JP2007230993A - グルココルチコイド受容体結合活性を有する新規１，２−ジヒドロキノリン誘導体 - Google Patents

Abstract

【課題】 新規１，２−ジヒドロキノリン誘導体の合成研究及びその誘導体の
薬理作用を見出すこと。
【解決手段】
一般式（１）で表される化合物又はその塩はグルココルチコイド受容体が関与する疾患の治療に有効である。式中、環Ｘはベンゼン環又はピリジン環；Ｒ^１はハロゲン原子、アルキル基、ヒドロキシ基、アルコキシ基、アミノ基等；ｐは０〜５の整数；Ｒ^２はハロゲン原子、アルキル基、ヒドロキシ基等；ｑは０〜２の整数；Ｒ^３は水素原子、アルキル基、アルケニル基等；Ｒ^４及びＲ^５は水素原子等；Ｒ^６は水素原子等；Ａはアルキレン基等；Ｒ^７はＯＲ^８、ＮＲ^８Ｒ^９、ＳＲ^８、Ｓ（Ｏ）Ｒ^８又はＳ（Ｏ）_２Ｒ^８；Ｒ^８はアリール基、複素環基等；Ｒ^９は水素原子等をそれぞれ示す。

【選択図】なし

Description

本発明は医薬として有用な新規１，２−ジヒドロキノリン誘導体又はその塩に関する。その誘導体はグルココルチコイド受容体に対する結合活性を有し、非ステロイド構造のグルココルチコイド受容体モジュレーター（グルココルチコイド受容体アゴニスト及び／又はグルココルチコイド受容体アンタゴニスト）として有用である。

グルココルチコイド受容体は、核内レセプタースーパーファミリーに属する９４ｋＤａのリガンド一活性化細胞内転写調節因子である。この受容体は、その転写調節作用により、炭水化物・タンパク質・脂肪等の代謝調節、免疫・炎症反応の抑制、中枢神経系の活性化、心血管系機能の調節、基礎・ストレス関連ホメオスタシス等、に影響を及ぼすことが知られている。グルココルチコイド受容体が関与する疾患としては、糖尿病、肥満等の代謝異常疾患、腸炎、慢性閉塞性肺疾患等の炎症性疾患、膠原病等の自己免疫疾患、喘息、アトピー性皮膚炎、アレルギー性鼻炎等のアレルギー性疾患、精神病、アルツハイマー、薬物使用障害等の中枢神経系疾患、高血圧、高カルシウム血症、高インシュリン血症、高脂血症等の心血管系疾患、神経・免疫・内分泌のバランス異常をきたすホメオスタシス関連疾患、緑内障等が知られている（非特許文献１、特許文献１）。

よって、グルココルチコイド受容体に対して結合活性を有する化合物は、これら疾患の予防及び／又は治療剤として有用であると考えられている。
グルココルチコイド受容体に対して結合活性を有する化合物としては、コルチゾール、コルチコステロン等の生体内で作られるグルココルチコイド受容体アゴニスト、デキサメタゾン、プレドニゾン、プレドニシロン等の合成グルココルチコイド受容体アゴニスト、ＲＵ４８６等の非選択的グルココルチコイド受容体アンタゴニスト等が知られている（特許文献１）。

一方、１，２−ジヒドロキノリン構造を有する化合物が、ステロイド受容体のモジュレーターとして特許文献２、特許文献３等に開示されている。特許文献２、特許文献３に開示されている化合物は、１，２−ジヒドロキノリン構造を有するが、１、２−ジヒドロキノリン構造の５位に種々の置換基を導入した化合物を具体的に開示していない。
総合臨床，５４（７），１９５１−２０７６（２００５） 特開２００２−１９３９５５号公報 国際公開第０４／０１８４２９号パンフレット 特表平１０−０５１０８４０号公報

新規１，２−ジヒドロキノリン誘導体の合成研究及びその誘導体の薬理作用を見出すことは非常に興味深い課題である。

本発明者等は新たな化学構造を有する１，２−ジヒドロキノリン誘導体の合成研究を行い、数多くの新規化合物を創製することに成功した。さらに、その誘導体の薬理作用について研究した結果、本発明者等は、その誘導体がグルココルチコイド受容体に対して結合活性を有し、医薬として有用であることを見出し、本発明を完成させた。

すなわち、本発明は下記一般式（１）で表される化合物又はその塩（以下、「本発明化合物」とする）及びそれらを含む医薬組成物に関する。また、その医薬用途における好ましい発明はグルココルチコイド受容体モジュレーターに関するものであり、その対象疾患としては、グルココルチコイド受容体が関与する疾患、すなわち、糖尿病、肥満等の代謝異常疾患、腸炎、慢性閉塞性肺疾患等の炎症性疾患、膠原病等の自己免疫疾患、喘息、アトピー性皮膚炎、アレルギー性鼻炎等のアレルギー性疾患、精神病、アルツハイマー、薬物使用障害等の中枢神経系疾患、高血圧、高カルシウム血症、高インシュリン血症、高脂血症等の心血管系疾患、神経・免疫・内分泌のバランス異常をきたすホメオスタシス関連疾患、緑内障等が挙げられる。特に好ましい発明はこれらの疾患の予防又は治療剤に関する発明である。

［環Ｘはベンゼン環又はピリジン環を示し；
Ｒ^１はハロゲン原子、置換基を有してもよい低級アルキル基、ヒドロキシ基、置換基を有してもよい低級アルコキシ基、置換基を有してもよい低級アルケニルオキシ基、低級アルキルカルボニル基、アミノ基、ニトロ基又はシアノ基を示し；
ｐは０〜５の整数を示し；
ｐが２〜５の場合、各Ｒ^１は同一又は異なってもよく；
Ｒ^２はハロゲン原子、置換基を有してもよい低級アルキル基、ヒドロキシ基、ヒドロキシ基のエステル又は置換基を有してもよい低級アルコキシ基を示し；
ｑは０〜２の整数を示し；
ｑが２の場合、各Ｒ^２は同一又は異なってもよく；
Ｒ^３は水素原子、置換基を有してもよい低級アルキル基、置換基を有してもよい低級アルケニル基、置換基を有してもよい低級アルキニル基、置換基を有してもよいアリール基、置換基を有してもよい低級アルキルカルボニル基、置換基を有してもよい低級アルケニルカルボニル基、置換基を有してもよい低級アルキニルカルボニル基又は置換基を有してもよいアリールカルボニル基を示し；
Ｒ^４及びＲ^５は同一又は異なって、水素原子又は低級アルキル基を示し；
Ｒ^４及びＲ^５は一緒になって３〜８員の低級シクロアルカン環を形成してもよく；
Ｒ^６は水素原子又は低級アルキル基を示し；
Ａは低級アルキレン基又はカルボニル基を示し；
Ｒ^７はＯＲ^８、ＮＲ^８Ｒ^９、ＳＲ^８、Ｓ（Ｏ）Ｒ^８、又はＳ（Ｏ）_２Ｒ^８を示し；
Ｒ^８は置換基を有してもよい低級アルキル基、置換基を有してもよい低級アルケニル基、置換基を有してもよい低級アルキニル基、置換基を有してもよい低級シクロアルキル基、置換基を有してもよいアリール基、置換基を有してもよい複素環基、ホルミル基、置換基を有してもよい低級アルキルカルボニル基、置換基を有してもよい低級アルケニルカルボニル基、置換基を有してもよい低級アルキニルカルボニル基、置換基を有してもよい低級シクロアルキルカルボニル基、置換基を有してもよいアリールカルボニル基、置換基を有してもよい複素環カルボニル基、カルボキシ基、置換基を有してもよい低級アルコキシカルボニル基、置換基を有してもよい低級アルケニルオキシカルボニル基、置換基を有してもよい低級アルキニルオキシカルボニル基、置換基を有してもよい低級シクロアルキルオキシカルボニル基、置換基を有してもよいアリールオキシカルボニル基、置換基を有してもよい複素環オキシカルボニル基、置換基を有してもよい低級アルキルスルホニル基、置換基を有してもよい低級アルケニルスルホニル基、置換基を有してもよい低級アルキニルスルホニル基、置換基を有してもよい低級シクロアルキルスルホニル基、置換基を有してもよいアリールスルホニル基、置換基を有してもよい複素環スルホニル基、アミノカルボニル基、置換基を有してもよい低級アルキルアミノカルボニル基、置換基を有してもよい低級アルケニルアミノカルボニル基、置換基を有してもよい低級アルキニルアミノカルボニル基、置換基を有してもよい低級シクロアルキルアミノカルボニル基、置換基を有してもよいアリールアミノカルボニル基又は置換基を有してもよい複素環アミノカルボニル基を示し；
Ｒ^９は水素原子、置換基を有してもよい低級アルキル基、置換基を有してもよい低級アルケニル基、置換基を有してもよい低級アルキニル基、置換基を有してもよい低級シクロアルキル基、置換基を有してもよいアリール基、置換基を有してもよい複素環基、ホルミル基、置換基を有してもよい低級アルキルカルボニル基、置換基を有してもよい低級アルケニルカルボニル基、置換基を有してもよい低級アルキニルカルボニル基、置換基を有してもよい低級シクロアルキルカルボニル基、置換基を有してもよいアリールカルボニル基、置換基を有してもよい複素環カルボニル基、カルボキシ基、置換基を有してもよい低級アルコキシカルボニル基、置換基を有してもよい低級アルケニルオキシカルボニル基、置換基を有してもよい低級アルキニルオキシカルボニル基、置換基を有してもよい低級シクロアルキルオキシカルボニル基、置換基を有してもよいアリールオキシカルボニル基、置換基を有してもよい複素環オキシカルボニル基、置換基を有してもよい低級アルキルスルホニル基、置換基を有してもよい低級アルケニルスルホニル基、置換基を有してもよい低級アルキニルスルホニル基、置換基を有してもよい低級シクロアルキルスルホニル基、置換基を有してもよいアリールスルホニル基、置換基を有してもよい複素環スルホニル基、アミノカルボニル基、置換基を有してもよい低級アルキルアミノカルボニル基、置換基を有してもよい低級アルケニルアミノカルボニル基、置換基を有してもよい低級アルキニルアミノカルボニル基、置換基を有してもよい低級シクロアルキルアミノカルボニル基、置換基を有してもよいアリールアミノカルボニル基又は置換基を有してもよい複素環アミノカルボニル基を示し；
また、Ｒ^７がＮＲ^８Ｒ^９の場合、Ｒ^８とＲ^９が一緒になって、置換基を有してもよい３〜８員の含窒素複素環を形成してもよい。以下、同じ。］

本発明は医薬として有用な１、２−ジヒドロキノリン誘導体又はその塩を提供する。本発明化合物は優れたグルココルチコイド受容体結合活性を有し、グルココルチコイド受容体モジュレーターとして有用である。特にグルココルチコイド受容体が関与する疾患、すなわち、糖尿病、肥満等の代謝異常疾患、腸炎、慢性閉塞性肺疾患等の炎症性疾患、膠原病等の自己免疫疾患、喘息、アトピー性皮膚炎、アレルギー性鼻炎等のアレルギー性疾患、精神病、アルツハイマー、薬物使用障害等の中枢神経系疾患、高血圧、高カルシウム血症、高インシュリン血症、高脂血症等の心血管系疾患、神経・免疫・内分泌のバランス異常をきたすホメオスタシス関連疾患、緑内障等の疾患の予防又は治療剤として有用である。

本明細書中で使用される文言（原子、基等）の定義について以下に詳しく説明する。

「ハロゲン原子」とは、フッ素、塩素、臭素又はヨウ素原子を示す。
「低級アルキル基」とは、炭素原子数が１〜８個の直鎖又は分枝のアルキル基を示す。

具体例として、メチル、エチル、ｎ−プロピル、ｎ−ブチル、ｎ−ペンチル、ｎ−ヘキシル、ｎ−ヘプチル、ｎ−オクチル、イソプロピル、イソブチル、ｓｅｃ−ブチル、ｔｅｒｔ−ブチル、イソペンチル基等が挙げられる。

「低級アルケニル基」とは、炭素原子数が２〜８個の直鎖又は分枝のアルケニル基を示す。具体例として、ビニル、プロペニル、ブテニル、ペンテニル、ヘキセニル、ヘプテニル、オクテニル、イソプロペニル、２−メチル−１−プロペニル、２−メチル−２−ブテニル基等が挙げられる。

「低級アルキニル基」とは、炭素原子数が２〜８個の直鎖又は分枝のアルキニル基を示す。具体例として、エチニル、プロピニル、ブチニル、ペンチニル、ヘキシニル、ヘプチニル、オクチニル、イソブチニル、イソペンチニル基等が挙げられる。

「低級シクロアルキル基」とは、炭素原子数が３〜８個のシクロアルキル基を示す。具体例として、シクロプロピル、シクロブチル、シクロペンチル、シクロヘキシル、シクロヘプチル又はシクロオクチル基が挙げられる。

「低級シクロアルカン環」とは、炭素原子数が３〜８個のシクロアルカン環を示す。具体例として、シクロプロパン、シクロブタン、シクロペンタン、シクロヘキサン、シクロヘプタン又はシクロオクタン環が挙げられる。

「アリール基」とは、炭素原子数が６〜１４個の単環式芳香族炭化水素基又は２環式若しくは３環式の縮合多環式芳香族炭化水素から水素１原子を除いた残基を示す。具体例として、フェニル、ナフチル、アントリル、フェナントリル基等が挙げられる。

「複素環基」とは、窒素原子、酸素原子及び硫黄原子から選択される１又は複数個のヘテロ原子を環内に有する飽和或いは不飽和単環式複素環又は２環式若しくは３環式の縮合多環式複素環から水素１原子を除いた残基を示す。

飽和の単環式複素環の具体例として、窒素原子を環内に有するピロリジン、ピラゾリジン、イミダゾリジン、トリアゾリジン、ピペリジン、ヘキサヒドロピリダジン、ヘキサヒドロピリミジン、ピペラジン、ホモピペリジン、ホモピペラジン環等が、酸素原子を環内に有するテトラヒドロフラン、テトラヒドロピラン環等が、硫黄原子を環内に有するテトラヒドロチオフェン、テトラヒドロチオピラン環等が、窒素原子と酸素原子を環内に有するオキサゾリジン、イソオキサゾリジン、モルホリン環等が、窒素原子と硫黄原子を環内に有するチアゾリジン、イソチアゾリジン、チオモルホリン環等が挙げられる。

また、それらの飽和の単環式複素環はベンゼン環等と縮合してジヒドロインドール、ジヒドロインダゾール、ジヒドロベンゾイミダゾール、テトラヒドロキノリン、テトラヒドロイソキノリン、テトラヒドロシンノリン、テトラヒドロフタラジン、テトラヒドロキナゾリン、テトラヒドロキノキサリン、ジヒドロベンゾフラン、ジヒドロイソベンゾフラン、クロマン、イソクロマン、ジヒドロベンゾチオフェン、ジヒドロイソベンゾチオフェン、チオクロマン、イソチオクロマン、ジヒドロベンゾオキサゾール、ジヒドロベンゾイソオキサゾール、ジヒドロベンゾオキサジン、ジヒドロベンゾチアゾール、ジヒドロベンゾイソチアゾール、ジヒドロベンゾチアジン、キサンテン、４ａ−カルバゾール、ペリミジン環等の２環式又は３環式の縮合多環式複素環を形成してもよい。

不飽和の単環式複素環の具体例として、窒素原子を環内に有するジヒドロピロール、ピロール、ジヒドロピラゾール、ピラゾール、ジヒドロイミダゾール、イミダゾール、ジヒドロトリアゾール、トリアゾール、テトラヒドロピリジン、ジヒドロピリジン、ピリジン、テトラヒドロピリダジン、ジヒドロピリダジン、ピリダジン、テトラヒドロピリミジン、ジヒドロピリミジン、ピリミジン、テトラヒドロピラジン、ジヒドロピラジン、ピラジン環等が、酸素原子を環内に有するジヒドロフラン、フラン、ジヒドロピラン、ピラン環等が、硫黄原子を環内に有するジヒドロチオフェン、チオフェン、ジヒドロチオピラン、チオピラン環等が、窒素原子と酸素原子を環内に有するジヒドロオキサゾール、オキサゾール、ジヒドロイソオキサゾール、イソオキサゾール、ジヒドロオキサジン、オキサジン環等が、窒素原子と硫黄原子を環内に有するジヒドロチアゾール、チアゾール、ジヒドロイソチアゾール、イソチアゾール、ジヒドロチアジン、チアジン環等が挙げられる。

また、それらの不飽和の単環式複素環はベンゼン環等と縮合してインドール、インダゾール、ベンゾイミダゾール、ベンゾトリアゾール、ジヒドロキノリン、キノリン、ジヒドロイソキノリン、イソキノリン、フェナントリジン、ジヒドロシンノリン、シンノリン、ジヒドロフタラジン、フタラジン、ジヒドロキナゾリン、キナゾリン、ジヒドロキノキサリン、キノキサリン、ベンゾフラン、イソベンゾフラン、クロメン、イソクロメン、ベンゾチオフェン、イソベンゾチオフェン、チオクロメン、イソチオクロメン、ベンゾオキサゾール、ベンゾイソオキサゾール、ベンゾオキサジン、ベンゾチアゾール、ベンゾイソチアゾール、ベンゾチアジン、フェノキサンチン、カルバゾール、β−カルボリン、フェナントリジン、アクリジン、フェナントロリン、フェナジン、フェノチアジン、フェノキサジン環等の２環式又は３環式の縮合多環式複素環を形成してもよい。

「低級アルコキシ基」とは、ヒドロキシ基の水素原子が低級アルキル基で置換された基を示す。具体例として、メトキシ、エトキシ、ｎ−プロポキシ、ｎ−ブトキシ、ｎ−ペントキシ、ｎ−ヘキシルオキシ、ｎ−ヘプチルオキシ、ｎ−オクチルオキシ、イソプロポキシ、イソブトキシ、ｓｅｃ−ブトキシ、ｔｅｒｔ−ブトキシ、イソペントキシ基等が挙げられる。

「低級アルケニルオキシ基」とは、ヒドロキシ基の水素原子が低級アルケニル基で置換された基を示す。具体例として、ビニルオキシ、プロペニルオキシ、ブテニルオキシ、ペンテニルオキシ、ヘキセニルオキシ、ヘプテニルオキシ、オクテニルオキシ、イソプロペニルオキシ、２−メチル−１−プロペニルオキシ、２−メチル−２−ブテニルオキシ基等が挙げられる。

「低級アルキニルオキシ基」とは、ヒドロキシ基の水素原子が低級アルキニル基で置換された基を示す。具体例として、エチニルオキシ、プロピニルオキシ、ブチニルオキシ、ペンチニルオキシ、ヘキシニルオキシ、ヘプチニルオキシ、オクチニルオキシ、イソブチニルオキシ、イソペンチニルオキシ基等が挙げられる。

「低級シクロアルキルオキシ基」とは、ヒドロキシ基の水素原子が低級シクロアルキル基で置換された基を示す。具体例として、シクロプロピルオキシ、シクロブチルオキシ、シクロペンチルオキシ、シクロヘキシルオキシ、シクロヘプチルオキシ、シクロオクチルオキシ基等が挙げられる。

「アリールオキシ基」とは、ヒドロキシ基の水素原子がアリール基で置換された基を示す。具体例として、フェノキシ、ナフトキシ、アントリルオキシ、フェナントリルオキシ基等が挙げられる。

「複素環オキシ基」とは、ヒドロキシ基の水素原子が複素環基で置換された基を示す。

「低級アルキルチオ基」とは、メルカプト基の水素原子が低級アルキル基で置換された基を示す。具体例として、メチルチオ、エチルチオ、ｎ−プロピルチオ、ｎ−ブチルチオ、ｎ−ペンチルチオ、ｎ−ヘキシルチオ、ｎ−ヘプチルチオ、ｎ−オクチルチオ、イソプロピルチオ、イソブチルチオ、ｓｅｃ−ブチルチオ、ｔｅｒｔ−ブチルチオ、イソペンチルチオ基等が挙げられる。

「低級シクロアルキルチオ基」とは、メルカプト基の水素原子が低級シクロアルキル基で置換された基を示す。具体例として、シクロプロピルチオ、シクロブチルチオ、シクロペンチルチオ、シクロヘキシルチオ、シクロヘプチルチオ又はシクロオクチルチオ基が挙げられる。

「アリールチオ基」とは、メルカプト基の水素原子がアリール基で置換された基を示す。

具体例として、フェニルチオ、ナフチルチオ、アントリルチオ、フェナントリルチオ基等が挙げられる。

「複素環チオ基」とは、メルカプト基の水素原子が複素環基で置換された基を示す。

「低級アルキルアミノ基」とは、アミノ基の一方又は両方の水素原子が低級アルキル基で置換された基を示す。具体例として、メチルアミノ、エチルアミノ、プロピルアミノ、ジメチルアミノ、ジエチルアミノ、エチル（メチル）アミノ基等が挙げられる。

「低級アルケニルアミノ基」とは、アミノ基の一方若しくは両方の水素原子が低級アルケニル基で置換された基、又はアミノ基の一方の水素原子が低級アルケニル基で、他方の水素原子が低級アルキル基で置換された基を示す。ビニルアミノ、プロペニルアミノ、ブテニルアミノ、ペンテニルアミノ、ヘキセニルアミノ、ヘプテニルアミノ、オクテニルアミノ、イソプロペニルアミノ、２−メチル−１−プロペニルアミノ、２−メチル−２−ブテニルアミノ、ジビニルアミノ、メチル（ビニル）アミノ基等が挙げられる。

「低級アルキニルアミノ基」とは、アミノ基の一方若しくは両方の水素原子が低級アルキニル基で置換された基、又はアミノ基の一方の水素原子が低級アルケニル基で、他方の水素原子が低級アルキル基若しくは低級アルケニル基で置換された基を示す。具体例として、エチニルアミノ、プロピニルアミノ、ブチニルアミノ、ペンチニルアミノ、ヘキシニルアミノ、ヘプチニルアミノ、オクチニルアミノ、イソブチニルアミノ、イソペンチニルアミノ、ジエチニルアミノ、エチニル（メチル）アミノ、エチニル（ビニル）アミノ基等が挙げられる。

「低級シクロアルキルアミノ基」、アミノ基の一方若しくは両方の水素原子が低級シクロアルキル基で置換された基、又はアミノ基の一方の水素原子が低級シクロアルキル基で、他方の水素原子が低級アルキル基、低級アルケニル基、若しくは低級アルキニル基で置換された基を示す。具体例として、シクロプロピルアミノ、シクロブチルアミノ、シクロペンチルアミノ、シクロヘキシルアミノ、シクロヘプチルアミノ、シクロオクチルアミノ、ジシクロヘキシル、シクロヘキシル（メチル）アミノ、シクロヘキシル（ビニル）アミノ、シクロヘキシル（エチニル）アミノ基等が挙げられる。

「アリールアミノ基」とは、アミノ基の一方若しくは両方の水素原子がアリール基で置換された基、又はアミノ基の一方の水素原子がアリール基で、他方の水素原子が低級アルキル基、低級アルケニル基、低級アルキニル基、若しくは低級シクロアルキル基で置換された基を示す。具体例として、フェニルアミノ、ナフチルアミノ、アントリルアミノ、フェナントリルアミノ、ジフェニルアミノ、メチル（フェニル）アミノ、エチル（フェニル）アミノ、フェニル（ビニル〕アミノ、エチニル（フェニル）アミノ、シクロヘキシル（フェニル）アミノ基等が挙げられる。

「複素環アミノ基」とは、アミノ基の一方若しくは両方の水素原子が複素環基で置換された基、アミノ基の一方の水素原子が複素環基で、他方の水素原子が低級アルキル基、又は低級アルケニル基、低級アルキニル基、低級シクロアルキル基、若しくはアリール基で置換された基を示す。

「低級アルキルカルボニル基」とは、ホルミル基の水素原子が低級アルキル基で置換された基を示す。具体例としてメチルカルボニル、エチルカルボニル、ｎ−プロピルカルボニル、ｎ−ブチルカルボニル、ｎ−ペンチルカルボニル、ｎ−ヘキシルカルボニル、ｎ−ヘプチルカルボニル、ｎ−オクチルカルボニル、イソプロピルカルボニル、イソブチルカルボニル、ｓｅｃ−ブチルカルボニル、ｔｅｒｔ−ブチルカルボニル、イソペンチルカルボニル基等が挙げられる。

「低級アルケニルカルボニル基」とは、ホルミル基の水素原子が低級アルケニル基で置換された基を示す。具体例として、ビニルカルボニル、プロペニルカルボニル、ブテニルカルボニル、ペンテニルカルボニル、ヘキセニルカルボニル、ヘプテニルカルボニル、オクテニルカルボニル、イソプロペニルカルボニル、２−メチル−１−プロペニルカルボニル、２−メチル−２−ブテニルカルボニル基等が挙げられる。

「低級アルキニルカルボニル基」とは、ホルミル基の水素原子が低級アルキニル基で置換された基を示す。具体例として、エチニルカルボニル、プロピニルカルボニル、ブチニルカルボニル、ペンチニルカルボニル、ヘキシニルカルボニル、ヘプチニルカルボニル、オクチニルカルボニル、イソブチニルカルボニル、イソペンチニルカルボニル基等が挙げられる。

「低級シクロアルキルカルボニル基」とは、ホルミル基の水素原子が低級シクロアルキル基で置換された基を示す。具体例として、シクロプロピルカルボニル、シクロブチルカルボニル、シクロペンチルカルボニル、シクロヘキシルカルボニル、シクロヘプチルカルボニル又はシクロオクチルカルボニル基が挙げられる。

「アリールカルボニル基」とは、ホルミル基の水素原子がアリール基で置換された基を示す。具体例として、フェニルカルボニル、ナフチルカルボニル、アントリルカルボニル、フェナントリルカルボニル基等が挙げられる。

「複素環カルボニル基」とは、ホルミル基の水素原子が複素環基で置換された基を示す。

「低級アルコキシカルボニル基」とは、ホルミル基の水素原子が低級アルコキシ基で置換された基を示す。具体例として、メトキシカルボニル、エトキシカルボニル、ｎ−プロポキシカルボニル、ｎ−ブトキシカルボニル、ｎ−ペントキシカルボニル、ｎ−ヘキシルオキシカルボニル、ｎ−ヘプチルオキシカルボニル、ｎ−オクチルオキシカルボニル、イソプロポキシカルボニル、イソブトキシカルボニル、ｓｅｃ−ブトキシカルボニル、ｔｅｒｔ−ブトキシカルボニル、イソペントキシカルボニル基等が挙げられる。

「低級アルケニルオキシカルボニル基」とは、ホルミル基の水素原子が低級アルケニルオキシ基で置換された基を示す。具体例として、ビニルオキシカルボニル、プロペニルオキシカルボニル、ブテニルオキシカルボニル、ペンテニルオキシカルボニル、ヘキセニルオキシカルボニル、ヘプテニルオキシカルボニル、オクテニルオキシカルボニル、イソプロペニルオキシカルボニル、２−メチル−１−プロペニルオキシカルボニル、２−メチル−２−ブテニルオキシカルボニル基等が挙げられる。

「低級アルキニルオキシカルボニル基」とは、ホルミル基の水素原子が低級アルキニルオキシ基で置換された基を示す。具体例として、エチニルオキシカルボニル、プロピニルオキシカルボニル、ブチニルオキシカルボニル、ペンチニルオキシカルボニル、ヘキシニルオキシカルボニル、ヘプチニルオキシカルボニル、オクチニルオキシカルボニル、イソブチニルオキシカルボニル、イソペンチニルオキシカルボニル基等が挙げられる。

「低級シクロアルキルオキシカルボニル基」とは、ホルミル基の水素原子が低級シクロアルキルオキシ基で置換された基を示す。具体例として、シクロプロピルオキシカルボニル、シクロブチルオキシカルボニル、シクロペンチルオキシカルボニル、シクロヘキシルオキシカルボニル、シクロヘプチルオキシカルボニル、シクロオクチルオキシカルボニル基等が挙げられる。

「アリールオキシカルボニル基」とは、ホルミル基の水素原子がアリールオキシ基で置換された基を示す。具体例として、フェノキシカルボニル、ナフトキシカルボニル、アントリルオキシカルボニル、フェナントリルオキシカルボニル基等が挙げられる。

「複素環オキシカルボニル基」とは、ホルミル基の水素原子が複素環オキシ基で置換された基を示す。

「低級アルキルアミノカルボニル基」とは、ホルミル基の水素原子が低級アルキルアミノ基で置換された基を示す。具体例として、メチルアミノカルボニル、エチルアミノカルボニル、プロピルアミノカルボニル、ジメチルアミノカルボニル、ジエチルアミノカルボニル、エチルメチルアミノカルボニル基等が挙げられる。

