−キノキサリン−２−オン（化合物１７−１）
８−（５−フルオロ−２−メチルフェノキシメチル）−７−（４−ヒドロキシ−２−メトキシフェニル）−１，３，３−トリメチル−３，４−ジヒドロ−１Ｈ−キノキサリン−２−オン（化合物１１、２０．３ｍｇ、０．０４５１ｍｍｏｌ）を無水ジクロロメタン（０．５ｍL）に溶解し、トリエチルアミン（１３．６μL、０．０９７７ｍｍｏｌ）及びイソシアン酸３−クロロフェニル（６μL、０．０５ｍｍｏｌ）を順次加えた。反応液を室温で１時間攪拌した後、シリカゲルカラムクロマトグラフィー（ヘキサン−酢酸エチル）で精製することにより標記化合物（２２．４ｍｇ）を無色固体として得た。（収率８２％）
以下、化合物８−２、１１、１３−２及び市販化合物から選択される化合物を使用し、化合物１７−１の製造方法に準じて、化合物１７−２〜１７−１７を得た。
実施例１８
８−（５−フルオロ−２−メチルフェノキシメチル）−７−［２−メトキシ−４−（モルホリン−４−イルカルボニルオキシ）フェニル］−１，３，３−トリメチル−３，４−ジヒドロ−１Ｈ−キノキサリン−２−オン（化合物１８−１）
８−（５−フルオロ−２−メチルフェノキシメチル）−７−（４−ヒドロキシ−２−メトキシフェニル）−１，３，３−トリメチル−３，４−ジヒドロ−１Ｈ−キノキサリン−２−オン（化合物１１、１５３ｍｇ、０．３４０ｍｍｏｌ）、１，１’−カルボニルジイミダゾール（９５．６ｍｇ、０．５９０ｍｍｏｌ）及び４−ジメチルアミノピリジン（５．２ｍｇ、０．０４３ｍｍｏｌ）の混合物を無水テトラヒドロフラン（３ｍｌ）に溶解し、室温で１時間攪拌した。反応液にモルホリン（５８．３μＬ、０．６６６ｍｍｏｌ）を加え、さらに２時間攪拌した後、シリカゲルカラムクロマトグラフィー（ヘキサン−酢酸エチル）で精製することにより標記化合物（６１．２ｍｇ）を無色固体として得た。（収率３２％）
８−（５−フルオロ−２−メチルフェノキシメチル）−７−［２−メトキシ−４−（モルホリン−４−イルカルボニルオキシ）フェニル］−１，３，３−トリメチル−３，４−ジヒドロ−１Ｈ−キノキサリン−２−オン（化合物１８−１）
８−（５−フルオロ−２−メチルフェノキシメチル）−７−（４−ヒドロキシ−２−メトキシフェニル）−１，３，３−トリメチル−３，４−ジヒドロ−１Ｈ−キノキサリン−２−オン（化合物１１、１５３ｍｇ、０．３４０ｍｍｏｌ）、１，１’−カルボニルジイミダゾール（９５．６ｍｇ、０．５９０ｍｍｏｌ）及び４−ジメチルアミノピリジン（５．２ｍｇ、０．０４３ｍｍｏｌ）の混合物を無水テトラヒドロフラン（３ｍｌ）に溶解し、室温で１時間攪拌した。反応液にモルホリン（５８．３μＬ、０．６６６ｍｍｏｌ）を加え、さらに２時間攪拌した後、シリカゲルカラムクロマトグラフィー（ヘキサン−酢酸エチル）で精製することにより標記化合物（６１．２ｍｇ）を無色固体として得た。（収率３２％）
以下、化合物１１及び市販化合物から選択される化合物を使用し、化合物１８−１の製造方法に準じて、化合物１８−２及び１８−３を得た。
実施例１９
８−（５−フルオロ−２−メチルフェノキシメチル）−７−［２−メトキシ−４−（Ｎ−メチル−Ｎ−フェニルアミノカルボニルオキシ）フェニル］−１，３，３−トリメチル−３，４−ジヒドロ−１Ｈ−キノキサリン−２−オン（化合物１９）
８−（５−フルオロ−２−メチルフェノキシメチル）−７−（４−ヒドロキシ−２−メトキシフェニル）−１，３，３−トリメチル−３，４−ジヒドロ−１Ｈ−キノキサリン−２−オン（化合物１１、２５．４ｍｇ、０．０５６４ｍｍｏｌ）及び塩化Ｎ−メチル−Ｎ−フェニルカルバモイル（２０．４ｍｇ、０．１２０ｍｍｏｌ）の混合物をピリジン（１ｍｌ）に溶解し、１００℃で２時間攪拌した。反応液を濃縮し、得られた残留物をシリカゲルカラムクロマトグラフィー（ヘキサン−酢酸エチル）で精製することにより標記化合物（２８．７ｍｇ）を淡黄色アモルファスとして得た。（収率８７％）
８−（５−フルオロ−２−メチルフェノキシメチル）−７−［２−メトキシ−４−（Ｎ−メチル−Ｎ−フェニルアミノカルボニルオキシ）フェニル］−１，３，３−トリメチル−３，４−ジヒドロ−１Ｈ−キノキサリン−２−オン（化合物１９）
８−（５−フルオロ−２−メチルフェノキシメチル）−７−（４−ヒドロキシ−２−メトキシフェニル）−１，３，３−トリメチル−３，４−ジヒドロ−１Ｈ−キノキサリン−２−オン（化合物１１、２５．４ｍｇ、０．０５６４ｍｍｏｌ）及び塩化Ｎ−メチル−Ｎ−フェニルカルバモイル（２０．４ｍｇ、０．１２０ｍｍｏｌ）の混合物をピリジン（１ｍｌ）に溶解し、１００℃で２時間攪拌した。反応液を濃縮し、得られた残留物をシリカゲルカラムクロマトグラフィー（ヘキサン−酢酸エチル）で精製することにより標記化合物（２８．７ｍｇ）を淡黄色アモルファスとして得た。（収率８７％）
実施例２０
７−（４−アミノアセチルアミノ−２−メトキシフェニル）−８−（５−フルオロ−２−メチルフェノキシメチル）−１，３，３−トリメチル−３，４−ジヒドロ−１Ｈ−キノキサリン−２−オン 一塩酸塩（化合物２０）
７−（４−ｔｅｒｔ−ブトキシカルボニルアミノアセチルアミノ−２−メトキシフェニル）−８−（５−フルオロ−２−メチルフェノキシメチル）−１，３，３−トリメチル−３，４−ジヒドロ−１Ｈ−キノキサリン−２−オン（化合物１５−３１、１０．５ｍｇ、０．０１７３ｍｍｏｌ）を１，４−ジオキサン（０．２ｍL）に溶解し、４規定塩化水素／１，４−ジオキサン溶液（４１．３μL、０．１６５ｍｍｏｌ）を加えた。反応液を室温で４時間攪拌した後、ヘキサン（１０ｍL）を加え希釈した。析出した固体を濾取することにより標記化合物（７．８ｍｇ）を淡黄色固体として得た。（収率８３％）
７−（４−アミノアセチルアミノ−２−メトキシフェニル）−８−（５−フルオロ−２−メチルフェノキシメチル）−１，３，３−トリメチル−３，４−ジヒドロ−１Ｈ−キノキサリン−２−オン 一塩酸塩（化合物２０）
７−（４−ｔｅｒｔ−ブトキシカルボニルアミノアセチルアミノ−２−メトキシフェニル）−８−（５−フルオロ−２−メチルフェノキシメチル）−１，３，３−トリメチル−３，４−ジヒドロ−１Ｈ−キノキサリン−２−オン（化合物１５−３１、１０．５ｍｇ、０．０１７３ｍｍｏｌ）を１，４−ジオキサン（０．２ｍL）に溶解し、４規定塩化水素／１，４−ジオキサン溶液（４１．３μL、０．１６５ｍｍｏｌ）を加えた。反応液を室温で４時間攪拌した後、ヘキサン（１０ｍL）を加え希釈した。析出した固体を濾取することにより標記化合物（７．８ｍｇ）を淡黄色固体として得た。（収率８３％）
実施例２１
８−（２−メトキシフェニルアミノメチル）−７−［２−メトキシ−４−（ピリジン−３−イルカルボニルオキシ）フェニル］−１，３，３−トリメチル−３，４−ジヒドロ−１Ｈ−キノキサリン−２−オン（化合物２１−１）
７−（４−ヒドロキシ−２−メトキシフェニル）−８−［N−（２−メトキシフェニル）−N−（９−フルオレニルメトキシカルボニル）アミノメチル］−１，３，３−トリメチル−３，４−ジヒドロ−１Ｈ−キノキサリン−２−オン（化合物１３−１、３０．０ｍｇ、０．０４４８ｍｍｏｌ）をテトラヒドロフラン（１ｍL）及びジクロロメタン（１ｍL）の混合溶液に溶解し、トリエチルアミン（２５μL、０．１８ｍｍｏｌ）及び塩化ニコチン酸一塩酸塩（１２．０ｍｇ、０．０６７４ｍｍｏｌ）を順次加えた。反応液を室温で４０分間攪拌した後、シリカゲルカラムクロマトグラフィー（ヘキサン−酢酸エチル）で精製した。得られた無色アモルファスをＮ，Ｎ−ジメチルホルムアミド（１ｍＬ）に溶解し、ピペリジン（５０μＬ）を加えた。反応液を室温で２０分間攪拌した後、酢酸エチル（５０ｍL）で希釈した。水（５０ｍL）及び飽和食塩水（５０ｍL）で順次洗浄し、無水硫酸マグネシウムで乾燥後、減圧下溶媒を留去した。得られた残留物をシリカゲルカラムクロマトグラフィー（ヘキサン−酢酸エチル）で精製することにより標記化合物（１３．０ｍｇ）を無色固体として得た。（収率５２％）
８−（２−メトキシフェニルアミノメチル）−７−［２−メトキシ−４−（ピリジン−３−イルカルボニルオキシ）フェニル］−１，３，３−トリメチル−３，４−ジヒドロ−１Ｈ−キノキサリン−２−オン（化合物２１−１）
７−（４−ヒドロキシ−２−メトキシフェニル）−８−［N−（２−メトキシフェニル）−N−（９−フルオレニルメトキシカルボニル）アミノメチル］−１，３，３−トリメチル−３，４−ジヒドロ−１Ｈ−キノキサリン−２−オン（化合物１３−１、３０．０ｍｇ、０．０４４８ｍｍｏｌ）をテトラヒドロフラン（１ｍL）及びジクロロメタン（１ｍL）の混合溶液に溶解し、トリエチルアミン（２５μL、０．１８ｍｍｏｌ）及び塩化ニコチン酸一塩酸塩（１２．０ｍｇ、０．０６７４ｍｍｏｌ）を順次加えた。反応液を室温で４０分間攪拌した後、シリカゲルカラムクロマトグラフィー（ヘキサン−酢酸エチル）で精製した。得られた無色アモルファスをＮ，Ｎ−ジメチルホルムアミド（１ｍＬ）に溶解し、ピペリジン（５０μＬ）を加えた。反応液を室温で２０分間攪拌した後、酢酸エチル（５０ｍL）で希釈した。水（５０ｍL）及び飽和食塩水（５０ｍL）で順次洗浄し、無水硫酸マグネシウムで乾燥後、減圧下溶媒を留去した。得られた残留物をシリカゲルカラムクロマトグラフィー（ヘキサン−酢酸エチル）で精製することにより標記化合物（１３．０ｍｇ）を無色固体として得た。（収率５２％）
以下、化合物１３−１、１３−３及び市販化合物から選択される化合物を使用し、化合物１４−１、１５−１、１７−１又は１８−１の製造方法に準じて使用した後、さらに化合物２１−１の製造方法の一部を準じて使用し、化合物２１−２〜２１−２４を得た。
実施例２２
７−［２−メトキシ−４−（２−メチルベンゾイルオキシ）フェニル］−８−(２−メトキシ−５−ニトロフェノキシメチル）−３，３−ジメチル−３，４−ジヒドロ−１Ｈ−キノキサリン−２−オン（化合物２２）
８−ヒドロキシメチル−７−［２−メトキシ−４−（２−メチルベンゾイルオキシ）フェニル］−３，３−ジメチル−３，４−ジヒドロ−１Ｈ−キノキサリン−２−オン（参考化合物２３、４０．１ｍｇ、０．０８９８ｍｍｏｌ）、２−メトキシ−５−ニトロフェノール（２２．８ｍｇ、０．１３５ｍｍｏｌ）及びトリ−ｎ−ブチルホスフィン（３３．７μＬ、０．１３５ｍｍｏｌ）の混合物を無水テトラヒドロフラン（１ｍL）に溶解し、１，１’−（アゾジカルボニル）ジピペリジン（３４．０ｍｇ、０．１３５ｍｍｏｌ）を加え室温で攪拌した。２０分後に２−メトキシ−５−ニトロフェノール（２３．１ｍｇ、０．１３７ｍｍｏｌ）、トリ−ｎ−ブチルホスフィン（３３．７μＬ、０．１３５ｍｍｏｌ）及び１，１’−（アゾジカルボニル）ジピペリジン（３３．９ｍｇ、０．１３４ｍｍｏｌ）を追加し、８０分後に２−メトキシ−５−ニトロフェノール（２２．９ｍｇ、０．１３５ｍｍｏｌ）、トリ−ｎ−ブチルホスフィン（３３．７μＬ、０．１３５ｍｍｏｌ）及び１，１’−（アゾジカルボニル）ジピペリジン（３４．０ｍｇ、０．１３５ｍｍｏｌ）を追加した。３時間後に攪拌を終了し、反応液を濃縮した。得られた残留物をシリカゲルカラムクロマトグラフィー（ヘキサン−酢酸エチル）で精製することにより標記化合物（２２．１ｍｇ）を淡黄色アモルファスとして得た。（収率４１％）
