JP2008060208A - 多層配線基板およびそれを用いたプローブカード - Google Patents
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Abstract
【課題】伝送損失が小さく、動作信頼性に優れた多層配線基板を提供すること。
【解決手段】複数の絶縁層2からなる基板20と、基板20上に形成された複数の電源電極3と、複数の絶縁層2間に形成された信号用配線パターン5と、複数の絶縁層2間に形成されており、複数の貫通導体8を介して複数の電源電極3と電気的に接続された電源用配線パターン4とを有し、複数の絶縁層2のうち、信号用配線パターン5の上層または下層の絶縁層2が、複数の電源電極3が形成された絶縁層2より厚い。
【選択図】 図1
【解決手段】複数の絶縁層2からなる基板20と、基板20上に形成された複数の電源電極3と、複数の絶縁層2間に形成された信号用配線パターン5と、複数の絶縁層2間に形成されており、複数の貫通導体8を介して複数の電源電極3と電気的に接続された電源用配線パターン4とを有し、複数の絶縁層2のうち、信号用配線パターン5の上層または下層の絶縁層2が、複数の電源電極3が形成された絶縁層2より厚い。
【選択図】 図1
Description
本発明は、多層配線基板およびそれを用いたプローブカードに関するものである。
多層配線基板には、信号系統の配線導体と、電源系統の配線導体とを備えているものがある。信号系統の配線導体は、複数の絶縁層間に形成された信号用配線パターンと、この信号用配線パターンに接続された貫通導体とからなる。電源系統の配線導体は、複数の絶縁層間に形成された電源用配線パターンと、この電源用配線パターンに接続された貫通導体とからなる。基板上には、複数の貫通導体を介して電源用配線パターンに電気的に接続された電源電極が形成されている。
このような多層配線基板は、半導体素子の電気的特性を検査するためのプローブカードなどとして用いられる。
特開2004−134724号公報
このような多層配線基板においては、インピーダンス整合を行いつつ信号系統の配線導体(特に、信号用配線パターン)の電気抵抗を低減させるとともに、電源系統の配線導体(特に、電源電極が形成された絶縁層に設けられた貫通導体と電源用配線パターンとの接続箇所)における電気抵抗を低減させる必要があった。特に、半導体素子の高速化が進む近年においてこの必要性が増している。
本発明は上記課題に鑑みて案出されたものであり、その目的は、電気的特性に優れた多層配線基板をおよびそれを用いたプローブカードを提供することにある。
本発明の多層配線基板は、複数の絶縁層のうち、信号用配線パターンの上層または下層の絶縁層が、複数の電源電極が形成された絶縁層より厚いことを特徴とするものである。
本発明の多層配線基板において、複数の絶縁層のうち、信号用配線パターンの上層または下層の絶縁層が、複数の電源電極が形成された絶縁層より厚いことにより、信号系統の配線導体における信号伝送の特性を向上させることができるとともに、電源系統における電気的特性を向上させることができる。
すなわち、本発明の多層配線基板において、信号用配線パターンの上層または下層の絶縁層が比較的厚く形成されていることにより、信号用配線パターンの幅を広くして電気抵抗を低減させることができるとともに、インピーダンス整合を図りやすくすることができる。また、本発明の多層配線基板において、複数の電源電極が形成された絶縁層が比較的薄く形成されていることにより、電源電極に接続された貫通導体と電源用配線パターンとの接続箇所において電気抵抗を低減させることができ、電気的特性を向上させることができる。
また、本発明のプローブカードは、上記本発明の多層配線基板を備えたことにより、電気抵抗が小さく、特性インピーダンスを適合させることができ、電気的信頼性の高いプローブカードとすることができる。
以下、本発明の実施の形態に係る多層配線基板とプローブカードについて図面を参照して詳細に説明する。
(第1実施形態)
