JP2008058551A - 着色層形成用感放射線性組成物およびカラーフィルタ - Google Patents

Abstract

【課題】スリットノズル部分に発生した着色層形成用感放射線性組成物の乾燥物の溶媒再溶解性が高く、かつ突沸孔を発生しない着色層形成用感放射線性組成物を提供する。
【解決手段】着色層形成用感放射線性組成物は（Ａ）着色剤、（Ｂ）アルカリ可溶性樹脂、（Ｃ）多官能性単量体、（Ｄ）光ラジカル発生剤および（Ｅ）溶媒を含有し、（Ｄ）光ラジカル発生剤がエタノン，１−〔９−エチル−６−[２−メチル−４−（２，２−ジメチル−１，３−ジオキソラニル）メトキシベンゾイル]−９．Ｈ．−カルバゾール−３−イル〕−，１−（Ｏ−アセチルオキシム）に代表される化合物を含有し、（Ｅ）溶媒がジプロピレングリコールジメチルエーテルを５〜４０重量％含有する。
【選択図】なし

Description

本発明は、着色層形成用感放射線性組成物、カラーフィルタの形成方法、カラーフィルタおよびカラー液晶表示パネルに関わり、より詳しくは、透過型あるいは反射型のカラー液晶表示装置、カラー撮像管素子等に用いられるカラーフィルタの製造に有用な着色層（画素および／またはブラックマトリックス）の形成に用いられる感放射線性組成物、当該感放射線性組成物を用いるカラーフィルタの形成方法、当該感放射線性組成物から形成された着色層を備えるカラーフィルタ、並びに当該カラーフィルタを具備するカラー液晶表示パネルに関する。

従来、着色層形成用感放射線性組成物を用いてカラーフィルタを製造するに当たっては、通常、基板上あるいは予め所望のパターンの遮光層を形成した基板上に、着色層形成用感放射線組成物の塗膜を形成し、所望のパターン形状を有するフォトマスクを介して放射線を照射（以下、「露光」という。）したのち、現像して未露光部を溶解除去し、その後クリーンオーブンやホットプレートを用いてポストベークすることにより、各色の画素を得る方法（例えば、特許文献１、特許文献２参照。）が知られている。このような方法によりカラーフィルタを製造する場合、一般にスピン方式により基板上に着色層形成用感放射線性組成物を塗布しているが、基板の大型化に伴い、塗布方式はスリット・アンド・スピン方式やスピンレス方式に移行しつつある。

特開平２−１４４５０２号公報 特開平３−５３２０１号公報

しかし、スリット・アンド・スピン方式やスピンレス方式では、スリットノズルを用いて塗布をすることから、これに起因する塗布性や歩留まりの問題が生じている。即ち、着色層形成用感放射線性組成物によるスリットノズルの汚れが避けられないため、スリットノズルの洗浄工程が必要となっている。この洗浄工程では着色層形成用感放射線性組成物の主溶媒でスリットノズルを洗浄するのが通常であるが、主溶媒に対する溶解性が低いと、ノズル部分に残留した着色層形成用感放射線性組成物が突起となって残り、基板に着色層形成用感放射線性組成物を塗布した際にノズルの進行方向に対して筋が発生するといった問題や、着色層形成用感放射線性組成物の乾燥物が落下して基板に付着し、欠陥となって歩留まりを低下するといった問題を生じる。したがって、着色層形成用感放射線性組成物の乾燥物の溶媒に対する再溶解性が重要になってくる。

一方、着色層形成用感放射線性組成物に高沸点溶媒を併用することにより乾燥物の発生を抑制することができるが、十分蒸発するのが困難となって、スティッキングの発生や真空ベークの時間が長くなることによる生産性の低下を招く。また、高沸点溶媒種の選択や添加量によっては、着色層形成用感放射線性組成物を塗布後の真空ベークの工程で、溶媒の蒸発時に組成物中に含まれる微小な気泡が塗膜表面に現れ、乾燥後もそのままクレーター状の欠陥（以下、「突沸孔」という。）として残ってしまうという問題もある。

本発明の課題は、上述した問題点を解消し、スリットノズル部分に発生した着色層形成用感放射線性組成物の乾燥物の溶媒再溶解性が高く、かつ突沸孔を発生しない着色層形成用感放射線性組成物を提供することにある。

本発明者らは前記課題を解決するために鋭意検討を重ねた結果、着色層形成用感放射線性組成物に使用する溶媒として、ジプロピレングリコールジメチルエーテルを必須成分とする溶媒を用いることにより、着色層形成用感放射線性組成物の乾燥物の溶媒再溶解性が著しく改良されることを見出し、本発明を成すに至った。