７−［２−メトキシ−４−（２−メチルベンゾイルオキシ）フェニル］−８−(２−メトキシ−５−ニトロフェノキシメチル）−３，３−ジメチル−３，４−ジヒドロ−１Ｈ−キノキサリン−２−オン（化合物２２）
８−ヒドロキシメチル−７−［２−メトキシ−４−（２−メチルベンゾイルオキシ）フェニル］−３，３−ジメチル−３，４−ジヒドロ−１Ｈ−キノキサリン−２−オン（参考化合物２３、４０．１ｍｇ、０．０８９８ｍｍｏｌ）、２−メトキシ−５−ニトロフェノール（２２．８ｍｇ、０．１３５ｍｍｏｌ）及びトリ−ｎ−ブチルホスフィン（３３．７μＬ、０．１３５ｍｍｏｌ）の混合物を無水テトラヒドロフラン（１ｍL）に溶解し、１，１’−（アゾジカルボニル）ジピペリジン（３４．０ｍｇ、０．１３５ｍｍｏｌ）を加え室温で攪拌した。２０分後に２−メトキシ−５−ニトロフェノール（２３．１ｍｇ、０．１３７ｍｍｏｌ）、トリ−ｎ−ブチルホスフィン（３３．７μＬ、０．１３５ｍｍｏｌ）及び１，１’−（アゾジカルボニル）ジピペリジン（３３．９ｍｇ、０．１３４ｍｍｏｌ）を追加し、８０分後に２−メトキシ−５−ニトロフェノール（２２．９ｍｇ、０．１３５ｍｍｏｌ）、トリ−ｎ−ブチルホスフィン（３３．７μＬ、０．１３５ｍｍｏｌ）及び１，１’−（アゾジカルボニル）ジピペリジン（３４．０ｍｇ、０．１３５ｍｍｏｌ）を追加した。３時間後に攪拌を終了し、反応液を濃縮した。得られた残留物をシリカゲルカラムクロマトグラフィー（ヘキサン−酢酸エチル）で精製することにより標記化合物（２２．１ｍｇ）を淡黄色アモルファスとして得た。（収率４１％）
［製剤例］
本発明化合物の代表的な製剤例を以下に示す。
本発明化合物の代表的な製剤例を以下に示す。
1)錠剤(150mg中)
本発明化合物 1mg
乳糖 100mg
トウモロコシデンプン 40mg
カルボキシメチルセルロースカルシウム 4.5mg
ヒドロキシプロピルセルロース 4mg
ステアリン酸マグネシウム 0.5mg
上記処方の錠剤にコーティング剤(例えば、ヒドロキシプロピルメチルセルロース、マクロゴール、シリコーン樹脂等の通常のコーティング剤)3mgを用いてコーティングを施し、目的とする錠剤を得ることができる。また、本発明化合物並びに添加物の種類及び／又は量を適宜変更することで、所望の錠剤を得ることもできる。
2)カプセル剤(150mg中)
本発明化合物 5mg
乳糖 135mg
カルボキシメチルセルロースカルシウム 4.5mg
ヒドロキシプロピルセルロース 4mg
ステアリン酸マグネシウム 1.5mg
本発明化合物並びに添加剤の種類及び又は量を適宜変更することで、所望のカプセル剤を得ることができる。
3)点眼剤(100ml中)
本発明化合物 100mg
塩化ナトリウム 900mg
ポリソルベート80 500mg
水酸化ナトリウム 適量
塩酸 適量
滅菌精製水 適量
本発明化合物及び添加物の種類及び／又は量を適宜変更することで、所望の点眼剤を得ることができる。
［薬理試験］
１．グルココルチコイド受容体（以下、「GR」とする）結合活性評価試験
GRに対する結合活性を評価するために、偏光蛍光法による受容体競合アッセイを実施した。アッセイにはGR競合アッセイキット（インビトロジェン社製、Cat No.P2816）を使用し、本キットに添付のプロットコールに準じて行った。以下にその具体的な方法を記載する。
１．グルココルチコイド受容体（以下、「GR」とする）結合活性評価試験
GRに対する結合活性を評価するために、偏光蛍光法による受容体競合アッセイを実施した。アッセイにはGR競合アッセイキット（インビトロジェン社製、Cat No.P2816）を使用し、本キットに添付のプロットコールに準じて行った。以下にその具体的な方法を記載する。
(試薬の調製)
GRスクリーニング緩衝液：10 mMリン酸カリウム（pH 7.4）、20 mM モリブデン酸ナトリウム（Na2MoO4）、0.1 mM エチレンジアミン四酢酸（EDTA）、5 mM ジチオスレイトール（DTT）、0.1 mM安定化ペプチド、及び2% ジメチルスルホキシドの緩衝液となるよう調製した。
4×GS1溶液：蛍光グルココルチコイドリガンドであるFluormoneTM GS1をGRスクリーニング緩衝液で希釈して、4 nMの溶液を調製した。
4×GR溶液：リコンビナントヒトGRをGRスクリーニング緩衝液で希釈して、16 nMの溶液を調製した。
(被験化合物溶液の調製)
被験化合物をジメチルスルホキシドに溶解後、GRスクリーニング緩衝液で希釈し、20μMの被験化合物溶液を調製した。
(試験方法及び測定方法)
1)96穴プレートに被験化合物溶液を1ウェルあたり25μLずつ注入し、次いで、4×GS1溶液及び4×GR溶液を1ウェルあたり各々12.5μLずつ添加した。
2)暗所かつ室温で2-4時間インキュベートした。
3)マルチモードプレートリーダーAnalystTM HT（エル・ジェイ・エル バイオシステムズ社製）を使用し、ブランクとして、被験化合物溶液及び4×GS1溶液に代えてGRスクリーニング緩衝液を含むウェルを用いて各ウェルの蛍光偏光を測定した。
4)被験化合物溶液に代えてGRスクリーニング緩衝液を用いて、他は前記1〜3)と同じ操作を実施し、その結果を陰性対照とした。
5)被験化合物溶液に代えて2 mMデキサメタゾンを用いて、他は前記1〜3)と同じ操作を実施し、その結果を陽性対照とした。
(GR結合率の計算式)
GR結合率(%)は以下の式により算出した。
GR結合率(%) ＝ 100×｛1−（被験化合物溶液の蛍光偏光−陽性対照溶液の蛍光偏光）／（陰性対照溶液の蛍光偏光−陽性対照溶液の蛍光偏光）｝
（試験結果及び考察）
試験結果の例として、被験化合物（化合物１−４、化合物２−２、化合物２−９、化合物２−１６、化合物３−７、化合物３−１０、化合物３−１５、化合物３−１６、化合物３−１７、化合物４−５、化合物４−７、化合物４−１０、化合物４−１１、化合物５−１、化合物５−９、化合物５−１４、化合物５−１８、化合物５−１９、化合物５−２１、化合物５−２２、化合物５−２４、化合物６−４、化合物６−８、化合物６−１０、化合物６−１２、化合物６−１５、化合物６−１９、化合物６−２３、化合物６−２７、化合物６−３２、化合物６−３８、化合物８−２、化合物９−１、化合物１１、化合物１３−２、化合物１４−２、化合物１４−４、化合物１４−１１、化合物１４−２１、化合物１４−２２、化合物１４−３０、化合物１４−３３、化合物１４−３５、化合物１４−３６、化合物１４−３７、化合物１４−４４、化合物１５−１、化合物１５−２、化合物１５−４、化合物１５−６、化合物１５−９、化合物１５−１１、化合物１５−１３、化合物１５−１７、化合物１５−２２、化合物１５−２４、化合物１６−３、化合物１７−５、化合物１７−１６、化合物１８−１、化合物１８−２、化合物２１−３、化合物２１−５、化合物２１−１２、化合物２１−１３、化合物２１−２２、化合物２２）のGR結合率(%)を表Ｉに示す。
表Ｉに示したとおり本発明化合物は優れたGR受容体結合活性を示した。よって、本発明化合物はGR受容体モジュレーターとして使用でき、特にGRが関与する疾患、すなわち、代謝異常疾患、炎症性疾患、自己免疫疾患、アレルギー性疾患、中枢神経系疾患、心血管系疾患、ホメオスタシス関連疾患、緑内障等の予防又は治療剤として有用である。
（試験結果及び考察）
試験結果の例として、被験化合物（化合物１−４、化合物２−２、化合物２−９、化合物２−１６、化合物３−７、化合物３−１０、化合物３−１５、化合物３−１６、化合物３−１７、化合物４−５、化合物４−７、化合物４−１０、化合物４−１１、化合物５−１、化合物５−９、化合物５−１４、化合物５−１８、化合物５−１９、化合物５−２１、化合物５−２２、化合物５−２４、化合物６−４、化合物６−８、化合物６−１０、化合物６−１２、化合物６−１５、化合物６−１９、化合物６−２３、化合物６−２７、化合物６−３２、化合物６−３８、化合物８−２、化合物９−１、化合物１１、化合物１３−２、化合物１４−２、化合物１４−４、化合物１４−１１、化合物１４−２１、化合物１４−２２、化合物１４−３０、化合物１４−３３、化合物１４−３５、化合物１４−３６、化合物１４−３７、化合物１４−４４、化合物１５−１、化合物１５−２、化合物１５−４、化合物１５−６、化合物１５−９、化合物１５−１１、化合物１５−１３、化合物１５−１７、化合物１５−２２、化合物１５−２４、化合物１６−３、化合物１７−５、化合物１７−１６、化合物１８−１、化合物１８−２、化合物２１−３、化合物２１−５、化合物２１−１２、化合物２１−１３、化合物２１−２２、化合物２２）のGR結合率(%)を表Ｉに示す。
Claims (21)
- 下記一般式（１）で表される化合物又はその塩。
ｐは０〜５の整数を示し；
ｐが２〜５の場合、各Ｒ1は同一又は異なってもよく；
Ｒ2はハロゲン原子、置換基を有してもよい低級アルキル基、ヒドロキシ基、ヒドロキシ基のエステル又は置換基を有してもよい低級アルコキシ基を示し；
ｑは０〜２の整数を示し；
ｑが２の場合、各Ｒ2は同一又は異なってもよく；
Ｒ3は水素原子、置換基を有してもよい低級アルキル基、置換基を有してもよい低級アルケニル基、置換基を有してもよい低級アルキルカルボニル基、置換基を有してもよい低級アルケニルカルボニル基又は置換基を有してもよいアリールカルボニル基を示し；
Ｒ4及びＲ5は同一又は異なって、水素原子、ハロゲン原子、置換基を有してもよい低級アルキル基、置換基を有してもよい低級アルケニル基、置換基を有してもよい低級アルキニル基、置換基を有してもよい低級シクロアルキル基、置換基を有してもよいアリール基又は置換基を有してもよい複素環基を示し；
Ｒ4とＲ5は一緒になって、置換基を有してもよい３〜８員の低級シクロアルカン環を形成してもよく；
Ｒ６は水素原子、置換基を有してもよい低級アルキル基、置換基を有してもよい低級アルケニル基、置換基を有してもよい低級アルキニル基、置換基を有してもよい低級シクロアルキル基、置換基を有してもよいアリール基又は置換基を有してもよい複素環基を示し；
Ａは置換基を有してもよい低級アルキレン基を示し；
Ｒ7はＯＲ8、ＮＲ8Ｒ9、ＳＲ8、S(O)Ｒ8又はS(O)2Ｒ8を示し；