図1は、本発明の多層配線基板の実施の形態の一例(第1実施形態)を示す模式的断面図であり、図2は、図1の多層配線基板を平面視し、信号用配線パターンを透視した際の平面透視図、図3は図1の多層配線基板を平面視し、第2の絶縁層2Bを透視した際の平面透視図である。なお、図1は、図2および図3に示すA−A’線における断面図であり、図2および図3の中央領域には、後述の複数の電源電極3と、信号端子6を示している。
図1は、本発明の多層配線基板の実施の形態の一例(第1実施形態)を示す模式的断面図であり、図2は、図1の多層配線基板を平面視し、信号用配線パターンを透視した際の平面透視図、図3は図1の多層配線基板を平面視し、第2の絶縁層2Bを透視した際の平面透視図である。なお、図1は、図2および図3に示すA−A’線における断面図であり、図2および図3の中央領域には、後述の複数の電源電極3と、信号端子6を示している。
本実施形態における多層配線基板は、複数の絶縁層2からなり、表面(第1の面)1aに複数の電源電極3が形成された基板20と、絶縁層2間に形成された信号用配線パターン5と、絶縁層2間に形成されており、貫通導体8を介して複数の電源電極3と電気的に接続された電源用配線パターン4とを有している。本実施形態において、図1に示す多層配線基板1は、第1の面(図1における上面)1aとは反対側に位置する第2の面(図1における下面)1bが支持部材10上に配置されている。
このような複数の絶縁層2のうち、信号用配線パターン5を表面に有する絶縁層2(信号用配線パターン5の上層または下層の絶縁層2)は、複数の電源電極3が形成された絶縁層2より厚く形成されている。
絶縁層2は、例えば、ポリイミド,BCB(ベンゾシクロブテン),エポキシ樹脂,フッ素系樹脂などからなり、このような樹脂で形成することにより、微細で高密度な配線を行うことができる。図1に示した構造において、多層配線基板1を構成する複数の絶縁層2は、多層配線基板1の第2の面1b側から第1の絶縁層2a、第2の絶縁層2b、第3の絶縁層2cと重ねられた構成である。
多層配線基板1の上面1aには、図1に示した構造において、電源電極3と信号端子6とが配されている。このような電源電極3は、電源用配線パターン4と電気的に接続されており、信号端子6は、信号用配線パターン5と電気的に接続されている。
本実施の形態において、基板20には、電源系統として、第1の電源電位が与えられる第1の電源系統と、第2の電源電位が与えられる第2の電源系統とがある。
本実施の形態において、第1の電源系統に与えられる第1の電源電位は、電源電位VDD(例えば、3.3V)である。図1に示した多層配線基板1において、第1の電源系統は、電源電極3(電源端子3A)と、電源用配線パターン4(電源VDD配線パターン4A)と、これらを電気的に接続する貫通導体とからなる。
本実施の形態において、第2の電源系統に与えられる第2の電源電位は、接地電位GND(0V)である。図1に示した多層配線基板1において、第2の電源系統は、電源電極3(グランド端子3B)と、電源用配線パターン4(グランドパターン4B)と、これらを電気的に接続する貫通導体8とからなる。図1に示す断面図においては、グランド端子3Bは、隣り合う複数の端子3Bから成り(図1においては、図の簡便化のために2つの端子で表している)、第3の絶縁層4cに形成された貫通導体8を介して、第2の絶縁層2bと第3の絶縁層2cとの間に配置されたグランドパターン4Bと電気的に接続されている。つまり、複数のグランド端子3Bは、同一のグランドパターン4Bと電気的に接続されている。
電源用配線パターン4および信号用配線パターン5は、例えば、電源用配線パターン4、信号用配線パターン5が形成された絶縁層2側から、密着層としてのTi層、拡散防止層としてのTi−W合金層、主導体層としてのCu層、絶縁層との密着層としてのCr層の4層構成からなる構造を有し、導体パターン4の厚みは0.5〜50μmがよい。0.5μm未満では、導体パターン4の導通抵抗値が高くなる傾向にあり、50μmを超えると、微細な配線パターンに加工するのが困難となる傾向がある。
支持部材10は、外部の回路基板に接続される電極13を有する面10Aを有しており、内部に電極13と接続される貫通導体15を有している。このような支持部材10は、例えば、アルミナセラミックス,窒化アルミニウム質焼結体,ムライト質焼結体,ガラスセラミックス等のセラミックス、エポキシ樹脂等の樹脂、または金属から成り、多層配線基板1を支持する支持部材として機能する。