「低級アルケニルアミノカルボニル基」とは、ホルミル基の水素原子が低級アルケニルアミノ基で置換された基を示す。具体例として、ビニルアミノカルボニル、プロペニルアミノカルボニル、ブテニルアミノカルボニル、ペンテニルアミノカルボニル、ヘキセニルアミノカルボニル、ヘプテニルアミノカルボニル、オクテニルアミノカルボニル、イソプロペニルアミノカルボニル、２−メチル−１−プロペニルアミノカルボニル、２−メチル−２−ブテニルアミノカルボニル、ジビニルアミノカルボニル、メチル（ビニル）アミノカルボニル基等が挙げられる。

「低級アルキニルアミノカルボニル基」とは、ホルミル基の水素原子が低級アルキニルアミノ基で置換された基を示す。具体例として、エチニルアミノカルボニル、プロピニルアミノカルボニル、ブチニルアミノカルボニル、ペンチニルアミノカルボニル、ヘキシニルアミノカルボニル、ヘプチニルアミノカルボニル、オクチニルアミノカルボニル、イソブチニルアミノカルボニル、イソペンチニルアミノカルボニル、ジエチニルアミノカルボニル、エチニル（メチル）アミノカルボニル、エチニル（ビニル）アミノカルボニル基等が挙げられる。

「低級シクロアルキルアミノカルボニル基」とは、ホルミル基の水素原子が低級シクロアルアミノ基で置換された基を示す。具体例として、シクロプロピルアミノカルボニル、シクロブチルアミノカルボニル、シクロペンチルアミノカルボニル、シクロヘキシルアミノカルボニル、シクロヘプチルアミノカルボニル、シクロオクチルアミノカルボニル、ジシクロヘキシルアミノカルボニル、シクロヘキシル（メチル）アミノカルボニル、シクロヘキシル（ビニル）アミノカルボニル、シクロヘキシル（エチニル）アミノカルボニル基等が挙げられる。

「アリールアミノカルボニル基」とは、ホルミル基の水素原子がアリールアミノ基で置換された基を示す。具体例として、フェニルアミノカルボニル、ナフチルアミノカルボニル、アントリルアミノカルボニル、フェナントリルアミノカルボニル、ジフェニルアミノカルボニル、メチルフェニルアミノカルボニル、エチルフェニルアミノカルボニル、フェニル（ビニル）アミノカルボニル、エチニル（フェニル）アミノカルボニル、シクロヘキシル（フェニル）アミノカルボニル基等が挙げられる。

「複素環アミノカルボニル基」とは、ホルミル基の水素原子が複素環アミノ基で置換された基を示す。

「低級アルキルスルフィニル基」とは、スルフィン酸基のヒドロキシが低級アルキル基で置換された基を示す。具体例として、メチルスルフィニル、エチルスルフィニル、ｎ−プロピルスルフィニル、ｎ−ブチルスルフィニル、ｎ−ペンチルスルフィニル、ｎ−ヘキシルスルフィニル、ｎ−ヘプチルスルフィニル、ｎ−オクチルスルフィニル、イソプロピルスルフィニル、イソブチルスルフィニル、ｓｅｃ−ブチルスルフィニル、ｔｅｒｔ−ブチルスルフィニル、イソペンチルスルフィニル基等が挙げられる。

「アリールスルフィニル基」とは、スルフィン酸基のヒドロキシがアリール基で置換された基を示す。具体例として、フェニルスルフィニル、ナフチルスルフィニル、アントリルスルフィニル、フェナントリルスルフィニル基等が挙げられる。

「低級アルキルスルホニル基」とは、スルホン酸基のヒドロキシが低級アルキル基で置換された基を示す。具体例として、メチルスルホニル、エチルスルホニル、ｎ−プロピルスルホニル、ｎ−ブチルスルホニル、ｎ−ペンチルスルホニル、ｎ−ヘキシルスルホニル、ｎ−ヘプチルスルホニル、ｎ−オクチルスルホニル、イソプロピルスルホニル、イソブチルスルホニル、ｓｅｃ−ブチルスルホニル、ｔｅｒｔ−ブチルスルホニル、イソペンチルスルホニル基等が挙げられる。

「低級アルケニルスルホニル基」とは、スルホン酸基のヒドロキシが低級アルケニル基で置換された基を示す。具体例として、ビニルスルホニル、プロペニルスルホニル、ブテニルスルホニル、ペンテニルスルホニル、ヘキセニルスルホニル、ヘプテニルスルホニル、オクテニルスルホニル、イソプロペニルスルホニル、２−メチル−１−プロペニルスルホニル、２−メチル−２−ブテニルスルホニル基等が挙げられる。

「低級アルキニルスルホニル基」とは、スルホン酸基のヒドロキシが低級アルキニル基で置換された基を示す。具体例として、エチニルスルホニル、プロピニルスルホニル、ブチニルスルホニル、ペンチニルスルホニル、ヘキシニルスルホニル、ヘプチニルスルホニル、オクチニルスルホニル、イソブチニルスルホニル、イソペンチニルスルホニル基等が挙げられる。

「低級シクロアルキルスルホニル基」とは、スルホン酸基のヒドロキシが低級シクロアルキル基で置換された基を示す。具体例として、シクロプロピルスルホニル、シクロブチルスルホニル、シクロペンチルスルホニル、シクロヘキシルスルホニル、シクロヘプチルスルホニル、シクロオクチルスルホニル基等が挙げられる。

「複素環スルホニル基」とは、スルホン酸基のヒドロキシが複素環基で置換された基を示す。

「アリールスルホニル基」とは、スルホン酸基のヒドロキシがアリール基で置換された基を示す。具体例として、フェニルスルホニル、ナフチルスルホニル、アントリルスルホニル、フェナントリルスルホニル基等が挙げられる。

「低級アルコキシカルボニルオキシ基」とは、ヒドロキシ基の水素原子が低級アルコキシカルボニル基で置換された基を示す。具体例として、メトキシカルボニルオキシ、エトキシカルボニルオキシ、ｎ−プロポキシカルボニルオキシ、ｎ−ブトキシカルボニルオキシ、ｎ−ペントキシカルボニルオキシ、ｎ−ヘキシルオキシカルボニルオキシ、ｎ−ヘプチルオキシカルボニルオキシ、ｎ−オクチルオキシカルボニルオキシ、イソプロポキシカルボニルオキシ、イソブトキシカルボニルオキシ、ｓｅｃ−ブトキシカルボニルオキシ、ｔｅｒｔ−ブトキシカルボニルオキシ、イソペントキシカルボニルオキシ基等が挙げられる。

「アリールオキシカルボニルオキシ基」とは、ヒドロキシ基の水素原子がアリールオキシカルボニル基で置換された基を示す。具体例として、フェノキシカルボニルオキシ、ナフトキシカルボニルオキシ、アントリルオキシカルボニルオキシ、フェナントリルオキシカルボニルオキシ基等が挙げられる。

「低級アルキルスルホニルオキシ基」とは、ヒドロキシ基の水素原子が低級アルキルスルホニル基で置換された基を示す。具体例として、メチルスルホニルオキシ、エチルスルホニルオキシ、ｎ−プロピルスルホニルオキシ、ｎ−ブチルスルホニルオキシ、ｎ−ペンチルスルホニルオキシ、ｎ−ヘキシルスルホニルオキシ、ｎ−ヘプチルスルホニルオキシ、ｎ−オクチルスルホニルオキシ、イソプロピルスルホニルオキシ、イソブチルスルホニルオキシ、ｓｅｃ−ブチルスルホニルオキシ、ｔｅｒｔ−ブチルスルホニルオキシ、イソペンチルスルホニルオキシ基等が挙げられる。

「アリールスルホニルオキシ基」とは、ヒドロキシ基の水素原子がアリールスルホニル基で置換された基を示す。具体例として、フェニルスルホニルオキシ、ナフチルスルホニルオキシ、アントリルスルホニルオキシ、フェナントリルスルホニルオキシ基等が挙げられる。

「低級アルキルアミノカルボニルオキシ基」とは、ホルミルオキシ基の水素原子が低級アルキルアミノ基で置換された基を示す。具体例として、メチルアミノカルボニルオキシ、エチルアミノカルボニルオキシ、プロピルアミノカルボニルオキシ、ジメチルアミノカルボニルオキシ、ジエチルアミノカルボニルオキシ、エチル（メチル）アミノカルボニルオキシ基等が挙げられる。

「アリールアミノカルボニルオキシ基」とは、ホルミルオキシ基の水素原子がアリールアミノ基で置換された基を示す。具体例として、フェニルアミノカルボニルオキシ、ナフチルアミノカルボニルオキシ、アントリルアミノカルボニルオキシ、フェナントリルアミノカルボニルオキシ、ジフェニルアミノカルボニルオキシ、メチル（フェニル）アミノカルボニルオキシ、エチル（フェニル）アミノカルボニルオキシ、フェニル（ビニル）アミノカルボニルオキシ、エチニル（フェニル）アミノカルボニルオキシ、シクロヘキシル（フェニル）アミノカルボニルオキシ基等が挙げられる。

「３〜８員の含窒素複素環」とは、環内に１又は２個の窒素原子を含む飽和単環式複素環を示す。具体例として、アジリジン、アゼチジン、ピロリジン、ピペリジン、イミダゾリジン、ピラゾリジン、ピペラジン、モルホリン環等が挙げられる。

「アルキレン基」とは、炭素原子数が１〜８個の直鎖又は分枝のアルキレン基を示す。具体例として、メチレン、エチレン、トリメチレン、テトラメチレン、ペンタメチレン、ヘキサメチレン、ヘプタメチレン、オクタメチレン、メチルメチレン、エチルメチレン基等が挙げられる。

「ヒドロキシ基のエステル」とは、ヒドロキシ基とカルボン酸類とから形成されるエステルを示す。

「メルカプト基のエステル」とは、メルカプト基とカルボン酸類とから形成されるチオエステルを示す。

「アミノ基のアミド」とは、アミノ基とカルボン酸類とから形成されるアミドを示す。

「低級アルキルアミノ基のアミド」とは低級アルキルアミノ基とカルボン酸類とから形成されるアミドを示す。

「アリールアミノ基のアミド」とは、アリールアミノ基とカルボン酸類とから形成されるアミドを示す。

「複素環アミノ基のアミド」とは、複素環アミノ基とカルボン酸類とから形成されるアミドを示す。

「カルボン酸類」とは、Ｒ^ａＣＯＯＨ（Ｒ^ａは水素原子、置換基を有してもよい低級アルキル基、置換基を有してもよい低級アルケニル基、置換基を有してもよいアリール基、置換基を有してもよい複素環基、置換基を有しても低級アルコキシ基等を示す）で示される飽和脂肪族モノカルボン酸、飽和脂肪族ジカルボン酸、不飽和脂肪族カルボン酸、炭素環系カルボン酸、複素環系カルボン酸等を示す。具体例として、ギ酸、酢酸、プロピオン酸、酪酸、イソ酪酸、吉草酸、イソ吉草酸、ピバル酸等の飽和脂肪族モノカルボン酸；シュウ酸、マロン酸、コハク酸、グルタル酸、アジピン酸等の飽和脂肪族ジカルボン酸；アクリル酸、プロピオル酸、クロトン酸、ケイ皮酸等の不飽和脂肪族カルボン酸；安息香酸、フタル酸、イソフタル酸、テレフタル酸、ナフトエ酸、トルイル酸、シクロヘキサンカルボン酸、シクロヘキサンジカルボン酸等の炭素環系カルボン酸；フランカルボン酸、チオフェンカルボン酸、ニコチン酸、イソニコチン酸等の複素環系カルボン酸等が挙げられる。また、これらのカルボン酸の酸無水物［（Ｒ^ａＣＯ）_２Ｏ］、酸ハロゲン化物（Ｒ^ａＣＯＸ、Ｘはハロゲン原子を示す）も「カルボン酸類」に含まれる。

「カルボキシ基のエステル」とは、カルボキシ基とアルコール類又はフェノール類とから形成されるエステルを示す。

「スルフィン酸基のエステル」とは、スルフィン酸基とアルコール類又はフェノール類とから形成されるエステルを示す。

「スルホン酸基のエステル」とは、スルホン酸基とアルコール類又はフェノール類とから形成されるエステルを示す。

「アルコール類」とは、Ｒ^ｂＯＨ（Ｒ^ｂは置換基を有してもよい低級アルキル基、置換基を有してもよいアルケニル基等を示す）で示される飽和脂肪族系ヒドロキシ化合物、不飽和脂肪族系ヒドロキシ化合物等を示す。具体例として、メタノール、エタノール、プロパノール、ブタノール、イソプロパノール等の飽和脂肪族系ヒドロキシ化合物；ビニルアルコール等の不飽和脂肪族系ヒドロキシ化合物；ベンジルアルコール、フェネチルアルコール等のアリール基で置換された飽和脂肪族系ヒドロキシ化合物等を示す。

「フェノール類」とは、Ｒ^ｃＯＨ（Ｒ^ｃは置換基を有してもよいアリール基等を示す）で示される炭素環系ヒドロキシ化合物等を示す。具体例として、フェノール、ナフトール、アントロール、フェナントロール等が挙げられる。

「カルボキシ基のアミド」とは、カルボキシ基とアミン類とから形成される酸アミドを示す。

「スルフィン酸基のアミド」とは、スルフィン酸基とアミン類とから形成される酸アミドを示す。

「スルホン酸基のアミド」とは、スルホン酸基とアミン類から形成される酸アミドを示す。

「アミン類」とは、ＨＮＲ^ｄＲ^ｅ［Ｒ^ｄとＲ^ｅは同一又は異なって、水素原子、置換基を有してもよい低級アルキル基、置換基を有してもよいアリール基、複素環基等を示し、また、Ｒ^ｃとＲ^ｄとが一緒になって飽和環状アミンを形成してもよい］で示されるアンモニア、飽和脂肪族系アミン化合物、炭素環系アミン化合物、複素環系アミン化合物、飽和環状アミン化合物等を示す。具体例として、アンモニア；メチルアミン、エチルアミン、プロピルアミン、ペンチルアミン、ジメチルアミン、ジエチルアミン、エチルメチルアミン等の飽和脂肪族系アミン化合物；ベンジルアミン等の置換基を有する飽和脂肪族系アミン化合物；フェニルアミン、ナフチルアミン、アントリルアミン、フェナントリルアミン、ジフェニルアミン、メチルフェニルアミン、エチルフェニルアミン、シクロヘキシルアミン等の炭素環系アミン化合物；フリルアミン、チエニルアミン、ピロリジルアミン、ピリジルアミン、キノリルアミン、メチルピリジルアミン等の複素環系アミン化合物；アジリジン、アゼチジン、ピロリジン、ピペリジン、４−メチルピペリジン等の飽和環状アミン化合物等を示す。

「置換基を有してもよい低級アルキル基」、「置換基を有してもよい低級アルケニル基」「置換基を有してもよい低級アルキニル基」、「置換基を有してもよい低級アルコキシ基」、「置換基を有してもよい低級アルキルカルボニル基」、「置換基を有してもよい低級アルケニルカルボニル基」、「置換基を有してもよい低級アルキニルカルボニル基」、「置換基を有してもよい低級アルコキシカルボニル基」、「置換基を有してもよい低級アルケニルオキシルボニル基」、「置換基を有してもよい低級アルキニルオキシカルボニル基」、「置換基を有してもよい低級アルキルアミノカルボニル基」、及び／又は「置換基を有してもよい低級アルキルスルホニルオキシ基」とは、下記、α^１群から選択される１又は複数個の置換基を有してもよい「低級アルキル基」、「低級アルケニル基」「低級アルキニル基」、「低級アルコキシ基」、「低級アルキルカルボニル基」、「低級アルケニルカルボニル基」、「低級アルキニルカルボニル基」、「低級アルコキシカルボニル基」、「低級アルケニルオキシルボニル基」、「低級アルキニルオキシカルボニル基」、「低級アルキルアミノカルボニル基」、又は「低級アルキルスルホニルオキシ基」を示す。

［α^１群］
ハロゲン原子、低級シクロアルキル基、アリール基、ハロゲン原子で置換されたアリール基、低級アルキル基で置換されたアリール基、ヒドロキシ基で置換されたアリール基、低級アルコキシ基で置換されたアリール基、複素環基、ヒドロキシ基、ヒドロキシ基のエステル、低級アルコキシ基、ハロゲン原子で置換された低級アルコキシ基、低級アルケニルオキシ基、低級アルキニルオキシ基、低級シクロアルキルオキシ基、アリールオキシ基、複素環オキシ基、メルカプト基、メルカプト基のエステル、低級アルキルチオ基、低級アルケニルチオ基、低級アルキニルチオ基、低級シクロアルキルチオ基、アリールチオ基、複素環チオ基、アミノ基、アミノ基のアミド、低級アルキルアミノ基、低級アルキルアミノ基のアミド、アリールアミノ基、アリールアミノ基のアミド、複素環アミノ基、複素環アミノ基のアミド、ホルミル基、低級アルキルカルボニル基、低級アルケニルカルボニル基、低級アルキニルカルボニル基、低級シクロアルキルカルボニル基、アリールカルボニル基、複素環カルボニル基、カルボキシ基、カルボキシ基のエステル、カルボキシ基のアミド、低級アルコキシカルボニル基、低級アルケニルオキシカルボニル基、低級アルキニルオキシカルボニル基、低級シクロアルキルオキシカルボニル基、アリールオキシカルボニル基、複素環オキシカルボニル基、低級アルキルスルフィニル基、アリールスルフィニル基、低級アルキルスルホニル基、アリールスルホニル基、スルフィン酸基、スルフィン酸基のエステル、スルフィン酸基のアミド、スルホン酸基、スルホン酸基のエステル、スルホン酸基のアミド、ニトロ基、及びシアノ基。

「置換基を有してもよい低級シクロアルキル基」、「置換基を有してもよいアリール基」、「置換基を有してもよい複素環基」、「置換基を有してもよい低級シクロアルキルカルボニル基」、「置換基を有してもよいアリールカルボニル基」、「置換基を有してもよい複素環カルボニル基」、「置換基を有してもよい低級シクロアルキルオキシカルボニル基」、「置換基を有してもよいアリールオキシカルボニル基」、「置換基を有してもよい複素環オキシカルボニル基」、「置換基を有してもよいアリールアミノカルボニル基」、及び／又は「置換基を有してもよい複素環アミノカルボニル基」とは、下記、β^１群から選択される１又は複数個の置換基を有してもよい「低級シクロアルキル基」「アリール基」、「複素環基」、「低級シクロアルキルカルボニル基」、「アリールカルボニル基」、「複素環カルボニル基」、「低級シクロアルキルオキシカルボニル基」、「アリールオキシカルボニル基」、「複素環オキシカルボニル基」、「アリールアミノカルボニル基」、又は「複素環アミノカルボニル基」を示す。

［β^１群］
ハロゲン原子、低級アルキル基、ハロゲン原子で置換された低級アルキル基、ヒドロキシ基で置換された低級アルキル基、低級アルコキシ基で置換された低級アルキル基、アミノ基で置換された低級アルキル基、低級アルキルアミノ基で置換された低級アルキル基、カルボキシ基で置換された低級アルキル基、低級アルコキシカルボニル基で置換された低級アルキル基、低級アルケニル基、低級アルキニル基、低級シクロアルキル基、アリール基、複素環基、ヒドロキシ基、ヒドロキシ基のエステル、低級アルコキシ基、ハロゲン原子で置換された低級アルコキシ基、低級アルケニルオキシ基、低級アルキニルオキシ基、低級シクロアルキルオキシ基、アリールオキシ基、複素環オキシ基、メルカプト基、メルカプト基のエステル、低級アルキルチオ基、低級アルケニルチオ基、低級アルキニルチオ基、低級シクロアルキルチオ基、アリールチオ基、複素環チオ基、アミノ基、アミノ基のアミド、低級アルキルアミノ基、低級アルキルアミノ基のアミド、アリールアミノ基、アリールアミノ基のアミド、複素環アミノ基、複素環アミノ基のアミド、ホルミル基、低級アルキルカルボニル基、低級アルケニルカルボニル基、低級アルキニルカルボニル基、低級シクロアルキルカルボニル基、アリールカルボニル基、複素環カルボニル基、カルボキシ基、カルボキシ基のアミド、低級アルコキシカルボニル基、低級アルケニルオキシカルボニル基、低級アルキニルオキシカルボニル基、低級シクロアルキルオキシカルボニル基、アリールオキシカルボニル基、複素環オキシカルボニル基、低級アルキルスルフィニル基、アリールスルフィニル基、低級アルキルスルホニル基、アリールスルホニル基、スルフィン酸基、スルフィン酸基のエステル、スルフィン酸基のアミド、スルホン酸基、スルホン酸基のエステル、スルホン酸基のアミド、ニトロ基、シアノ基、アミノカルボニルオキシ基、低級アルキルアミノカルボニルオキシ基、及びアリールアミノカルボニルオキシ基。

本発明でいう「複数個の基」とは、夫々の基が同一であっても異なるものであってもよく、その個数は、１，２又は３個の場合が好ましく、特に２個の場合が好ましい。また、水素原子やハロゲン原子も「基」の概念に含まれる。

本発明でいう「グルココルチコイド受容体モジュレーター」とは、グルココルチコイド受容体と結合することにより、医薬的作用を発現させるものをいう。例えば、グルココルチコイド受容体アゴニスト、グルココルチコイド受容体アンタゴニスト等が挙げられる。

本発明化合物における「塩」とは、医薬として許容される塩であれば、特に制限はなく、塩酸、臭化水素酸、ヨウ化水素酸、硝酸、硫酸、リン酸等の無機酸との塩、酢酸、フマル酸、マレイン酸、コハク酸、クエン酸、酒石酸、アジピン酸、グルコン酸、グルコヘプト酸、グルクロン酸、テレフタル酸、メタンスルホン酸、乳酸、馬尿酸、１，２−エタンジスルホン酸、イセチオン酸、ラクトビオン酸、オレイン酸、パモ酸、ポリガラクツロン酸、ステアリン酸、タンニン酸、トリフルオロメタンスルホン酸、ベンゼンスルホン酸、ｐ−トルエンスルホン酸、硫酸ラウリルエステル、硫酸メチル、ナフタレンスルホン酸、スルホサリチル酸等の有機酸との塩、臭化メチル、ヨウ化メチル等との四級アンモニウム塩、臭素イオン、塩素イオン、ヨウ素イオン等のハロゲンイオンとの塩、リチウム、ナトリウム、カリウム等のアルカリ金属との塩、カルシウム、マグネシウム等のアルカリ土類金属との塩、鉄、亜鉛等との金属塩、アンモニアとの塩、トリエチレンジアミン、２−アミノエタノール、２，２−イミノビス（エタノール）、１−デオキシ−１−（メチルアミノ）−２−Ｄ−ソルビトール、２−アミノ−２−（ヒドロキシメチル）−１，３−プロパンジオール、プロカイン、Ｎ，Ｎ−ビス（フェニルメチル）−１，２−エタンジアミン等の有機アミンとの塩等が挙げられる。

本発明化合物に幾何異性体又は光学異性体が存在する場合は、それらの異性体も本発明の範囲に含まれる。

また、本発明化合物は水和物又は溶媒和物の形態をとっていてもよい。

本発明化合物にプロトン互変異性が存在する場合には、それらの互変異性体も本発明に含まれる。

本発明化合物に結晶多形が存在する場合には、それらの結晶多形体も本発明に含まれる。
（ａ）本発明化合物における好ましい例として、一般式（１）で示される化合物又はその塩において、各基が下記に示す基である化合物又はその塩が挙げられる。