Ｒ8及びＲ９は同一又は異なって、水素原子、置換基を有してもよい低級アルキル基、置換基を有してもよい低級アルケニル基、置換基を有してもよい低級アルキニル基、置換基を有してもよい低級シクロアルキル基、置換基を有してもよいアリール基、置換基を有してもよい複素環基、ホルミル基、置換基を有してもよい低級アルキルカルボニル基、置換基を有してもよい低級アルケニルカルボニル基、置換基を有してもよい低級アルキニルカルボニル基、置換基を有してもよい低級シクロアルキルカルボニル基、置換基を有してもよいアリールカルボニル基、置換基を有してもよい複素環カルボニル基、カルボキシ基、置換基を有してもよい低級アルコキシカルボニル基、置換基を有してもよい低級アルケニルオキシカルボニル基、置換基を有してもよい低級アルキニルオキシカルボニル基、置換基を有してもよい低級シクロアルキルオキシカルボニル基、置換基を有してもよいアリールオキシカルボニル基、置換基を有してもよい複素環オキシカルボニル基、置換基を有してもよい低級アルキルスルホニル基、置換基を有してもよい低級アルケニルスルホニル基、置換基を有してもよい低級アルキニルスルホニル基、置換基を有してもよい低級シクロアルキルスルホニル基、置換基を有してもよいアリールスルホニル基、置換基を有してもよい複素環スルホニル基、アミノカルボニル基、置換基を有してもよい低級アルキルアミノカルボニル基、置換基を有してもよい低級アルケニルアミノカルボニル基、置換基を有してもよい低級アルキニルアミノカルボニル基、置換基を有してもよい低級シクロアルキルアミノカルボニル基、置換基を有してもよいアリールアミノカルボニル基又は置換基を有してもよい複素環アミノカルボニル基を示し；
Ｒ7がＮＲ8Ｒ9の場合、Ｒ8とＲ9は一緒になって、置換基を有してもよい３〜８員の含窒素複素環を形成してもよく；
XはＯ又はＳを示す。］
- 一般式（１）において、Ｒ1がハロゲン原子、低級アルキル基、低級シクロアルキル基、アリール基、複素環基、ヒドロキシ基、ヒドロキシ基のエステル、低級アルコキシ基、低級シクロアルキルオキシ基、アリールオキシ基、複素環オキシ基、メルカプト基、メルカプト基のエステル、低級アルキルチオ基、低級シクロアルキルチオ基、アリールチオ基、複素環チオ基、アミノ基、低級アルキルアミノ基、低級シクロアルキルアミノ基、アリールアミノ基、複素環アミノ基、アミノ基のアミド、低級アルキルアミノ基のアミド、低級シクロアルキルアミノ基のアミド、アリールアミノ基のアミド、複素環アミノ基のアミド、低級アルキルカルボニル基、低級シクロアルキルカルボニル基、アリールカルボニル基、複素環カルボニル基、カルボキシ基、カルボキシ基のエステル、カルボキシ基のアミド、低級アルキルスルホニル基、低級シクロアルキルスルホニル基、アリールスルホニル基、複素環スルホニル基、スルホン酸基、スルホン酸基のエステル、スルホン酸基のアミド、ニトロ基又はシアノ基を示し；
Ｒ1が低級アルキル基、低級アルコキシ基、低級アルキルチオ基、低級アルキルアミノ基、低級アルキルアミノ基のアミド、低級アルキルカルボニル基又は低級アルキルスルホニル基の場合、該低級アルキル基、該低級アルコキシ基、該低級アルキルチオ基、該低級アルキルアミノ基、該低級アルキルアミノ基のアミド、該低級アルキルカルボニル基又は該低級アルキルスルホニル基はハロゲン原子、低級シクロアルキル基、アリール基、複素環基、ヒドロキシ基、ヒドロキシ基のエステル、低級アルコキシ基、ハロゲン原子で置換された低級アルコキシ基、低級シクロアルキルオキシ基、アリールオキシ基、複素環オキシ基、低級アルキルチオ基、低級シクロアルキルチオ基、アリールチオ基、複素環チオ基、アミノ基、低級アルキルアミノ基、低級シクロアルキルアミノ基、アリールアミノ基、複素環アミノ基、アミノ基のアミド、低級アルキルアミノ基のアミド、低級シクロアルキルアミノ基のアミド、アリールアミノ基のアミド、複素環アミノ基のアミド、低級アルキルカルボニル基、低級シクロアルキルカルボニル基、アリールカルボニル基、複素環カルボニル基、カルボキシ基、カルボキシ基のエステル、カルボキシ基のアミド、低級アルキルスルホニル基、低級シクロアルキルスルホニル基、アリールスルホニル基、複素環スルホニル基、スルホン酸基、スルホン酸基のエステル、スルホン酸基のアミド、ニトロ基及びシアノ基から選択される１又は複数個の基を置換基として有してもよく；
Ｒ1が低級シクロアルキル基、アリール基、複素環基、低級シクロアルキルオキシ基、アリールオキシ基、複素環オキシ基、低級シクロアルキルチオ基、アリールチオ基、複素環チオ基、低級シクロアルキルアミノ基、アリールアミノ基、複素環アミノ基、低級シクロアルキルアミノ基のアミド、アリールアミノ基のアミド、複素環アミノ基のアミド、低級シクロアルキルカルボニル基、アリールカルボニル基、複素環カルボニル基、低級シクロアルキルスルホニル基、アリールスルホニル基又は複素環スルホニル基の場合、該低級シクロアルキル基、該アリール基、該複素環基、該低級シクロアルキルオキシ基、該アリールオキシ基、該複素環オキシ基、該低級シクロアルキルチオ基、該アリールチオ基、該複素環チオ基、該低級シクロアルキルアミノ基、該アリールアミノ基、該複素環アミノ基、該低級シクロアルキルアミノ基のアミド、該アリールアミノ基のアミド、該複素環アミノ基のアミド、該低級シクロアルキルカルボニル基、該アリールカルボニル基、該複素環カルボニル基、該低級シクロアルキルスルホニル基、該アリールスルホニル基又は該複素環スルホニル基はハロゲン原子、低級アルキル基、ハロゲン原子で置換された低級アルキル基、ヒドロキシ基、ヒドロキシ基のエステル、低級アルコキシ基、ハロゲン原子で置換された低級アルコキシ基、低級アルキルチオ基、アミノ基、低級アルキルアミノ基、アミノ基のアミド、低級アルキルアミノ基のアミド、低級アルキルカルボニル基、カルボキシ基、カルボキシ基のエステル、カルボキシ基のアミド、低級アルキルスルホニル基、スルホン酸基、スルホン酸基のエステル、スルホン酸基のアミド、ニトロ基及びシアノ基から選択される１又は複数個の基を置換基として有してもよく；
ｐが０〜３の整数を示し；
ｐが２又は３の場合、各Ｒ1は同一又は異なってもよく；
Ｒ2がハロゲン原子、低級アルキル基、ヒドロキシ基又は低級アルコキシ基を示し；
ｑが０〜２の整数を示し；
ｑが２の場合、各Ｒ2は同一又は異なってもよく；
Ｒ3が水素原子、低級アルキル基、低級アルケニル基、低級アルキルカルボニル基、低級アルケニルカルボニル基又はアリールカルボニル基を示し；
Ｒ3が低級アルキル基又は低級アルキルカルボニル基の場合、該低級アルキル基又は該低級アルキルカルボニル基はハロゲン原子及びアリール基から選択される１又は複数個の基を置換基として有してもよく；
Ｒ3がアリールカルボニル基の場合、該アリールカルボニル基はハロゲン原子、低級アルキル基、ハロゲン原子で置換された低級アルキル基、低級アルコキシ基及びハロゲン原子で置換された低級アルコキシ基から選択される１又は複数個の基を置換基として有してもよく；
Ｒ4及びＲ5が同一又は異なって、水素原子、ハロゲン原子、低級アルキル基、低級シクロアルキル基、アリール又は複素環基を示し；
Ｒ4又はＲ5が低級アルキル基の場合、該低級アルキル基はハロゲン原子、低級シクロアルキル基、アリール基、複素環基、ヒドロキシ基、ヒドロキシ基のエステル、低級アルコキシ基、ハロゲン原子で置換された低級アルコキシ基、低級シクロアルキルオキシ基、アリールオキシ基、複素環オキシ基、低級アルキルチオ基、低級シクロアルキルチオ基、アリールチオ基、複素環チオ基、アミノ基、低級アルキルアミノ基、低級シクロアルキルアミノ基、アリールアミノ基、複素環アミノ基、アミノ基のアミド、低級アルキルアミノ基のアミド、低級シクロアルキルアミノ基のアミド、アリールアミノ基のアミド、複素環アミノ基のアミド、低級アルキルカルボニル基、低級シクロアルキルカルボニル基、アリールカルボニル基、複素環カルボニル基、カルボキシ基、カルボキシ基のエステル、カルボキシ基のアミド、ニトロ基及びシアノ基から選択される１又は複数個の基を置換基として有してもよく；
Ｒ4又はＲ5が低級シクロアルキル基、アリール又は複素環基の場合、該低級シクロアルキル基、該アリール又は該複素環基はハロゲン原子、低級アルキル基、ハロゲン原子で置換された低級アルキル基、ヒドロキシ基、ヒドロキシ基のエステル、低級アルコキシ基、ハロゲン原子で置換された低級アルコキシ基、低級アルキルチオ基、アミノ基、低級アルキルアミノ基、アミノ基のアミド、低級アルキルアミノ基のアミド、低級アルキルカルボニル基、カルボキシ基、カルボキシ基のエステル、カルボキシ基のアミド、低級アルキルスルホニル基、スルホン酸基、スルホン酸基のエステル、スルホン酸基のアミド、ニトロ基及びシアノ基から選択される１又は複数個の基を置換基として有してもよく；
Ｒ4とＲ5が一緒になって、３〜８員の低級シクロアルカン環を形成してもよく；
Ｒ6が水素原子、低級アルキル基、低級アルケニル基、低級アルキニル基又は低級シクロアルキル基を示し；
Ｒ6が低級アルキル基、低級アルケニル基、低級アルキニル基又は低級シクロアルキル基の場合、該低級アルキル基、該低級アルケニル基、該低級アルキニル基又は該低級シクロアルキル基はハロゲン原子及びアリール基から選択される１又は複数個の基を置換基として有してもよく；
Ａがヒドロキシ基又はハロゲン原子で置換されてもよい低級アルキレン基を示し；
Ｒ7がＯＲ8、ＮＲ8Ｒ9又はＳＲ8を示し；
Ｒ8及びＲ９が同一又は異なって、水素原子、低級アルキル基、低級アルケニル基、低級アルキニル基、低級シクロアルキル基、アリール基、複素環基、ホルミル基、低級アルキルカルボニル基、低級アルケニルカルボニル基、低級アルキニルカルボニル基、低級シクロアルキルカルボニル基、アリールカルボニル基、複素環カルボニル基、カルボキシ基、低級アルコキシカルボニル基、低級アルケニルオキシカルボニル基、低級アルキニルオキシカルボニル基、低級シクロアルキルオキシカルボニル基、アリールオキシカルボニル基、複素環オキシカルボニル基、低級アルキルスルホニル基、低級アルケニルスルホニル基、低級アルキニルスルホニル基、低級シクロアルキルスルホニル基、アリールスルホニル基、複素環スルホニル基、アミノカルボニル基、低級アルキルアミノカルボニル基、低級アルケニルアミノカルボニル基、低級アルキニルアミノカルボニル基、低級シクロアルキルアミノカルボニル基、アリールアミノカルボニル基又は複素環アミノカルボニル基を示し；
Ｒ8又はＲ9が低級アルキル基、低級アルケニル基、低級アルキニル基、低級アルキルカルボニル基、低級アルケニルカルボニル基、低級アルキニルカルボニル基、低級アルコキシカルボニル基、低級アルケニルオキシカルボニル基、低級アルキニルオキシカルボニル基、低級アルキルスルホニル基、低級アルケニルスルホニル基、低級アルキニルスルホニル基、低級アルキルアミノカルボニル基、低級アルケニルアミノカルボニル基又は低級アルキニルアミノカルボニル基の場合、該低級アルキル基、該低級アルケニル基、該低級アルキニル基、該低級アルキルカルボニル基、該低級アルケニルカルボニル基、該低級アルキニルカルボニル基、該低級アルコキシカルボニル基、該低級アルケニルオキシカルボニル基、該低級アルキニルオキシカルボニル基、該低級アルキルスルホニル基、該低級アルケニルスルホニル基、該低級アルキニルスルホニル基、該低級アルキルアミノカルボニル基、該低級アルケニルアミノカルボニル基又は該低級アルキニルアミノカルボニル基はハロゲン原子、低級シクロアルキル基、アリール基、複素環基、ヒドロキシ基、ヒドロキシ基のエステル、低級アルコキシ基、ハロゲン原子で置換された低級アルコキシ基、低級シクロアルキルオキシ基、アリールオキシ基、複素環オキシ基、低級アルキルチオ基、低級シクロアルキルチオ基、アリールチオ基、複素環チオ基、アミノ基、低級アルキルアミノ基、低級シクロアルキルアミノ基、アリールアミノ基、複素環アミノ基、アミノ基のアミド、低級アルキルアミノ基のアミド、低級シクロアルキルアミノ基のアミド、アリールアミノ基のアミド、複素環アミノ基のアミド、低級アルキルカルボニル基、低級シクロアルキルカルボニル基、アリールカルボニル基、複素環カルボニル基、カルボキシ基、カルボキシ基のエステル、カルボキシ基のアミド、低級アルキルスルホニル基、低級シクロアルキルスルホニル基、アリールスルホニル基、複素環スルホニル基、スルホン酸基、スルホン酸基のエステル、スルホン酸基のアミド、ニトロ基及びシアノ基から選択される１又は複数個の基を置換基として有してもよく；