本実施形態において、多層配線基板は、信号用配線パターン5よりも上方に2層以上の絶縁層を有しており(図1においては第2の絶縁層2bと第3の絶縁層2c)、信号用配線パターン5を表面に有する第1の絶縁層2aの厚みT1と第2の絶縁層2bの厚みT2は、複数の電源電極3を表面に有する第3の絶縁層2cの厚みT3よりも厚い。本実施の形態の多層配線基板1は、このような構成により、信号用配線パターン5と、第1の絶縁層2aを貫通する貫通導体8の抵抗を小さくし、電気特性を向上することができる。
すなわち、本実施形態の多層配線基板は、信号用配線パターン5と接する位置の絶縁層2の厚みT1またはT2を第3の絶縁層(多層配線基板1の最表層)の厚みT3よりも厚くしたことで、インピーダンス整合を行いつつ絶縁層間を引き回される信号用配線パターン5の幅を広くして抵抗を小さくし、また、最表層における貫通導体8の厚みが薄くなることで、貫通導体のテーパー形状(つまり太さが細くなる部分)を小さくでき、貫通導体と電源用配線パターン4との接合信頼性を高めることができる。従って、信号の伝送損失や電源用の配線パターンの電位の変動等を低減でき、多層配線基板に搭載される半導体素子などの動作信頼性を向上することができる。
特に、電源端子3〜第2の面1bまでの電気抵抗は、最表層である第3の絶縁層2Cに形成された貫通導体8の厚みに依存する。(図1においてはグランド端子3Bのみを示している。)このため、本実施形態の多層配線基板1の構成において、第3の絶縁層2Cの厚みT3を他の層の厚みT1またはT2より薄くしたことにより、第3の絶縁層2Cにおける貫通導体8は、第1、第2の絶縁層2A,2Bにおける貫通導体よりも径の変化する部分が小さい構造(図1においては、第1の面1aから第2の面1bに向かう方向に従って、ビアの径が小さく、抵抗が大となる部分が少なくなった構造)となる。よって、最表層における貫通導体8の抵抗を小さくすることができ、また、貫通導体8と電源用配線パターンの接触性も向上でき、信頼性の高い多層配線基板とすることができる。
また、図1に示すように、本実施の形態における多層配線基板は、信号用配線パターン5とともにストリップライン構造をなす第1のグランド導体7Aと第2のグランド導体7Bとを有している。このような構造により、信号用配線パターン5と第1のグランド導体7Aおよび第2のグランド導体7Bとの間の容量成分を一定に保つことができ、特性インピーダンスを一定(一般的には50Ω)としやすい。
次に、本実施形態の多層配線基板の製造方法について、図6を用いて簡単に説明する。
(イ)表面に配線パターン12を有する支持部材10上に、厚みT1を有する第1の絶縁層4Aを配置する。(図6a)
(ロ)第1の絶縁層4Aに、配線パターン12が露出するように、ビアホール11と凹部14とを形成する。(図6b〜図6c)
(ハ)ビアホール11と凹部14とに導体を充填し貫通導体8、電源用配線パターン4、信号用配線パターン5を形成。(図6d〜図6e)
(ニ)第1の絶縁層上に厚みT2を有する第2の絶縁層を積層し、(ロ)〜(ハ)の工程を繰り返した後、厚みT3(T3<T1)の第3の絶縁層を積層し、(ロ)〜(ハ)の工程を繰り返す。(図6f〜g)
以上(イ)〜(ニ)の工程を経ることにより、本実施形態の多層配線基板とすることができる。
(ロ)第1の絶縁層4Aに、配線パターン12が露出するように、ビアホール11と凹部14とを形成する。(図6b〜図6c)
(ハ)ビアホール11と凹部14とに導体を充填し貫通導体8、電源用配線パターン4、信号用配線パターン5を形成。(図6d〜図6e)
(ニ)第1の絶縁層上に厚みT2を有する第2の絶縁層を積層し、(ロ)〜(ハ)の工程を繰り返した後、厚みT3(T3<T1)の第3の絶縁層を積層し、(ロ)〜(ハ)の工程を繰り返す。(図6f〜g)
以上(イ)〜(ニ)の工程を経ることにより、本実施形態の多層配線基板とすることができる。
ここで、工程(イ)において、支持部材10上に第1の絶縁層4Aを積層する方法としては、スピンコート法、ロールコート法、ダイコート法または印刷法等で塗布する方法や、フィルム状に加工された樹脂シートを被着させる方法等が挙げられる。