一般式（１）において、
（ａ１）環Ｘがベンゼン環又はピリジン環を示し；及び／又は、
（ａ２）Ｒ^１がハロゲン原子、低級アルキル基、ヒドロキシ基、低級アルコキシ基、低級アルケニルオキシ基、低級アルキルカルボニル基、アミノ基、ニトロ基又はシアノ基を示し；
Ｒ^１が低級アルキル基又は低級アルコキシ基の場合、該低級アルキル基又は該低級アルコキシ基はハロゲン原子、アリール基、ハロゲン原子で置換されたアリール基、低級アルキル基で置換されたアリール基、ヒドロキシ基で置換されたアリール基、低級アルコキシ基で置換されたアリール基、ヒドロキシ基、ヒドロキシ基のエステル、低級アルコキシ基、アリールオキシ基、カルボキシ基及びカルボキシ基のエステルから選択される１又は複数個の基を置換基として有してもよく；及び／又は、
（ａ３）ｐが０〜３の整数を示し；
ｐが２又は３の場合、各Ｒ^１は同一又は異なってもよく；及び／又は、
（ａ４）Ｒ^２がハロゲン原子、低級アルキル基、ヒドロキシ基、ヒドロキシ基のエステル又は低級アルコキシ基を示し；及び／又は、
（ａ５）ｑが０〜２の整数を示し；
ｑが２の場合、各Ｒ^２は同一又は異なってもよく；及び／又は、
（ａ６）Ｒ^３が水素原子、低級アルキル基、低級アルケニル基、低級アルキニル基、アリール基、低級アルキルカルボニル基、低級アルケニルカルボニル基、低級アルキニルカルボニル基又はアリールカルボニル基を示し；
Ｒ^３が低級アルキル基又は低級アルキルカルボニル基の場合、該低級アルキル基又は該低級アルキルカルボニル基は１又は複数個のアリール基を置換基として有してもよく；
Ｒ^３がアリール基又はアリールカルボニル基の場合、該アリール基又は該アリールカルボニル基はハロゲン原子及び低級アルキル基から選択される１又は複数個の基を置換基として有してもよく；及び／又は、
（ａ７）Ｒ^４及びＲ^５が同一又は異なって、水素原子又は低級アルキル基を示し；及び／又は、
（ａ８）Ｒ^６が水素原子又は低級アルキル基を示し；及び／又は、
（ａ９）Ａが低級アルキレン基又はカルボニル基を示し；及び／又は、
（ａ１０）Ｒ^７がＯＲ^８、ＮＲ^８Ｒ^９又はＳＲ^８を示し；及び／又は、
（ａ１１）Ｒ^８が低級アルキル基、低級アルケニル基、低級アルキニル基、低級シクロアルキル基、アリール基、複素環基、ホルミル基、低級アルキルカルボニル基、低級アルケニルカルボニル基、低級アルキニルカルボニル基、低級シクロアルキルカルボニル基、アリールカルボニル基、複素環カルボニル基、カルボキシ基、低級アルコキシカルボニル基、低級アルケニルオキシカルボニル基、低級アルキニルオキシカルボニル基、低級シクロアルキルオキシカルボニル基、アリールオキシカルボニル基、複素環オキシカルボニル基、低級アルキルスルホニル基、低級アルケニルスルホニル基、低級アルキニルスルホニル基、低級シクロアルキルスルホニル基、アリールスルホニル基、複素環スルホニル基、アミノカルボニル基、低級アルキルアミノカルボニル基、低級アルケニルアミノカルボニル基、低級アルキニルアミノカルボニル基、低級シクロアルキルアミノカルボニル基、アリールアミノカルボニル基又は複素環アミノカルボニル基を示し；及び／又は、
（ａ１２）Ｒ^９が水素原子、低級アルキル基、低級アルケニル基、低級アルキニル基、低級シクロアルキル基、アリール基、複素環基、ホルミル基、低級アルキルカルボニル基、低級アルケニルカルボニル基、低級アルキニルカルボニル基、低級シクロアルキルカルボニル基、アリールカルボニル基、複素環カルボニル基、カルボキシ基、低級アルコキシカルボニル基、低級アルケニルオキシカルボニル基、低級アルキニルオキシカルボニル基、低級シクロアルキルオキシカルボニル基、アリールオキシカルボニル基、複素環オキシカルボニル基、低級アルキルスルホニル基、低級アルケニルスルホニル基、低級アルキニル
スルホニル基、低級シクロアルキルスルホニル基、アリールスルホニル基、複素環スルホニル基、アミノカルボニル基、低級アルキルアミノカルボニル基、低級アルケニルアミノカルボニル基、低級アルキニルアミノカルボニル基、低級シクロアルキルアミノカルボニル基、アリールアミノカルボニル基又は複素環アミノカルボニル基を示し；及び／又は、
（ａ１３）Ｒ^８又はＲ^９が低級アルキル基、低級アルケニル基、低級アルキニル基、低級アルキルカルボニル基、低級アルケニルカルボニル基、低級アルキニルカルボニル基、低級アルコキシカルボニル基、低級アルケニルオキシカルボニル基、低級アルキニルオキシカルボニル基、低級アルキルスルホニル基、低級アルケニルスルホニル基、低級アルキニルスルホニル基、低級アルキルアミノカルボニル基、低級アルケニルアミノカルボニル基又は低級アルキニルアミノカルボニル基の場合、該低級アルキル基、該低級アルケニル基、該低級アルキニル基、該低級アルキルカルボニル基、該低級アルケニルカルボニル基、該低級アルキニルカルボニル基、該低級アルコキシカルボニル基、該低級アルケニルオキシカルボニル基、該低級アルキニルオキシカルボニル基、該低級アルキルスルホニル基、該低級アルケニルスルホニル基、該低級アルキニルスルホニル基、該低級アルキルアミノカルボニル基、該低級アルケニルアミノカルボニル基又は該低級アルキニルアミノカルボニル基はハロゲン原子、低級シクロアルキル基、アリール基、複素環基、ヒドロキシ基、ヒドロキシ基のエステル、低級アルコキシ基、ハロゲン原子で置換された低級アルコキシ基、低級アルケニルオキシ基、低級アルキニルオキシ基、低級シクロアルキルオキシ基、アリールオキシ基、複素環オキシ基、メルカプト基、メルカプト基のエステル、低級アルキルチオ基、低級アルケニルチオ基、低級アルキニルチオ基、低級シクロアルキルチオ基、アリールチオ基、複素環チオ基、アミノ基、アミノ基のアミド、低級アルキルアミノ基、低級アルキルアミノ基のアミド、アリールアミノ基、アリールアミノ基のアミド、複素環アミノ基、複素環アミノ基のアミド、ホルミル基、低級アルキルカルボニル基、低級アルケニルカルボニル基、低級アルキニルカルボニル基、低級シクロアルキルカルボニル基、アリールカルボニル基、複素環カルボニル基、カルボキシ基、カルボキシ基のアミド、低級アルコキシカルボニル基、低級アルケニルオキシカルボニル基、低級アルキニルオキシカルボニル基、低級シクロアルキルオキシカルボニル基、アリールオキシカルボニル基、複素環オキシカルボニル基、低級アルキルスルフィニル基、アリールスルフィニル基、低級アルキルスルホニル基、アリールスルホニル基、スルフィン酸基、スルフィン酸基のエステル、スルフィン酸基のアミド、スルホン酸基、スルホン酸基のエステル、スルホン酸基のアミド、ニトロ基及びシアノ基から選択される１又は複数個の基を置換基として有してもよく；及び／又は、
（ａ１４）Ｒ^８又はＲ^９が低級シクロアルキル基、アリール基、複素環基、低級シクロアルキルカルボニル基、アリールカルボニル基、複素環カルボニル基、低級シクロアルキルオキシカルボニル基、アリールオキシカルボニル基、複素環オキシカルボニル基、低級シクロアルキルスルホニル基、アリールスルホニル基、複素環スルホニル基、低級シクロアルキルアミノカルボニル基、アリールアミノカルボニル基又は複素環アミノカルボニル基の場合、該低級シクロアルキル基、該アリール基、該複素環基、該低級シクロアルキルカルボニル基、該アリールカルボニル基、該複素環カルボニル基、該低級シクロアルキルオキシカルボニル基、該アリールオキシカルボニル基、該複素環オキシカルボニル基、該低級シクロアルキルスルホニル基、該アリールスルホニル基、該複素環スルホニル基、該低級シクロアルキルアミノカルボニル基、該アリールアミノカルボニル基又は該複素環アミノカルボニル基はハロゲン原子、低級アルキル基、ハロゲン原子で置換された低級アルキル基、ヒドロキシ基で置換された低級アルキル基、低級アルコキシ基で置換された低級アルキル基、アミノ基で置換された低級アルキル基、低級アルキルアミノ基で置換された低級アルキル基、カルボキシ基で置換された低級アルキル基、低級アルコキシカルボニル基で置換された低級アルキル基、低級アルケニル基、低級アルキニル基、低級シクロアルキル基、アリール基、複素環基、ヒドロキシ基、ヒドロキシ基のエステル、低級アルコキシ基、ハロゲン原子で置換された低級アルコキシ基、低級アルケニルオキシ基、低級アルキニルオキシ基、低級シクロアルキルオキシ基、アリールオキシ基、複素環オキシ基、メルカプト基、メルカプト基のエステル、低級アルキルチオ基、低級アルケニルチオ基、低級アルキニルチオ基、低級シクロアルキルチオ基、アリールチオ基、複素環チオ基、アミノ基、アミノ基のアミド、低級アルキルアミノ基、低級アルキルアミノ基のアミド、アリールアミノ基、アリールアミノ基のアミド、複素環アミノ基、複素環アミノ基のアミド、ホルミル基、低級アルキルカルボニル基、低級アルケニルカルボニル基、低級アルキニルカルボニル基、低級シクロアルキルカルボニル基、アリールカルボニル基、複素環カルボニル基、カルボキシ基、カルボキシ基のアミド、低級アルコキシカルボニル基、低級アルケニルオキシカルボニル基、低級アルキニルオキシカルボニル基、低級シクロアルキルオキシカルボニル基、アリールオキシカルボニル基、複素環オキシカルボニル基、低級アルキルスルフィニル基、アリールスルフィニル基、低級アルキルスルホニル基、アリールスルホニル基、スルフィン酸基、スルフィン酸基のエステル、スルフィン酸基のアミド、スルホン酸基、スルホン酸基のエステル、スルホン酸基のアミド、ニトロ基、シアノ基、アミノカルボニルオキシ基低級アルキルアミノカルボニルオキシ基及びアリールアミノカルボニルオキシ基から選択される１又は複数個の基を置換基として有してもよく；及び／又は、
（ａ１５）また、Ｒ^７がＮＲ^８Ｒ^９の場合、Ｒ^８とＲ^９が一緒になって、５又は６員の含窒素複素環を形成してもよい。

すなわち、一般式（１）で示される化合物において、上記（ａ１）、（ａ２）、（ａ３）、（ａ４）、（ａ５）、（ａ６）、（ａ７）、（ａ８）、（ａ９）、（ａ１０）、（ａ１１）、（ａ１２）、（ａ１３）、（ａ１４）及び（ａ１５）から選択される１又は２以上の各組み合わせからなる化合物又はその塩が挙げられる。
（ｂ）本発明化合物におけるより好ましい例として、一般式（１）で示される化合物又はその塩において、各基が下記に示す基である化合物又はその塩が挙げられる。

一般式（１）において、
（ｂ１）環Ｘがベンゼン環又はピリジン環を示し；及び／又は、
（ｂ２）Ｒ^１がハロゲン原子、低級アルキル基、ヒドロキシ基、低級アルコキシ基、低級アルケニルオキシ基、低級アルキルカルボニル基、アミノ基又はニトロ基を示し、
Ｒ^１が低級アルキル基又は低級アルコキシ基の場合、該低級アルキル基又は該低級アルコキシ基はハロゲン原子、アリール基、ハロゲン原子で置換されたアリール基、低級アルキル基で置換されたアリール基、低級アルコキシ基で置換されたアリール基、ヒドロキシ基、低級アルコキシ基、アリールオキシ基、カルボキシ基及びカルボキシ基のエステルから選択される１又は複数個の基を置換基として有してもよく；及び／又は、
（ｂ３）ｐが０〜３の整数を示し；
ｐが２又は３の場合、各Ｒ^１は同一又は異なってもよく；及び／又は、
（ｂ４）Ｒ^２がハロゲン原子、低級アルキル基、ヒドロキシ基又は低級アルコキシ基を示し；及び／又は、
（ｂ５）ｑが０〜２の整数を示し；
ｑが２の場合、各Ｒ^２は同一又は異なってもよく；及び／又は、
（ｂ６）Ｒ^３が水素原子、低級アルキル基、低級アルケニル基、アリール基、低級アルキルカルボニル基、低級アルケニルカルボニル基又はアリールカルボニル基を示し；
Ｒ^３が低級アルキル基又は低級アルキルカルボニル基の場合、該低級アルキル基又は該低級アルキルカルボニル基は１又は複数個のアリール基を置換基として有してもよく；
Ｒ^３がアリール基又はアリールカルボニル基の場合、該アリール基又は該アリールカルボニル基はハロゲン原子及び低級アルキル基から選択される１又は複数個の基を置換基として有してもよく；及び／又は、
（ｂ７）Ｒ^４及びＲ^５が同一又は異なって、水素原子又は低級アルキル基を示し；及び／又は、
（ｂ８）Ｒ^６が水素原子又は低級アルキル基を示し；及び／又は、
（ｂ９）Ａが低級アルキレン基又はカルボニル基を示し；及び／又は、
（ｂ１０）Ｒ^７がＯＲ^８、ＮＲ^８Ｒ^９又はＳＲ^８を示し；及び／又は、
（ｂ１１）Ｒ^８が低級アルキル基、低級アルケニル基、低級アルキニル基、低級シクロアルキル基、アリール基、複素環基、低級アルキルカルボニル基、低級アルケニルカルボニル基、低級アルキニルカルボニル基、低級シクロアルキルカルボニル基、アリールカルボニル基又は複素環カルボニル基を示し；及び／又は、
（ｂ１２）Ｒ^９が水素原子、低級アルキル基、低級アルケニル基、低級アルキニル基、低級シクロアルキル基、アリール基、複素環基、低級アルキルカルボニル基、低級アルケニルカルボニル基、低級アルキニルカルボニル基、低級シクロアルキルカルボニル基、アリールカルボニル基又は複素環カルボニル基を示し；及び／又は、
（ｂ１３）Ｒ^８又はＲ^９が低級アルキル基、低級アルケニル基、低級アルキニル基、低級アルキルカルボニル基、低級アルケニルカルボニル基又は低級アルキニルカルボニル基の場合、該低級アルキル基、該低級アルケニル基、該低級アルキニル基、該低級アルキルカルボニル基、該低級アルケニルカルボニル基又は該低級アルキニルカルボニル基はアリール基、ヒドロキシ基及び低級アルコキシ基から選択される１又は複数個の基を置換基として有してもよく；及び／又は、
（ｂ１４）Ｒ^８又はＲ^９が低級シクロアルキル基、アリール基、複素環基、低級シクロアルキルカルボニル基、アリールカルボニル基又は複素環カルボニル基の場合、該低級シクロアルキル基、該アリール基、該複素環基、該低級シクロアルキルカルボニル基、該アリールカルボニル基又は該複素環カルボニル基はハロゲン原子、低級アルキル基、ハロゲン原子で置換された低級アルキル基、ヒドロキシ基で置換された低級アルキル基、低級アルコキシ基で置換された低級アルキル基、アミノ基で置換された低級アルキル基、低級アルキルアミノ基で置換された低級アルキル基、カルボキシ基で置換された低級アルキル基、低級アルコキシカルボニル基で置換された低級アルキル基、低級アルケニル基、低級アルキニル基、アリール基、複素環基、ヒドロキシ基、ヒドロキシ基のエステル、低級アルコキシ基、ハロゲン原子で置換された低級アルコキシ基、アリールオキシ基、メルカプト基、低級アルキルチオ基、アミノ基、アミノ基のアミド、低級アルキルアミノ基、低級アルキルアミノ基のアミド、ホルミル基、低級アルキルカルボニル基、カルボキシ基、カルボキシ基のアミド、低級アルコキシカルボニル基、ニトロ基、シアノ基、アミノカルボニルオキシ基及び低級アルキルアミノカルボニルオキシ基から選択される１又は複数個の基を置換基として有してもよく；及び／又は、
（ｂ１５）また、Ｒ^７がＮＲ^８Ｒ^９の場合、Ｒ^８とＲ^９が一緒になって、５又は６員の含窒素複素環を形成してもよい。

すなわち、一般式（１）で示される化合物において、上記（ｂ１）、（ｂ２）、（ｂ３）、（ｂ４）、（ｂ５）、（ｂ６）、（ｂ７）、（ｂ８）、（ｂ９）、（ｂ１０）、（ｂ１１）、（ｂ１２）、（ｂ１３）、（ｂ１４）及び（ｂ１５）から選択される１又は２以上の各組み合わせからなる化合物又はその塩が挙げられる。

（ｃ）本発明化合物におけるさらに好ましい例として、一般式（１）で示される化合物又はその塩において、各基が下記に示す基である化合物又はその塩が挙げられる。

一般式（１）において、
（ｃ１）環Ｘがベンゼン環又はピリジン環を示し；及び／又は
（ｃ２）Ｒ^１がハロゲン原子、低級アルキル基、ヒドロキシ基、低級アルコキシ基、低級アルケニルオキシ基、低級アルキルカルボニル基、アミノ基又はニトロ基を示し；
Ｒ^１が低級アルキル基又は低級アルコキシ基の場合、該低級アルキル基又は低級アルコキシ基はハロゲン原子、アリール基、ハロゲン原子で置換されたアリール基、低級アルキル基で置換されたアリール基、低級アルコキシ基で置換されたアリール基、ヒドロキシ基、低級アルコキシ基及びカルボキシ基のエステルから選択される１又は複数個の基を置換基として有してもよく；
；及び／又は
（ｃ３）ｐが０〜３の整数を示し；
ｐが２又は３の場合、各Ｒ^１は同一又は異なってもよく；及び／又は
（ｃ４）Ｒ^２がハロゲン原子、低級アルキル基又は低級アルコキシ基を示し；及び／又は
（ｃ５）ｑが０又は１を示し；及び／又は
（ｃ６）Ｒ^３が水素原子、低級アルキル基、低級アルケニル基、低級アルキルカルボニル基、低級アルケニルカルボニル基又はアリールカルボニル基を示し；
Ｒ^３が低級アルキル基の場合、該低級アルキル基は１又は複数個のアリール基を置換基として有してもよく；
Ｒ^３がアリールカルボニル基の場合、該アリールカルボニル基はハロゲン原子、及び低級アルキル基から選択される１又は複数個の基を置換基として有してもよく；及び／又は
（ｃ７）Ｒ^４及びＲ^５がともに低級アルキル基を示し；及び／又は
（ｃ８）Ｒ^６が低級アルキル基を示し；及び／又は
（ｃ９）Ａが低級アルキレン基又はカルボニル基を示し；及び／又は
（ｃ１０）Ｒ^７がＯＲ^８、ＮＲ^８Ｒ^９又はＳＲ^８を示し；及び／又は
（ｃ１１）Ｒ^８が低級アルキル基、低級シクロアルキル基、アリール基、複素環基、低級アルキルカルボニル基、低級アルケニルカルボニル基、低級シクロアルキルカルボニル基、アリールカルボニル基又は複素環カルボニル基を示し；及び／又は
（ｃ１２）Ｒ^９が水素原子、低級アルキル基、低級シクロアルキル基、アリール基、複素環基、アリールカルボニル基又は複素環カルボニル基を示し；及び／又は
（ｃ１３）Ｒ^８又はＲ^９が低級アルキル基の場合、該低級アルキル基は低級アルコキシ基及びアリール基から選択される１又は複数個の基を置換基として有してもよく；及び／又は
（ｃ１４）Ｒ^８又はＲ^９がアリール基、アリールカルボニル基又は複素環カルボニル基の場合、該アリール基、該アリールカルボニル基又は該複素環カルボニル基はハロゲン原子、低級アルキル基、ハロゲン原子で置換された低級アルキル基、ヒドロキシ基で置換された低級アルキル基、アミノ基で置換された低級アルキル基、低級アルキルアミノ基で置換された低級アルキル基、カルボキシ基で置換された低級アルキル基、低級アルコキシカルボニル基で置換された低級アルキル基、低級アルケニル基、低級アルキニル基、アリール基、ヒドロキシ基、ヒドロキシ基のエステル、低級アルコキシ基、ハロゲン原子で置換された低級アルコキシ基、アリールオキシ基、低級アルキルチオ基、アミノ基、アミノ基のアミド、低級アルキルアミノ基、低級アルキルアミノ基のアミド、ホルミル基、低級アルキルカルボニル基、カルボキシ基、カルボキシ基のアミド、低級アルコキシカルボニル基、ニトロ基、シアノ基及び低級アルキルアミノカルボニルオキシ基から選択される１又は複数個の基で置換されていてもよく；及び／又は
（ｃ１５）また、Ｒ^７がＮＲ^８Ｒ^９の場合、Ｒ^８とＲ^９が一緒になって、５又は６員の含窒素複素環を形成してもよい。

すなわち、一般式（１）で示される化合物において、上記（ｃ１）、（ｃ２）、（ｃ３）、（ｃ４）、（ｃ５）、（ｃ６）、（ｃ７）、（ｃ８）、（ｃ９）、（ｃ１０）、（ｃ１１）、（ｃ１２）、（ｃ１３）、（ｃ１４）及び（ｃ１５）から選択される１又は２以上の各組み合わせからなる化合物又はその塩が挙げられる。

（ｄ）本発明化合物におけるさらに好ましい例として、一般式（１）で示される化合物又はその塩において、各基が下記に示す基である化合物又はその塩が挙げられる。

一般式（１）において、
（ｄ１）環Ｘがベンゼン環を示し；及び／又は
（ｄ２）Ｒ^１がハロゲン原子、低級アルキル基、ヒドロキシ基、低級アルコキシ基、低級アルケニルオキシ基、アミノ基又はニトロ基を示し；
Ｒ^１が低級アルキル基の場合、該低級アルキル基は１又は複数個のハロゲン原子を置換基として有してもよく；
Ｒ^１が低級アルコキシ基の場合、該低級アルコキシ基はアリール基、ハロゲン原子で置換されたアリール基、低級アルキル基で置換されたアリール基、低級アルコキシ基で置換されたアリール基及び低級アルコキシ基から選択される１又は複数個の基を置換基として有してもよく；及び／又は
（ｄ３）ｐが２又は３を示し、この時、各Ｒ^１は同一又は異なってもよく；及び／又は
（ｄ４）Ｒ^２がハロゲン原子、低級アルキル基又は低級アルコキシ基を示し；及び／又は
（ｄ５）ｑが０又は１を示し；及び／又は
（ｄ６）Ｒ^３が水素原子を示し；及び／又は
（ｄ７）Ｒ^４及びＲ^５がともに低級アルキル基を示し；及び／又は
（ｄ８）Ｒ^６が低級アルキル基を示し；及び／又は
（ｄ９）Ａが低級アルキレン基を示し；及び／又は
（ｄ１０）Ｒ^７がＯＲ^８、ＮＲ^８Ｒ^９又はＳＲ^８を示し；及び／又は
（ｄ１１）Ｒ^８がアリール基、アリールカルボニル基又は複素環カルボニル基を示し；及び／又は
（ｄ１２）Ｒ^９が水素原子又は低級アルキル基を示し；及び／又は
（ｄ１３）Ｒ^８がアリール基、アリールカルボニル基又は複素環カルボニル基の場合、該アリール基、該アリールカルボニル基又は該複素環カルボニル基はハロゲン原子、低級アルキル基、ハロゲン原子で置換された低級アルキル基、ヒドロキシ基で置換された低級アルキル基、アミノ基で置換された低級アルキル基、低級アルキルアミノ基で置換された低級アルキル基、カルボキシ基で置換された低級アルキル基、低級アルコキシカルボニル基で置換された低級アルキル基、低級アルケニル基、低級アルキニル基、アリール基、ヒドロキシ基、ヒドロキシ基のエステル、低級アルコキシ基、ハロゲン原子で置換された低級アルコキシ基、アリールオキシ基、低級アルキルチオ基、アミノ基、アミノ基のアミド、低級アルキルアミノ基、低級アルキルアミノ基のアミド、ホルミル基、低級アルキルカルボニル基、カルボキシ基、カルボキシ基のアミド、低級アルコキシカルボニル基、ニトロ基、シアノ基及び低級アルキルアミノカルボニルオキシ基から選択される１又は複数個の基を置換基として有してもよい。

すなわち、一般式（１）で示される化合物において、上記（ｄ１）、（ｄ２）、（ｄ３）、（ｄ４）、（ｄ５）、（ｄ６）、（ｄ７）、（ｄ８）、（ｄ９）、（ｄ１０）、（ｄ１１）、（ｄ１２）及び（ｄ１３）から選択される１又は２以上の各組み合わせからなる化合物又はその塩が挙げられる。

（ｅ）本発明化合物におけるさらに好ましい例として、下記の条件を充足する化合物又はその塩が挙げられる。

一般式（１）において、Ｒ^７がＯＲ^８であり及び上記（ａ）、（ｂ）、（ｃ）及び／又は（ｄ）の条件を充足する化合物又はその塩が好ましく、その時、Ｒ^８がフェニル基、フェニルカルボニル基又はチオフェンカルボニル基である化合物である化合物又はその塩が特に好ましい。

尚、このＲ^８は置換基を有してもよく、Ｒ^８がフェニル基の場合、そのフェニル基は、ハロゲン原子、低級アルキル基、ハロゲン原子で置換された低級アルキル基、ヒドロキシ基で置換された低級アルキル基、低級アルキルアミノ基で置換された低級アルキル基、カルボキシ基で置換された低級アルキル基、低級アルコキシカルボニル基で置換された低級アルキル基、低級アルケニル基、低級アルキニル基、アリール基、ヒドロキシ基、低級アルコキシ基、低級アルキルチオ基、アミノ基、アミノ基のアミド、低級アルキルアミノ基、低級アルキルアミノ基のアミド、ホルミル基、低級アルキルカルボニル基、カルボキシ基、カルボキシ基のアミド、低級アルコキシカルボニル基、ニトロ基及びシアノ基から選択される１又は複数個の基（特に１、２又は３個の基）で置換されていてもよく、Ｒ^８がフェニルカルボニル基の場合、そのフェニルカルボニル基は、ハロゲン原子、低級アルキル基、ハロゲン原子で置換された低級アルキル基、ヒドロキシ基で置換された低級アルキル基、アリール基、ヒドロキシ基、ヒドロキシ基のエステル、低級アルコキシ基、ハロゲン原子で置換された低級アルコキシ基、アリールオキシ基、低級アルキルチオ基、アミノ基、低級アルキルアミノ基、低級アルキルカルボニル基、ニトロ基及びシアノ基から選択される１又は複数個の基（特に１、２又は３個の基）で置換されていてもよく、また、チオフェンカルボニル基の場合、そのチオフェンカルボニル基は、ハロゲン原子、低級アルキル基、アリール基、低級アルコキシ基、低級アルキルチオ基、アミノ基のアミド及び低級アルキルカルボニル基から選択される１又は複数個の基（特に１、２又は３個の基）で置換されていてもよい。

（ｆ）本発明化合物におけるさらに別の好ましい例として、下記の条件を充足する化合物又はその塩が挙げられる。

一般式（１）において、Ｒ^７がＮＲ^８Ｒ^９であり及び上記（ａ）、（ｂ）、（ｃ）及び／又は（ｄ）の条件を充足する化合物又はその塩が好ましく、その時、Ｒ^８がフェニル基である化合物である化合物又はその塩が特に好ましい。

尚、このＲ^８は置換基を有してもよく、Ｒ^８がフェニル基の場合、そのフェニル基は、ハロゲン原子、低級アルキル基、ヒドロキシ基で置換された低級アルキル基、複素環基、低級アルコキシ基、低級アルキルチオ基、アミノ基のアミド、低級アルキルアミノ基、低級アルキルアミノ基のアミド、低級アルキルアミノカルボニルオキシ基及びシアノ基から選択される１又は複数個の基（特に１、２又は３個の基）で置換されていてもよい。

（ｇ）本発明化合物におけるさらに別の好ましい例として、下記の条件を充足する化合物又はその塩が挙げられる。

一般式（１）において、Ｒ^７がＳＲ^８であり及び上記（ａ）、（ｂ）、（ｃ）及び／又は（ｄ）の条件を充足する化合物又はその塩が好ましい。

（ｈ）本発明化合物におけるなおさらに好ましい例として、下記の条件を充足する化合物又はその塩が挙げられる。

一般式（１）において、環Ｘがベンゼン環であり及び上記（ａ）、（ｂ）、（ｃ）、（ｄ）、（ｅ）、（ｆ）及び／又は（ｇ）の条件を充足する化合物又はその塩。

（ｉ）本発明化合物におけるなおさらに好ましい例として、下記の条件を充足する化合物又はその塩が挙げられる。

一般式（１）において、Ａが低級アルキレン基であり及び上記（ａ）、（ｂ）、（ｃ）、（ｄ）、（ｅ）、（ｆ）、（ｇ）及び／又は（ｈ）の条件を充足する化合物又はその塩が挙げられ、その時、低級アルキレン基がメチレン基である化合物である化合物又はその塩が特に好ましい。

（ｊ）本発明化合物におけるなおさらに好ましい例として、下記の条件を充足する化合物又はその塩が挙げられる。

一般式（１）において、Ｒ^３が水素原子であり及び上記（ａ）、（ｂ）、（ｃ）、（ｄ）、（ｅ）、（ｆ）、（ｇ）、（ｈ）及び／又は（ｉ）の条件を充足する化合物又はその塩。

（ｋ）本発明化合物における特に好ましい例として、下記の条件を充足する化合物又はその塩が挙げられる。

一般式（１）において、Ｒ^４、Ｒ^５及びＲ^６が低級アルキル基であり及び上記（ａ）、（ｂ）、（ｃ）、（ｄ）、（ｅ）、（ｆ）、（ｇ）、（ｈ）、（ｉ）及び／又は（ｊ）の条件を充足する化合物又はその塩が挙げられ、その時、低級アルキル基がすべてメチル基である化合物である化合物又はその塩が特に好ましい。