Ｒ8又はＲ9が低級シクロアルキル基、アリール基、複素環基、低級シクロアルキルカルボニル基、アリールカルボニル基、複素環カルボニル基、低級シクロアルキルオキシカルボニル基、アリールオキシカルボニル基、複素環オキシカルボニル基、低級シクロアルキルスルホニル基、アリールスルホニル基、複素環スルホニル基、低級シクロアルキルアミノカルボニル基、アリールアミノカルボニル基又は複素環アミノカルボニル基の場合、該低級シクロアルキル基、該アリール基、該複素環基、該低級シクロアルキルカルボニル基、該アリールカルボニル基、該複素環カルボニル基、該低級シクロアルキルオキシカルボニル基、該アリールオキシカルボニル基、該複素環オキシカルボニル基、該低級シクロアルキルスルホニル基、該アリールスルホニル基、該複素環スルホニル基、該低級シクロアルキルアミノカルボニル基、該アリールアミノカルボニル基又は該複素環アミノカルボニル基はハロゲン原子、低級アルキル基、ハロゲン原子で置換された低級アルキル基、ヒドロキシ基で置換された低級アルキル基、低級アルケニル基、低級アルキニル基、低級シクロアルキル基、アリール基、複素環基、ヒドロキシ基、ヒドロキシ基のエステル、低級アルコキシ基、ハロゲン原子で置換された低級アルコキシ基、低級アルケニルオキシ基、低級アルキニルオキシ基、低級シクロアルキルオキシ基、アリールオキシ基、複素環オキシ基、低級アルキルチオ基、低級シクロアルキルチオ基、アリールチオ基、複素環チオ基、アミノ基、低級アルキルアミノ基、低級シクロアルキルアミノ基、アリールアミノ基、複素環アミノ基、アミノ基のアミド、低級アルキルアミノ基のアミド、低級シクロアルキルアミノ基のアミド、アリールアミノ基のアミド、複素環アミノ基のアミド、低級アルキルカルボニル基、低級シクロアルキルカルボニル基、アリールカルボニル基、複素環カルボニル基、カルボキシ基、カルボキシ基のエステル、カルボキシ基のアミド、低級アルキルスルホニル基、低級シクロアルキルスルホニル基、アリールスルホニル基、複素環スルホニル基、スルホン酸基、スルホン酸基のエステル、スルホン酸基のアミド、ニトロ基及びシアノ基から選択される１又は複数個の基を置換基として有してもよく；
Ｒ7がＮＲ8Ｒ9の場合、Ｒ8とＲ9が一緒になって、５又は６員の含窒素複素環を形成してもよく；
XがＯ又はＳを示す請求項１記載の化合物又はその塩。
- 一般式（１）において、Ｒ1がハロゲン原子、低級アルキル基、ヒドロキシ基、ヒドロキシ基のエステル、低級アルコキシ基、低級アルキルチオ基、アミノ基、低級アルキルアミノ基、アミノ基のアミド、低級アルキルアミノ基のアミド、低級アルキルカルボニル基、カルボキシ基、カルボキシ基のエステル、カルボキシ基のアミド、低級アルキルスルホニル基、ニトロ基又はシアノ基を示し；
Ｒ1が低級アルキル基、低級アルコキシ基、低級アルキルチオ基、低級アルキルアミノ基、低級アルキルアミノ基のアミド、低級アルキルカルボニル基又は低級アルキルスルホニル基の場合、該低級アルキル基、該低級アルコキシ基、該低級アルキルチオ基、該低級アルキルアミノ基、該低級アルキルアミノ基のアミド、該低級アルキルカルボニル基又は該低級アルキルスルホニル基はハロゲン原子、低級シクロアルキル基、アリール基、複素環基、ヒドロキシ基、ヒドロキシ基のエステル、低級アルコキシ基、ハロゲン原子で置換された低級アルコキシ基、低級シクロアルキルオキシ基、アリールオキシ基、複素環オキシ基、低級アルキルチオ基、低級シクロアルキルチオ基、アリールチオ基、複素環チオ基、アミノ基、低級アルキルアミノ基、低級シクロアルキルアミノ基、アリールアミノ基、複素環アミノ基、アミノ基のアミド、低級アルキルアミノ基のアミド、低級シクロアルキルアミノ基のアミド、アリールアミノ基のアミド、複素環アミノ基のアミド、低級アルキルカルボニル基、低級シクロアルキルカルボニル基、アリールカルボニル基、複素環カルボニル基、カルボキシ基、カルボキシ基のエステル、カルボキシ基のアミド、低級アルキルスルホニル基、低級シクロアルキルスルホニル基、アリールスルホニル基、複素環スルホニル基、スルホン酸基、スルホン酸基のエステル、スルホン酸基のアミド、ニトロ基及びシアノ基から選択される１又は複数個の基を置換基として有してもよく；
ｐが０〜３の整数を示し；
ｐが２又は３の場合、各Ｒ1は同一又は異なってもよく；
ｑが０を示し；
Ｒ3が水素原子、低級アルキル基、低級アルケニル基、低級アルキルカルボニル基、低級アルケニルカルボニル基又はアリールカルボニル基を示し；
Ｒ3が低級アルキル基の場合、該低級アルキル基は１又は複数個のアリール基を置換基として有してもよく；
Ｒ3がアリールカルボニル基の場合、該アリールカルボニル基はハロゲン原子及び低級アルキル基から選択される１又は複数個の基を置換基として有してもよく；
Ｒ4及びＲ5が同一又は異なって、水素原子、ハロゲン原子、低級アルキル基、低級シクロアルキル基、アリール又は複素環基を示し；
Ｒ4又はＲ5が低級アルキル基の場合、該低級アルキル基はハロゲン原子、ヒドロキシ基、ヒドロキシ基のエステル、低級アルコキシ基、ハロゲン原子で置換された低級アルコキシ基、低級アルキルチオ基、アミノ基、低級アルキルアミノ基、アミノ基のアミド、低級アルキルアミノ基のアミド、低級アルキルカルボニル基、カルボキシ基、カルボキシ基のエステル、カルボキシ基のアミド、ニトロ基又はシアノ基から選択される１又は複数個の基を置換基として有してもよく；
Ｒ4又はＲ5が低級シクロアルキル基、アリール又は複素環基の場合、該低級シクロアルキル基、該アリール又は該複素環基はハロゲン原子、低級アルキル基、ハロゲン原子で置換された低級アルキル基、ヒドロキシ基、ヒドロキシ基のエステル、低級アルコキシ基、ハロゲン原子で置換された低級アルコキシ基、低級アルキルチオ基、アミノ基、低級アルキルアミノ基、アミノ基のアミド、低級アルキルアミノ基のアミド、低級アルキルカルボニル基、カルボキシ基、カルボキシ基のエステル、カルボキシ基のアミド、低級アルキルスルホニル基、ニトロ基又はシアノ基から選択される１又は複数個の基を置換基として有してもよく；
Ｒ4とＲ5が一緒になって３〜８員の低級シクロアルカン環を形成してもよく；
Ｒ6が水素原子、低級アルキル基、低級アルケニル基、低級アルキニル基又は低級シクロアルキル基を示し；
Ｒ6が低級アルキル基、低級アルケニル基、低級アルキニル基又は低級シクロアルキル基の場合、該低級アルキル基、該低級アルケニル基、該低級アルキニル基又は該低級シクロアルキル基はハロゲン原子及びアリール基から選択される１又は複数個の基を置換基として有してもよく；
Ａが低級アルキレン基を示し；
Ｒ7がＯＲ8、ＮＲ8Ｒ9又はＳＲ8を示し；
Ｒ8及びＲ９が同一又は異なって、水素原子、低級アルキル基、低級アルケニル基、低級アルキニル基、低級シクロアルキル基、アリール基、複素環基、ホルミル基、低級アルキルカルボニル基、低級アルケニルカルボニル基、低級アルキニルカルボニル基、低級シクロアルキルカルボニル基、アリールカルボニル基、複素環カルボニル基、カルボキシ基、低級アルコキシカルボニル基、低級アルケニルオキシカルボニル基、低級アルキニルオキシカルボニル基、低級シクロアルキルオキシカルボニル基、アリールオキシカルボニル基、複素環オキシカルボニル基、低級アルキルスルホニル基、低級アルケニルスルホニル基、低級アルキニルスルホニル基、低級シクロアルキルスルホニル基、アリールスルホニル基、複素環スルホニル基、アミノカルボニル基、低級アルキルアミノカルボニル基、低級アルケニルアミノカルボニル基、低級アルキニルアミノカルボニル基、低級シクロアルキルアミノカルボニル基、アリールアミノカルボニル基又は複素環アミノカルボニル基を示し；
Ｒ8又はＲ9が低級アルキル基、低級アルケニル基、低級アルキニル基、低級アルキルカルボニル基、低級アルケニルカルボニル基、低級アルキニルカルボニル基、低級アルコキシカルボニル基、低級アルケニルオキシカルボニル基、低級アルキニルオキシカルボニル基、低級アルキルスルホニル基、低級アルケニルスルホニル基、低級アルキニルスルホニル基、低級アルキルアミノカルボニル基、低級アルケニルアミノカルボニル基又は低級アルキニルアミノカルボニル基の場合、該低級アルキル基、該低級アルケニル基、該低級アルキニル基、該低級アルキルカルボニル基、該低級アルケニルカルボニル基、該低級アルキニルカルボニル基、該低級アルコキシカルボニル基、該低級アルケニルオキシカルボニル基、該低級アルキニルオキシカルボニル基、該低級アルキルスルホニル基、該低級アルケニルスルホニル基、該低級アルキニルスルホニル基、該低級アルキルアミノカルボニル基、該低級アルケニルアミノカルボニル基又は該低級アルキニルアミノカルボニル基はハロゲン原子、低級シクロアルキル基、アリール基、複素環基、ヒドロキシ基、ヒドロキシ基のエステル、低級アルコキシ基、ハロゲン原子で置換された低級アルコキシ基、低級アルキルチオ基、アミノ基、低級アルキルアミノ基、アミノ基のアミド、低級アルキルアミノ基のアミド、低級アルキルカルボニル基、カルボキシ基、カルボキシ基のエステル、カルボキシ基のアミド、低級アルキルスルホニル基、ニトロ基又はシアノ基から選択される１又は複数個の基を置換基として有してもよく；
Ｒ8又はＲ9が低級シクロアルキル基、アリール基、複素環基、低級シクロアルキルカルボニル基、アリールカルボニル基、複素環カルボニル基、低級シクロアルキルオキシカルボニル基、アリールオキシカルボニル基、複素環オキシカルボニル基、低級シクロアルキルスルホニル基、アリールスルホニル基、複素環スルホニル基、低級シクロアルキルアミノカルボニル基、アリールアミノカルボニル基又は複素環アミノカルボニル基の場合、該低級シクロアルキル基、該アリール基、該複素環基、該低級シクロアルキルカルボニル基、該アリールカルボニル基、該複素環カルボニル基、該低級シクロアルキルオキシカルボニル基、該アリールオキシカルボニル基、該複素環オキシカルボニル基、該低級シクロアルキルスルホニル基、該アリールスルホニル基、該複素環スルホニル基、該低級シクロアルキルアミノカルボニル基、該アリールアミノカルボニル基又は該複素環アミノカルボニル基はハロゲン原子、低級アルキル基、ハロゲン原子で置換された低級アルキル基、ヒドロキシ基で置換された低級アルキル基、低級アルケニル基、低級アルキニル基、低級シクロアルキル基、アリール基、複素環基、ヒドロキシ基、ヒドロキシ基のエステル、低級アルコキシ基、ハロゲン原子で置換された低級アルコキシ基、低級アルケニルオキシ基、低級アルキニルオキシ基、低級アルキルチオ基、アミノ基、低級アルキルアミノ基、アミノ基のアミド、低級アルキルアミノ基のアミド、低級アルキルカルボニル基、カルボキシ基、カルボキシ基のエステル、カルボキシ基のアミド、低級アルキルスルホニル基、ニトロ基又はシアノ基から選択される１又は複数個の基を置換基として有してもよく；