本発明は、第一に、
（Ａ）着色剤、（Ｂ）アルカリ可溶性樹脂、（Ｃ）多官能性単量体、（Ｄ）光ラジカル発生剤および（Ｅ）溶媒を含有し、（Ｄ）光ラジカル発生剤が下記式（１）または（２）で表される化合物を含有し、（Ｅ）溶媒がジプロピレングリコールジメチルエーテルを５〜４０重量％含有することを特徴とする着色層形成用感放射線性組成物、からなる。
本発明でいう「着色層」とは、カラーフィルタに用いられる画素および／またはブラックマトリックスからなる層を意味する。

〔式（１）または（２）において、Ｒ_１は、炭素数１〜２０のアルキル基、炭素数３〜８のシクロアルキル基、フェニル基から選ばれた基。Ｒ_２、Ｒ_３は、各々、水素原子、炭素数１〜２０のアルキル基、炭素数３〜８のシクロアルキル基、フェニル基（但し、炭素数１〜６のアルキル基、炭素数１〜６のアルコキシ基、フェニル基、およびハロゲン原子で少なくとも１個以上で置換されてもよい。）、炭素数７〜２０のアリサイクリック基（前記シクロアルキル基をのぞく）から選ばれた基である。Ｒ_４は、炭素数４〜２０の含酸素複素環基、炭素数４〜２０の含窒素複素環基、炭素数４〜２０の含硫黄複素環基から選ばれた基である。Ｒ₅は、水素、炭素数１〜１２のアルキル基、炭素数１〜１２のアルコキシル基から選ばれた基である。ｎは1〜５の整数、ｍは０〜５の整数で、ｎ＋ｍ≦５であり、ｌは０〜６の整数である。〕

本発明は、第二に、
少なくとも下記（１）〜（４）の工程を含むことを特徴とするカラーフィルタの形成方法。
（１）前記着色層形成用感放射線性組成物の塗膜を基板上に形成する工程。
（２）前記塗膜の少なくとも一部に露光する工程。
（３）露光後の塗膜を現像する工程。
（４）現像後の塗膜を熱処理する工程。

本発明は、第三に、
前記着色層形成用感放射線性組成物から形成された着色層を備えてなるカラーフィルタ、からなる。

本発明は、第四に、
前記カラーフィルタを具備してなるカラー液晶表示パネル、からなる。

以下に、本発明について詳細に説明する。
着色層形成用感放射線性組成物
−（Ａ）着色剤−
本発明における着色剤は、色調が特に限定されるものではなく、得られるカラーフィルタの用途に応じて適宜選定され、顔料、染料あるいは天然色素の何れでもよい。
カラーフィルタには高純度で高透過性の発色と耐熱性が求められることから、本発明における着色剤としては、発色性が高く、かつ耐熱分解性の高い着色剤が好ましく、通常、顔料、特に好ましくは有機顔料および／またはカーボンブラックが用いられる。
前記有機顔料としては、例えば、カラーインデックス（C.I.；The Society of Dyers
and Colourists 社発行) においてピグメント（Pigment)に分類されている化合物、具体的には、下記のようなカラーインデックス（C.I.）番号が付されているものを挙げることができる。

C.I.ピグメントイエロー８３、C.I.ピグメントイエロー１２８、C.I.ピグメントイエロー１３８、C.I.ピグメントイエロー１３９、C.I.ピグメントイエロー１５０、C.I.ピグメントイエロー１５１、C.I.ピグメントイエロー１５２、C.I.ピグメントイエロー１５３、C.I.ピグメントイエロー１５４、C.I.ピグメントイエロー１５５、C.I.ピグメントイエロー１５６、C.I.ピグメントイエロー１６６、C.I.ピグメントイエロー１６８、C.I.ピグメントイエロー１７５、C.I.ピグメントイエロー１８５；
C.I.ピグメントバイオレット１９、C.I.ピグメントバイオレット２３、C.I.ピグメントバイオレット２９、C.I.ピグメントバイオレット３２、C.I.ピグメントバイオレット３６、C.I.ピグメントバイオレット３８；

C.I.ピグメントレッド１７７、C.I.ピグメントレッド２０２、C.I.ピグメントレッド２０６、C.I.ピグメントレッド２０７、C.I.ピグメントレッド２０８、C.I.ピグメントレッド２０９、C.I.ピグメントレッド２１５、C.I.ピグメントレッド２１６、C.I.ピグメントレッド２２０、C.I.ピグメントレッド２２４、C.I.ピグメントレッド２２６、C.I.ピグメントレッド２４２、C.I.ピグメントレッド２４３、C.I.ピグメントレッド２４５、C.I.ピグメントレッド２５４、C.I.ピグメントレッド２５５、C.I.ピグメントレッド２６４、C.I.ピグメントレッド２６５；