（ｌ）本発明化合物における特に好ましい具体例として下記の化合物又はその塩が挙げられる。

・５−アセトキシメチル−６−（２−メトキシフェニル）−２，２，４−トリメチル−１，２−ジヒドロキノリン、
・５−ベンゾイルオキシメチル−６−（２−メトキシフェニル）−２，２，４−トリメチル−１，２−ジヒドロキノリン、
・６−（２−メトキシフェニル）−５−［（チオフェン−２−イル）カルボニルオキシメチル］−２，２，４−トリメチル−１，２−ジヒドロキノリン、
・５−（４−ｔ−ブチルベンゾイルオキシメチル）−６−（２−メトキシフェニル）−２，２，４−トリメチル−１，２−ジヒドロキノリン、
・５−ベンゾイルオキシメチル−６−（４−フルオロ−２−メトキシフェニル）−２，２，４−トリメチル−１，２−ジヒドロキノリン、
・６−（４−フルオロ−２−メトキシフェニル）−５−（３−メトキシべンゾイルオキシメチル）−２，２，４−トリメチル−１，２−ジヒドロキノリン、
・６−（４−フルオロ−２−メトキシフェニル）−５−（２−メトキシベンゾイルオキシメチル）−２，２，４−トリメチル−１，２−ジヒドロキノリン、
・６−（４−フルオロ−２−メトキシフェニル）−５−（４−メトキシベンゾイルオキシメチル）−２，２，４−トリメチル−１，２−ジヒドロキノリン、
・６−（４−フルオロ−２−メトキシフェニル）−５−［（チオフェン−２−イル）カルボニルオキシメチル）］−２，２，４−トリメチル−１，２−ジヒドロキノリン、
・６−（４−フルオロ−２−メトキシフェニル）−５−（４−メチルベンゾイルオキシメチル）−２，２，４−トリメチル−１，２−ジヒドロキノリン、
・６−（４−フルオロ−２−メトキシフェニル）−５−（３−メチルベンゾイルオキシメチル）−２，２，４−トリメチル−１，２−ジヒドロキノリン、
・６−（４−フルオロ−２−メトキシフェニル）−５−（２−メチルベンゾイルオキシメチル）−２，２，４−トリメチル−１，２−ジヒドロキノリン、
・６−（４−フルオロ−２−メトキシフェニル）−５−フェノキシメチル−２，２，４−トリメチル−１，２−ジヒドロキノリン、
・６−（４−フルオロ−２−メトキシフェニル）−５−（４−メトキシフェノキシメチル）−２，２，４−トリメチル−１，２−ジヒドロキノリン、
・６−（４−フルオロ−２−メトキシフェニル）−５−（４−フルオロフェノキシメチル）−２，２，４−トリメチル−１，２−ジヒドロキノリン、
・６−（４−フルオロ−２−メトキシフェニル）−５−（３−フルオロフェノキシメチル）−２，２，４−トリメチル−１，２−ジヒドロキノリン、
・６−（４−フルオロ−２−メトキシフェニル）−５−（２−フルオロフェノキシメチル）−２，２，４−トリメチル−１，２−ジヒドロキノリン、
・６−（４−フルオロ−２−メトキシフェニル）−５−（３−メトキシフェノキシメチル）−２，２，４−トリメチル−１，２−ジヒドロキノリン、
・６−（４−フルオロ−２−メトキシフェニル）−５−（２−メトキシフェノキシメチル）−２，２，４−トリメチル−１，２−ジヒドロキノリン、
・６−（４，５−ジフルオロ−２−メトキシフェニル）−５−（３−フルオロフェノキシメチル）−２，２，４−トリメチル−１，２−ジヒドロキノリン、
・６−（４−フルオロ−２−メトキシフェニル）−５−（４−メチルフェノキシメチル）−２，２，４−トリメチル−１，２−ジヒドロキノリン、
・６−（４−フルオロ−２−メトキシフェニル）−５−（３−メチルフェノキシメチル）−２，２，４−トリメチル−１，２−ジヒドロキノリン、
・６−（４−フルオロ−２−メトキシフェニル）−５−（２−メチルフェノキシメチル）−２，２，４−トリメチル−１，２−ジヒドロキノリン、
・６−（４−フルオロ−２−メトキシフェニル）−５−（２−ヒドロキシメチルフェノキシメチル）−２，２，４−トリメチル−１，２−ジヒドロキノリン、
・６−（４−フルオロ−２−メトキシフェニル）−５−（５−フルオロ−２−メチルフェノキシメチル）−２，２，４−トリメチル−１，２−ジヒドロキノリン、
・６−（４−フルオロ−２−メトキシフェニル）−５−（５−クロロ−２−メチルフェノキシメチル）−２，２，４−トリメチル−１，２−ジヒドロキノリン、
・６−（４，５−ジフルオロ−２−メトキシフェニル）−５−（５−フルオロ−２−メチルフェノキシメチル）−２，２，４−トリメチル−１，２−ジヒドロキノリン、
・６−（４−フルオロ−２−メトキシフェニル）−５−（２−メトキシ−５−ニトロフェノキシメチル）−２，２，４−トリメチル−１，２−ジヒドロキノリン、
・６−（４−フルオロ−２−メトキシフェニル）−５−［２−（２−ヒドロキシエチル）フェノキシメチル］−２，２，４−トリメチル−１，２−ジヒドロキノリン、
・６−（４−フルオロ−２−メトキシフェニル）−５−（２−メチル−５−ニトロフェノキシメチル）−２，２，４−トリメチル−１，２−ジヒドロキノリン、
・６−（４−フルオロ−２−メトキシフェニル）−５−（２−アリルフェノキシメチル）−２，２，４−トリメチル−１，２−ジヒドロキノリン、
・６−（５−クロロ−２−メトキシフェニル）−５−［２−（２−ヒドロキシエチル）フェノキシメチル］−２，２，４−トリメチル−１，２−ジヒドロキノリン、
・５−（５−フルオロ−２−メチルフェノキシメチル）−６−（４−ヒドロキシ−２−メトキシフェニル）−２，２，４−トリメチル−１，２−ジヒドロキノリン、
・５−（５−フルオロ−２−メチルフェノキシメチル）−６−（５−ヒドロキシ−２−メトキシフェニル）−２，２，４−トリメチル−１，２−ジヒドロキノリン、
・６−（４−ヒドロキシ−２−メトキシフェニル）−５−（４−メチルベンゾイルオキシメチル）−２，２，４−トリメチル−１，２−ジヒドロキノリン、
・６−（２−メトキシフェニル）−５−フェニルアミノメチル−２，２，４−トリメチル−１，２−ジヒドロキノリン、
・６−（４−フルオロ−２−メトキシフェニル）−５−フェニルアミノメチル−２，２，４−トリメチル−１，２−ジヒドロキノリン、
・６−（４−フルオロ−２−メトキシフェニル）−５−（４−メトキシフェニルアミノメチル）−２，２，４−トリメチル−１，２−ジヒドロキノリン、
・６−（４−フルオロ−２−メトキシフェニル）−５−（４−フルオロフェニルアミノメチル）−２，２，４−トリメチル−１，２−ジヒドロキノリン、
・６−（４−フルオロ−２−メトキシフェニル）−５−（３−フルオロフェニルアミノメチル）−２，２，４−トリメチル−１，２−ジヒドロキノリン、
・６−（４−フルオロ−２−メトキシフェニル）−５−（２−フルオロフェニルアミノメチル）−２，２，４−トリメチル−１，２−ジヒドロキノリン、
・６−（４−フルオロ−２−メトキシフェニル）−５−（３−メトキシフェニルアミノメチル）−２，２，４−トリメチル−１，２−ジヒドロキノリン、
・６−（４−フルオロ−２−メトキシフェニル）−５−（２−メトキシフェニルアミノメチル）−２，２，４−トリメチル−１，２−ジヒドロキノリン、
・６−（４，５−ジフルオロ−２−メトキシフェニル）−５−（２−メトキシフェニルアミノメチル）−２，２，４−トリメチル−１，２−ジヒドロキノリン、
・６−（４−フルオロ−２−メトキシフェニル）−５−（２−ヒドロキシメチルフェニルアミノメチル）−２，２，４−トリメチル−１，２−ジヒドロキノリン、
・６−（４−フルオロ−２−メトキシフェニル）−５−（２−メトキシ−５−メチルフェニルアミノメチル）−２，２，４−トリメチル−１，２−ジヒドロキノリン、
・６−（４−フルオロ−２−メトキシフェニル）−５−（５−フルオロ−２−メチルフェニルアミノメチル）−２，２，４−トリメチル−１，２−ジヒドロキノリン、
・６−（５−クロロ−２−メトキシフェニル）−５−（２−メトキシフェニルアミノメチル）−２，２，４−トリメチル−１，２−ジヒドロキノリン、
・６−（５−クロロ−２−メトキシフェニル）−５−（５−フルオロ−２−メチルフェニルアミノメチル）−２，２，４−トリメチル−１，２−ジヒドロキノリン、
・６−（２−メトキシフェニル）−５−フェニルチオメチル−２，２，４−トリメチル−１，２−ジヒドロキノリン、
・６−（４−フルオロ−２−メトキシフェニル）−５−フェニルチオメチル−２，２，４−トリメチル−１，２−ジヒドロキノリン、
・６−（４−フルオロ−２−メトキシフェニル）−５−（２−メトキシフェニルチオメチル）−２，２，４−トリメチル−１，２−ジヒドロキノリン、
・６−（４−フルオロ−２−メトキシフェニル）−５−［（５−メチルチオフェン−２−イル）カルボニルオキシメチル］−２，２，４−トリメチル−１，２−ジヒドロキノリン、
・６−（４−フルオロ−２−メトキシフェニル）−５−［（４−メチルチオフェン−２−イル）カルボニルオキシメチル］−２，２，４−トリメチル−１，２−ジヒドロキノリン、
・５−［（５−クロロチオフェン−２−イル）カルボニルオキシメチル］−６−（４−フルオロ−２−メトキシフェニル）−２，２，４−トリメチル−１，２−ジヒドロキノリン、
・６−（４−フルオロ−２−メトキシフェニル）−５−［（３−メチルチオフェン−２−イル）カルボニルオキシメチル］−２，２，４−トリメチル−１，２−ジヒドロキノリン、
・５−［（５−ブロモチオフェン−２−イル）カルボニルオキシメチル］−６−（４−フルオロ−２−メトキシフェニル）−２，２，４−トリメチル−１，２−ジヒドロキノリン、
・６−（４−フルオロ−２−メトキシフェニル）−５−［（５−メトキシチオフェン−２−イル）カルボニルオキシメチル］−２，２，４−トリメチル−１，２−ジヒドロキノリン、
・６−（４−フルオロ−２−メトキシフェニル）−５−［（チオフェン−３−イル）カルボニルオキシメチル］−２，２，４−トリメチル−１，２−ジヒドロキノリン、
・６−（４，５−ジフルオロ−２−メトキシフェニル）−５−［（５−メチルチオフェン−２−イル）カルボニルオキシメチル］−２，２，４−トリメチル−１，２−ジヒドロキノリン、
・６−（５−クロロ−２−メトキシフェニル）−５−（５−メチルチオフェン−２−イルカルボニルオキシメチル）−２，２，４−トリメチル−１，２−ジヒドロキノリン、
・６−（５−クロロ−２−メトキシフェニル）−５−（４−メトキシベンゾイルオキシメチル）−２，２，４−トリメチル−１，２−ジヒドロキノリン、
・６−（５−クロロ−２−メトキシフェニル）−５−（２−メチル−５−ニトロフェノキシメチル）−２，２，４−トリメチル−１，２−ジヒドロキノリン、
・６−（５−クロロ−２−メトキシフェニル）−５−（５−フルオロ−２−メチルフェノキシメチル）−２，２，４−トリメチル−１，２−ジヒドロキノリン、
・６−（５−クロロ−２−メトキシフェニル）−５−（２−メトキシ−５−ニトロフェノキシメチル）−２，２，４−トリメチル−１，２−ジヒドロキノリン、
・６−（５−クロロ−２−メトキシフェニル）−５−（５−クロロ−２−メチルフェノキシメチル）−２，２，４−トリメチル−１，２−ジヒドロキノリン、
・６−（５−クロロ−２−メトキシフェニル）−５−（５−フルオロ−２−メトキシフェノキシメチル）−２，２，４−トリメチル−１，２−ジヒドロキノリン、
・６−（５−クロロ−２−メトキシフェニル）−５−（２，５−ジメチルフェノキシメチル）−２，２，４−トリメチル−１，２−ジヒドロキノリン、
・５−（２−アリルフェノキシメチル）−６−（５−クロロ−２−メトキシフェニル）−２，２，４−トリメチル−１，２−ジヒドロキノリン、
・５−（５−フルオロ−２−メチルフェノキシメチル）−６−（２−メトキシ−５−ニトロフェニル）−２，２，４−トリメチル−１，２−ジヒドロキノリン、
・６−（４−アリルオキシ−２−メトキシフェニル）−５−（５−フルオロ−２−メチルフェノキシメチル）−２，２，４−トリメチル−１，２−ジヒドロキノリン、
・６−（５−アリルオキシ−２−メトキシフェニル）−５−（５−フルオロ−２−メチルフェノキシメチル）−２，２，４−トリメチル−１，２−ジヒドロキノリン、
・６−（５−アミノ−２−メトキシフェニル）−５−（５−フルオロ−２−メチルフェノキシメチル）−２，２，４−トリメチル−１，２−ジヒドロキノリン、
・５−（２−フルオロベンゾイルオキシメチル）−６−（４−フルオロ−２−メトキシフェニル）−２，２，４−トリメチル−１，２−ジヒドロキノリン、
・５−（３−フルオロベンゾイルオキシメチル）−６−（４−フルオロ−２−メトキシフェニル）−２，２，４−トリメチル−１，２−ジヒドロキノリン、
・５−（４−フルオロベンゾイルオキシメチル）−６−（４−フルオロ−２−メトキシフェニル）−２，２，４−トリメチル−１，２−ジヒドロキノリン、
・６−（４−フルオロ−２−メトキシフェニル）−５−（４−メチルフェニルアミノメチル）−２，２，４−トリメチル−１，２−ジヒドロキノリン、
・６−（４−フルオロ−２−メトキシフェニル）−５−（３−メチルフェニルアミノメチル）−２，２，４−トリメチル−１，２−ジヒドロキノリン、
・６−（４−フルオロ−２−メトキシフェニル）−５−（２−メチルフェニルアミノメチル）−２，２，４−トリメチル−１，２−ジヒドロキノリン及び
・６−（４−フルオロ−２−メトキシフェニル）−５−（２−メチルフェニルチオメチル）−２，２，４−トリメチル−１，２−ジヒドロキノリン。

本発明化合物は、以下の方法により製造することができる。尚、個々の具体的な製造方法については、後述の実施例における［製造例］の項で詳細に説明する。また、これらの例示は本発明をよりよく理解するためのものであり、本発明の範囲を限定するものではない。尚、下記の合成経路中で示されているｈａｌはハロゲン原子を示す。

本発明化合物（Ｉ）−（ａ）（一般式（１）においてＡがメチレン基、Ｒ^３がＨ、Ｒ^４、Ｒ^５及びＲ^６がメチル基、Ｒ^７がＯＲ^８ａ、Ｒ^８ａがアルキルカルボニル基、シクロアルキルカルボニル基、アリールカルボニル基、複素環カルボニル基等である化合物）と（Ｉ）−（ｂ）（一般式（１）においてＡがメチレン基、Ｒ^３がアルキルカルボニル基、シクロアルキルカルボニル基、アリールカルボニル基、複素環カルボニル基等、Ｒ^４、Ｒ^５及びＲ^６がメチル基、Ｒ^７がＯＲ^８ａ、Ｒ^８ａがアルキルカルボニル基、シクロアルキルカルボニル基、アリールカルボニル基、複素環カルボニル基等である化合物）は合成経路１に従い合成することができる。すなわち、化合物（ＩＩ）をテトラヒドロフラン（以下、ＴＨＦとする）、１，４−ジオキサン、Ｎ，Ｎ−ジメチルホルムアミド（以下、ＤＭＦとする）、塩化メチレン等の有機溶媒中、トリエチルアミン、ジイソプロピルエチルアミン（以下、ＤＩＥＡとする）等の塩基存在下、対応する酸クロリド（ＩＩＩ）−（ａ）と、０度から室温で、１２時間から２日間反応させることにより化合物（Ｉ）−（ａ）又は（Ｉ）−（ｂ）を得ることができる。

また本発明化合物（Ｉ）−（ａ）（一般式（１）においてＡがメチレン基、Ｒ^３がＨ、Ｒ^４、Ｒ^５及びＲ^６がメチル基、Ｒ^７がＯＲ^８ａ、Ｒ^８ａがアルキルカルボニル基、シクロアルキルカルボニル基、アリールカルボニル基、複素環カルボニル基等である化合物）は合成経路２に従い合成することもできる。すなわち、化合物（ＩＩ）と塩化メタンスルホニルを塩化メチレン、ＤＭＦ等の有機溶媒中、トリエチルアミン、ＤＩＥＡ等の塩基存在下、０度から室温で、３０分間から３日間反応させることにより化合物（ＩＶ）が得られる。得られる（ＩＶ）と対応するカルボン酸（ＩＩＩ）−（ｂ）をＤＭＦ、塩化メチレン等の有機溶媒中、炭酸カリウム、ＤＩＥＡ、水素化ナトリウム等の塩基存在下、５０度から１００度で１時間から２日間反応させることにより化合物（Ｉ）−（ａ）を得ることができる。

さらに本発明化合物（Ｉ）−（ａ）（一般式（１）においてＡがメチレン基、Ｒ^３がＨ、Ｒ^４、Ｒ^５及びＲ^６がメチル基、Ｒ^７がＯＲ^８ａ、Ｒ^８ａがアルキルカルボニル基、シクロアルキルカルボニル基、アリールカルボニル基、複素環カルボニル基等である化合物）は合成経路３に従い合成することもできる。すなわち、化合物（ＩＩ）とカルボン酸（ＩＩＩ）−（ｂ）をベンゼン、トルエン等の有機溶媒中、トリフェニルホスフィン、トリブチルホスフィン等のホスフィンとジエチルアゾジカルボキシレート、ジイソプロピルアゾジカルボキシレート、１，１’−（アゾジカルボニル）ジピペリジン等の試薬存在下、室温で１時間から２日間反応させることにより化合物（Ｉ）−（ａ）を得ることができる。

また、本発明化合物（Ｉ）−（ｃ）（一般式（１）においてＡがメチレン基、Ｒ^３がＨ、Ｒ^４、Ｒ^５及びＲ^６がメチル基、Ｒ^７がＯＲ^８、ＮＲ^８Ｒ^９又はＳＲ^８である化合物）は合成経路４に従い合成することができる。すなわち、化合物（ＩＶ）と対応するアルコール若しくはフェノール類（Ｖ）、アミン（ＶＩ）又はチオール若しくはチオフェノール類（ＶＩＩ）をＤＭＦ、塩化メチレン等の有機溶媒中、炭酸カリウム、ＤＩＥＡ、水素化ナトリウム等の塩基存在下、５０度から１００度で１時間から２日間反応させることにより化合物（Ｉ）−（ｃ）を得ることができる。

また、本発明化合物（Ｉ）−（ｄ）（一般式（１）においてＡがメチレン基、Ｒ^３がＨ、Ｒ^４、Ｒ^５及びＲ^６がメチル基、Ｒ^７がＯＲ^８、Ｒ^８がアリール基等である化合物）は合成経路５に従い合成することができる。すなわち、化合物（ＩＩ）と対応するフェノール類（Ｖ）をベンゼン、トルエン等の有機溶媒中、トリフェニルホスフィン、トリブチルホスフィン等のホスフィンとジエチルアゾジカルボキシレート、ジイソプロピルアゾジカルボキシレート、１，１’−（アゾジカルボニル）ジピペリジン等の試薬存在下、室温で１時間から２日間反応させることにより化合物（Ｉ）−（ｄ）を得ることができる。

本発明化合物（Ｉ）−（ｅ）（一般式（１）において、Ａがカルボニル基、Ｒ^１の１つが２位のヒドロキシ基、Ｒ^３がＨ、Ｒ^４、Ｒ^５及びＲ^６がメチル基、Ｒ^７がＮＲ^８Ｒ^９、ｐ’が０から４の整数である化合物）及び（Ｉ）−（ｆ）（一般式（１）において、Ａがカルボニル基、Ｒ^１の１つが２位のＯＲ^１０基（Ｒ^１０は低級アルキル基、低級アルキルカルボニル基等）、Ｒ^３がＨ、Ｒ^４、Ｒ^５及びＲ^６がメチル基、Ｒ^７がＮＲ^８Ｒ^９、ｐ’が０から４の整数である化合物）は合成経路４に従い合成することができる。すなわち、化合物（ＶＩＩＩ）と対応するアミン（ＶＩ）を、ジエチルエーテル、ＴＨＦ等の有機溶媒中、ブチルリチウム等の塩基存在下、０度から室温で、３０分間から２時間反応させることにより化合物（Ｉ）−（ｅ）が得られる。得られる化合物（Ｉ）−（ｅ）と対応するハロゲン化化合物（ＩＸ）をＤＭＦ、エタノール等の有機溶媒中、炭酸カリウム、ＤＩＥＡ等の塩基存在下、室温から１００℃で、１時間から２４時間反応させることにより化合物（Ｉ）−（ｆ）を得ることができる。

化合物（ＩＩ）−（ａ）（前記の化合物（ＩＩ）において、Ｒ^１の１つが２位のＯＲ^１０基であり、ｐ’は０から４の整数である化合物）は合成経路７に従い合成することができる。すなわち、化合物（ＶＩＩＩ）をジエチルエーテル、ＴＨＦ等の有機溶媒中、水素化リチウムアルミニウム等の還元剤の存在下、０度から５０度で、１時間から１日間処理することにより、化合物（ＩＩ）−（ｂ）が得られる。得られる化合物（ＩＩ）−（ｂ）と対応するハロゲン化化合物（ＩＸ）をＤＭＦ、エタノール等の有機溶媒中、炭酸カリウム、ＤＩＥＡ等の塩基存在下、室温から１００℃で、１時間から２４時間反応させることにより化合物（ＩＩ）−（ａ）を得ることができる。

化合物（ＩＩ）−（ｃ）（前記の化合物（ＩＩ）において、Ｒ^１の１つが２位の水素であり、ｐ’は０から４の整数である化合物）は合成経路８に従い合成することができる。すなわち、化合物（ＩＩ）−（ｂ）と塩化トリフルオロメタンスルホニルを塩化メチレン等の有機溶媒中、トリエチルアミン等の塩基存在下、−３０度から０度で、３０分間から１２時間反応させることにより、化合物（ＩＩ）−（ｄ）が得られる。得られる化合物（ＩＩ）−（ｄ）をＤＭＦなどの有機溶媒中、テトラキス（トリフェニルホスフィン）パラジウム（Ｏ）等の触媒、トリエチルアミン等の塩基及びギ酸の存在下、６０度から１００度で１時間から２４時間処理することにより化合物（ＩＩ）−（ｃ）を得ることができる．

化合物（ＶＩＩＩ）は合成経路９に従い合成することができる。すなわち、対応するボロン酸（Ｘ）−（ａ）（２位にベンジルオキシ基を有する）とハロゲン化化合物やトリフレート化合物（ＸＩ）をＤＭＦ、エタノール、トルエン、水等の溶媒中、炭酸セシウム、炭酸ナトリウムやリン酸カリウム等の塩基と二塩化ビス（トリフェニルホスフィン）パラジウム（ＩＩ）やテトラキス（トリフェニルホスフィン）パラジウム（Ｏ）等の触媒存在下、５０度から１２０度で、１２時間から２日間反応させることにより、化合物（ＸＩＩ）が得られる。得られる化合物（ＸＩＩ）をメタノール、エタノール、１、４−ジオキサン、ＴＨＦ等の有機溶媒中、水素雰囲気下、パラジウム炭素、二酸化白金等の触媒存在下、室温で２時間から２日間処理することにより、化合物（ＸＩＩＩ）が得られる。得られる化合物（ＸＩＩＩ）をアセトン中、ヨウ素存在下、８０度から１３０度で、２４時間から５日間処理することにより、化合物（ＶＩＩＩ）を得ることができる。

合成経路９における化合物（ＸＩＩＩ）は合成経路１０に従い合成することもできる。すなわち、化合物（ＸＩＩ）をメタノール、エタノール、１、４−ジオキサン、ＴＨＦ等の有機溶媒中、水素雰囲気下、パラジウム炭素、二酸化白金等の触媒存在下、室温で２時間から２日間処理することにより、化合物（ＸＩＩ）−（ａ）が得られる。得られる（ＸＩＩ）−（ａ）をピリジン中２時間から１日間還流することにより化合物（ＸＩＩＩ）が得ることができる。

また化合物（ＶＩＩＩ）は合成経路１１に従い合成することもできる。すなわち、対応するボロン酸（Ｘ）−（ｂ）（２位にフッ素を有する）とハロゲン化化合物やトリフレート化合物（ＸＩ）をＤＭＦ、エタノール、トルエン、水等の溶媒中、炭酸セシウム、炭酸ナトリウムやリン酸カリウム等の塩基と二塩化ビス（トリフェニルホスフィン）パラジウム（ＩＩ）やテトラキス（トリフェニルホスフィン）パラジウム（Ｏ）等の触媒存在下、５０度から１２０度で、１２時間から２日間反応させることにより、化合物（ＸＩＶ）が得られる。得られる化合物（ＸＩＶ）を水、メタノール、エタノール等の溶媒中、水酸化ナトリウム等の塩基で、０度から室温で、１時間から１日間処理することにより、化合物（ＸＶ）が得られる。得られる化合物（ＸＶ）をＤＭＦ，ＴＨＦ等の有機溶媒中、水素化ナトリウム等の塩基存在下、室温から１００度で、１時間から２日間処理することにより、化合物（ＸＶＩ）が得られる。得られる化合物（ＸＶＩ）をメタノール、エタノール、１、４−ジオキサン、ＴＨＦ等の有機溶媒中、水素雰囲気下、パラジウム炭素、二酸化白金等の触媒存在下、室温で２時間から２日間処理することにより化合物（ＸＩＩＩ）が得られる。得られる（ＸＩＩＩ）をアセトン中、ヨウ素存在下、８０度から１３０度で、２４時間から５日間処理することにより、化合物（ＶＩＩＩ）を得ることができる。

さらに、化合物（ＶＩＩＩ）−（ａ）（環Ｘがピリジン環である化合物）は合成経路１２に従い合成することもできる。すなわち、対応するボロン酸（ＸＶＩＩ）（２位にメトキシ基を有する）とハロゲン化化合物（ＸＩ）をＤＭＦ、エタノール、トルエン、水等の溶媒中、炭酸セシウムや炭酸ナトリウム等の塩基と二塩化ビス（トリフェニルホスフィン）パラジウム（ＩＩ）やテトラキス（トリフェニルホスフィン）パラジウム（Ｏ）等の触媒存在下、５０度から１２０度で、１２時間から２日間反応させることにより、化合物（ＸＶＩＩＩ）が得られる。得られる化合物（ＸＶＩＩＩ）を塩化メチレン、メタノール、エタノール等の有機溶媒中、三臭化ホウ素、塩酸などの酸存在下、−７８度から０度で、１時間から１２時間処理することにより、化合物（ＸＩＸ）が得られる。得られる化合物（ＸＩＸ）を水、メタノール、エタノール等の溶媒中、水酸化ナトリウム等の塩基で、０度から室温で、１時間から１日間処理することにより、化合物（ＸＸ）が得られる。得られる化合物（ＸＸ）をＤＭＦ、塩化メチレン等の有機溶媒中、Ｎ，Ｎ’−ジシクロヘキシルカルボジイミド、Ｏ−（７−アザベンゾトリアゾール−１−イル）−Ｎ，Ｎ，Ｎ，Ｎ−テトラメチルウロニウムヘキサフルオロホスフェート等の縮合剤及びＤＩＥＡ等の塩基存在下、室温から５０℃で、１時間から３日間処理することにより、化合物（ＸＸＩ）を得ることができる。得られる（ＸＸＩ）をメタノール、エタノール、１，４−ジオキサン、ＴＨＦ等の有機溶媒中、水素雰囲気下、パラジウム炭素、二酸化白金等の触媒存在下、室温で２時間から２日間処理することにより化合物（ＸＸＩＩ）が得られる。得られる（ＸＸＩＩ）をアセトン中、ヨウ素存在下、８０度から１３０度で、２４時間から５日間処理することにより、化合物（ＶＩＩＩ）を得ることができる。

本発明化合物の医薬としての有用性を見出すために、グルココルチコイド受容体競合アッセイキットを使用し、偏光蛍光法によるグルココルチコイド受容体競合アッセイを実施した。その結果、本発明化合物は優れたグルココルチコイド受容体結合活性を示した。

尚、前述したようにグルココルチコイド受容体は種々の疾患の発現に関係しており、グルココルチコイド受容体に優れた結合活性を有する本発明化合物はグルココルチコイド受容体モジュレーターとして有用である。

また、この詳細については、後述の実施例における［薬理試験］の項で詳細に説明する。

本発明化合物は経口でも、非経口でも投与することができる。投与剤型として、錠剤、カプセル剤、顆粒剤、散剤、注射剤、点眼剤等が挙げられ、それらは汎用される技術を使用して製剤化することができる。

例えば、錠剤、カプセル剤、顆粒剤、散剤等の経口剤は、乳糖、マンニトール、デンプン、結晶セルロース、軽質無水ケイ酸、炭酸カルシウム、リン酸水素カルシウム等の賦形剤、ステアリン酸、ステアリン酸マグネシウム、タルク等の滑沢剤、デンプン、ヒドロキシプロピルセルロース、ヒドロキシプロピルメチルセルロース、ポリビニルピロリドン等の結合剤、カルボキシメチルセルロース、低置換度ヒドロキシプロピルメチルセルロース、クエン酸カルシウム等の崩壊剤、ヒドロキシプロピルメチルセルロース、マクロゴール、シリコーン樹脂等のコーティング剤、パラオキシ安息香酸エチル、ベンジルアルコール等の安定化剤、甘味料、酸味料、香料等の矯味矯臭剤等を必要に応じて、必要量を使用し、調製することができる。

また、注射剤、点眼剤等の非経口剤は、塩化ナトリウム、濃グリセリン、プロピレングリコール、ポリエチレングリコール、塩化カリウム、ソルビトール、マンニトール等の等張化剤、リン酸ナトリウム、リン酸水素ナトリウム、酢酸ナトリウム、クエン酸，氷酢酸、トロメタモール等の緩衝化剤、ポリオキシエチレンソルビタンモノオレート、ステアリン酸ポリオキシ４０、ポリオキシエチレン硬化ヒマシ油等の界面活性剤、クエン酸ナトリウム、エデト酸ナトリウム等の安定化剤、塩化ベンザルコニウム、パラベン、塩化ベンゾトニウム、パラオキシ安息香酸エステル、安息香酸ナトリウム、クロロブタノール、ソルビン酸等の防腐剤、塩酸、クエン酸、リン酸、氷酢酸、水酸化ナトリウム、炭酸ナトリウム、炭酸水素ナトリウム等のｐＨ調整剤、ベンジルアルコール等の無痛化剤等を必要に応じて、必要量を使用し、調製することができる。