Ｒ7がＮＲ8Ｒ9の場合、Ｒ8とＲ9が一緒になって、５又は６員の含窒素複素環を形成してもよく；
XがＯを示す請求項１記載の化合物又はその塩。
- 一般式（１）において、Ｒ1がハロゲン原子、低級アルキル基、ヒドロキシ基、ヒドロキシ基のエステル、低級アルコキシ基、低級アルキルチオ基、アミノ基、アミノ基のアミド、低級アルキルアミノ基のアミド、低級アルキルカルボニル基、カルボキシ基、カルボキシ基のエステル、ニトロ基又はシアノ基を示し；
Ｒ1が低級アルキル基又は低級アルコキシ基の場合、該低級アルキル基又は該低級アルコキシ基はハロゲン原子、ヒドロキシ基及び低級アルコキシ基から選択される１又は複数個の基を置換基として有してもよく；
ｐが１、２又は３を示し；
ｐが２又は３の場合、各Ｒ1は同一又は異なってもよく；
ｑが０を示し；
Ｒ3が水素原子を示し；
Ｒ4及びＲ5が同一又は異なって、低級アルキル基を示し；
Ｒ6が水素原子、低級アルキル基又は低級アルケニル基を示し；
Ａが低級アルキレン基を示し；
Ｒ7がＯＲ8又はＮＲ8Ｒ9を示し；
Ｒ8及びＲ9が同一又は異なって、水素原子、アリール基、アリールカルボニル基又は複素環カルボニル基を示し；
Ｒ8又はＲ9がアリール基、アリールカルボニル基又は複素環カルボニル基の場合、該アリール基、該アリールカルボニル基又は該複素環カルボニル基はハロゲン原子、低級アルキル基、ハロゲン原子で置換された低級アルキル基、ヒドロキシ基で置換された低級アルキル基、低級アルケニル基、アリール基、低級アルコキシ基、低級アルキルカルボニル基、カルボキシ基のエステル、ニトロ基及びシアノ基から選択される１又は複数個の基を置換基として有してもよく；
XがＯを示す請求項１記載の化合物又はその塩。
- 一般式（１）において、Ｒ1がハロゲン原子、ヒドロキシ基、ヒドロキシ基のエステル、低級アルコキシ基、アミノ基のアミド又は低級アルキルアミノ基のアミドを示し；
ｐが２又は３を示し、この時、各Ｒ1は同一又は異なってもよく；
ｑが０を示し；
Ｒ3が水素原子を示し；
Ｒ4及びＲ5が同一又は異なって、低級アルキル基を示し；
Ｒ6が低級アルキル基を示し；
Ａが低級アルキレン基を示し；
Ｒ7がＯＲ8又はＮＲ8Ｒ9を示し；
Ｒ8がアリール基、アリールカルボニル基又は複素環カルボニル基を示し、この時、該アリール基、該アリールカルボニル基又は該複素環カルボニル基はハロゲン原子、低級アルキル基、ハロゲン原子で置換された低級アルキル基、ヒドロキシ基で置換された低級アルキル基、低級アルケニル基、アリール基、低級アルコキシ基、低級アルキルカルボニル基、カルボキシ基のエステル、ニトロ基及びシアノ基から選択される１又は複数個の基を置換基として有してもよく；
Ｒ9が水素原子を示し；
XがＯを示す請求項１記載の化合物又はその塩。
- 一般式（１）において、Ｒ1がハロゲン原子、ヒドロキシ基、ヒドロキシ基のエステル、低級アルコキシ基、アミノ基のアミド又は低級アルキルアミノ基のアミドを示す請求項１〜４のいずれか１記載の化合物又はその塩。
- 一般式（１）において、Ｒ4、Ｒ5及びＲ6がメチル基を示す請求項１〜５のいずれか１記載の化合物又はその塩。
- 一般式（１）において、Ｒ8がアリール基、アリールカルボニル基又は複素環カルボニル基を示し、かつ、該アリール基がフェニル基、該アリールカルボニル基がフェニルカルボニル基及び該複素環カルボニル基がチオフェンカルボニル基を示す請求項１〜５のいずれか１記載の化合物又はその塩。
- 一般式（１）において、Ａがメチレン基を示す請求項１〜５のいずれか１記載の化合物又はその塩。
- 一般式（１）のＲ1において、ヒドロキシ基のエステルが−ＯＣＯ−Ｒa1を示し、該Ｒa1が、水素原子、置換基を有してもよい低級アルキル基、置換基を有してもよい低級アルケニル基、置換基を有してもよい低級アルキニル基、置換基を有してもよい低級シクロアルキル基、置換基を有してもよいアリール基、置換基を有してもよい複素環基、置換基を有してもよい低級アルコキシ基、置換基を有してもよい低級アルケニルオキシ基、置換基を有してもよい低級アルキニルオキシ基、置換基を有してもよい低級シクロアルキルオキシ基、置換基を有してもよいアリールオキシ基、置換基を有してもよい複素環オキシ基、アミノ基、置換基を有してもよい低級アルキルアミノ基、置換基を有してもよい低級シクロアルキルアミノ基、置換基を有してもよいアリールアミノ基又は置換基を有してもよい複素環アミノ基を示す請求項１〜６のいずれか１記載の化合物又はその塩。
- 一般式（１）のＲ1において、ヒドロキシ基のエステルが−ＯＣＯ−Ｒa1を示し、該Ｒa1が、水素原子、低級アルキル基、低級アルケニル基、低級シクロアルキル基、アリール基、複素環基、低級アルコキシ基、低級アルケニルオキシ基、低級シクロアルキルオキシ基、アリールオキシ基、複素環オキシ基、アミノ基、低級アルキルアミノ基、低級シクロアルキルアミノ基、アリールアミノ基又は複素環アミノ基を示し；
Ｒa1が低級アルキル基、低級アルケニル基、低級アルコキシ基、低級アルケニルオキシ基又は低級アルキルアミノ基の場合、該低級アルキル基、該低級アルケニル基、該低級アルコキシ基、該低級アルケニルオキシ基又は該低級アルキルアミノ基はハロゲン原子、アリール基、複素環基、ヒドロキシ基、ヒドロキシ基のエステル、アミノ基、低級アルキルアミノ基、カルボキシ基及びカルボキシ基のエステルから選択される１又は複数個の基を置換基として有してもよく；
Ｒa1が低級シクロアルキル基、アリール基、複素環基、低級シクロアルキルオキシ基、アリールオキシ基、複素環オキシ基、低級シクロアルキルアミノ基、アリールアミノ基又は複素環アミノ基の場合、該低級シクロアルキル基、該アリール基、該複素環基、該低級シクロアルキルオキシ基、該アリールオキシ基、該複素環オキシ基、該低級シクロアルキルアミノ基、該アリールアミノ基又は該複素環アミノ基はハロゲン原子、低級アルキル基、ハロゲン原子で置換された低級アルキル基、ヒドロキシ基、ヒドロキシ基のエステル、低級アルコキシ基、メルカプト基、低級アルキルチオ基、ホルミル基、低級アルキルカルボニル基、カルボキシ基、カルボキシ基本のエステル、ニトロ基及びシアノ基から選択される１又は複数個の基を置換基として有してもよい請求項１０記載の化合物又はその塩。
- 一般式（１）のＲ1において、ヒドロキシ基のエステルが−ＯＣＯ−Ｒa1を示し、該Ｒa1が、低級アルキル基、低級アルケニル基、低級シクロアルキル基、アリール基、複素環基、低級アルコキシ基、アリールオキシ基、低級アルキルアミノ基、低級シクロアルキルアミノ基、アリールアミノ基又は複素環アミノ基を示し；
Ｒa1が低級アルキル基の場合、該低級アルキル基はアリール基及び低級アルキルアミノ基から選択される１又は複数個の基を置換基として有してもよく；
Ｒa1がアリール基の場合、該アリール基はハロゲン原子、低級アルキル基、ハロゲン原子で置換された低級アルキル基、ヒドロキシ基のエステル、低級アルコキシ基、低級アルキルチオ基、低級アルキルカルボニル基、カルボキシ基のエステル及びニトロ基から選択される１又は複数個の基を置換基として有してもよく；
Ｒa1が複素環基の場合、該複素環基は、ハロゲン原子、低級アルキル基、ヒドロキシ基及び低級アルコキシ基から選択される１又は複数個の基を置換基として有してもよく；
Ｒa1が低級アルキルアミノ基の場合、該低級アルキルアミノ基は、アリール基、複素環基及びカルボキシ基のエステルから選択される１又は複数個の基を置換基として有してもよく；
Ｒa1がアリールアミノ基の場合、該アリールアミノ基はハロゲン原子、低級アルキル基、及び低級アルコキシ基から選択される１又は複数個の基を置換基として有してもよい請求項１０記載の化合物又はその塩。
- 一般式（１）のＲ1において、アミノ基のアミドが−ＮＨＣＯ−Ｒb1を示し、該Ｒb1が、水素原子、置換基を有してもよい低級アルキル基、置換基を有してもよい低級アルケニル基、置換基を有してもよい低級アルキニル基、置換基を有してもよい低級シクロアルキル基、置換基を有してもよいアリール基、置換基を有してもよい複素環基、置換基を有してもよい低級アルコキシ基、置換基を有してもよい低級アルケニルオキシ基、置換基を有してもよい低級アルキニルオキシ基、置換基を有してもよい低級シクロアルキルオキシ基、置換基を有してもよいアリールオキシ基、置換基を有してもよい複素環オキシ基、アミノ基、置換基を有してもよい低級アルキルアミノ基、置換基を有してもよい低級シクロアルキルアミノ基、置換基を有してもよいアリールアミノ基又は置換基を有してもよい複素環アミノ基を示す請求項１〜６のいずれか１記載の化合物又はその塩。
- 一般式（１）のＲ1において、アミノ基のアミドが−ＮＨＣＯ−Ｒb1を示し、該Ｒb1が、水素原子、低級アルキル基、低級アルケニル基、低級シクロアルキル基、アリール基、複素環基、低級アルコキシ基、低級アルケニルオキシ基、低級シクロアルキルオキシ基、アリールオキシ基、複素環オキシ基、アミノ基、低級アルキルアミノ基、低級シクロアルキルアミノ基、アリールアミノ基又は複素環アミノ基を示し；
Ｒb1が低級アルキル基、低級アルケニル基、低級アルコキシ基、低級アルケニルオキシ基又は低級アルキルアミノ基の場合、該低級アルキル基、該低級アルケニル基、該低級アルコキシ基、該低級アルケニルオキシ基又は該低級アルキルアミノ基はハロゲン原子、アリール基、複素環基、ヒドロキシ基、ヒドロキシ基のエステル、アミノ基、低級アルキルアミノ基、カルボキシ基及びカルボキシ基のエステルから選択される１又は複数個の基を置換基として有してもよく；
Ｒb1が低級シクロアルキル基、アリール基、複素環基、低級シクロアルキルオキシ基、アリールオキシ基、複素環オキシ基、低級シクロアルキルアミノ基、アリールアミノ基又は複素環アミノ基の場合、該低級シクロアルキル基、該アリール基、該複素環基、該低級シクロアルキルオキシ基、該アリールオキシ基、該複素環オキシ基、該低級シクロアルキルアミノ基、該アリールアミノ基又は該複素環アミノ基はハロゲン原子、低級アルキル基、ハロゲン原子で置換された低級アルキル基、ヒドロキシ基、ヒドロキシ基のエステル、低級アルコキシ基、メルカプト基、低級アルキルチオ基、ホルミル基、低級アルキルカルボニル基、カルボキシ基、カルボキシ基本のエステル、ニトロ基及びシアノ基から選択される１又は複数個の基を置換基として有してもよい請求項１３記載の化合物又はその塩。
- 一般式（１）のＲ1において、アミノ基のアミドが−ＮＨＣＯ−Ｒb1を示し、該Ｒb1が、低級アルキル基、アリール基、複素環基、アリールオキシ基、低級アルキルアミノ基又はアリールアミノ基を示し；
Ｒb1が低級アルキル基の場合、該低級アルキル基は１又は複数個のアミノ基を置換基として有してもよく；