C.I.ピグメントブルー１５、C.I.ピグメントブルー１５：３、C.I.ピグメントブルー１５：４、C.I.ピグメントブルー１５：６、C.I.ピグメントブルー６０；
C.I.ピグメントグリーン７、C.I.ピグメントグリーン３６；
C.I.ピグメントブラック１、C.I.ピグメントブラック７。
前記有機顔料は、単独でまたは２種以上を混合して使用することができる。
また、前記有機顔料は、例えば、硫酸再結晶法、溶剤洗浄法や、これらの組み合わせ等により精製して使用することができる。

また、無機顔料としては、例えば、酸化チタン、硫酸バリウム、炭酸カルシウム、亜鉛華、硫酸鉛、黄色鉛、亜鉛黄、べんがら（赤色酸化鉄(III))、カドミウム赤、群青、紺青、酸化クロム緑、コバルト緑、アンバー、チタンブラック、合成鉄黒、カーボンブラック等を挙げることができる。
これらの無機顔料は、単独でまたは２種以上を混合して使用することができる。

本発明における着色層形成用感放射線性組成物が画素を形成するために用いられる場合には、好ましくは、着色剤として１種以上の有機顔料が使用され、またブラックマトリックスを形成するために用いられる場合には、好ましくは、着色剤として２種以上の有機顔料および／またはカーボンブラックが使用される。

ブラックマトリックスの形成に使用されるカーボンブラックとしては、例えば、ＳＡＦ、ＳＡＦ−ＨＳ、ＩＳＡＦ、ＩＳＡＦ−ＬＳ、ＩＳＡＦ−ＨＳ、ＨＡＦ、ＨＡＦ−ＬＳ、ＨＡＦ−ＨＳ、ＮＡＦ、ＦＥＦ、ＦＥＦ−ＨＳ、ＳＲＦ、ＳＲＦ−ＬＭ、ＳＲＦ−ＬＳ、ＧＰＦ、ＥＣＦ、Ｎ−３３９、Ｎ−３５１等のファーネスブラック；ＦＴ、ＭＴ等のサーマルブラック；アセチレンブラック等を挙げることができる。
これらのカーボンブラックは、単独でまたは２種以上を混合して使用することができる。

本発明において、前記各顔料は、所望により、その粒子表面をポリマーで改質して使用することができる。顔料の粒子表面を改質するポリマーとしては、例えば、特許文献３等に記載されたポリマーや、市販の各種の顔料分散用のポリマーまたはオリゴマー等を挙げることができる。

特開平８−２５９８７６号公報

また、本発明における着色剤は、所望により、分散剤と共に使用することができる。
前記分散剤としては、例えば、カチオン系、アニオン系、ノニオン系、両性、シリコーン系、フッ素系等の界面活性剤を挙げることができる。
前記界面活性剤の具体例としては、ポリオキシエチレンラウリルエーテル、ポリオキシエチレンステアリルエーテル、ポリオキシエチレンオレイルエーテル等のポリオキシエチレンアルキルエーテル類；ポリオキシエチレン ｎ−オクチルフェニルエーテル、ポリオキシエチレン ｎ−ノニルフェニルエーテル等のポリオキシエチレンアルキルフェニルエーテル類；ポリエチレングリコールジラウレート、ポリエチレングリコールジステアレート等のポリエチレングリコールジエステル類；ソルビタン脂肪酸エステル類；脂肪酸変性ポリエステル類；３級アミン変性ポリウレタン類；ポリエチレンイミン類等のほか、以下商品名で、ＫＰ（信越化学工業（株）製）、ポリフロー（共栄社化学（株）製）、エフトップ（トーケムプロダクツ社製）、メガファック（大日本インキ化学工業（株）製）、フロラード（住友スリーエム（株）製）、アサヒガード、サーフロン（以上、旭硝子（株）製）、Ｄｉｓｐｅｒｂｙｋ−１０１、同１０３、同１０７、同１１０、同１１１、同１１５、同１３０、同１６０、同１６１、同１６２、同１６３、同１６４、同１６５、同１６６、同１７０、同１８０、同１８２、同２０００、同２００１（以上、ビックケミー・ジャパン（株）製）、ソルスパースＳ５０００、同Ｓ１２０００、同Ｓ１３２４０、同Ｓ１３９４０、同Ｓ１７０００、同Ｓ２００００、同Ｓ２２０００、同Ｓ２４０００、同Ｓ２４０００ＧＲ、同Ｓ２６０００、同Ｓ２７０００、同Ｓ２８０００（以上、アビシア（株）製）、ＥＦＫＡ４６、同４７、同４８、同７４５、同４５４０、同４５５０、同６７５０、ＥＦＫＡ ＬＰ４００８、同４００９、同４０１０、同４０１５、同４０５０、同４０５５、同４５６０、同４８００、ＥＦＫＡ Ｐｏｌｙｍｅｒ４００、同４０１、同４０２、同４０３、同４５０、同４５１、同４５３（以上、エフカケミカルズ（株）製）等を挙げることができる。
これらの界面活性剤は、単独でまたは２種以上を混合して使用することができる。
界面活性剤の使用量は、着色剤１００重量部に対して、通常、５０重量部以下、好ましくは０〜３０重量部である。