本発明化合物の投与量は、症状、年齢、剤型等により適宜選択して使用することができる。例えば、経口剤では通常１日当たり０．０１〜１０００ｍｇ、好ましくは１〜１００ｍｇを１回又は数回に分けて投与することができる。また、点眼剤は通常０．０００１％〜１０％（ｗ／ｖ）、好ましくは０．０１％〜５％（ｗ／ｖ）の濃度のものを１回又は数回に分けて投与することができる。

以下に本発明化合物の製造例、製剤例及び薬理試験の結果を示す。尚、これらの例示は本発明をよりよく理解するためのものであり、本発明の範囲を限定するものではない。

［製造例］
参考例１
２，２，４−トリメチル−１，２−ジヒドロ−６−オキサ−１−アザクリセン−５−オン（参考化合物１−１）
２−（２−ベンジルオキシフェニル）−５−ニトロ安息香酸メチル（参考化合物１−１−（１））
２−ベンジルオキシフェニルボロン酸（２０．２ｇ、８８．６ｍｍｏｌ）、２−ブロモ−５−ニトロ安息香酸メチル（２５．４ｇ、９７．５ｍｍｏｌ）、炭酸セシウム（５７．７ｇ、１７７ｍｍｏｌ）及び二塩化ビス（トリフェニルホスフィン）パラジウム（ＩＩ）（１．１６ｇ、１．６５ｍｍｏｌ）の混合物を無水Ｎ，Ｎ−ジメチルホルムアミド（３００ｍＬ）に懸濁し、アルゴン雰囲気下、８０度で３日間攪拌した。放冷後、酢酸エチル（５００ｍＬ）、ジエチルエーテル（３００ｍＬ）及び水（５００ｍＬ）を加えて分配した。水層を酢酸エチル（２００ｍＬ）とジエチルエーテル（２００ｍＬ）の混合液で抽出し、有機層を合わせた。有機層を水（５００ｍＬ、２回）及び飽和食塩水（３００ｍＬ）で順次洗浄し、無水硫酸マグネシウムで乾燥後、減圧下溶媒を留去した。得られた残留物をシリカゲルカラムクロマトグラフィー（ヘキサン−酢酸エチル）で精製することにより標記参考化合物（２１．０ｇ）を淡黄色油状物として得た。（収率６５％）

８−アミノベンゾ［ｃ］クロメン−６−オン（参考化合物１−１−（２））
２−（２−ベンジルオキシフェニル）−５−ニトロ安息香酸メチル（参考化合物１−１−（１）、２１．０ｇ、５７．８ｍｍｏｌ）をメタノール（１３５ｍＬ）と１，４−ジオキサン（９０ｍＬ）の混合液に溶解し、５％パラジウム−炭素（２．１９ｇ）を加え、水素雰囲気下室温で一晩攪拌した。不溶物を濾去した後、減圧下溶媒を留去した。得られた残留物を酢酸エチルとヘキサンの混合液で濾取することにより標記参考化合物（８．９２ｇ）を淡黄色固体として得た。（収率７３％）

２，２，４−トリメチル−１，２−ジヒドロ−６−オキサ−１−アザクリセン−５−オン（参考化合物１−１）
耐圧管中で、８−アミノベンゾ［ｃ］クロメン−６−オン（参考化合物１−１−（２）、８．８１ｇ、４１．７ｍｍｏｌ）をアセトン（３００ｍＬ）に溶解し、よう素（４．２４ｇ、１６．７ｍｍｏｌ）を加え密封した後、１０５度で２日間攪拌した。放冷後、減圧下溶媒を留去した。得られた残留物をシリカゲルカラムクロマトグラフィー（ヘキサン−酢酸エチル）で精製することにより標記参考化合物（４．８３ｇ）を黄色固体として得た。（収率４０％）

７，８−ジフルオロ−２，２，４−トリメチル−１，２−ジヒドロ−６−オキサ−１−アザクリセン−５−オン（参考化合物１−２）
２−（２，３，４−トリフルオロフェニル）−５−ニトロ安息香酸メチル（参考化合物１−２−（１））
２，３，４−トリフルオロフェニルボロン酸（４．７０ｇ、２６．７ｍｍｏｌ）、２−ブロモ−５−ニトロ安息香酸メチル（９．０２ｇ、３４．７ｍｍｏｌ）、炭酸ナトリウム（８．４９ｇ、８０．１ｍｍｏｌ）及びテトラキス（トリフェニルホスフィン）パラジウム（Ｏ）（１．５５ｇ、１．３４ｍｍｏｌ）の混合物をトルエン（１６０ｍＬ）−エタノール（４０ｍＬ）−水（８０ｍＬ）に懸濁し、窒素雰囲気下、９５度で一晩攪拌した。放冷後、酢酸エチル（２００ｍＬ）と水（２００ｍＬ）を加えて分配した。有機層を飽和食塩水（１５０ｍＬ）で洗浄し、無水硫酸マグネシウムで乾燥後、減圧下溶媒を留去した。得られた残留物をシリカゲルカラムクロマトグラフィー（ヘキサン−酢酸エチル）で精製することにより標記参考化合物（４．３７ｇ）を褐色油状物として得た。（収率５３％）

２−（２，３，４−トリフルオロフェニル）−５−ニトロ安息香酸（参考化合物１−２−（２））
２−（２，３，４−トリフルオロフェニル）−５−ニトロ安息香酸メチル（参考化合物１−２−（１）、４．３７ｇ、１４．１ｍｍｏｌ）をテトラヒドロフラン（１０ｍＬ）−メタノール（３０ｍＬ）に溶解し、１規定水酸化ナトリウム水溶液（２０ｍＬ）を加え室温で一晩撹拌した。水（１５０ｍＬ）、１規定塩酸（３０ｍＬ）を加え酸性とした後、酢酸エチル（１５０ｍＬ）を加えて分配した。有機層を飽和食塩水（１５０ｍＬ）で洗浄し、無水硫酸マグネシウムで乾燥後、減圧下溶媒を留去することにより標記参考化合物（４．１８ｇ）を灰色固体として得た。（収率１００％）

３，４−ジフルオロ−８−ニトロベンゾ［ｃ］クロメン−６−オン（参考化合物１−２−（３））
６０％水素化ナトリウム（２．８２ｇ、７０．５ｍｍｏｌ）を無水Ｎ，Ｎ−ジメチルホルムアミド（６０ｍＬ）に懸濁し、氷冷下、２−（２，３，４−トリフルオロフェニル）−５−ニトロ安息香酸（参考化合物１−２−（２）、６．９７ｇ、２３．５ｍｍｏｌ）の無水Ｎ，Ｎ−ジメチルホルムアミド（４０ｍＬ）溶液を滴下し、窒素雰囲気下、８０度で２４時間攪拌した。放冷後、酢酸エチル（４００ｍＬ）、水（４００ｍＬ）および１規定塩酸（８０ｍＬ）を加えて分配した。有機層を飽和食塩水（２００ｍＬ）で洗浄し、無水硫酸マグネシウムで乾燥後、減圧下溶媒を留去した。得られた固体をクロロホルムで濾取することにより標記参考化合物（３．８５ｇ）を褐色固体として得た。（収率５９％）

８−アミノ−３，４−ジフルオロベンゾ［ｃ］クロメン−６−オン（参考化合物１−２−（４））
３，４−ジフルオロ−８−ニトロベンゾ［ｃ］クロメン−６−オン（参考化合物１−２−（３）、３．７５ｇ、１３．５ｍｍｏｌ）を１，４−ジオキサン（３００ｍＬ）に溶解し、５％パラジウム−炭素（３７５ｍｇ）を加え、加圧（３ｋｇｆ／ｃｍ^２）水素雰囲気下、室温で４日間攪拌した。不溶物を濾去した後、減圧下溶媒を留去した。得られた固体を１，４−ジオキサンで濾取することにより標記参考化合物（２．４４ｇ）を橙色固体として得た。（収率７３％）

７，８−ジフルオロ−２，２，４−トリメチル−１，２−ジヒドロ−６−オキサ−１−アザクリセン−５−オン（参考化合物１−２）
耐圧管中で、８−アミノ−３，４−ジフルオロベンゾ［ｃ］クロメン−６−オン（参考化合物１−２−（４）、２．３０ｇ、９．２６ｍｍｏｌ）をアセトン（６０ｍＬ）に溶解し、よう素（９３９ｍｇ、３．７０ｍｍｏｌ）を加え密封した後、１１０度で５日間攪拌した。放冷後、減圧下溶媒を留去した。得られた残留物をシリカゲルカラムクロマトグラフィー（クロロホルム−メタノール）で精製することにより標記参考化合物（０．９５ｇ）を黄色固体として得た。（収率３１％）

２，２，４−トリメチル−１，２−ジヒドロ−６−オキサ−１，７−ジアザクリセン−５−オン（参考化合物１−３）
２−（２−メトキシピリジン−３−イル）−５−ニトロ安息香酸メチル（参考化合物１−３−（１））
２−メトキシピリジン−３−イルボロン酸（１．００ｇ、６．５４ｍｍｏｌ）、２−ブロモ−５−ニトロ安息香酸メチル（２．２１ｇ、８．５０ｍｍｏｌ）、炭酸セシウム（６．３９ｇ、１７．６ｍｍｏｌ）及び二塩化ビス（トリフェニルホスフィン）パラジウム（ＩＩ）（２３０ｍｇ、０．３３ｍｍｏｌ）の混合物を無水Ｎ，Ｎ−ジメチルホルムアミド（１５ｍＬ）に懸濁し、窒素雰囲気下、８０度で一晩攪拌した。放冷後、水（１００ｍＬ）を加え、酢酸エチル（８０ｍＬ、２回）で抽出した。有機層を飽和食塩水（１００ｍＬ）で洗浄し、無水硫酸マグネシウムで乾燥後、減圧下溶媒を留去した。得られた残留物をシリカゲルカラムクロマトグラフィー（ヘキサン−酢酸エチル）で精製することにより標記参考化合物（１．５４ｇ）を黄色固体として得た。（収率８１％）

２−（２−ヒドロキシピリジン−３−イル）−５−ニトロ安息香酸メチル（参考化合物１−３−（２））
２−（２−メトキシピリジン−３−イル）−５−ニトロ安息香酸メチル（参考化合物１−３−（１）、２００ｍｇ、０．６９４ｍｍｏｌ）を無水ジクロロメタン（２ｍＬ）に溶解し、−７８度で三臭化ほう素（１１８μｌ、１．２５ｍｍｏｌ）を加えた。反応液を０度で３時間攪拌し、反応液を氷水（３０ｍＬ）に移した。酢酸エチル（５０ｍＬ）を加えて分配した後、有機層を飽和食塩水（５０ｍＬ）で洗浄し、無水硫酸マグネシウムで乾燥後、減圧下溶媒を留去した。得られた残留物をシリカゲルカラムクロマトグラフィー（ヘキサン−酢酸エチル）で精製することにより標記参考化合物（１０２ｍｇ）を黄色固体として得た。（収率５４％）

２−（２−ヒドロキシピリジン−３−イル）−５−ニトロ安息香酸（参考化合物１−３−（３））
２−（２−ヒドロキシピリジン−３−イル）−５−ニトロ安息香酸メチル（参考化合物１−３−（２）、３００ｍｇ、１．０９ｍｍｏｌ）をメタノール（２ｍＬ）に溶解し、濃塩酸（５ｍＬ）を加え、一晩還流した。減圧下溶媒を留去することにより標記参考化合物（２６３ｍｇ）を黄色固体として得た。（収率９３％）

８−ニトロ−４−アザベンゾ［ｃ］クロメン−６−オン（参考化合物１−３−（４））
２−（２−ヒドロキシピリジン−３−イル）−５−ニトロ安息香酸（参考化合物１−３−（３）、５０ｍｇ、０．２０ｍｍｏｌ）をＮ，Ｎ−ジメチルホルムアミド（５ｍＬ）に溶解し、Ｎ，Ｎ−ジイソプロピルエチルアミン（１４１μｌ、０．８１ｍｍｏｌ）とＯ−（７−アザベンゾトリアゾール−１−イル）−Ｎ，Ｎ，Ｎ，Ｎ−テトラメチルウロニウムヘキサフルオロホスフェート（１５４ｍｇ、０．４１ｍｍｏｌ）を加え、室温で一晩攪拌した。反応液に酢酸エチル（３０ｍＬ）を加え、水（３０ｍＬ）、飽和食塩水（３０ｍＬ）で洗浄した。有機層を無水硫酸マグネシウムで乾燥後、減圧下溶媒を留去した。得られた残留物をクロロホルムでろ取することにより標記参考化合物（３５ｍｇ）を淡黄色固体として得た。（収率７１％）

８−アミノ−４−アザベンゾ［ｃ］クロメン−６−オン（参考化合物１−３−（５））
８−ニトロ−４−アザベンゾ［ｃ］クロメン−６−オン（参考化合物１−３−（４）、３６８ｍｇ、１．５２ｍｍｏｌ）をメタノール（１０ｍＬ）に溶解し、５％パラジウム−炭素（３７ｍｇ）を加え、水素雰囲気下、室温で４時間攪拌した。不溶物を濾去した後、減圧下溶媒を留去した。得られた固体をクロロホルムで濾取することにより標記参考化合物（２９８ｍｇ）を黄色固体として得た。（収率９２％）

２，２，４−トリメチル−１，２−ジヒドロ−６−オキサ−１，７−ジアザクリセン−５−オン（参考化合物１−３）
耐圧管中で、８−アミノ−４−アザベンゾ［ｃ］クロメン−６−オン（参考化合物１−３−（５）、２５８ｍｇ、１．２１ｍｍｏｌ）をアセトン（１０ｍＬ）に溶解し、よう素（１２３ｍｇ、０．４８ｍｍｏｌ）を加え密封した後、１０５度で１日間攪拌した。放冷後、減圧下溶媒を留去した。得られた残留物をシリカゲルカラムクロマトグラフィー（ヘキサン−酢酸エチル）で精製することにより標記参考化合物（８２．５ｍｇ）を黄色固体として得た。（収率２３％）

８−フルオロ−２，２，４，１１−テトラメチル−１，２−ジヒドロ−６−オキサ−１−アザクリセン−５−オン（参考化合物１−４）
２−ヒドロキシ−３−メチル安息香酸メチル（参考化合物１−４−（１））
２−ヒドロキシ−３−メチル安息香酸（２４．９ｇ、０．１６４ｍｏｌ）をメタノール（２００ｍＬ）に溶解し、硫酸（１．７５ｍＬ、３２．８ｍｍｏｌ）を加え、７日間還流した。反応液を飽和炭酸水素ナトリウム水溶液（３００ｍＬ）に注いだ後、減圧下メタノールを留去した。水層を酢酸エチル（５００ｍＬ）で抽出し、有機層を飽和炭酸水素ナトリウム水溶液（２００ｍＬ）、及び飽和食塩水（１００ｍＬ）で順次洗浄し、無水硫酸マグネシウムで乾燥後、減圧下溶媒を留去することにより標記参考化合物（２３．０ｇ）を淡褐色油状物として得た。（収率８４％）

２−ヒドロキシ−３−メチル−５−ニトロ安息香酸メチル（参考化合物１−４−（２））
２−ヒドロキシ−３−メチル安息香酸メチル（参考化合物１−４−（１）、２２．９ｇ、０．１３８ｍｏｌ）をトリフルオロ酢酸（１９０ｍＬ）に溶解し、硝酸ナトリウム（１２．９ｇ、１５２ｍｍｏｌ）の水溶液（９０ｍＬ）を−１０度で１時間かけて滴下した。０度で１．５時間攪拌した後、反応液を氷水（６００ｍＬ）に注いだ後、析出物をろ取した。ろ取物をメタノール（１００ｍＬ）に懸濁させた後、ろ取することにより標記参考化合物（１８．７ｇ）を淡赤色固体として得た。（収率６４％）

３−メチル−５−ニトロ−２−トリフルオロメチルスルホニルオキシ安息香酸メチル（参考化合物１−４−（３））
２−ヒドロキシ−３−メチル−５−ニトロ安息香酸メチル（参考化合物１−４−（２）、６．０ｇ、２８．４ｍｍｏｌ）をテトラヒドロフラン（２００ｍＬ）に溶解し、トリエチルアミン（１６．７ｍＬ、１２０ｍｍｏｌ）、塩化トリフルオロメタンスルホン酸（６．２３ｍＬ、５８．５ｍｍｏｌ）を加え、室温で一晩攪拌した。反応液に水（５００ｍＬ）を加え、酢酸エチル（５００ｍＬ）で抽出した。有機層を０．２規定水酸化ナトリウム水溶液（２００ｍＬ、２回）及び飽和食塩水（２００ｍＬ）で順次洗浄し、無水硫酸マグネシウムで乾燥後、減圧下溶媒を留去した。得られた残留物をシリカゲルカラムクロマトグラフィー（ヘキサン−酢酸エチル）で精製することにより標記参考化合物（９３２ｇ）を淡黄色油状物として得た。（収率９６％）

２−（２−ベンジルオキシ−４−フルオロフェニル）−３−メチル−５−ニトロ安息香酸メチル（参考化合物１−４−（４））
３−メチル−５−ニトロ−２−トリフルオロメチルスルホニルオキシ安息香酸メチル（参考化合物１−４−（３）、１３．２６ｇ、３８．６ｍｍｏｌ）、２−ベンジルオキシ−４−フルオロフェニルボロン酸（１４．３ｇ、５８．１ｍｍｏｌ）、リン酸カリウム（２１．３ｇ、１００ｍｍｏｌ）及びテトラキス（トリフェニルホスフィン）パラジウム（Ｏ）（３．２３ｇ、２．８０ｍｍｏｌ）の混合物を無水１，４−ジオキサン（２００ｍＬ）に懸濁し、３日間還流した。放冷後、酢酸エチル（５００ｍＬ）を加えて、水（５００ｍＬ）及び飽和食塩水（５０ｍＬ）で順次洗浄し、無水硫酸マグネシウムで乾燥後、減圧下溶媒を留去した。得られた残留物をシリカゲルカラムクロマトグラフィー（ヘキサン−酢酸エチル）で精製することにより標記参考化合物（１０．７ｇ）を淡褐色固体として得た。（収率７０％）

５−アミノ−２−（４−フルオロ−２−ヒドロキシフェニル）−３−メチル安息香酸メチル（参考化合物１−４−（５））
２−（２−ベンジルオキシ−４−フルオロフェニル）−３−メチル−５−ニトロ安息香酸メチル（参考化合物１−４−（４）、１０．７ｇ、２７．０ｍｍｏｌ）をメタノール（５０ｍＬ）とテトラヒドロフラン（５０ｍＬ）の混合液に溶解し、１０％パラジウム−炭素（１．００ｇ）を加え、加圧（３ｋｇｆ／ｃｍ^２）水素雰囲気下室温で３日間攪拌した。不溶物を濾去した後、減圧下溶媒を留去した。得られた残留物を酢酸エチルで濾取することにより標記参考化合物（４．７９ｇ）を淡灰色固体として得た。（収率６４％）

８−アミノ−３−フルオロ−１０−メチルベンゾ［ｃ］クロメン−６−オン（参考化合物１−４−（６））
５−アミノ−２−（４−フルオロ−２−ヒドロキシフェニル）−３−メチル安息香酸メチル（参考化合物１−４−（５）、７．４０ｇ、２６．９ｍｍｏｌ）をピリジン（２５０ｍＬ）に溶解し、一晩還流した。反応液を減圧下濃縮し、得られた残留物をヘキサン−酢酸エチル（１：１）で濾取することにより標記参考化合物（６．１５ｇ）を淡黄色固体として得た。（収率９４％）

８−フルオロ−２，２，４，１１−テトラメチル−１，２−ジヒドロ−６−オキサ−１−アザクリセン−５−オン（参考化合物１−４）
耐圧管中で、８−アミノ−３−フルオロ−１０−メチルベンゾ［ｃ］クロメン−６−オン（参考化合物１−４−（６））、６．１３ｇ、２５．２ｍｍｏｌ）をアセトン（１７５ｍＬ）に溶解し、よう素（２．５６ｇ、１０．１ｍｍｏｌ）を加え密封した後、１１０度で４日間攪拌した。放冷後、減圧下容媒を留去した。得られた残留物をシリカゲルカラムクロマトグラフィー（ヘキサン−酢酸エチル）で精製することにより標記参考化合物（６．３５ｇ）を褐色固体として得た。（収率７８％）

以下、市販化合物を使用し、参考化合物１−１から１−４のいずれかの製造方法に準じて、参考化合物１−５〜１−２０を得た。

参考例２
７−メトキシ−２，２，４−トリメチル−１，２−ジヒドロ−６−オキサ−１−アザクリセン−５−オン（参考化合物２−１）
７−ヒドロキシ−２，２，４−トリメチル−１，２−ジヒドロ−６−オキサ−１−アザクリセン−５−オン（参考化合物１−９、４３０ｍｇ、１．４０ｍｍｏｌ）、よう化メチル（８７．２μｌ、１．４０ｍｍｏｌ）及び炭酸カリウム（３８７ｍｇ、２．８０ｍｍｏｌ）の混合物を無水Ｎ，Ｎ−ジメチルホルムアミド（７ｍＬ）に懸濁し、５０度で３時間攪拌した。放冷後、酢酸エチル（１５０ｍＬ）を加え希釈した。水（１５０ｍＬ）及び飽和食塩水（５０ｍＬ）で順次洗浄し、無水硫酸マグネシウムで乾燥後、減圧下溶媒を留去した。得られた残留物をシリカゲルカラムクロマトグラフィー（ヘキサン−酢酸エチル）で精製することにより標記参考化合物（３８４ｍｇ）を黄色固体として得た。（収率８５％）

以下、参考化合物１−９、１−１８及び１−１９から選択される化合物を使用し、参考化合物２−１の製造方法に準じて、参考化合物２−２〜２−６を得た。

参考例３
５−ヒドロキシメチル−６−（２−ヒドロキシフェニル）−２，２，４−トリメチル−１，２−ジヒドロキノリン（参考化合物３−１）
水素化リチウムアルミニウム（１．４８ｇ、３９．０ｍｍｏｌ）をアルゴン雰囲気下、無水テトラヒドロフラン（３０ｍＬ）に懸濁した。０度で２，２，４−トリメチル−１，２−ジヒドロ−６−オキサ−１−アザクリセン−５−オン（参考化合物１−１、３．８０ｇ、１３．０ｍｍｏｌ）の無水テトラヒドロフラン（４０ｍＬ）溶液を滴下し、同温で１時間攪拌した。反応液に酢酸エチル（１５ｍＬ）及び水（５ｍＬ）を順次滴下した後、０．２規定塩酸（３５０ｍＬ）を加えた。酢酸エチル（３００ｍＬ、１００ｍＬ）で抽出した後、有機層を合わせた。有機層を水（３００ｍＬ）及び飽和食塩水（１００ｍＬ）で順次洗浄し、無水硫酸マグネシウムで乾燥した。減圧下溶媒を留去することにより標記参考化合物（４．０１ｇ）を淡茶色固体として得た。（定量的）

以下、参考化合物１−２〜１−８、１−１０〜１−１７、１−２０及び２−１〜２−６から選択される化合物を使用し、参考化合物３−１の製造方法に準じて、参考化合物３−２〜３−２３を得た。

参考例４
５−ヒドロキシメチル−６−（２−メトキシフェニル）−２，２，４−トリメチル−１，２−ジヒドロキノリン（参考化合物４−１）
５−ヒドロキシメチル−６−（２−メトキシフェニル）−１，２，２，４−テトラメチル−１，２−ジヒドロキノリン（参考化合物４−２）
５−ヒドロキシメチル−６−（２−ヒドロキシフェニル）−２，２，４−トリメチル−１，２−ジヒドロキノリン（参考化合物３−１、４．０１ｇ、１３．６ｍｍｏｌ）、よう化メチル（８４７μｌ、１３．６ｍｍｏｌ）及び炭酸カリウム（３．７６ｇ、２７．２ｍｍｏｌ）の混合物を無水Ｎ，Ｎ−ジメチルホルムアミド（７０ｍＬ）に懸濁し、５０度で４時間攪拌した。放冷後、酢酸エチル（２００ｍＬ）及びジエチルエーテル（３００ｍＬ）を加え希釈した。水（５００ｍＬ、３００ｍＬ）及び飽和食塩水（２００ｍＬ）で順次洗浄し、無水硫酸マグネシウムで乾燥後、減圧下溶媒を留去した。得られた残留物をシリカゲルカラムクロマトグラフィー（ヘキサン−酢酸エチル）で精製することにより標記参考化合物４−１（３．０１ｇ、収率７１％）と標記参考化合物４−２（３８０ｍｇ、収率９％）をそれぞれ淡黄色固体として得た。

以下、参考化合物３−１〜３−１０および３−１２〜３−２３から選択される化合物を使用し、参考化合物４−１、４−２の製造方法に準じて、参考化合物４−３〜４−３２を得た。

参考例５
５−クロロメチル−６−（２−メトキシフェニル）−２，２，４−トリメチル−１，２−ジヒドロキノリン（参考化合物５−１）
５−ヒドロキシメチル−６−（２−メトキシフェニル）−２，２，４−トリメチル−１，２−ジヒドロキノリン（参考化合物４−１、２．００ｇ、６．４６ｍｍｏｌ）を無水ジクロロメタン（３２ｍＬ）に溶解し、０度でトリエチルアミン（１．３５ｍＬ、９．６９ｍｍｏｌ）及び塩化メタンスルホニル（５５０μｌ、７．１１ｍｍｏｌ）を加えた。反応液を室温で一晩攪拌した。反応液に酢酸エチル（５００ｍＬ）、水（２００ｍＬ）及び飽和食塩水（２００ｍＬ）を加えて分配した。水層を酢酸エチル（１５０ｍＬ）で抽出し、有機層を合わせた。有機層を飽和食塩水（２００ｍＬ）で洗浄し、無水硫酸マグネシウムで乾燥後、減圧下溶媒を留去した。得られた残留物をシリカゲルカラムクロマトグラフィー（ヘキサン−酢酸エチル）で精製することにより標記参考化合物（１．０７ｇ）を淡黄色固体として得た。（収率５０％）

以下、参考化合物４−３、４−４、４−６、４−１１、４−１７，４−１８、４−２０〜４−２７及び４−３２から選択される化合物を使用し、参考化合物５−１の製造方法に準じて、参考化合物５−２〜５−１６を得た。

参考例６
５−ヒドロキシメチル−６−（２−トリフルオロメチルスルホニルオキシフェニル）−２，２，４−トリメチル−１，２−ジヒドロキノリン（参考化合物６−１）
５−ヒドロキシメチル−６−（２−ヒドロキシフェニル）−２，２，４−トリメチル−１，２−ジヒドロキノリン（参考化合物３−１、２９３ｍｇ、０．９９２ｍｍｏｌ）を無水ジクロロメタン（５ｍＬ）に溶解し、０度でトリエチルアミン（１６７μｌ、１．２０ｍｍｏｌ）及び塩化トリフルオロメタンスルホニル（１０６μｌ、０．９９６ｍｍｏｌ）を加えた。反応液を０度で１時間攪拌した後、クロロホルム（２０ｍＬ）を加え希釈した。飽和炭酸水素ナトリウム水溶液（２０ｍＬ）で洗浄し、減圧下溶媒を留去した。得られた残留物をシリカゲルカラムクロマトグラフィー（ヘキサン−酢酸エチル）で精製することにより標記参考化合物（１７７ｍｇ）を橙色固体として得た。（収率４２％）

以下、参考化合物３−２を使用し、参考化合物６−１の製造方法に準じて、参考化合物６−２を得た。

参考例７
５−ヒドロキシメチル−６−フェニル−２，２，４−トリメチル−１，２−ジヒドロキノリン（参考化合物７−１）
５−ヒドロキシメチル−６−（２−トリフルオロメチルスルホニルオキシフェニル）−２，２，４−トリメチル−１，２−ジヒドロキノリン（参考化合物６−１、１３６ｍｇ、０．３１８ｍｍｏｌ）を無水Ｎ，Ｎ−ジメチルホルムアミド（１．５ｍＬ）に溶解し、２分間アルゴンバブリングした後、テトラキス（トリフェニルホスフィン）パラジウム（Ｏ）（３５．６ｍｇ、０．０３０８ｍｍｏｌ）、トリエチルアミン（２２１μｌ、１．５９ｍｍｏｌ）及びギ酸（６０μｌ、１．６ｍｍｏｌ）を加えた。反応液を６０度で１０時間攪拌した後、酢酸エチル（５０ｍＬ）を加え希釈した。飽和炭酸水素ナトリウム水溶液（３０ｍＬ）及び飽和食塩水（３０ｍＬ）で順次洗浄し、無水硫酸マグネシウムで乾燥後、減圧下溶媒を留去した。得られた残留物をシリカゲルカラムクロマトグラフィー（ヘキサン−酢酸エチル）で精製することにより標記参考化合物（９３．０ｍｇ）を黄色油状物として得た。（定量的）