Ｒb1がアリール基の場合、該アリール基はハロゲン原子、低級アルキル基、ハロゲン原子で置換された低級アルキル基、ヒドロキシ基のエステル、低級アルコキシ基、低級アルキルチオ基、低級アルキルカルボニル基、カルボキシ基のエステル及びニトロ基から選択される１又は複数個の基を置換基として有してもよく；
Ｒb1が複素環基の場合、該複素環基は、ハロゲン原子、低級アルキル基、ヒドロキシ基及び低級アルコキシ基から選択される１又は複数個の基を置換基として有してもよく；
Ｒb1が低級アルキルアミノ基の場合、該低級アルキルアミノ基は１又は複数個のアリール基を置換基として有してもよい請求項１３記載の化合物又はその塩。
- 一般式（１）のＲ1において、低級アルキルアミノ基のアミドが−ＮＲc1ＣＯ−Ｒc2を示し、該Ｒc1が、置換基を有してもよい低級アルキル基を示し、また、該Ｒc2が、水素原子、置換基を有してもよい低級アルキル基、置換基を有してもよい低級アルケニル基、置換基を有してもよい低級アルキニル基、置換基を有してもよい低級シクロアルキル基、置換基を有してもよいアリール基、置換基を有してもよい複素環基、置換基を有してもよい低級アルコキシ基、置換基を有してもよい低級アルケニルオキシ基、置換基を有してもよい低級アルキニルオキシ基、置換基を有してもよい低級シクロアルキルオキシ基、置換基を有してもよいアリールオキシ基、置換基を有してもよい複素環オキシ基、アミノ基、置換基を有してもよい低級アルキルアミノ基、置換基を有してもよい低級シクロアルキルアミノ基、置換基を有してもよいアリールアミノ基又は置換基を有してもよい複素環アミノ基を示す請求項１〜６のいずれか１記載の化合物又はその塩。
- 一般式（１）のＲ1において、低級アルキルアミノ基のアミドが−ＮＲc1ＣＯ−Ｒc2を示し、該Ｒc1が低級アルキル基を示し、また、該Ｒc2が水素原子、低級アルキル基、低級アルケニル基、低級シクロアルキル基、アリール基、複素環基、低級アルコキシ基、低級アルケニルオキシ基、低級シクロアルキルオキシ基、アリールオキシ基、複素環オキシ基、アミノ基、低級アルキルアミノ基、低級シクロアルキルアミノ基、アリールアミノ基又は複素環アミノ基を示し；
Ｒc2が低級アルキル基、低級アルケニル基、低級アルコキシ基、低級アルケニルオキシ基又は低級アルキルアミノ基の場合、該低級アルキル基、該低級アルケニル基、該低級アルコキシ基、該低級アルケニルオキシ基又は該低級アルキルアミノ基はハロゲン原子、アリール基、複素環基、ヒドロキシ基、ヒドロキシ基のエステル、アミノ基、低級アルキルアミノ基、カルボキシ基及びカルボキシ基のエステルから選択される１又は複数個の基を置換基として有してもよく；
Ｒc2が低級シクロアルキル基、アリール基、複素環基、低級シクロアルキルオキシ基、アリールオキシ基、複素環オキシ基、低級シクロアルキルアミノ基、アリールアミノ基又は複素環アミノ基の場合、該低級シクロアルキル基、該アリール基、該複素環基、該低級シクロアルキルオキシ基、該アリールオキシ基、該複素環オキシ基、該低級シクロアルキルアミノ基、該アリールアミノ基又は該複素環アミノ基はハロゲン原子、低級アルキル基、ハロゲン原子で置換された低級アルキル基、ヒドロキシ基、ヒドロキシ基のエステル、低級アルコキシ基、メルカプト基、低級アルキルチオ基、ホルミル基、低級アルキルカルボニル基、カルボキシ基、カルボキシ基本のエステル、ニトロ基及びシアノ基から選択される１又は複数個の基を置換基として有してもよい請求項１６の化合物又はその塩。
- 一般式（１）のＲ1において、低級アルキルアミノ基のアミドが−ＮＲc1ＣＯ−Ｒc2を示し、該Ｒc1が低級アルキル基を示し、また、該Ｒc2が低級アルキル基、アリール基又は複素環基を示し；
Ｒc2が低級アルキル基の場合、該低級アルキル基は１又は複数個のアミノ基を置換基として有してもよく；
Ｒc2がアリール基の場合、該アリール基はハロゲン原子、低級アルキル基、ハロゲン原子で置換された低級アルキル基、ヒドロキシ基のエステル、低級アルコキシ基、低級アルキルチオ基、低級アルキルカルボニル基、カルボキシ基のエステル及びニトロ基から選択される１又は複数個の基を置換基として有してもよく；
Ｒc2が複素環基の場合、該複素環基は、ハロゲン原子、低級アルキル基、ヒドロキシ基及び低級アルコキシ基から選択される１又は複数個の基を置換基として有してもよく；
Ｒc2が低級アルキルアミノ基の場合、該低級アルキルアミノ基は１又は複数個のアリール基を置換基として有してもよい請求項１６記載の化合物又はその塩。
- ・７−［２−メトキシ−４−（２−メチルベンゾイルオキシ）フェニル］−８−(４−メトキシベンゾイルオキシメチル）−３，３−ジメチル−３，４−ジヒドロ−１Ｈ−キノキサリン−２−オン、
・７−（５−フルオロ−２−メトキシフェニル）−８−(４−メチルベンゾイルオキシメチル)−３，３−ジメチル−３，４−ジヒドロ−１Ｈ−キノキサリン−２−オン、
・７−（４−フルオロ−２−メトキシフェニル）−８−(５−メチルチオフェン−２−イルカルボニルオキシメチル）−１，３，３−トリメチル−３，４−ジヒドロ−１Ｈ−キノキサリン−２−オン、
・８−(５−ブロモロチオフェン−２−イルカルボニルオキシメチル）−７−（４−フルオロ−２−メトキシフェニル）−１，３，３−トリメチル−３，４−ジヒドロ−１Ｈ−キノキサリン−２−オン、
・７−（４−フルオロ−２−メトキシフェニル）−８−（２−メチル−５−ニトロフェノキシメチル）−１，３，３−トリメチル−３，４−ジヒドロ−１Ｈ−キノキサリン−２−オン、
・７−（５−クロロ−２−メトキシフェニル）−８−［２−（２−ヒドロキシエチル）フェノキシメチル］−１，３，３−トリメチル−３，４−ジヒドロ−１Ｈ−キノキサリン−２−オン、
・８−（５−クロロ−２−メチルフェノキシメチル）−７−（４−フルオロ−２−メトキシフェニル）−１，３，３−トリメチル−３，４−ジヒドロ−１Ｈ−キノキサリン−２−オン、
・７−（４−フルオロ−２−メトキシフェニル）−８−（２−メトキシ−５−ニトロフェノキシメチル）−１，３，３−トリメチル−３，４−ジヒドロ−１Ｈ−キノキサリン−２−オン、
・８−（２−アリルフェノキシメチル）−７−（４−フルオロ−２−メトキシフェニル）−１，３，３−トリメチル−３，４−ジヒドロ−１Ｈ−キノキサリン−２−オン、
・７−（４−フルオロ−２−メトキシフェニル）−８−（２−メトキシ−５−メチルフェニルアミノメチル）−１，３，３−トリメチル−３，４−ジヒドロ−１Ｈ−キノキサリン−２−オン、
・７−（５−クロロ−２−メトキシフェニル）−８−（５−フルオロ−２−メチルフェニルアミノメチル）−１，３，３−トリメチル−３，４−ジヒドロ−１Ｈ−キノキサリン−２−オン、
・７−（５−クロロ−２−メトキシフェニル）−８−（２−イソプロピルフェニルアミノメチル）−１，３，３−トリメチル−３，４−ジヒドロ−１Ｈ−キノキサリン−２−オン、
・７−（４−フルオロ−２−メトキシフェニル）−８−（２−メトキシフェニルアミノメチル）−１，３，３−トリメチル−３，４−ジヒドロ−１Ｈ−キノキサリン−２−オン、
・８−ベンゾイルオキシメチル−７−（５−フルオロ−２−メトキシフェニル）−１，３，３−トリメチル−３，４−ジヒドロ−１Ｈ−キノキサリン−２−オン、
・７−（５−フルオロ−２−メトキシフェニル）−８−フェノキシメチル−１，３，３−トリメチル−３，４−ジヒドロ−１Ｈ−キノキサリン−２−オン、
・７−（５−フルオロ−２−メトキシフェニル）−８−フェニルアミノメチル−１，３，３−トリメチル−３，４−ジヒドロ−１Ｈ−キノキサリン−２−オン、
・１−エチル−７−（５−フルオロ−２−メトキシフェニル）−８−（４−メチルベンゾイルオキシメチル）−３，３−ジメチル−３，４−ジヒドロ−１Ｈ−キノキサリン−２−オン、
・１−（プロペン−３−イル）−７−（５−フルオロ−２−メトキシフェニル）−８−（４−メチルベンゾイルオキシメチル）−３，３−ジメチル−３，４−ジヒドロ−１Ｈ−キノキサリン−２−オン、
・７−［２−メトキシ−４−（２−メチルベンゾイルオキシ）フェニル］−８−(４−メトキシベンゾイルオキシメチル）−１，３，３−トリメチル−３，４−ジヒドロ−１Ｈ−キノキサリン−２−オン、
・７−［２−メトキシ−４−（２−メチルベンゾイルオキシ）フェニル］−８−(２−メトキシ−５−ニトロフェノキシメチル）−１，３，３−トリメチル−３，４−ジヒドロ−１Ｈ−キノキサリン−２−オン、
・８−(３−フルオロベンゾイルオキシメチル）−７−［２−メトキシ−４−（２−メチルベンゾイルオキシ）フェニル］−１，３，３−トリメチル−３，４−ジヒドロ−１Ｈ−キノキサリン−２−オン、
・７−（２−クロロフェニル）−８−（５−フルオロ−２−メチルフェノキシメチル）−１，３，３−トリメチル−３，４−ジヒドロ−１Ｈ−キノキサリン−２−オン、
・８−（５−フルオロ−２−メチルフェノキシメチル）−７−（２−メトキシフェニル）−１，３，３−トリメチル−３，４−ジヒドロ−１Ｈ−キノキサリン−２−オン、
・８−（５−フルオロ−２−メチルフェノキシメチル）−７−（２−メチルチオフェニル）−１，３，３−トリメチル−３，４−ジヒドロ−１Ｈ−キノキサリン−２−オン、
・７−（４−フルオロ−２−メトキシフェニル）−８−（５−フルオロ−２−メチルフェノキシメチル）−１，３，３−トリメチル−３，４−ジヒドロ−１Ｈ−キノキサリン−２−オン、
・７−（５−クロロ−２−メトキシフェニル）−８−（５−フルオロ−２−メチルフェノキシメチル）−１，３，３−トリメチル−３，４−ジヒドロ−１Ｈ−キノキサリン−２−オン、
・８−（５−フルオロ−２−メチルフェノキシメチル）−７−（２−メトキシ−５−トリフルオロメチルフェニル）−１，３，３−トリメチル−３，４−ジヒドロ−１Ｈ−キノキサリン−２−オン、
・７−（６−フルオロ−２−メトキシフェニル）−８−（５−フルオロ−２−メチルフェノキシメチル）−１，３，３−トリメチル−３，４−ジヒドロ−１Ｈ−キノキサリン−２−オン、
・８−（５−フルオロ−２−メチルフェノキシメチル）−７−（２−メトキシ−５−ニトロフェニル）−１，３，３−トリメチル−３，４−ジヒドロ−１Ｈ−キノキサリン−２−オン、
・７−（５−ベンゾイルオキシ−２−メトキシフェニル）−８−（５−フルオロ−２−メチルフェノキシメチル）−１，３，３−トリメチル−３，４−ジヒドロ−１Ｈ−キノキサリン−２−オン、
・８−（２−メトキシフェニルアミノメチル）−７−（２−メトキシ−５−トリフルオロメチルフェニル）−１，３，３−トリメチル−３，４−ジヒドロ−１Ｈ−キノキサリン−２−オン、
・７−（４−アミノ−２−メトキシフェニル）−８−（５−フルオロ−２−メチルフェノキシメチル）−１，３，３−トリメチル−３，４−ジヒドロ−１Ｈ−キノキサリン−２−オン、
・８−（５−フルオロ−２−メチルフェノキシメチル）−７−（５−ヒドロキシメチル−２−メトキシフェニル）−１，３，３−トリメチル−３，４−ジヒドロ−１Ｈ−キノキサリン−２−オン、
・８−（５−フルオロ−２−メチルフェノキシメチル）−７−（４−ヒドロキシ−２−メトキシフェニル）−１，３，３−トリメチル−３，４−ジヒドロ−１Ｈ−キノキサリン−２−オン、