工程(ロ)において、第1の絶縁層4Aの所望の部分を除去する方法としては、スパッタリングやレーザ穿設加工、エッチング等が挙げられる。
また、工程(ハ)において、貫通導体8、電源用配線パターン4、信号用配線パターン5を形成する方法としては、無電解メッキ法や電解メッキ法等が挙げられる。その際、図6(d)に示すようにメッキが絶縁層上で全面にもり上がる様に形成し、図6(e)に示すように、機械的もしくは化学的、あるいは、その両方を組み合わせて、メッキ層表面を研磨加工することによって本実施形態の多層配線基板1が得られる。
このように構成される多層配線基板を使用して、被検査対象60の検査を行う状態について図9を参照し説明する。
図9において、多層配線基板1は、インターポーザーとして機能している。多層配線基板1は、プリント板30と電気的に接続されており、このプリント板30の電源電極30aが外部のテスターと電気的に接続される。
検査作業を行う場合には、検査を行う必要のある被検査対象60の電極60aに、接触端子50を介して多層配線基板1を電気的に接続することで、被検査対象20がテスター40に接続されて、そのテスターの作動による検査を行うことができる。
(第2実施形態)
図4は、本発明の多層配線基板の第2実施形態の構造を示す断面図である。この多層配線基板は、第1実施形態に示したものとは、信号用配線パターン5の厚みが、電源用配線パターン4の厚みと異なる点で相違する。
図4は、本発明の多層配線基板の第2実施形態の構造を示す断面図である。この多層配線基板は、第1実施形態に示したものとは、信号用配線パターン5の厚みが、電源用配線パターン4の厚みと異なる点で相違する。
すなわち、図4に示した多層配線基板の断面図において、電源用の配線パターン4Aの厚みY、およびグランドパターン4Bの厚みZは、第1の絶縁層4Aにおいて、近接して配置された信号用配線パターン5の厚みXよりも厚く形成されている。このため、パターン間のクロストークを低減することができる。
具体的には、厚みY、Zは10μm以上が好ましく、厚みXに対する厚みY、Zの値を200%以上とすることで、特に、パターン間の干渉を低減できる。
このような多層配線基板の製造方法としては、例えば、第1実施形態において示した(ロ)の工程において、図7(a)に示すように、凹部14を形成したのち、図7(b)〜(c)に示すように凹部14の電源用配線パターン4(電源用の配線パターン4A、グランドパターン4B)となる部分をさらに除去し、凹部14の深さを深くすることで得られる。
(第3実施形態)
図5は、本発明の多層配線基板の第3実施形態の構造を示す断面図である。この多層配線基板は、第2実施形態に示したものとは、電源用配線パターン4の形成される位置が異なる点で相違する。
図5は、本発明の多層配線基板の第3実施形態の構造を示す断面図である。この多層配線基板は、第2実施形態に示したものとは、電源用配線パターン4の形成される位置が異なる点で相違する。
すなわち、図5に示した多層配線基板の断面図において、電源用の配線パターン4Aとグランドパターン4Bとは、複数の絶縁層2に跨って形成されており、異なる絶縁層2に埋入された第1の部分400Aと第2の部分400Bとからなる。つまり、図5において、電源用の配線パターン4Aとグランドパターン4Bとは、第1の絶縁層4Aおよび第2の絶縁層4B、第2の絶縁層4Bおよび第3の絶縁層4Cに共通して埋設されている。このような構成により、仮に、多層配線基板の作動時に応力が加わっても、複数積層された絶縁層2の位置ずれが生じにくく、安定した多層配線基板とすることができる。また、電源用配線パターン4の厚みY,Zを信号用配線パターン5の厚みXに対して調節しやすいため、多層配線基板の信号伝送特性を向上できる。