以下、参考化合物６−２を使用し、参考化合物７−１の製造方法に準じて、参考化合物７−２を得た。

参考例８
５−アミノ−２−ブロモ安息香酸メチル（参考化合物８）
２−ブロモ−５−ニトロ安息香酸メチル（２５．３ｇ、９７．３ｍｍｏｌ）を無水メタノール（５００ｍＬ）に溶解し塩化スズ（ＩＩ）（９３．３ｇ、４８７ｍｍｏｌ）を加え、２時間加熱還流した。反応液を放冷し、酢酸エチル（５００ｍＬ）及び水（１００ｍＬ）を加え、４規定水酸化ナトリウム水溶液で中和し、セライトろ過した。ろ液を減圧下濃縮し、酢酸エチル（２００ｍＬ）を加え、飽和炭酸水素ナトリウム水溶液（２００ｍＬ、２回）、水（２００ｍＬ）及び飽和食塩水（２００ｍＬ）で順次洗浄した。無水硫酸マグネシウムで乾燥後、減圧下溶媒を留去することにより標記参考化合物（２１．０ｇ）を黄色油状物として得た。（収率９４％）

参考例９
３−アミノ−４−クロロ安息香酸メチル（参考化合物９）
３−アミノ−４−クロロ安息香酸（２０．９ｇ、０．１２２ｍｏｌ）、炭酸セシウム（７９．５ｇ、０．２４４ｍｏｌ）を無水Ｎ，Ｎ−ジメチルホルムアミド（５００ｍＬ）に懸濁し、ヨウ化メチル（７．６０ｍＬ、０．１２２ｍｏｌ）を加え、アルゴン雰囲気下、室温で２時間攪拌した。反応液に酢酸エチル（２５０ｍＬ）、ジエチルエーテル（５００ｍＬ）を加え、水（１Ｌ）で洗浄した。水層を酢酸エチル／ジエチルエーテル（２／１）（３００ｍＬ、３回）で抽出した。有機層を合わせた後、水（５００ｍＬ、４回）及び飽和食塩水（３００ｍＬ）で順次洗浄した。無水硫酸マグネシウムで乾燥後、減圧下溶媒を留去することにより標記参考化合物（２１．８２ｇ）を淡褐色固体として得た。（収率９７％）

参考例１０
５−アミノ−２−ブロモ−４−クロロ安息香酸メチル（参考化合物１０）
３−アミノ−４−クロロ安息香酸メチル（参考化合物９、１２．０ｇ、６４．７ｍｍｏｌ）を無水Ｎ，Ｎ−ジメチルホルムアミド（２５０ｍＬ）に溶解し、０度に冷却した後、Ｎ−ブロモスクシンイミド（１１．５ｇ、６４．６ｍｍｏｌ）を加え、アルゴン雰囲気下、室温で３０分間攪拌した。反応液に酢酸エチル（２００ｍＬ）、ジエチルエーテル（２００ｍＬ）を加え、１％チオ硫酸ナトリウム水溶液（５００ｍＬ）で洗浄した。水層を酢酸エチル／ジエチルエーテル（１／１）（２００ｍＬ）で抽出した。有機層を合わせた後、水（４００ｍＬ、４回）及び飽和食塩水（２００ｍＬ）で順次洗浄し、無水硫酸マグネシウムで乾燥後、減圧下溶媒を留去した。得られた残留物をヘキサン（１５ｍＬ）でろ取することにより標記参考化合物（１５．７４ｇ）を淡褐色固体として得た。（収率９２％）

参考例１１
（２−ヒドロキシフェニル）酢酸メチル（参考化合物１１−１）
２−ヒドロキシフェニル酢酸（３０２．７ｍｇ、１．９９ｍｍｏｌ）を無水メタノール（１０ｍＬ）に溶解し、硫酸（０．２ｍＬ）を加え、９０度で６時間攪拌した。反応液を減圧下濃縮した。残留物に酢酸エチル（５０ｍＬ）、１規定水酸化ナトリウム水溶液（５ｍＬ）および飽和重曹水（３０ｍＬ）を加えて分配した。有機層を飽和食塩水（３０ｍＬ）で洗浄し、無水硫酸マグネシウムで乾燥した。減圧下溶媒を留去することにより標記参考化合物（２４２．４ｍｇ）を黄色固体として得た。（収率７３％）

以下、市販化合物を使用し、参考化合物１１−１の製造方法に準じて、参考化合１１−２を得た。

実施例１
５−（２−フルオロベンゾイルオキシメチル）−６−（４−フルオロ−２−メトキシフェニル）−２，２，４−トリメチル−１，２−ジヒドロキノリン（化合物１−１）
１−（２−フルオロベンゾイル）−５−（２−フルオロベンゾイルオキシメチル）−６−（４−フルオロ−２−メトキシフェニル）−２，２，４−トリメチル−１，２−ジヒドロキノリン（化合物１−２）
６−（４−フルオロ−２−メトキシフェニル）−５−ヒドロキシメチル−２，２，４−トリメチル−１，２−ジヒドロキノリン（参考化合物４−３、６０．０ｍｇ、０．１８３ｍｍｏｌ）を無水テトラヒドロフラン（１ｍＬ）に溶解し、トリエチルアミン（８１．０μｌ、０．５８１ｍｍｏｌ）及び塩化２−フルオロベンゾイル（５１．０μｌ、０．４２７ｍｍｏｌ）を加えた。反応液を室温で一晩攪拌した。反応液に酢酸エチル（１００ｍＬ）を加え希釈した。水（１００ｍＬ）、飽和食塩水（５０ｍＬ）で順次洗浄し、無水硫酸マグネシウムで乾燥後、減圧下溶媒を留去した。得られた残留物をシリカゲルカラムクロマトグラフィー（ヘキサンー酢酸エチル）で精製することにより標記化合物１−１（４３．０ｍｇ、収率５２％）を無色固体として、標記化合物１−２（１８．３ｍｇ、収率１７％）を淡黄色油状物として得た。

以下、参考化合物３−１１、４−１〜４−１０、４−１２〜４−１６、４−１８、４−１９、４−２２、７−１及び７−２から選択される化合物を使用し、化合物１−１、１−２の製造方法に準じて、化合物１−３〜１−５８を得た。

実施例２
１−アクリロイル−５−ベンゾイルオキシメチル−６−（４−フルオロ−２−メトキシフェニル）−２，２，４−トリメチル−１，２−ジヒドロキノリン（化合物２−１）
５−ベンゾイルオキシメチル−６−（４−フルオロ−２−メトキシフェニル）−２，２，４−トリメチル−１，２−ジヒドロキノリン（化合物１−１４、３５．７ｍｇ、０．０８２７ｍｍｏｌ）を無水テトラヒドロフラン（１ｍＬ）に溶解し、トリエチルアミン（１１５μｌ、０．８２５ｍｍｏｌ）及び塩化アクリロイル（４０．４μｌ、０．４９７ｍｍｏｌ）を加えた。反応液を室温で一晩攪拌した。反応液に酢酸エチル（１００ｍＬ）を加え希釈した。水（５０ｍＬ）、飽和食塩水（５０ｍＬ）で順次洗浄し、無水硫酸マグネシウムで乾燥後、減圧下溶媒を留去した。得られた残留物をシリカゲルカラムクロマトグラフィー（ヘキサン−酢酸エチル）で精製することにより標記化合物（３．０ｍｇ）を淡黄色油状物として得た。（収率７％）

以下、化合物１−７、１−８、１−２５、３−４及び１０−１から選択される化合物を使用し、化合物２−１の製造方法に準じて、化合物２−２〜２−６を得た。

実施例３
６−（２−メトキシフェニル）−５−フェノキシメチル−２，２，４−トリメチル−１，２−ジヒドロキノリン（化合物３−１）
５−クロロメチル−６−（２−メトキシフェニル）−２，２，４−トリメチル−１，２−ジヒドロキノリン（参考化合物５−１、５２ｍｇ、０．１６ｍｍｏｌ）、フェノール（４２μｌ、０．４８ｍｍｏｌ）及び炭酸カリウム（８８ｍｇ、０．６４ｍｍｏｌ）の混合物を無水Ｎ，Ｎ−ジメチルホルムアミド（２ｍＬ）に懸濁し、８０度で５時間攪拌した。放冷後、酢酸エチル（６０ｍＬ）を加え希釈した。水（５０ｍＬ）及び飽和食塩水（３０ｍＬ）で順次洗浄し、無水硫酸マグネシウムで乾燥後、減圧下溶媒を留去した。得られた残留物をシリカゲルカラムクロマトグラフィー（ヘキサン−酢酸エチル）で精製することにより標記化合物（２４ｍｇ）を無色油状物として得た。（収率３９％）

以下、参考化合物５−２、５−３、５−７〜５−９および５−１４〜５−１６から選択される化合物を使用し、化合物３−１の製造方法に準じて、化合物３−２〜３−１０２を得た。

表４５α

表４５β

表４５γ

表４５δ

表４５ε

表４５ζ

表４５η

表４５θ

実施例４
５−ベンジルオキシメチル−６−（２−メトキシフェニル）−２，２，４−トリメチル−１，２−ジヒドロキノリン（化合物４−１）
６０％水素化ナトリウム（３０ｍｇ、０．７５ｍｍｏｌ）を無水テトラヒドロフラン（１ｍＬ）に懸濁し、アルゴン雰囲気下０度でベンジルアルコール（７８μｌ、０．７５ｍｍｏｌ）を加えた。室温で３０分間攪拌した後、０度で５−クロロメチル−６−（２−メトキシフェニル）−２，２，４−トリメチル−１，２−ジヒドロキノリン（参考化合物５−１、５０ｍｇ、０．１５ｍｍｏｌ）の無水テトラヒドロフラン（１．５ｍＬ）溶液を加えた。反応液を５０度で７時間攪拌した。放冷後、酢酸エチル（５０ｍＬ）を加えた。水（５０ｍＬ）及び飽和食塩水（３０ｍＬ）で順次洗浄し、無水硫酸マグネシウムで乾燥後、減圧下溶媒を留去した。得られた残留物をシリカゲルカラムクロマトグラフィー（ヘキサン−酢酸エチル）で精製することにより標記化合物（４．０ｍｇ）を無色固体として得た。（収率７％）

以下、参考化合物５−２を使用し、化合物４−１の製造方法に準じて、化合物４−２から４−６を得た。

実施例５
５−ベンゾイルオキシメチル−６−（３−ヒドロキシ−２−メトキシフェニル）−２，２，４−トリメチル−１，２−ジヒドロキノリン（化合物５−１）
５−ベンゾイルオキシメチル−６−（２−メトキシ−３−メトキシメトキシフェニル）−２，２，４−トリメチル−１，２−ジヒドロキノリン（化合物１−２８、２２８ｍｇ、０．４８１ｍｍｏｌ）を１，４−ジオキサン（４ｍＬ）に溶解し、４規定塩化水素／１，４−ジオキサン（１ｍＬ）を加え、室温で４５分間攪拌した。減圧下溶媒を留去して得られた残留物をシリカゲルカラムクロマトグラフィー（ヘキサン−酢酸エチル）で精製することにより標記化合物（１４．０ｍｇ）を無色固体として得た。（収率７％）

以下、参考化合物２−６、化合物１−３８、１３−４および１３−４９〜１３−５０から選択される化合物を使用し、化合物５−１の製造方法に準じて、化合物５−２〜５−５を得た。

実施例６
６−（２−メトキシフェニル）−５−［（ピロリジン−１−イル）メチル］−２，２，４−トリメチル−１，２−ジヒドロキノリン（化合物６−１）
５−クロロメチル−６−（２−メトキシフェニル）−２，２，４−トリメチル−１，２−ジヒドロキノリン（参考化合物５−１、４１．２ｍｇ、０．１２６ｍｍｏｌ）、ピロリジン（５２．６μｌ、０．６３０ｍｍｏｌ）及び炭酸カリウム（３４．８ｍｇ、０．２５２ｍｍｏｌ）の混合物を無水Ｎ，Ｎ−ジメチルホルムアミド（１ｍＬ）に懸濁し、５０度で１時間攪拌した。放冷後、酢酸エチル（５０ｍＬ）を加え希釈した。水（５０ｍＬ）及び飽和食塩水（５０ｍＬ）で順次洗浄し、無水硫酸マグネシウムで乾燥後、減圧下溶媒を留去した。得られた残留物をシリカゲルカラムクロマトグラフィー（ヘキサン−酢酸エチル）で精製することにより標記化合物（３６．１ｍｇ）を無色固体として得た。（収率７９％）

以下、参考化合物５−１〜５−１０及び５−１４〜５−１６から選択される化合物を使用し、化合物６−１の製造方法に準じて、化合物６−２〜６−８６を得た。

表５１α

表５１β

表５１γ

実施例７
５−アクリロイルオキシメチル−１−アリル−６−（２−メトキシフェニル）−２，２，４−トリメチル−１，２−ジヒドロキノリン（化合物７−１）
５−アクリロイルオキシメチル−６−（２−メトキシフェニル）−２，２，４−トリメチル−１，２−ジヒドロキノリン（化合物１−７、５０ｍｇ、０．１４ｍｍｏｌ）、臭化アリル（１１１μｌ、１．２８ｍｍｏｌ）及び炭酸カリウム（７８ｍｇ、０．５６ｍｍｏｌ）の混合物を無水Ｎ，Ｎ−ジメチルホルムアミド（２ｍＬ）に懸濁し、６０度で４日間攪拌した。放冷後、酢酸エチル（２５ｍＬ）を加え希釈した。水（３０ｍＬ、２回）及び飽和食塩水（３０ｍＬ）で順次洗浄し、無水硫酸マグネシウムで乾燥後、減圧下溶媒を留去した。得られた残留物をシリカゲルカラムクロマトグラフィー（ヘキサン−酢酸エチル）で精製することにより標記化合物（２３ｍｇ）を淡黄色油状物として得た。（収率４１％）

以下、化合物１−７もしくは９−５を使用し、化合物７−１の製造方法に準じて、化合物７−２及び７−３を得た。

実施例８
６−（２−ヒドロキシフェニル）−５−［（ピロリジン−１−イル）カルボニル］−２，２，４−トリメチル−１，２−ジヒドロキノリン（化合物８−１）
ピロリジン（１３５μｌ、１．６２ｍｍｏｌ）を無水テトラヒドロフラン（１ｍＬ）に溶解し、０度でｎ−ブチルリチウムの１．６Ｍヘキサン溶液（１．０１ｍＬ、１．６２ｍｍｏｌ）を滴下した。同温で３０分間攪拌した後、２，２，４−トリメチル−１，２−ジヒドロ−６−オキサ−１−アザクリセン−５−オン（参考化合物１−１、８０ｍｇ、０．２７ｍｍｏｌ）の無水テトラヒドロフラン（３ｍＬ）溶液を滴下し、さらに３０分間攪拌した。反応液に飽和塩化アンモニウム水溶液（５ｍＬ）を加えた後、酢酸エチル（１００ｍＬ）を加え希釈した。水（１００ｍＬ）及び飽和食塩水（５０ｍＬ）で順次洗浄し、無水硫酸マグネシウムで乾燥後、減圧下溶媒を留去した。得られた残留物をシリカゲルカラムクロマトグラフィー（ヘキサン−酢酸エチル）で精製することにより標記化合物（８０．２ｍｇ）を淡黄色固体として得た。（収率８２％）

以下、参考化合物１−１を使用し、化合物８−１の製造方法に準じて、化合物８−２〜８−８を得た。

実施例９
６−（２−メトキシフェニル）−５−［（ピロリジン−１−イル）カルボニル］−２，２，４−トリメチル−１，２−ジヒドロキノリン（化合物９−１）
６−（２−ヒドロキシフェニル）−５−［（ピロリジン−１−イル）カルボニル］−２，２，４−トリメチル−１，２−ジヒドロキノリン（化合物８−１、６５．０ｍｇ、０．１７９ｍｍｏｌ）、よう化メチル（１１．１μｌ、０．１７８ｍｍｏｌ）及び炭酸カリウム（４９．５ｍｇ、０．３５８ｍｍｏｌ）の混合物を無水Ｎ，Ｎ−ジメチルホルムアミド（１．５ｍＬ）に懸濁し、５０度で一晩攪拌した。放冷後、酢酸エチル（１００ｍＬ）を加え希釈した。水（１００ｍＬ）及び飽和食塩水（５０ｍＬ）で順次洗浄し、無水硫酸マグネシウムで乾燥後、減圧下溶媒を留去した。得られた残留物をシリカゲルカラムクロマトグラフィー（ヘキサン−酢酸エチル）で精製することにより標記化合物（４２．５ｍｇ）を無色固体として得た。（収率６３％）

以下、化合物８−２〜８−８から選択される化合物を使用し、化合物９−１の製造方法に準じて、化合物９−２〜９−８を得た。

実施例１０
６−（２−メトキシフェニル）−５−フェニルチオメチル−２，２，４−トリメチル−１，２−ジヒドロキノリン（化合物１０−１）
５−クロロメチル−６−（２−メトキシフェニル）−２，２，４−トリメチル−１，２−ジヒドロキノリン（参考化合物５−１、８０ｍｇ、０．２４ｍｍｏｌ）、チオフェノール（１４８μｌ、１．４４ｍｍｏｌ）及び炭酸カリウム（２６６ｍｇ、１．９２ｍｍｏｌ）の混合物を無水Ｎ，Ｎ−ジメチルホルムアミド（２ｍＬ）に懸濁し、５０度で一晩攪拌した。放冷後、酢酸エチル（５０ｍＬ）を加え希釈した。水（５０ｍＬ）及び飽和食塩水（３０ｍＬ）で順次洗浄し、無水硫酸マグネシウムで乾燥後、減圧下溶媒を留去した。得られた残留物をシリカゲルカラムクロマトグラフィー（ヘキサン−酢酸エチル）で精製することにより標記化合物（５３ｍｇ）を無色固体として得た。（収率５５％）

以下、参考化合物５−２を使用し、化合物１０−１の製造方法に準じて、化合物１０−２〜１０−５を得た。

実施例１１
５−ベンジルチオメチル−６−（２−メトキシフェニル）−２，２，４−トリメチル−１，２−ジヒドロキノリン（化合物１１−１）
５−クロロメチル−６−（２−メトキシフェニル）−２，２，４−トリメチル−１，２−ジヒドロキノリン（参考化合物５−１、８０ｍｇ、０．２４ｍｍｏｌ）、ベンジルメルカプタン（８５μｌ、０．７２ｍｍｏｌ）を無水テトラヒドロフラン（２ｍＬ）に溶解し、アルゴン雰囲気下０度で６０％水素化ナトリウム（３８ｍｇ、０．９５ｍｍｏｌ）を加えた。室温で無水Ｎ，Ｎ−ジメチルホルムアミド（０．５ｍＬ）を加え、４時間攪拌した。反応液に酢酸エチル（５０ｍＬ）を加え希釈した。水（５０ｍＬ）及び飽和食塩水（５０ｍＬ）で順次洗浄し、無水硫酸マグネシウムで乾燥後、減圧下溶媒を留去した。得られた残留物をシリカゲルカラムクロマトグラフィー（ヘキサン−酢酸エチル）で精製することにより標記化合物（６５ｍｇ）を無色固体として得た。（収率６５％）

以下、参考化合物５−２を使用し、参考化合物１１−１の製造方法に準じて、化合物１１−２〜１１−３を得た。

実施例１２
６−（４−フルオロ−２−メトキシフェニル）−５−（４−メチルチオベンゾイルオキシメチル）−２，２，４−トリメチル−１，２−ジヒドロキノリン（化合物１２−１）
５−クロロメチル−６−（４−フルオロ−２−メトキシフェニル）−２，２，４−トリメチル−１，２−ジヒドロキノリン（参考化合物５−２、５０．０ｍｇ、０．１４５ｍｍｏｌ）、４−メチルチオ安息香酸（７３．２ｍｇ、０．４３５ｍｍｏｌ）、炭酸カリウム（８０．２ｍｇ、０．５８０ｍｍｏｌ）を無水Ｎ，Ｎ−ジメチルホルムアミド（１ｍＬ）に懸濁し、８０度で２．５時間攪拌した。反応液に酢酸エチル（１００ｍＬ）を加え、水（１００ｍＬ）及び飽和食塩水（１００ｍＬ）で順次洗浄し、無水硫酸マグネシウムで乾燥後、減圧下溶媒を留去した。得られた残留物をシリカゲルカラムクロマトグラフィー（ヘキサン−酢酸エチル）で精製することにより標記化合物（３２．４ｍｇ）を無色アモルファスとして得た。（収率４７％）

以下、参考化合物５−２〜５−３及び５−５〜５−１６から選択される化合物を使用し、化合物１２−１の製造方法に準じて、化合物１２−２〜１２−８０を得た。

実施例１３
５−（３−アミノベンゾイルオキシメチル）−６−（４−フルオロ−２−メトキシフェニル）−２，２，４−トリメチル−１，２−ジヒドロキノリン（化合物１３−１）
６−（４−フルオロ−２−メトキシフェニル）−５−ヒドロキシメチル−２，２，４−トリメチル−１，２−ジヒドロキノリン（参考化合物４−３、４９．７ｍｇ、０．１５ｍｍｏｌ）、３−アミノ安息香酸（４９．０ｍｇ、０．３５ｍｍｏｌ）、トリ−ｎ−ブチルホスフィン（８７．０μＬ、０．３５ｍｍｏｌ）、１，１’−（アゾジカルボニル）ジピペリジン（８９．４ｍｇ、０．３５ｍｍｏｌ）を無水ベンゼン（２ｍＬ）に溶解し、アルゴン雰囲気下、室温で一晩攪拌した。反応液にヘキサン（３ｍＬ）−酢酸エチル（３ｍＬ）を加えて、不溶物をろ去した。ろ液を減圧下濃縮し、残留物をシリカゲルカラムクロマトグラフィー（ヘキサン−酢酸エチル）で精製することにより標記化合物（２８．０ｍｇ）を無色アモルファスとして得た。（収率４２％）

以下、参考化合物４−１、４−３及び４−３１から選択される化合物を使用し、化合物１３−１の製造方法に準じて、化合物１３−２〜１３−４を得た。

実施例１４
６−（４−フルオロ−２−メトキシフェニル）−５−（２−メトキシカルボニルメチルフェノキシメチル）−２，２，４−トリメチル−１，２−ジヒドロキノリン（化合物１４−１）
６−（４−フルオロ−２−メトキシフェニル）−５−ヒドロキシメチル−２，２，４−トリメチル−１，２−ジヒドロキノリン（参考化合物４−３、１００．１ｍｇ、０．３１ｍｍｏｌ）、２−ヒドロキシフェニル酢酸メチル（７６．１ｍｇ、０．４６ｍｍｏｌ）、トリ−ｎ−ブチルホスフィン（１１４μＬ、０．４６ｍｍｏｌ）、１，１’−（アゾジカルボニル）ジピペリジン（１１７ｍｇ、０．４６ｍｍｏｌ）を無水ベンゼン（２ｍＬ）に溶解し、アルゴン雰囲気下、室温で１時間攪拌した。反応液にヘキサン（５ｍＬ）を加えて、不溶物をろ去した。ろ液を減圧下濃縮し、残留物をシリカゲルカラムクロマトグラフィー（ヘキサン−酢酸エチル）で精製することにより標記化合物（１０７．１ｍｇ）を無色アモルファスとして得た。（収率７４％）

以下、参考化合物４−３〜４−４、４−６、４−１７、４−２７及び４−２９〜４−３２から選択される化合物を使用し、化合物１４−１の製造方法に準じて、化合物１４−２〜１４−５６を得た。

実施例１５
６−（４−ベンジルオキシ−２−メトキシフェニル）−５−（５−フルオロ−２−メチルフェノキシメチル）−２，２，４−トリメチル−１，２−ジヒドロキノリン（化合物１５−１）
５−（５−フルオロ−２−メチルフェノキシメチル）−６−（４−ヒドロキシ−２−メトキシフェニル）−２，２，４−トリメチル−１，２−ジヒドロキノリン（化合物５−３、２０．１ｍｇ、０．０４６ｍｍｏｌ）、炭酸カリウム（１６．７ｍｇ、０．１２ｍｍｏｌ）、ベンジルブロミド（６．６μＬ、０．０５５ｍｍｏｌ）を無水Ｎ，Ｎ−ジメチルホルムアミド（０．５ｍＬ）に溶解し、６０度で４０分間攪拌した。反応液に酢酸エチル（５０ｍＬ）を加えて、水（５０ｍＬ）、飽和食塩水（３０ｍＬ）で洗浄し、無水硫酸マグネシウムで乾燥後、減圧下溶媒を留去した。残留物をシリカゲルカラムクロマトグラフィー（ヘキサン−酢酸エチル）で精製することにより標記化合物（５．１ｍｇ）を無色油状物として得た。（収率１９％）

以下、化合物５−３もしくは５−４を使用し、化合物１５−１の製造方法に準じて、化合物１５−２〜１５−１８を得た。

実施例１６
６−（４−フルオロ−２−メトキシフェニル）−５−（４−ヒドロキシベンゾイルオキシメチル）−２，２，４−トリメチル−１，２−ジヒドロキノリン（化合物１６）
５−（４−アセトキシベンゾイルオキシメチル）−６−（４−フルオロ−２−メトキシフェニル）−２，２，４−トリメチル−１，２−ジヒドロキノリン（化合物１２−５、４０．９ｍｇ、０．０８３５ｍｍｏｌ）、炭酸カリウム（２４．０ｍｇ、０．１７４ｍｍｏｌ）を無水メタノール（１ｍＬ）に懸濁し、室温で１．５時間攪拌した。不溶物をろ過後、ろ液を減圧下濃縮し、酢酸エチル（３０ｍＬ）、水（３０ｍＬ）を加えて分配した。有機層を水（３０ｍＬ）及び飽和食塩水（３０ｍＬ）で順次洗浄し、無水硫酸マグネシウムで乾燥後、減圧下溶媒を留去した。得られた固体をヘキサンでろ取することにより標記化合物（２８．８ｍｇ）を無色固体として得た。（収率７８％）

実施例１７
５−ベンゾイルアミノメチル−６−（４−フルオロ−２−メトキシフェニル）−２，２，４−トリメチル−１，２−ジヒドロキノリン（化合物１７−１）
６０％水素化ナトリウム（２３．２ｍｇ、０．５８０ｍｍｏｌ）を無水Ｎ，Ｎ−ジメチルホルムアミド（３ｍＬ）に懸濁し、０度にてベンズアミド（７０．３ｍｇ、０．５８０ｍｍｏｌ）を加えた。室温で２５分間攪拌した後、５−クロロメチル−６−（４−フルオロ−２−メトキシフェニル）−２，２，４−トリメチル−１，２−ジヒドロキノリン（参考化合物５−２、５０．０ｍｇ、０．１４５ｍｍｏｌ）を加え５０度で１時間攪拌した。反応液に酢酸エチル（１００ｍＬ）を加え、水（１００ｍＬ）及び飽和食塩水（５０ｍＬ）で順次洗浄し、無水硫酸マグネシウムで乾燥後、減圧下溶媒を留去した。得られた残留物をシリカゲルカラムクロマトグラフィー（ヘキサン−酢酸エチル）で精製することにより標記化合物（３４．１ｍｇ）を淡黄色アモルファスとして得た。（収率５５％）