・７−（４−ヒドロキシ−２−メトキシフェニル）−８−(５−メチルチオフェン−２−イルカルボニルオキシメチル）−１，３，３−トリメチル−３，４−ジヒドロ−１Ｈ−キノキサリン−２−オン、
・８−（５−フルオロ−２−メチルフェノキシメチル）−７−［２−メトキシ−４−（２−メチルベンゾイルオキシ）フェニル］−１，３，３−トリメチル−３，４−ジヒドロ−１Ｈ−キノキサリン−２−オン、
・７−［４−（２−クロロベンゾイルオキシ）−２−メトキシフェニル］−８−（５−フルオロ−２−メチルフェノキシメチル）−１，３，３−トリメチル−３，４−ジヒドロ−１Ｈ−キノキサリン−２−オン、
・８−（５−フルオロ−２−メチルフェノキシメチル）−７−［４−（フラン−３−イルカルボニルオキシ）−２−メトキシフェニル］−１，３，３−トリメチル−３，４−ジヒドロ−１Ｈ−キノキサリン−２−オン、
・８−（５−フルオロ−２−メチルフェノキシメチル）−７−［２−メトキシ−４−（ピリジン−４−イルカルボニルアミノ）フェニル］−１，３，３−トリメチル−３，４−ジヒドロ−１Ｈ−キノキサリン−２−オン、
・７−［４−（２−クロロベンゾイルアミノ）−２−メトキシフェニル］−８−（５−フルオロ−２−メチルフェノキシメチル）−１，３，３−トリメチル−３，４−ジヒドロ−１Ｈ−キノキサリン−２−オン、
・８−（５−フルオロ−２−メチルフェノキシメチル）−７−［２−メトキシ−４−（４−メトキシベンゾイルオキシ）フェニル］−１，３，３−トリメチル−３，４−ジヒドロ−１Ｈ−キノキサリン−２−オン、
・７−（４−アクリロイルオキシ−２−メトキシフェニル）−８−（５−フルオロ−２−メチルフェノキシメチル）−１，３，３−トリメチル−３，４−ジヒドロ−１Ｈ−キノキサリン−２−オン、
・８−（５−フルオロ−２−メチルフェノキシメチル）−７−（２−メトキシ−４−メトキシカルボニルオキシフェニル）−１，３，３−トリメチル−３，４−ジヒドロ−１Ｈ−キノキサリン−２−オン、
・８−（５−フルオロ−２−メチルフェノキシメチル）−７−（２−メトキシ−４−フェノキシカルボニルオキシフェニル）−１，３，３−トリメチル−３，４−ジヒドロ−１Ｈ−キノキサリン−２−オン、
・８−（５−フルオロ−２−メチルフェノキシメチル）−７−（２−メトキシ−４−フェノキシカルボニルアミノフェニル）−１，３，３−トリメチル−３，４−ジヒドロ−１Ｈ−キノキサリン−２−オン、
・７−［４−（２−フルオロベンゾイルオキシ）−２−メトキシフェニル］−８−(５−メチルチオフェン−２−イルカルボニルオキシメチル）−１，３，３−トリメチル−３，４−ジヒドロ−１Ｈ−キノキサリン−２−オン、
・８−（５−フルオロ−２−メチルフェノキシメチル）−７−［２−メトキシ−４−（３−メトキシカルボニルベンゾイルオキシ）フェニル］−１，３，３−トリメチル−３，４−ジヒドロ−１Ｈ−キノキサリン−２−オン、
・８−（５−フルオロ−２−メチルフェノキシメチル）−７−［２−メトキシ−４−（２−メチルピリジン−３−イルカルボニルオキシ）フェニル］−１，３，３−トリメチル−３，４−ジヒドロ−１Ｈ−キノキサリン−２−オン、
・７−［４−（２−アセトキシベンゾイルオキシ）−２−メトキシフェニル］−８−（５−フルオロ−２−メチルフェノキシメチル）−１，３，３−トリメチル−３，４−ジヒドロ−１Ｈ−キノキサリン−２−オン、
・８−（５−フルオロ−２−メチルフェノキシメチル）−７−［２−メトキシ−４−（２−メチルチオベンゾイルオキシ）フェニル］−１，３，３−トリメチル−３，４−ジヒドロ−１Ｈ−キノキサリン−２−オン、
・８−（５−フルオロ−２−メチルフェノキシメチル）−７−［２−メトキシ−４−（６−メチルピリジン−３−イルカルボニルオキシ）フェニル］−１，３，３−トリメチル−３，４−ジヒドロ−１Ｈ−キノキサリン−２−オン、
・８−（５−フルオロ−２−メチルフェノキシメチル）−７−［２−メトキシ−４−（オキサゾール−４−イルカルボニルオキシ）フェニル］−１，３，３−トリメチル−３，４−ジヒドロ−１Ｈ−キノキサリン−２−オン、
・７−［４−（３−アセチルベンゾイルオキシ）−２−メトキシフェニル］−８−（５−フルオロ−２−メチルフェノキシメチル）−１，３，３−トリメチル−３，４−ジヒドロ−１Ｈ−キノキサリン−２−オン、
・７−［４−（３−クロロチオフェン−２−イルカルボニルオキシ）−２−メトキシフェニル］−８−（５−フルオロ−２−メチルフェノキシメチル）−１，３，３−トリメチル−３，４−ジヒドロ−１Ｈ−キノキサリン−２−オン、
・８−（５−フルオロ−２−メチルフェノキシメチル）−７−［２−メトキシ−４−（２−メトキシピリジン−３−イルカルボニルオキシ）フェニル］−１，３，３−トリメチル−３，４−ジヒドロ−１Ｈ−キノキサリン−２−オン、
・７−［２−メトキシ−４−（２−メチルチオベンゾイルオキシ）フェニル］−８−(５−メチルチオフェン−２−イルカルボニルオキシメチル）−１，３，３−トリメチル−３，４−ジヒドロ−１Ｈ−キノキサリン−２−オン、
・７−［４−（Ｎ−アセチル−Ｎ−メチルアミノ）−２−メトキシフェニル］−８−（５−フルオロ−２−メチルフェノキシメチル）−１，３，３−トリメチル−３，４−ジヒドロ−１Ｈ−キノキサリン−２−オン、
・８−（５−フルオロ−２−メチルフェノキシメチル）−７−［２−メトキシ−４−（ピリジン−３−イルアミノカルボニルオキシ）フェニル］−１，３，３−トリメチル−３，４−ジヒドロ−１Ｈ−キノキサリン−２−オン、
・７−（２−メトキシ−４−フェニルアミノカルボニルオキシフェニル）−８−(５−メチルチオフェン−２−イルカルボニルオキシメチル）−１，３，３−トリメチル−３，４−ジヒドロ−１Ｈ−キノキサリン−２−オン、
・８−（５−フルオロ−２−メチルフェノキシメチル）−７−［２−メトキシ−４−（モルホリン−４−イルカルボニルオキシ）フェニル］−１，３，３−トリメチル−３，４−ジヒドロ−１Ｈ−キノキサリン−２−オン、
・７−（４−ジメチルアミノカルボニルオキシ−２−メトキシフェニル）−８−（５−フルオロ−２−メチルフェノキシメチル）−１，３，３−トリメチル−３，４−ジヒドロ−１Ｈ−キノキサリン−２−オン、
・７−（４−ヒドロキシ−２−メトキシフェニル）−８−（２−メトキシフェニルアミノメチル）−１，３，３−トリメチル−３，４−ジヒドロ−１Ｈ−キノキサリン−２−オン、
・７−（４−ブチリルオキシ−２−メトキシフェニル）−８−（２−メトキシフェニルアミノメチル）−１，３，３−トリメチル−３，４−ジヒドロ−１Ｈ−キノキサリン−２−オン、
・７−［２−メトキシ−４−（２−メチルピリジン−３−イルカルボニルオキシ）フェニル］−８−（２−メトキシフェニルアミノメチル）−１，３，３−トリメチル−３，４−ジヒドロ−１Ｈ−キノキサリン−２−オン、
・８−（２−メトキシフェニルアミノメチル）−７−［２−メトキシ−４−（チアゾール−４−イルカルボニルオキシ）フェニル］−１，３，３−トリメチル−３，４−ジヒドロ−１Ｈ−キノキサリン−２−オン、
・８−［N−（５−フルオロ−２−メチルフェニル）−N−（９−フルオレニルメトキシカルボニル）アミノメチル］−７−（４−ヒドロキシ−２−メトキシフェニル）−１，３，３−トリメチル−３，４−ジヒドロ−１Ｈ−キノキサリン−２−オン、
・７−［２−メトキシ−４−（２−メチルベンゾイルオキシ）フェニル］−８−(２−メトキシ−５−ニトロフェノキシメチル）−３，３−ジメチル−３，４−ジヒドロ−１Ｈ−キノキサリン−２−オン、
・８−（５−フルオロ−２−メチルフェノキシメチル）−７−（２−メチルフェニル）−１，３，３−トリメチル−３，４−ジヒドロ−１Ｈ−キノキサリン−２−オン、
・７−（４−ベンゾイルオキシ−２−メトキシフェニル）−８−（５−フルオロ−２−メチルフェノキシメチル）−１，３，３−トリメチル−３，４−ジヒドロ−１Ｈ−キノキサリン−２−オン、
・７−（４−ベンゾイルオキシ−２−メトキシフェニル）−８−(５−メチルチオフェン−２−イルカルボニルオキシメチル）−１，３，３−トリメチル−３，４−ジヒドロ−１Ｈ−キノキサリン−２−オン、
・７−［４−（フラン−２−イルカルボニルオキシ）−２−メトキシフェニル］−８−(５−メチルチオフェン−２−イルカルボニルオキシメチル）−１，３，３−トリメチル−３，４−ジヒドロ−１Ｈ−キノキサリン−２−オン、
・７−［２−メトキシ−４−（２−メトキシベンゾイルオキシ）フェニル］−８−(５−メチルチオフェン−２−イルカルボニルオキシメチル）−１，３，３−トリメチル−３，４−ジヒドロ−１Ｈ−キノキサリン−２−オン、
・７−［２−メトキシ−４−（３−メトキシカルボニルベンゾイルオキシ）フェニル］−８−(５−メチルチオフェン−２−イルカルボニルオキシメチル）−１，３，３−トリメチル−３，４−ジヒドロ−１Ｈ−キノキサリン−２−オン、
・７−［２−メトキシ−４−（３−メチルフラン−２−イルカルボニルオキシ）フェニル］−８−(５−メチルチオフェン−２−イルカルボニルオキシメチル）−１，３，３−トリメチル−３，４−ジヒドロ−１Ｈ−キノキサリン−２−オン、
・７−［４−（３−ベンジルウレイド）−２−メトキシフェニル］−８−（５−フルオロ−２−メチルフェノキシメチル）−１，３，３−トリメチル−３，４−ジヒドロ−１Ｈ−キノキサリン−２−オン、
・８−（５−フルオロ−２−メチルフェノキシメチル）−７−［２−メトキシ−４−（３−フェニルウレイド）フェニル］−１，３，３−トリメチル−３，４−ジヒドロ−１Ｈ−キノキサリン−２−オン、
・８−（２−メトキシフェニルアミノメチル）−７−［２−メトキシ−４−（ピリジン−３−イルカルボニルオキシ）フェニル］−１，３，３−トリメチル−３，４−ジヒドロ−１Ｈ−キノキサリン−２−オン、
・７−［２−メトキシ−４−（２−メトキシベンゾイルオキシ）フェニル］−８−（２−メトキシフェニルアミノメチル）−１，３，３−トリメチル−３，４−ジヒドロ−１Ｈ−キノキサリン−２−オン、
・８−（２−メトキシフェニルアミノメチル）−７−［２−メトキシ−４−（チオフェン−３−イルカルボニルオキシ）フェニル］−１，３，３−トリメチル−３，４−ジヒドロ−１Ｈ−キノキサリン−２−オン及び
・７−［２−メトキシ−４−（２−メチルベンゾイルオキシ）フェニル］−８−（２−メトキシフェニルアミノメチル）−１，３，３−トリメチル−３，４−ジヒドロ−１Ｈ−キノキサリン−２−オンから選択される化合物又はその塩。
- 請求項１〜１９のいずれか１記載の化合物又はその塩を含有する医薬組成物。
- 請求項１〜１９のいずれか１記載の化合物又はその塩を有効成分とするグルココルチコイド受容体のモジュレーター。
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Cited By (8)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| WO2008146871A1 (ja) * | 2007-05-29 | 2008-12-04 | Santen Pharmaceutical Co., Ltd. | グルココルチコイド受容体結合活性を有する、スルホン酸エステル又はスルホン酸アミド構造を導入したフェニル基を置換基として有する新規１，２，３，４－テトラヒドロキノキサリン誘導体 |