本実施形態の多層配線基板の製造方法としては、例えば、第1実施形態において示した(ハ)の工程で、図8(a)〜(b)に示すように、電源用配線パターン4の第1の部分400Aを形成した後、図(c)に示すように、電源用配線パターン4の第1の部分400A上に、電源用配線パターン4Bの第2の部分400Bとなる導体をさらに塗布し、その後、第1の絶縁層に第2の絶縁層を積層することでなされる。このような製造方法によると、信号用配線パターンと電源用配線パターンの第1の部分との厚みr1を等しく形成した後、電源用配線パターン4の第1の部分400A上に、厚みr2の電源用配線パターン4の第2の部分400Bを形成することができ、簡便に電源用配線パターン4の厚みを調整することができる。
1:多層配線基板
2:絶縁層
2A:第1の絶縁層
2B:第2の絶縁層
2C:第3の絶縁層
3:電源電極
3A:電源端子
3B:グランド端子
4:電源用配線パターン
4A:電源用の配線パターン
4B:グランドパターン
5:信号用配線パターン
6:信号端子
20:基板
2:絶縁層
2A:第1の絶縁層
2B:第2の絶縁層
2C:第3の絶縁層
3:電源電極
3A:電源端子
3B:グランド端子
4:電源用配線パターン
4A:電源用の配線パターン
4B:グランドパターン
5:信号用配線パターン
6:信号端子
20:基板
Claims (6)
- 複数の絶縁層を有する基板と、
前記基板上に形成された電源電極と、
前記複数の絶縁層間に形成された信号用配線パターンと、
前記複数の絶縁層間に形成されており、貫通導体を介して前記電源電極と電気的に接続された電源用配線パターンとを有し、
前記複数の絶縁層のうち、前記信号用配線パターンの上層または下層の絶縁層が、前記電源電極が形成された絶縁層より厚いことを特徴とする多層配線基板。 - 前記基板内に、前記信号用配線パターンとともにストリップライン構造をなす第1のグランド導体および第2のグランド導体を有することを特徴とする請求項1に記載の多層配線基板。
- 前記電源用配線パターンが、前記信号用配線パターンより厚いことを特徴とする請求項1または2に記載の多層配線基板。
- 前記電源用配線パターンは、第1の絶縁層に埋設された第1の部分と、第2の絶縁層に埋設された第2の部分とからなることを特徴とする請求項1〜3のいずれかに記載の多層配線基板。
- 前記複数の絶縁層が樹脂からなることを特徴とする請求項1〜4のいずれかに記載の多層配線基板。
- 請求項1〜5のいずれかに記載の多層配線基板と、
該多層配線基板の前記複数の電源電極に電気的に接続されており、被検査対象に設けられた複数の電極に接触する複数の端子と、を備えたことを特徴とするプローブカード。
Priority Applications (1)
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JP2006233304A JP2008060208A (ja) | 2006-08-30 | 2006-08-30 | 多層配線基板およびそれを用いたプローブカード |
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Cited By (4)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
CN101557683B (zh) * | 2008-04-09 | 2011-06-15 | 旺矽科技股份有限公司 | 用于集成电路晶片电性测试的探针卡 |
CN104442010A (zh) * | 2014-12-01 | 2015-03-25 | 珠海艾派克微电子有限公司 | 修复芯片、墨盒、打印机及修复芯片连接稳定性检测方法 |
WO2016114170A1 (ja) * | 2015-01-15 | 2016-07-21 | 株式会社村田製作所 | プローブカードおよびこのプローブカードが備える積層配線基板 |
JP2016195238A (ja) * | 2015-03-31 | 2016-11-17 | 新光電気工業株式会社 | 配線基板及び半導体パッケージ |
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2006
- 2006-08-30 JP JP2006233304A patent/JP2008060208A/ja active Pending
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