以下、参考化合物５−２を使用し、化合物１７−１の製造方法に準じて、化合物１７−２〜１７−４を得た。

６−（４−フルオロ−２−メトキシフェニル）−５−フェニルアミノカルボニルオキシメチル−２，２，４−トリメチル−１，２−ジヒドロキノリン（化合物１８）
６−（４−フルオロ−２−メトキシフェニル）−５−ヒドロキシメチル−２，２，４−トリメチル−１，２−ジヒドロキノリン（参考化合物４−３、５０．０ｍｇ、０．１５３ｍｍｏｌ）と４−ジメチルアミノピリジン（１．８７ｍｇ、０．０１５３ｍｍｏｌ）を無水テトラヒドロフラン（１ｍＬ）に溶解し、１，１’−カルボニルジイミダゾール（３２．３ｍｇ、０．１９９ｍｍｏｌ）を加え室温で一晩攪拌した［溶液１］。
アニリン（６９．７μｌ、０．７６５ｍｍｏｌ）の無水テトラヒドロフラン（２ｍＬ）溶液に０度にてｎ−ブチルリチウムの１．６Ｍヘキサン溶液（４３０μｌ、０．６８８ｍｍｏｌ）を滴下し、０度で３０分攪拌した［溶液２］。
反応液２を−７８度に冷却した後、反応液１を滴下し、−７８度で３０分間攪拌した。飽和塩化アンモニウム水溶液（５ｍＬ）を加えた後、酢酸エチル（１００ｍＬ）で希釈した。水（１００ｍＬ）、０．０２規定塩酸（１００ｍＬ）、水（５０ｍＬ）、飽和食塩水（５０ｍＬ）で順次洗浄し、無水硫酸マグネシウムで乾燥後、減圧下溶媒を留去した。得られた残留物をシリカゲルカラムクロマトグラフィー（トルエン−酢酸エチル）で精製することにより標記化合物（６６．０ｍｇ）を淡黄色アモルファスとして得た。（収率９７％）

実施例１９
５−（２−カルボキシメチルフェノキシメチル）−６−（４−フルオロ−２−メトキシフェニル）−２，２，４−トリメチル−１，２−ジヒドロキノリン（化合物１９−１）
６−（４−フルオロ−２−メトキシフェニル）−５−（２−メトキシカルボニルメチルフェノキシメチル）−２，２，４−トリメチル−１，２−ジヒドロキノリン（化合物１４−１、８４．０ｍｇ、０．１８ｍｍｏｌ）をメタノール（２ｍＬ）−テトラヒドロフラン（１ｍＬ）に溶解し、１規定水酸化ナトリウム水溶液（０．５６ｍＬ）を加え、室温で一晩攪拌した。反応液に酢酸エチル（１００ｍＬ）を加えた後、０．０１規定塩酸（１００ｍＬ）および飽和食塩水（５０ｍＬ）で順次洗浄し、無水硫酸マグネシウムで乾燥後、減圧下溶媒を留去した。得られた残留物をシリカゲルカラムクロマトグラフィー（ヘキサン−酢酸エチル）で精製することにより標記化合物（７４．１ｍｇ）を無色固体として得た。（収率８９％）

以下、化合物３−５１、３−５３及び１４−３から選択される化合物を使用し、化合物２１−１の製造方法に準じて、化合物１９−２〜１９−４を得た。

実施例２０
５−（２−アミノフェノキシメチル）−６−（４−フルオロ−２−メトキシフェニル）−２，２，４−トリメチル−１，２−ジヒドロキノリン（化合物２０−１）
５−（２−ｔ−ブトキシカルボニルアミノフェノキシメチル）−６−（４−フルオロ−２−メトキシフェニル）−２，２，４−トリメチル−１，２−ジヒドロキノリン（化合物３−７９、９．６ｍｇ、０．０１９ｍｍｏｌ）に４規定塩化水素／１，４−ジオキサン溶液（１ｍＬ）を加え、室温で１時間攪拌した。反応液を減圧下濃縮した。残留物に酢酸エチル（１０ｍＬ）と飽和重曹水（１０ｍＬ）を加えて分配した。有機層を無水硫酸マグネシウムで乾燥した。減圧下溶媒を留去することにより標記化合物（５．４ｍｇ）を黄色油状物として得た。（収率７０％）

以下、化合物６−８６を使用し、化合物２０−１の製造方法に準じて、化合物２０−２を得た。

実施例２１
６−（５−アミノ−２−メトキシフェニル）−５−（５−フルオロ−２−メチルフェノキシメチル）−２，２，４−トリメチル−１，２−ジヒドロキノリン（化合物２１−１）
５−（５−フルオロ−２−メチルフェノキシメチル）−６−（２−メトキシ−５−ニトロフェニル）−２，２，４−トリメチル−１，２−ジヒドロキノリン（化合物１４−４８、１００．４ｍｇ、０．２１７ｍｍｏｌ）を４規定水酸化ナトリウム水溶液（４０５μＬ、１．６２ｍｍｏｌ）−エタノール（５ｍＬ）に溶解し、亜鉛（２９２．９ｍｇ、４．４８ｍｍｏｌ）を加え、１１０度で一晩攪拌した。反応液に酢酸エチル（２０ｍＬ）を加え不溶物を濾去した。濾液に酢酸エチル（５０ｍＬ）を加え、水（１００ｍＬ）及び飽和食塩水（５０ｍＬ）で順次洗浄し、無水硫酸マグネシウムで乾燥後、減圧下溶媒を留去した。残留物をシリカゲルカラムクロマトグラフィー（ヘキサン−酸エチル）で精製することにより標記化合物（１２．１ｍｇ）を黄色アモルファスとして得た。（収率１３％）

実施例２２
６−（２−メトキシ−５−フェニルアセチルフェニル）−５−（４−メチルベンゾイルオキシメチル）−２，２，４−トリメチル−１，２−ジヒドロキノリン（化合物２２）
塩化アルミニウム（９７．０ｍｇ、０．７３ｍｍｏｌ）を無水ジクロロエタン溶液（０．５ｍＬ）に加え、０度に冷却した。塩化フェニルアセチル（９７μＬ、０．７３ｍｍｏｌ）、６−（２−メトキシフェニル）−５−（４−メチルベンゾイルオキシメチル）−２，２，４−トリメチル−１，２−ジヒドロキノリン（化合物１３−３、４９．７ｍｇ、０．１２ｍｍｏｌ）を加え、室温で１．５時間攪拌した。反応液に酢酸エチル（１００ｍＬ）を加え、水（１００ｍＬ）及び飽和食塩水（５０ｍＬ）で順次洗浄し、無水硫酸マグネシウムで乾燥後、減圧下溶媒を留去した。残留物をシリカゲルカラムクロマトグラフィー（ヘキサン−酢酸エチル）で精製することにより標記化合物（５３．６ｍｇ）を淡黄色アモルファスとして得た。（収率８２％）

実施例２３
６−［２−メトキシ−５−（１−ヒドロキシ−２−フェニルエチル）フェニル］−５−（４−メチルベンゾイルオキシメチル）−２，２，４−トリメチル−１，２−ジヒドロキノリン（化合物２３）
６−［５−（１−ヒドロキシ−２−フェニルエチル）−２−メトキシフェニル］−５−（４−メチルベンゾイルオキシメチル）−２，２，４−トリメチル−１，２−ジヒドロキノリン（ＳＡ２２５４０）
６−（２−メトキシ−５−フェニルアセチルフェニル）−５−（４−メチルベンゾイルオキシメチル）−２，２，４−トリメチル−１，２−ジヒドロキノリン（化合物２２、３４．０ｍｇ、０．０６２３ｍｍｏｌ）をＴＨＦ（０．５ｍＬ）−メタノール（０．５ｍＬ）に溶解し、水素化ホウ素ナトリウム（６．８ｍｇ、０．１８０ｍｍｏｌ）加え、室温で４５分間攪拌した。反応液に１規定塩酸（０．５ｍＬ）および酢酸エチル（５０ｍＬ）を加え、水（５０ｍＬ、２回）及び飽和食塩水（５０ｍＬ）で順次洗浄し、無水硫酸マグネシウムで乾燥後、減圧下溶媒を留去した。残留物をシリカゲルカラムクロマトグラフィー（ヘキサン−酢酸エチル）で精製することにより標記化合物（３１．８ｍｇ）を無色アモルファスとして得た。（収率９３％）

［製剤例］
本発明化合物の代表的な製剤例を以下に示す。
１）錠剤（１００ｍｇ中）
本発明化合物 １ｍｇ
乳糖 ６６．４ｍｇ
トウモロコシデンプン ２０ｍｇ
カルボキシメチルセルロースカルシウム ６ｍｇ
ヒドロキシプロピルセルロース ４ｍｇ
ステアリン酸マグネシウム ０．６ｍｇ

上記処方の錠剤にコーティング剤（例えば、ヒドロキシプロピルメチルセルロース、マクロゴール、シリコーン樹脂等の通常のコーティング剤）２ｍｇを用いてコーティングを施し、目的とする錠剤を得ることができる。また、本発明化合物及び添加物の、種類及び／又は量を適宜変更することで、所望の錠剤を得ることができる。
２）カプセル剤（１５０ｍｇ中）
本発明化合物 ５ｍｇ
乳糖 １４５ｍｇ

本発明化合物及び乳糖の混合比を適宜変更することで、所望のカプセル剤を得ることができる。
３）点眼剤（１００ｍｌ中）
本発明化合物 １００ｍｇ
塩化ナトリウム ９００ｍｇ
ポリソルベート８０ ２００ｍｇ
水酸化ナトリウム 適量
塩酸 適量
滅菌精製水 適量

本発明化合物及び添加物の、種類及び／又は量を適宜変更することで、所望の点眼剤を得ることができる。

［薬理試験］
１．グルココルチコイド受容体（以下、「ＧＲ」とする）結合活性評価試験
ＧＲに対する結合活性を評価するために、偏光蛍光法による受容体競合アッセイを実施した。アッセイにはＧＲ競合アッセイキット（インビトロジェン社製、Ｃａｔ Ｎｏ．Ｐ２８１６）を使用し、本キットに添付のプロトコールに準じて操作を行った。以下にその具体的な方法を記載する。

（試薬の調製）
ＧＲスクリーニング緩衝液：１０ｍＭリン 酸カリウム（ｐＨ７．４）、２０ｍＭモリブデン酸ナトリウム（Ｎａ_２ＭｏＯ_４）、０．１ｍＭエチレンジアミン四酢酸（ＥＤＴＡ）、５ｍＭジチオスレイトール（ＤＴＴ）、０．１ｍＭ安定化ペプチド及び２％ジメチルスルホキシドを含む緩衝液を調製した。
４×ＧＳ１溶液：蛍光グルココルチコイドリガンドであるＦｌｕｏｒｍｏｎｅ^ＴＭ ＧＳ１をＧＲスクリーニング緩衝液で希釈して、４ｎＭの溶液を調製した。
４×ＧＲ溶液：リコンビナントヒトＧＲをＧＲスクリーニング緩衝液で希釈して、１６ｎＭの溶液を調製した。

（被験化合物溶液の調製）
被験化合物をジメチルスルホキシドに溶解した後、この溶液をＧＲスクリーニング緩衝液で希釈し、２０μＭの被験化合物溶液を調製した。

（試験方法及び測定方法）
１）９６穴又は３８４穴プレートに被験化合物溶液を１ウェルあたり２５μＬ又は１０μＬずつ注入し、次いで、４×ＧＳ１溶液及び４×ＧＲ溶液を１ウェルあたり各々１２．５μＬ又は５μＬずつ添加した。
２）暗所かつ室温で２−４時間インキュベートした。
３）マルチモードプレートリーダーＡｎａｌｙｓｔ^ＴＭ ＨＴ（エル・ジェイ・エル バイオシステムズ社製）を使用し、ブランクとして、被験化合物溶液及び４×ＧＳ１溶液に代えてＧＲスクリーニング緩衝液を含むウェルを用いて各ウェルの蛍光偏光を測定した。
４）被験化合物溶液に代えてＧＲスクリーニング緩衝液を用いて、他は前記１〜３）と同じ操作を実施し、その結果を陰性対照とした。
５）被験化合物溶液に代えて２ｍＭデキサメタゾンを用いて、他は前記１〜３）と同じ操作を実施し、その結果を陽性対照とした。

（ＧＲ結合率の計算式）
ＧＲ結合率（％）は以下の式により算出した。
ＧＲ結合率（％）＝１００×｛１−（被験化合物溶液の蛍光偏光−陽性対照溶液の蛍光偏光）／（陰性対照溶液の蛍光偏光−陽性対照溶液の蛍光偏光）｝

（試験結果及び考察）
試験結果の一例として、被験化合物（化合物１−１９、化合物１−２１、化合物１−４６、化合物３−２１、化合物３−２２、化合物３−３３、化合物３−４４、化合物３−４５、化合物３−４８、化合物３−５６、化合物３−５７、化合物３−５８、化合物３−５９、化合物３−６１、化合物３−６２、化合物３−６７、化合物３−６８、化合物３−６９、化合物３−７２、化合物３−７４、化合物３−８５、化合物３−９１、化合物３−９４、化合物３−９８、化合物３−９９、化合物５−３、化合物５−４、化合物６−２０、化合物６−２４、化合物６−２７、化合物６−３６、化合物６−３７、化合物６−４０、化合物６−４３、化合物６−４５、化合物６−４７、化合物６−５３、化合物６−５７、化合物６−５９、化合物６−７５、化合物６−７６、化合物６−７７、化合物６−７８、化合物６−７９、化合物１２−１７、化合物１２−１９、化合物１２−２０、化合物１２−２１、化合物１２−２２、化合物１２−２５、化合物１２−３３、化合物１２−４２、化合物１２−５３、化合物１２−５４、化合物１２−５８、化合物１２−６７、化合物１２−６９、化合物１２−７３、化合物１２−７５、化合物１２−７６、化合物１４−１、 化合物１４−１１、化合物１４−１２、化合物１４−１３、化合物１４−１５、化合物１４−２１、化合物１４−４０、化合物１４−４１、化合物１４−４３、化合物１４−４５、化合物１４−４７、化合物１４−４８、化合物１５−２、化合物１５−７）のＧＲ結合率（％）を表Ｉに示す。

表Ｉからわかるように、本発明化合物 は優れたＧＲ受容体結合活性を示した。よって、本発明化合物はＧＲ受容体モジュレーターとして使用でき、特にＧＲが関与する疾患、すなわち、代謝異常疾患、炎症性疾患、自己免疫疾患、アレルギー性疾患、中枢神経系疾患、心血管系疾患、ホメオスタシス関連疾患、緑内障等の予防又は治療剤として有用である。

Claims (19)

1. 下記一般式（１）で表される化合物又はその塩。
   

   