| WO2013115201A1 (ja) | 2012-01-31 | 2013-08-08 | 参天製薬株式会社 | 非水性液体組成物 |
| US8551991B2 (en) | 2006-03-14 | 2013-10-08 | Santen Pharmaceutical Co., Ltd. | 1,2,3,4-tetrahydroquinoxaline derivative having glucocorticoid receptor binding activity |
| US8664221B2 (en) | 2008-09-12 | 2014-03-04 | Santen Pharmaceutical Co., Ltd. | Method for treating an inflammatory disease by administering a 1,2,3,4- tetrahydroquinoxaline compound containing a phenyl group having a sulfonic acid ester structure introduced therein as a substituent |
| WO2015099029A1 (ja) | 2013-12-25 | 2015-07-02 | 参天製薬株式会社 | 注射剤およびデポ形成方法 |
| WO2017034006A1 (ja) * | 2015-08-25 | 2017-03-02 | 参天製薬株式会社 | ［４－（１，３，３－トリメチル－２－オキソ－３，４－ジヒドロ－１ｈ－キノキサリン－７－イル）フェノキシ］エチルオキシ化合物またはその塩 |
| WO2018230713A1 (ja) | 2017-06-16 | 2018-12-20 | 学校法人同志社 | カスパーゼ阻害活性を有する化合物、これらの化合物を含む、角膜内皮の症状、障害または疾患を治療または予防するための医薬およびその応用 |
| US11433090B2 (en) | 2017-06-16 | 2022-09-06 | The Doshisha | mTOR-inhibitor-containing medicine for treating or preventing ophthalmic symptoms, disorders, or diseases, and application thereof |
Citations (4)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPH05148243A (ja) * | 1991-04-15 | 1993-06-15 | Hoechst Ag | キノキサリン類およびその製法 |
| WO2004110385A2 (en) * | 2003-06-11 | 2004-12-23 | Bristol-Myers Squibb Company | Modulators of the glucocorticoid receptor and method |
| WO2006015259A2 (en) * | 2004-07-28 | 2006-02-09 | Irm Llc | Compounds and compositions as modulators of steroid hormone nuclear receptors |
| JP2007230993A (ja) * | 2005-09-14 | 2007-09-13 | Santen Pharmaceut Co Ltd | グルココルチコイド受容体結合活性を有する新規１，２−ジヒドロキノリン誘導体 |
-
2007
- 2007-03-14 JP JP2007065465A patent/JP5054996B2/ja not_active Expired - Fee Related
Patent Citations (4)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPH05148243A (ja) * | 1991-04-15 | 1993-06-15 | Hoechst Ag | キノキサリン類およびその製法 |
| WO2004110385A2 (en) * | 2003-06-11 | 2004-12-23 | Bristol-Myers Squibb Company | Modulators of the glucocorticoid receptor and method |
| WO2006015259A2 (en) * | 2004-07-28 | 2006-02-09 | Irm Llc | Compounds and compositions as modulators of steroid hormone nuclear receptors |
| JP2007230993A (ja) * | 2005-09-14 | 2007-09-13 | Santen Pharmaceut Co Ltd | グルココルチコイド受容体結合活性を有する新規１，２−ジヒドロキノリン誘導体 |
Cited By (16)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| US8551991B2 (en) | 2006-03-14 | 2013-10-08 | Santen Pharmaceutical Co., Ltd. | 1,2,3,4-tetrahydroquinoxaline derivative having glucocorticoid receptor binding activity |
| US8975256B2 (en) | 2006-03-14 | 2015-03-10 | Santen Pharmaceutical Co., Ltd. | 1,2,3,4-tetrahydroquinoxaline compounds having glucocorticoid receptor binding activity |
| WO2008146871A1 (ja) * | 2007-05-29 | 2008-12-04 | Santen Pharmaceutical Co., Ltd. | グルココルチコイド受容体結合活性を有する、スルホン酸エステル又はスルホン酸アミド構造を導入したフェニル基を置換基として有する新規１，２，３，４－テトラヒドロキノキサリン誘導体 |
| JP2009007344A (ja) * | 2007-05-29 | 2009-01-15 | Santen Pharmaceut Co Ltd | グルココルチコイド受容体結合活性を有する、スルホン酸エステル又はスルホン酸アミド構造を導入したフェニル基を置換基として有する新規１，２，３，４−テトラヒドロキノキサリン誘導体 |
| US8193187B2 (en) | 2007-05-29 | 2012-06-05 | Santen Pharmaceutical Co., Ltd. | 1,2,3,4-tetrahydroquinoxaline compound with a phenyl group substituent having a sulfonic acid ester structure or a sulfonic acid amide structure introduced therein and having glucocorticoid receptor-binding activity |
| US8569493B2 (en) | 2007-05-29 | 2013-10-29 | Santen Pharmaceutical Co., Ltd. | Method for treating a homeostasis-related disease or glaucoma by administering a 1,2,3,4-tetrahyroquinoxaline compound |
| US8664221B2 (en) | 2008-09-12 | 2014-03-04 | Santen Pharmaceutical Co., Ltd. | Method for treating an inflammatory disease by administering a 1,2,3,4- tetrahydroquinoxaline compound containing a phenyl group having a sulfonic acid ester structure introduced therein as a substituent |
| WO2013115201A1 (ja) | 2012-01-31 | 2013-08-08 | 参天製薬株式会社 | 非水性液体組成物 |
| WO2015099029A1 (ja) | 2013-12-25 | 2015-07-02 | 参天製薬株式会社 | 注射剤およびデポ形成方法 |
| WO2017034006A1 (ja) * | 2015-08-25 | 2017-03-02 | 参天製薬株式会社 | ［４－（１，３，３－トリメチル－２－オキソ－３，４－ジヒドロ－１ｈ－キノキサリン－７－イル）フェノキシ］エチルオキシ化合物またはその塩 |
| JP2017043614A (ja) * | 2015-08-25 | 2017-03-02 | 参天製薬株式会社 | ［４−（１，３，３−トリメチル−２−オキソ−３，４−ジヒドロ−１ｈ−キノキサリン−７−イル）フェノキシ］エチルオキシ化合物またはその塩 |
| US10189796B2 (en) | 2015-08-25 | 2019-01-29 | Santen Pharmaceutical Co., Ltd. | [4-(1,3,3-trimethyl-2-oxo-3,4-dihydro-1H-quinoxalin-7-yl)phenoxy]ethyloxy compound or salt thereof |
| US10435379B2 (en) | 2015-08-25 | 2019-10-08 | Santen Pharmaceutical Co., Ltd. | [4-(1,3,3-trimethyl-2-OXO-3,4-dihydro-1H-quinoxalin-7-yl)phenoxy]ethyloxy compound or salt thereof |
| JP2021138728A (ja) * | 2015-08-25 | 2021-09-16 | 参天製薬株式会社 | ［４−（１，３，３−トリメチル−２−オキソ−３，４−ジヒドロ−１ｈ−キノキサリン−７−イル）フェノキシ］エチルオキシ化合物またはその塩 |
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