   ［環Ｘはベンゼン環又はピリジン環を示し；
   Ｒ^１はハロゲン原子、置換基を有してもよい低級アルキル基、ヒドロキシ基、置換基を有してもよい低級アルコキシ基、置換基を有してもよい低級アルケニルオキシ基、低級アルキルカルボニル基、アミノ基、ニトロ基又はシアノ基を示し；
   ｐは０〜５の整数を示し；
   ｐが２〜５の場合、各Ｒ^１は同一又は異なってもよく；
   Ｒ^２はハロゲン原子、置換基を有してもよい低級アルキル基、ヒドロキシ基、ヒドロキシ基のエステル又は置換基を有してもよい低級アルコキシ基を示し；
   ｑは０〜２の整数を示し；
   ｑが２の場合、各Ｒ^２は同一又は異なってもよく；
   Ｒ^３は水素原子、置換基を有してもよい低級アルキル基、置換基を有してもよい低級アルケニル基、置換基を有してもよい低級アルキニル基、置換基を有してもよいアリール基、置換基を有してもよい低級アルキルカルボニル基、置換基を有してもよい低級アルケニルカルボニル基、置換基を有してもよい低級アルキニルカルボニル基又は置換基を有してもよいアリールカルボニル基を示し；
   Ｒ^４及びＲ^５は同一又は異なって、水素原子又は低級アルキル基を示し；
   Ｒ^４及びＲ^５は一緒になって３〜８員の低級シクロアルカン環を形成してもよく；
   Ｒ^６は水素原子又は低級アルキル基を示し；
   Ａは低級アルキレン基、又はカルボニル基を示し；
   Ｒ^７はＯＲ^８、ＮＲ^８Ｒ^９、ＳＲ^８、Ｓ（Ｏ）Ｒ^８又はＳ（Ｏ）_２Ｒ^８を示し；
   Ｒ^８は置換基を有してもよい低級アルキル基、置換基を有してもよい低級アルケニル基、置換基を有してもよい低級アルキニル基、置換基を有してもよい低級シクロアルキル基、置換基を有してもよいアリール基、置換基を有してもよい複素環基、ホルミル基、置換基を有してもよい低級アルキルカルボニル基、置換基を有してもよい低級アルケニルカルボニル基、置換基を有してもよい低級アルキニルカルボニル基、置換基を有してもよい低級シクロアルキルカルボニル基、置換基を有してもよいアリールカルボニル基、置換基を有してもよい複素環カルボニル基、カルボキシ基、置換基を有してもよい低級アルコキシカルボニル基、置換基を有してもよい低級アルケニルオキシカルボニル基、置換基を有してもよい低級アルキニルオキシカルボニル基、置換基を有してもよい低級シクロアルキルオキシカルボニル基、置換基を有してもよいアリールオキシカルボニル基、置換基を有してもよい複素環オキシカルボニル基、置換基を有してもよい低級アルキルスルホニル基、置換基を有してもよい低級アルケニルスルホニル基、置換基を有してもよい低級アルキニルスルホニル基、置換基を有してもよい低級シクロアルキルスルホニル基、置換基を有してもよいアリールスルホニル基、置換基を有してもよい複素環スルホニル基、アミノカルボニル基、置換基を有してもよい低級アルキルアミノカルボニル基、置換基を有してもよい低級アルケニルアミノカルボニル基、置換基を有してもよい低級アルキニルアミノカルボニル基、置換基を有してもよい低級シクロアルキルアミノカルボニル基、置換基を有してもよいアリールアミノカルボニル基又は置換基を有してもよい複素環アミノカルボニル基を示し；
   Ｒ^９は水素原子、置換基を有してもよい低級アルキル基、置換基を有してもよい低級アルケニル基、置換基を有してもよい低級アルキニル基、置換基を有してもよい低級シクロアルキル基、置換基を有してもよいアリール基、置換基を有してもよい複素環基、ホルミル基、置換基を有してもよい低級アルキルカルボニル基、置換基を有してもよい低級アルケニルカルボニル基、置換基を有してもよい低級アルキニルカルボニル基、置換基を有してもよい低級シクロアルキルカルボニル基、置換基を有してもよいアリールカルボニル基、置換基を有してもよい複素環カルボニル基、カルボキシ基、置換基を有してもよい低級アルコキシカルボニル基、置換基を有してもよい低級アルケニルオキシカルボニル基、置換基を有してもよい低級アルキニルオキシカルボニル基、置換基を有してもよい低級シクロアルキルオキシカルボニル基、置換基を有してもよいアリールオキシカルボニル基、置換基を有してもよい複素環オキシカルボニル基、置換基を有してもよい低級アルキルスルホニル基、置換基を有してもよい低級アルケニルスルホニル基、置換基を有してもよい低級アルキニルスルホニル基、置換基を有してもよい低級シクロアルキルスルホニル基、置換基を有してもよいアリールスルホニル基、置換基を有してもよい複素環スルホニル基、アミノカルボニル基、置換基を有してもよい低級アルキルアミノカルボニル基、置換基を有してもよい低級アルケニルアミノカルボニル基、置換基を有してもよい低級アルキニルアミノカルボニル基、置換基を有してもよい低級シクロアルキルアミノカルボニル基、置換基を有してもよいアリールアミノカルボニル基又は置換基を有してもよい複素環アミノカルボニル基を示し；また、Ｒ^７がＮＲ^８Ｒ^９の場合、Ｒ^８とＲ^９が一緒になって、置換基を有してもよい３〜８員の含窒素複素環を形成してもよい。］
2. 一般式（１）において、環Ｘがベンゼン環、又はピリジン環を示し；
   Ｒ^１がハロゲン原子、低級アルキル基、ヒドロキシ基、低級アルコキシ基、低級アルケニルオキシ基、低級アルキルカルボニル基、アミノ基、ニトロ基又はシアノ基を示し；
   Ｒ^１が低級アルキル基又は低級アルコキシ基の場合、該低級アルキル基又は該低級アルコキシ基はハロゲン原子、アリール基、ハロゲン原子で置換されたアリール基、低級アルキル基で置換されたアリール基、ヒドロキシ基で置換されたアリール基、低級アルコキシ基で置換されたアリール基、ヒドロキシ基、ヒドロキシ基のエステル、低級アルコキシ基、アリールオキシ基、カルボキシ基及びカルボキシ基のエステルから選択される１又は複数個の基を置換基として有してもよく；
   ｐが０〜３の整数を示し；
   ｐが２又は３の場合、各Ｒ^１は同一又は異なってもよく；
   Ｒ^２がハロゲン原子、低級アルキル基、ヒドロキシ基、ヒドロキシ基のエステル又は低級アルコキシ基を示し；
   ｑが０〜２の整数を示し；
   ｑが２の場合、各Ｒ^２は同一又は異なってもよく；
   Ｒ^３が水素原子、低級アルキル基、低級アルケニル基、低級アルキニル基、アリール基、低級アルキルカルボニル基、低級アルケニルカルボニル基、低級アルキニルカルボニル基又はアリールカルボニル基を示し；
   Ｒ^３が低級アルキル基又は低級アルキルカルボニル基の場合、該低級アルキル基又は該低級アルキルカルボニル基は１又は複数個のアリール基を置換基として有してもよく；
   Ｒ^３がアリール基又はアリールカルボニル基の場合、該アリール基又は該アリールカルボニル基はハロゲン原子及び低級アルキル基から選択される１又は複数個の基を置換基として有してもよく；
   Ｒ^４及びＲ^５が同一又は異なって、水素原子又は低級アルキル基を示し；
   Ｒ^６が水素原子又は低級アルキル基を示し；
   Ａが低級アルキレン基又はカルボニル基を示し；
   Ｒ^７がＯＲ^８、ＮＲ^８Ｒ^９又はＳＲ^８を示し；
   Ｒ^８が低級アルキル基、低級アルケニル基、低級アルキニル基、低級シクロアルキル基、アリール基、複素環基、ホルミル基、低級アルキルカルボニル基、低級アルケニルカルボニル基、低級アルキニルカルボニル基、低級シクロアルキルカルボニル基、アリールカルボニル基、複素環カルボニル基、カルボキシ基、低級アルコキシカルボニル基、低級アルケニルオキシカルボニル基、低級アルキニルオキシカルボニル基、低級シクロアルキルオキシカルボニル基、アリールオキシカルボニル基、複素環オキシカルボニル基、低級アルキルスルホニル基、低級アルケニルスルホニル基、低級アルキニルスルホニル基、低級シクロアルキルスルホニル基、アリールスルホニル基、複素環スルホニル基、アミノカルボニル基、低級アルキルアミノカルボニル基、低級アルケニルアミノカルボニル基、低級アルキニルアミノカルボニル基、低級シクロアルキルアミノカルボニル基、アリールアミノカルボニル基又は複素環アミノカルボニル基を示し；
   Ｒ^９が水素原子、低級アルキル基、低級アルケニル基、低級アルキニル基、低級シクロアルキル基、アリール基、複素環基、ホルミル基、低級アルキルカルボニル基、低級アルケニルカルボニル基、低級アルキニルカルボニル基、低級シクロアルキルカルボニル基、アリールカルボニル基、複素環カルボニル基、カルボキシ基、低級アルコキシカルボニル基、低級アルケニルオキシカルボニル基、低級アルキニルオキシカルボニル基、低級シクロアルキルオキシカルボニル基、アリールオキシカルボニル基、複素環オキシカルボニル基、低級アルキルスルホニル基、低級アルケニルスルホニル基、低級アルキニルスルホニル基、低級シクロアルキルスルホニル基、アリールスルホニル基、複素環スルホニル基、アミノカルボニル基、低級アルキルアミノカルボニル基、低級アルケニルアミノカルボニル基、低級アルキニルアミノカルボニル基、低級シクロアルキルアミノカルボニル基、アリールアミノカルボニル基又は複素環アミノカルボニル基を示し；
   Ｒ^８又はＲ^９が低級アルキル基、低級アルケニル基、低級アルキニル基、低級アルキルカルボニル基、低級アルケニルカルボニル基、低級アルキニルカルボニル基、低級アルコキシカルボニル基、低級アルケニルオキシカルボニル基、低級アルキニルオキシカルボニル基、低級アルキルスルホニル基、低級アルケニルスルホニル基、低級アルキニルスルホニル基、低級アルキルアミノカルボニル基、低級アルケニルアミノカルボニル基又は低級アルキニルアミノカルボニル基の場合、該低級アルキル基、該低級アルケニル基、該低級アルキニル基、該低級アルキルカルボニル基、該低級アルケニルカルボニル基、該低級アルキニルカルボニル基、該低級アルコキシカルボニル基、該低級アルケニルオキシカルボニル基、該低級アルキニルオキシカルボニル基、該低級アルキルスルホニル基、該低級アルケニルスルホニル基、該低級アルキニルスルホニル基、該低級アルキルアミノカルボニル基、該低級アルケニルアミノカルボニル基又は該低級アルキニルアミノカルボニル基はハロゲン原子、低級シクロアルキル基、アリール基、複素環基、ヒドロキシ基、ヒドロキシ基のエステル、低級アルコキシ基、ハロゲン原子で置換された低級アルコキシ基、低級アルケニルオキシ基、低級アルキニルオキシ基、低級シクロアルキルオキシ基、アリールオキシ基、複素環オキシ基、メルカプト基、メルカプト基のエステル、低級アルキルチオ基、低級アルケニルチオ基、低級アルキニルチオ基、低級シクロアルキルチオ基、アリールチオ基、複素環チオ基、アミノ基、アミノ基のアミド、低級アルキルアミノ基、低級アルキルアミノ基のアミド、アリールアミノ基、アリールアミノ基のアミド、複素環アミノ基、複素環アミノ基のアミド、ホルミル基、低級アルキルカルボニル基、低級アルケニルカルボニル基、低級アルキニルカルボニル基、低級シクロアルキルカルボニル基、アリールカルボニル基、複素環カルボニル基、カルボキシ基、カルボキシ基のアミド、低級アルコキシカルボニル基、低級アルケニルオキシカルボニル基、低級アルキニルオキシカルボニル基、低級シクロアルキルオキシカルボニル基、アリールオキシカルボニル基、複素環オキシカルボニル基、低級アルキルスルフィニル基、アリールスルフィニル基、低級アルキルスルホニル基、アリールスルホニル基、スルフィン酸基、スルフィン酸基のエステル、スルフィン酸基のアミド、スルホン酸基、スルホン酸基のエステル、スルホン酸基のアミド、ニトロ基及びシアノ基から選択される１又は複数個の基を置換基として有してもよく；
   Ｒ^８又はＲ^９が低級シクロアルキル基、アリール基、複素環基、低級シクロアルキルカルボニル基、アリールカルボニル基、複素環カルボニル基、低級シクロアルキルオキシカルボニル基、アリールオキシカルボニル基、複素環オキシカルボニル基、低級シクロアルキルスルホニル基、アリールスルホニル基、複素環スルホニル基、低級シクロアルキルアミノカルボニル基、アリールアミノカルボニル基又は複素環アミノカルボニル基の場合、該低級シクロアルキル基、該アリール基、該複素環基、該低級シクロアルキルカルボニル基、該アリールカルボニル基、該複素環カルボニル基、該低級シクロアルキルオキシカルボニル基、該アリールオキシカルボニル基、該複素環オキシカルボニル基、該低級シクロアルキルスルホニル基、該アリールスルホニル基、該複素環スルホニル基、該低級シクロアルキルアミノカルボニル基、該アリールアミノカルボニル基又は該複素環アミノカルボニル基はハロゲン原子、低級アルキル基、ハロゲン原子で置換された低級アルキル基、ヒドロキシ基で置換された低級アルキル基、低級アルコキシ基で置換された低級アルキル基、アミノ基で置換された低級アルキル基、低級アルキルアミノ基で置換された低級アルキル基、カルボキシ基で置換された低級アルキル基、低級アルコキシカルボニル基で置換された低級アルキル基、低級アルケニル基、低級アルキニル基、低級シクロアルキル基、アリール基、複素環基、ヒドロキシ基、ヒドロキシ基のエステル、低級アルコキシ基、ハロゲン原子で置換された低級アルコキシ基、低級アルケニルオキシ基、低級アルキニルオキシ基、低級シクロアルキルオキシ基、アリールオキシ基、複素環オキシ基、メルカプト基、メルカプト基のエステル、低級アルキルチオ基、低級アルケニルチオ基、低級アルキニルチオ基、低級シクロアルキルチオ基、アリールチオ基、複素環チオ基、アミノ基、アミノ基のアミド、低級アルキルアミノ基、低級アルキルアミノ基のアミド、アリールアミノ基、アリールアミノ基のアミド、複素環アミノ基、複素環アミノ基のアミド、ホルミル基、低級アルキルカルボニル基、低級アルケニルカルボニル基、低級アルキニルカルボニル基、低級シクロアルキルカルボニル基、アリールカルボニル基、複素環カルボニル基、カルボキシ基、カルボキシ基のアミド、低級アルコキシカルボニル基、低級アルケニルオキシカルボニル基、低級アルキニルオキシカルボニル基、低級シクロアルキルオキシカルボニル基、アリールオキシカルボニル基、複素環オキシカルボニル基、低級アルキルスルフィニル基、アリールスルフィニル基、低級アルキルスルホニル基、アリールスルホニル基、スルフィン酸基、スルフィン酸基のエステル、スルフィン酸基のアミド、スルホン酸基、スルホン酸基のエステル、スルホン酸基のアミド、ニトロ基、シアノ基、アミノカルボニルオキシ基、低級アルキルアミノカルボニルオキシ基及びアリールアミノカルボニルオキシ基から選択される１又は複数個の基を置換基として有してもよく；
   また、Ｒ^７がＮＲ^８Ｒ^９の場合、Ｒ^８とＲ^９が一緒になって、５又は６員の含窒素複素環を形成してもよい請求項１記載の化合物又はその塩。
3. 一般式（１）において、環Ｘがベンゼン環又はピリジン環を示し；
   Ｒ^１がハロゲン原子、低級アルキル基、ヒドロキシ基、低級アルコキシ基、低級アルケニルオキシ基、低級アルキルカルボニル基、アミノ基又はニトロ基を示し；
   Ｒ^１が低級アルキル基又は低級アルコキシ基の場合、該低級アルキル基又は低級アルコキシ基はハロゲン原子、アリール基、ハロゲン原子で置換されたアリール基、低級アルキル基で置換されたアリール基、低級アルコキシ基で置換されたアリール基、ヒドロキシ基、低級アルコキシ基、アリールオキシ基、カルボキシ基及びカルボキシ基のエステルから選択される１又は複数個の基を置換基として有してもよく；
   ｐが０〜３の整数を示し；
   ｐが２又は３の場合、各Ｒ^１は同一又は異なってもよく；
   Ｒ^２がハロゲン原子、低級アルキル基、ヒドロキシ基又は低級アルコキシ基を示し；
   ｑが０〜２の整数を示し；
   ｑが２の場合、各Ｒ^２は同一又は異なってもよく；
   Ｒ^３が水素原子、低級アルキル基、低級アルケニル基、アリール基、低級アルキルカルボニル基、低級アルケニルカルボニル基又はアリールカルボニル基を示し；
   Ｒ^３が低級アルキル基又は低級アルキルカルボニル基の場合、該低級アルキル基又は該低級アルキルカルボニル基は１又は複数個のアリール基を置換基として有してもよく；
   Ｒ^３がアリール基又はアリールカルボニル基の場合、該アリール基又は該アリールカルボニル基はハロゲン原子及び低級アルキル基から選択される１又は複数個の基を置換基として有してもよく；
   Ｒ^４及びＲ^５が同一又は異なって、水素原子又は低級アルキル基を示し；
   Ｒ^６が水素原子又は低級アルキル基を示し；
   Ａが低級アルキレン基又はカルボニル基を示し；
   Ｒ^７がＯＲ^８、ＮＲ^８Ｒ^９又はＳＲ^８を示し；
   Ｒ^８が低級アルキル基、低級アルケニル基、低級アルキニル基、低級シクロアルキル基、アリール基、複素環基、低級アルキルカルボニル基、低級アルケニルカルボニル基、低級アルキニルカルボニル基、低級シクロアルキルカルボニル基、アリールカルボニル基又は複素環カルボニル基を示し；
   Ｒ^９が水素原子、低級アルキル基、低級アルケニル基、低級アルキニル基、低級シクロアルキル基、アリール基、複素環基、低級アルキルカルボニル基、低級アルケニルカルボニル基、低級アルキニルカルボニル基、低級シクロアルキルカルボニル基、アリールカルボニル基又は複素環カルボニル基を示し；
   Ｒ^８又はＲ^９が低級アルキル基、低級アルケニル基、低級アルキニル基、低級アルキルカルボニル基、低級アルケニルカルボニル基又は低級アルキニルカルボニル基の場合、該低級アルキル基、該低級アルケニル基、該低級アルキニル基、該低級アルキルカルボニル基、該低級アルケニルカルボニル基又は該低級アルキニルカルボニル基はアリール基、ヒドロキシ基及び低級アルコキシ基から選択される１又は複数個の基を置換基として有してもよく；
   Ｒ^８又はＲ^９が低級シクロアルキル基、アリール基、複素環基、低級シクロアルキルカルボニル基、アリールカルボニル基又は複素環カルボニル基の場合、該低級シクロアルキル基、該アリール基、該複素環基、該低級シクロアルキルカルボニル基、該アリールカルボニル基又は該複素環カルボニル基はハロゲン原子、低級アルキル基、ハロゲン原子で置換された低級アルキル基、ヒドロキシ基で置換された低級アルキル基、低級アルコキシ基で置換された低級アルキル基、アミノ基で置換された低級アルキル基、低級アルキルアミノ基で置換された低級アルキル基、カルボキシ基で置換された低級アルキル基、低級アルコキシカルボニル基で置換された低級アルキル基、低級アルケニル基、低級アルキニル基、アリール基、複素環基、ヒドロキシ基、ヒドロキシ基のエステル、低級アルコキシ基、ハロゲン原子で置換された低級アルコキシ基、アリールオキシ基、メルカプト基、低級アルキルチオ基、アミノ基、アミノ基のアミド、低級アルキルアミノ基、低級アルキルアミノ基のアミド、ホルミル基、低級アルキルカルボニル基、カルボキシ基、カルボキシ基のアミド、低級アルコキシカルボニル基、ニトロ基、シアノ基、アミノカルボニルオキシ基及び低級アルキルアミノカルボニルオキシ基から選択される１又は複数個の基を置換基として有してもよく；
   また、Ｒ^７がＮＲ^８Ｒ^９の場合、Ｒ^８とＲ^９が一緒になって、５又は６員の含窒素複素環を形成してもよい請求項１記載の化合物又はその塩。
4. 一般式（１）において、環Ｘがベンゼン環又はピリジン環を示し；
   Ｒ^１がハロゲン原子、低級アルキル基、ヒドロキシ基、低級アルコキシ基、低級アルケニルオキシ基、低級アルキルカルボニル基、アミノ基又はニトロ基を示し；
   Ｒ^１が低級アルキル基又は低級アルコキシ基の場合、該低級アルキル基又は低級アルコキシ基はハロゲン原子、アリール基、ハロゲン原子で置換されたアリール基、低級アルキル基で置換されたアリール基、低級アルコキシ基で置換されたアリール基、ヒドロキシ基、低級アルコキシ基及びカルボキシ基のエステルから選択される１又は複数個の基を置換基として有してもよく；
   ｐが０〜３の整数を示し；
   ｐが２又は３の場合、各Ｒ^１は同一又は異なってもよく；
   Ｒ^２がハロゲン原子、低級アルキル基又は低級アルコキシ基を示し；
   ｑが０又は１を示し；
   Ｒ^３が水素原子、低級アルキル基、低級アルケニル基、低級アルキルカルボニル基、低級アルケニルカルボニル基又はアリールカルボニル基を示し；
   Ｒ^３が低級アルキル基の場合、該低級アルキル基は１又は複数個のアリール基を置換基として有してもよく；
   Ｒ^３がアリールカルボニル基の場合、該アリールカルボニル基はハロゲン原子、及び低級アルキル基から選択される１又は複数個の基を置換基として有してもよく；
   Ｒ^４及びＲ^５がともに低級アルキル基を示し；
   Ｒ^６が低級アルキル基を示し；
   Ａが低級アルキレン基又はカルボニル基を示し；
   Ｒ^７がＱＲ^８、ＮＲ^８Ｒ^９又はＳＲ^８を示し；
   Ｒ^８が低級アルキル基、低級シクロアルキル基、アリール基、複素環基、低級アルキルカルボニル基、低級アルケニルカルボニル基、低級シクロアルキルカルボニル基、アリールカルボニル基又は複素環カルボニル基を示し；
   Ｒ^９が水素原子、低級アルキル基、低級シクロアルキル基、アリール基、複素環基、アリールカルボニル基又は複素環カルボニル基を示し；
   Ｒ^８又はＲ^９が低級アルキル基の場合、該低級アルキル基は低級アルコキシ基及びアリール基から選択される１又は複数個の基を置換基として有してもよく；
   Ｒ^８又はＲ^９がアリール基、アリールカルボニル基又は複素環カルボニル基の場合、該アリール基、該アリールカルボニル基又は該複素環カルボニル基はハロゲン原子、低級アルキル基、ハロゲン原子で置換された低級アルキル基、ヒドロキシ基で置換された低級アルキル基、アミノ基で置換された低級アルキル基、低級アルキルアミノ基で置換された低級アルキル基、カルボキシ基で置換された低級アルキル基、低級アルコキシカルボニル基で置換された低級アルキル基、低級アルケニル基、低級アルキニル基、アリール基、ヒドロキシ基、ヒドロキシ基のエステル、低級アルコキシ基、ハロゲン原子で置換された低級アルコキシ基、アリールオキシ基、低級アルキルチオ基、アミノ基、アミノ基のアミド、低級アルキルアミノ基、低級アルキルアミノ基のアミド、ホルミル基、低級アルキルカルボニル基、カルボキシ基、カルボキシ基のアミド、低級アルコキシカルボニル基、ニトロ基、シアノ基及び低級アルキルアミノカルボニルオキシ基から選択される１又は複数個の基を置換基として有してもよく；
   また、Ｒ^７がＮＲ^８Ｒ^９の場合、Ｒ^８とＲ^９が一緒になって、５又は６員の含窒素複素環を形成してもよい請求項１記載の化合物又はその塩。
5. 一般式（１）において、環Ｘがベンゼン環を示し；
   Ｒ^１がハロゲン原子、低級アルキル基、ヒドロキシ基、低級アルコキシ基、低級アルケニルオキシ基、アミノ基又はニトロ基を示し；
   Ｒ^１が低級アルキル基の場合、該低級アルキル基は１又は複数個のハロゲン原子を置換基として有してもよく；
   Ｒ^１が低級アルコキシ基の場合、該低級アルコキシ基はアリール基、ハロゲン原子で置換されたアリール基、低級アルキル基で置換されたアリール基、低級アルコキシ基で置換されたアリール基及び低級アルコキシ基から選択される１又は複数個の基を置換基として有してもよく；
   ｐが２又は３を示し、この時、各Ｒ^１は同一又は異なってもよく；
   Ｒ^２がハロゲン原子、低級アルキル基又は低級アルコキシ基を示し；
   ｑが０又は１を示し；
   Ｒ^３が水素原子を示し；
   Ｒ^４及びＲ^５がともに低級アルキル基を示し；
   Ｒ^６が低級アルキル基を示し；
   Ａが低級アルキレン基を示し；
   Ｒ^７がＯＲ^８、ＮＲ^８Ｒ^９又はＳＲ^８を示し；
   Ｒ^８がアリール基、アリールカルボニル基又は複素環カルボニル基を示し；
   Ｒ^９が水素原子又は低級アルキル基を示し；
   Ｒ^８がアリール基、アリールカルボニル基又は複素環カルボニル基の場合、該アリール基、該アリールカルボニル基又は該複素環カルボニル基はハロゲン原子、低級アルキル基、ハロゲン原子で置換された低級アルキル基、ヒドロキシ基で置換された低級アルキル基、アミノ基で置換された低級アルキル基、低級アルキルアミノ基で置換された低級アルキル基、カルボキシ基で置換された低級アルキル基、低級アルコキシカルボニル基で置換された低級アルキル基、低級アルケニル基、低級アルキニル基、アリール基、ヒドロキシ基、ヒドロキシ基のエステル、低級アルコキシ基、ハロゲン原子で置換された低級アルコキシ基、アリールオキシ基、低級アルキルチオ基、アミノ基、アミノ基のアミド、低級アルキルアミノ基、低級アルキルアミノ基のアミド、ホルミル基、低級アルキルカルボニル基、カルボキシ基、カルボキシ基のアミド、低級アルコキシカルボニル基、ニトロ基、シアノ基及び低級アルキルアミノカルボニルオキシ基から選択される１又は複数個の基を置換基として有してもよい請求項１記載の化合物又はその塩。
6. 一般式（１）において、Ｒ^７がＯＲ^８である請求項１〜５のいずれか１記載の化合物又はその塩。
7. Ｒ^８がフェニル基、フェニルカルボニル基又はチオフェンカルボニル基を示す請求項６記載の化合物又はその塩。
8. 一般式（１）において、Ｒ^７がＮＲ^８Ｒ^９である請求項１〜５のいずれか１記載の化合物又はその塩。
9. Ｒ^８がフェニル基を示す請求項８記載の化合物又はその塩。
10. 一般式（１）において、Ｒ^７がＳＲ^８である請求項１〜５のいずれか１記載の化合物又はその塩。
11. 一般式（１）において、環Ｘがベンゼン環である請求項１〜１０のいずれか１記載の化合物又はその塩。
12. 一般式（１）において、Ａが低級アルキレン基である請求項１〜１１のいずれか１記載の化合物又はその塩。
13. Ａがメチレン基を示す請求項１２記載の化合物又はその塩。
14. 一般式（１）において、Ｒ^３が水素原子である請求項１〜１３のいずれか１記載の化合物又はその塩。
15. 一般式（１）において、Ｒ^４、Ｒ^５及びＲ^６が低級アルキル基である請求項１〜１４のいずれか１記載の化合物又はその塩。
16. Ｒ^４、Ｒ^５及びＲ^６がメチル基を示す請求項１５記載の化合物又はその塩。
17. ・５−アセトキシメチル−６−（２−メトキシフェニル）−２，２，４−トリメチル−１，２−ジヒドロキノリン、
    ・５−ベンゾイルオキシメチル−６−（２−メトキシフェニル）−２，２，４−トリメチル−１，２−ジヒドロキノリン、
    ・６−（２−メトキシフェニル）−５−［（チオフェン−２−イル）カルボニルオキシメチル］−２，２，４−トリメチル−１，２−ジヒドロキノリン、
    ・５−（４−ｔ−ブチルベンゾイルオキシメチル）−６−（２−メトキシフェニル）−２，２，４−トリメチル−１，２−ジヒドロキノリン、
    ・５−ベンゾイルオキシメチル−６−（４−フルオロ−２−メトキシフェニル）−２，２，４−トリメチル−１，２−ジヒドロキノリン、
    ・６−（４−フルオロ−２−メトキシフェニル）−５−（３−メトキシベンゾイルオキシメチル）−２，２，４−トリメチル−１，２−ジヒドロキノリン、
    ・６−（４−フルオロ−２−メトキシフェニル）−５−（２−メトキシベンゾイルオキシメチル）−２，２，４−トリメチル−１，２−ジヒドロキノリン、
    ・６−（４−フルオロ−２−メトキシフェニル）−５−（４−メトキシベンゾイルオキシメチル）−２，２，４−トリメチル−１，２−ジヒドロキノリン、
    ・６−（４−フルオロ−２−メトキシフェニル）−５−［（チオフェン−２−イル）カルボニルオキシメチル）］−２，２，４−トリメチル−１，２−ジヒドロキノリン、
    ・６−（４−フルオロ−２−メトキシフェニル）−５−（４−メチルベンゾイルオキシメチル）−２，２，４−トリメチル−１，２−ジヒドロキノリン、
    ・６−（４−フルオロ−２−メトキシフェニル）−５−（３−メチルベンゾイルオキシメチル）−２，２，４−トリメチル−１，２−ジヒドロキノリン、
    ・６−（４−フルオロ−２−メトキシフェニル）−５−（２−メチルベンゾイルオキシメチル）−２，２，４−トリメチル−１，２−ジヒドロキノリン、
    ・６−（４−フルオロ−２−メトキシフェニル）−５−フェノキシメチル−２，２，４−トリメチル−１，２−ジヒドロキノリン、
    ・６−（４−フルオロ−２−メトキシフェニル）−５−（４−メトキシフェノキシメチル）−２，２，４−トリメチル−１，２−ジヒドロキノリン、
    ・６−（４−フルオロ−２−メトキシフェニル）−５−（４−フルオロフェノキシメチル）−２，２，４−トリメチル−１，２−ジヒドロキノリン、
    ・６−（４−フルオロ−２−メトキシフェニル）−５−（３−フルオロフェノキシメチル）−２，２，４−トリメチル−１，２−ジヒドロキノリン、
    ・６−（４−フルオロ−２−メトキシフェニル）−５−（２−フルオロフェノキシメチル）−２，２，４−トリメチル−１，２−ジヒドロキノリン、
    ・６−（４−フルオロ−２−メトキシフェニル）−５−（３−メトキシフェノキシメチル）−２，２，４−トリメチル−１，２−ジヒドロキノリン、
    ・６−（４−フルオロ−２−メトキシフェニル）−５−（２−メトキシフェノキシメチル）−２，２，４−トリメチル−１，２−ジヒドロキノリン、
    ・６−（４，５−ジフルオロ−２−メトキシフェニル）−５−（３−フルオロフェノキシメチル）−２，２，４−トリメチル−１，２−ジヒドロキノリン、
    ・６−（４−フルオロ−２−メトキシフェニル）−５−（４−メチルフェノキシメチル）−２，２，４−トリメチル−１，２−ジヒドロキノリン、
    ・６−（４−フルオロ−２−メトキシフェニル）−５−（３−メチルフェノキシメチル）−２，２，４−トリメチル−１，２−ジヒドロキノリン、
    ・６−（４−フルオロ−２−メトキシフェニル）−５−（２−メチルフェノキシメチル）−２，２，４−トリメチル−１，２−ジヒドロキノリン、
    ・６−（４−フルオロ−２−メトキシフェニル）−５−（２−ヒドロキシメチルフェノキシメチル）−２，２，４−トリメチル−１，２−ジヒドロキノリン、
    ・６−（４−フルオロ−２−メトキシフェニル）−５−（５−フルオロ−２−メチルフェノキシメチル）−２，２，４−トリメチル−１，２−ジヒドロキノリン、
    ・６−（４−フルオロ−２−メトキシフェニル）−５−（５−クロロ−２−メチルフェノキシメチル）−２，２，４−トリメチル−１，２−ジヒドロキノリン、
    ・６−（４，５−ジフルオロ−２−メトキシフェニル）−５−（５−フルオロ−２−メチルフェノキシメチル）−２，２，４−トリメチル−１，２−ジヒドロキノリン、
    ・６−（４−フルオロ−２−メトキシフェニル）−５−（２−メトキシ−５−ニトロフェノキシメチル）−２，２，４−トリメチル−１，２−ジヒドロキノリン、
    ・６−（４−フルオロ−２−メトキシフェニル）−５−［２−（２−ヒドロキシエチル）フェノキシメチル］−２，２，４−トリメチル−１，２−ジヒドロキノリン、
    ・６−（４−フルオロ−２−メトキシフェニル）−５−（２−メチル−５−ニトロフェノキシメチル）−２，２，４−トリメチル−１，２−ジヒドロキノリン、
    ・６−（４−フルオロ−２−メトキシフェニル）−５−（２−アリルフェノキシメチル）−２，２，４−トリメチル−１，２−ジヒドロキノリン、
    ・６−（５−クロロ−２−メトキシフェニル）−５−［２−（２−ヒドロキシエチル）フェノキシメチル］−２，２，４−トリメチル−１，２−ジヒドロキノリン、
    ・５−（５−フルオロ−２−メチルフェノキシメチル）−６−（４−ヒドロキシ−２−メトキシフェニル）−２，２，４−トリメチル−１，２−ジヒドロキノリン、
    ・５−（５−フルオロ−２−メチルフェノキシメチル）−６−（５−ヒドロキシ−２−メトキシフェニル）−２，２，４−トリメチル−１，２−ジヒドロキノリン、
    ・６−（４−ヒドロキシ−２−メトキシフェニル）−５−（４−メチルベンゾイルオキシメチル）−２，２，４−トリメチル−１，２−ジヒドロキノリン、
    ・６−（２−メトキシフェニル）−５−フェニルアミノメチル−２，２，４−トリメチル−１，２−ジヒドロキノリン、
    ・６−（４−フルオロ−２−メトキシフェニル）−５−フェニルアミノメチル−２，２，４−トリメチル−１，２−ジヒドロキノリン、
    ・６−（４−フルオロ−２−メトキシフェニル）−５−（４−メトキシフェニルアミノメチル）−２，２，４−トリメチル−１，２−ジヒドロキノリン、
    ・６−（４−フルオロ−２−メトキシフェニル）−５−（４−フルオロフェニルアミノメチル）−２，２，４−トリメチル−１，２−ジヒドロキノリン、
    ・６−（４−フルオロ−２−メトキシフェニル）−５−（３−フルオロフェニルアミノメチル）−２，２，４−トリメチル−１，２−ジヒドロキノリン、
    ・６−（４−フルオロ−２−メトキシフェニル）−５−（２−フルオロフェニルアミノメチル）−２，２，４−トリメチル−１，２−ジヒドロキノリン、
    ・６−（４−フルオロ−２−メトキシフェニル）−５−（３−メトキシフェニルアミノメチル）−２，２，４−トリメチル−１，２−ジヒドロキノリン、
    ・６−（４−フルオロ−２−メトキシフェニル）−５−（２−メトキシフェニルアミノメチル）−２，２，４−トリメチル−１，２−ジヒドロキノリン、
    ・６−（４，５−ジフルオロ−２−メトキシフェニル）−５−（２−メトキシフェニルアミノメチル）−２，２，４−トリメチル−１，２−ジヒドロキノリン、
    ・６−（４−フルオロ−２−メトキシフェニル）−５−（２−ヒドロキシメチルフェニルアミノメチル）−２，２，４−トリメチル−１，２−ジヒドロキノリン、
    ・６−（４−フルオロ−２−メトキシフェニル）−５−（２−メトキシ−５−メチルフェニルアミノメチル）−２，２，４−トリメチル−１，２−ジヒドロキノリン、
    ・６−（４−フルオロ−２−メトキシフェニル）−５−（５−フルオロ−２−メチルフェニルアミノメチル）−２，２，４−トリメチル−１，２−ジヒドロキノリン、
    ・６−（５−クロロ−２−メトキシフェニル）−５−（２−メトキシフェニルアミノメチル）−２，２，４−トリメチル−１，２−ジヒドロキノリン、
    ・６−（５−クロロ−２−メトキシフェニル）−５−（５−フルオロ−２−メチルフェニルアミノメチル）−２，２，４−トリメチル−１，２−ジヒドロキノリン、
    ・６−（２−メトキシフェニル）−５−フェニルチオメチル−２，２，４−トリメチル−１，２−ジヒドロキノリン、
    ・６−（４−フルオロ−２−メトキシフェニル）−５−フェニルチオメチル−２，２，４−トリメチル−１，２−ジヒドロキノリン、
    ・６−（４−フルオロ−２−メトキシフェニル）−５−（２−メトキシフェニルチオメチル）−２，２，４−トリメチル−１，２−ジヒドロキノリン、
    ・６−（４−フルオロ−２−メトキシフェニル）−５−［（５−メチルチオフェン−２−イル）カルボニルオキシメチル］−２，２，４−トリメチル−１，２−ジヒドロキノリン、
    ・６−（４−フルオロ−２−メトキシフェニル）−５−［（４−メチルチオフェン−２−イル）カルボニルオキシメチル］−２，２，４−トリメチル−１，２−ジヒドロキノリン、
    ・５−［（５−クロロチオフェン−２−イル）カルボニルオキシメチル］−６−（４−フルオロ−２−メトキシフェニル）−２，２，４−トリメチル−１，２−ジヒドロキノリン、
    ・６−（４−フルオロ−２−メトキシフェニル）−５−［（３−メチルチオフェン−２−イル）カルボニルオキシメチル］−２，２，４−トリメチル−１，２−ジヒドロキノリン、
    ・５−［（５−ブロモチオフェン−２−イル）カルボニルオキシメチル］−６−（４−フルオロ−２−メトキシフェニル）−２，２，４−トリメチル−１，２−ジヒドロキノリン、
    ・６−（４−フルオロ−２−メトキシフェニル）−５−［（５−メトキシチオフェン−２−イル）カルボニルオキシメチル］−２，２，４−トリメチル−１，２−ジヒドロキノリン、
    ・６−（４−フルオロ−２−メトキシフェニル）−５−［（チオフェン−３−イル）カルボニルオキシメチル］−２，２，４−トリメチル−１，２−ジヒドロキノリン、
    ・６−（４，５−ジフルオロ−２−メトキシフェニル）−５−［（５−メチルチオフェン−２−イル）カルボニルオキシメチル］−２，２，４−トリメチル−１，２−ジヒドロキノリン、
    ・６−（５−クロロ−２−メトキシフェニル）−５−（５−メチルチオフェン−２−イルカルボニルオキシメチル）−２，２，４−トリメチル−１，２−ジヒドロキノリン、
    ・６−（５−クロロ−２−メトキシフェニル）−５−（４−メトキシベンゾイルオキシメチル）−２，２，４−トリメチル−１，２−ジヒドロキノリン、
    ・６−（５−クロロ−２−メトキシフェニル）−５−（２−メチル−５−ニトロフェノキシメチル）−２，２，４−トリメチル−１，２−ジヒドロキノリン、
    ・６−（５−クロロ−２−メトキシフェニル）−５−（５−フルオロ−２−メチルフェノキシメチル）−２，２，４−トリメチル−１，２−ジヒドロキノリン、
    ・６−（５−クロロ−２−メトキシフェニル）−５−（２−メトキシ−５−ニトロフェノキシメチル）−２，２，４−トリメチル−１，２−ジヒドロキノリン、
    ・６−（５−クロロ−２−メトキシフェニル）−５−（５−クロロ−２−メチルフェノキシメチル）−２，２，４−トリメチル−１，２−ジヒドロキノリン、
    ・６−（５−クロロ−２−メトキシフェニル）−５−（５−フルオロ−２−メトキシフェノキシメチル）−２，２，４−トリメチル−１，２−ジヒドロキノリン、
    ・６−（５−クロロ−２−メトキシフェニル）−５−（２，５−ジメチルフェノキシメチル）−２，２，４−トリメチル−１，２−ジヒドロキノリン、
    ・５−（２−アリルフェノキシメチル）−６−（５−クロロ−２−メトキシフェニル）−２，２，４−トリメチル−１，２−ジヒドロキノリン、
    ・５−（５−フルオロ−２−メチルフェノキシメチル）−６−（２−メトキシ−５−ニトロフェニル）−２，２，４−トリメチル−１，２−ジヒドロキノリン、
    ・６−（４−アリルオキシ−２−メトキシフェニル）−５−（５−フルオロ−２−メチルフェノキシメチル）−２，２，４−トリメチル−１，２−ジヒドロキノリン、
    ・６−（５−アリルオキシ−２−メトキシフェニル）−５−（５−フルオロ−２−メチルフェノキシメチル）−２，２，４−トリメチル−１，２−ジヒドロキノリン
    ・６−（５−アミノ−２−メトキシフェニル）−５−（５−フルオロ−２−メチルフェノキシメチル）−２，２，４−トリメチル−１，２−ジヒドロキノリン
    ・５−（２−フルオロベンゾイルオキシメチル）−６−（４−フルオロ−２−メトキシフェニル）−２，２，４−トリメチル−１，２−ジヒドロキノリン、
    ・５−（３−フルオロベンゾイルオキシメチル）−６−（４−フルオロ−２−メトキシフェニル）−２，２，４−トリメチル−１，２−ジヒドロキノリン、
    ・５−（４−フルオロベンゾイルオキシメチル）−６−（４−フルオロ−２−メトキシフェニル）−２，２，４−トリメチル−１，２−ジヒドロキノリン、
    ・６−（４−フルオロ−２−メトキシフェニル）−５−（４−メチルフェニルアミノメチル）−２，２，４−トリメチル−１，２−ジヒドロキノリン、
    ・６−（４−フルオロ−２−メトキシフェニル）−５−（３−メチルフェニルアミノメチル）−２，２，４−トリメチル−１，２−ジヒドロキノリン、
    ・６−（４−フルオロ−２−メトキシフェニル）−５−（２−メチルフェニルアミノメチル）−２，２，４−トリメチル−１，２−ジヒドロキノリン及び
    ・６−（４−フルオロ−２−メトキシフェニル）−５−（２−メチルフェニルチオメチル）−２，２，４−トリメチル−１，２−ジヒドロキノリン
    から選択される化合物又はその塩。
18. 請求項１〜１７のいずれか１記載の化合物又はその塩を含有する医薬組成物。
19. 請求項１〜１７のいずれか１記載の化合物又はその塩を有効成分とするグルココルチコイド受容体のモジュレーター。