−（Ｂ）アルカリ可溶性樹脂−
本発明におけるアルカリ可溶性樹脂としては、（Ａ）着色剤に対してバインダーとして作用し、かつカラーフィルタを製造する際に、その現像処理工程において用いられる現像液、特に好ましくはアルカリ現像液に対して可溶性を有するものであれば、特に限定されるものではないが、例えば、カルボキシル基、フェノール性水酸基、スルホン酸等の酸性官能基を有する重合性不飽和単量体と他の共重合可能な不飽和単量体（以下、「共重合性不飽和単量体」という。）との共重合体を挙げることができる。

カルボキシル基を有する重合性不飽和単量体（以下、「カルボキシル基含有不飽和単量体」という。）としては、例えば、
（メタ）アクリル酸、クロトン酸、α−クロルアクリル酸、けい皮酸等の不飽和モノカルボン酸類；
マレイン酸、無水マレイン酸、フマル酸、イタコン酸、無水イタコン酸、シトラコン酸、無水シトラコン酸、メサコン酸等の不飽和ジカルボン酸またはその無水物類；
３価以上の不飽和多価カルボン酸またはその無水物類；
こはく酸モノ〔２−（メタ）アクリロイルオキシエチル〕、フタル酸モノ〔２−（メタ）アクリロイルオキシエチル〕等の２価以上の多価カルボン酸のモノ〔（メタ）アクリロイルオキシアルキル〕エステル類；
ω−カルボキシポリカプロラクトンモノ（メタ）アクリレート等の両末端にカルボキシル基と水酸基とを有するポリマーのモノ（メタ）アクリレート類
等を挙げることができる。

これらのカルボキシル基含有不飽和単量体のうち、特に、（メタ）アクリル酸、こはく酸モノ〔２−（メタ）アクリロイルオキシエチル〕等が好ましい。
前記カルボキシル基含有不飽和単量体は、単独でまたは２種以上を混合して使用することができる。

また、フェノール性水酸基を有する重合性不飽和単量体としては、例えば、ｏ−ヒドロキシスチレン、ｍ−ヒドロキシスチレン、ｐ−ヒドロキシスチレン、ｏ−ヒドロキシ−α−メチルスチレン、ｍ−ヒドロキシ−α−メチルスチレン、ｐ−ヒドロキシ−α−メチルスチレン、Ｎ−ｏ−ヒドロキシフェニルマレイミド、Ｎ−ｍ−ヒドロキシフェニルマレイミド、Ｎ−ｐ−ヒドロキシフェニルマレイミド等を挙げることができる。
これらのフェノール性水酸基を有する重合性不飽和単量体は、単独でまたは２種以上を混合して使用することができる。
また、スルホン酸基を有する重合性不飽和単量体としては、例えば、イソプレンスルホン酸、ｐ−スチレンスルホン酸等を挙げることができる。
これらのスルホン酸基を有する重合性不飽和単量体は、単独でまたは２種以上を混合して使用することができる。

次に、共重合性不飽和単量体としては、例えば、
ポリスチレン、ポリメチル（メタ）アクリレート、ポリ−ｎ−ブチル（メタ）アクリレート、ポリシロキサン等の重合体分子鎖の末端にモノ（メタ）アクリロイル基を有するマクロモノマー類（以下、単に「マクロモノマー類」という。）：
Ｎ−フェニルマレイミド、Ｎ−ｏ−ヒドロキシフェニルマレイミド、Ｎ−ｍ−ヒドロキシフェニルマレイミド、Ｎ−ｐ−ヒドロキシフェニルマレイミド、Ｎ−ｏ−メチルフェニルマレイミド、Ｎ−ｍ−メチルフェニルマレイミド、Ｎ−ｐ−メチルフェニルマレイミド、Ｎ−ｏ−メトキシフェニルマレイミド、Ｎ−ｍ−メトキシフェニルマレイミド、Ｎ−ｐ−メトキシフェニルマレイミド等のＮ−（置換）アリールマレイミドや、Ｎ−シクロヘキシルマレイミド等のＮ−位置換マレイミド類；

スチレン、α−メチルスチレン、ｏ−ビニルトルエン、ｍ−ビニルトルエン、ｐ−ビニルトルエン、ｐ−クロルスチレン、ｏ−メトキシスチレン、ｍ−メトキシスチレン、ｐ−メトキシスチレン、ｏ−ビニルベンジルメチルエーテル、ｍ−ビニルベンジルメチルエーテル、ｐ−ビニルベンジルメチルエーテル、ｏ−ビニルベンジルグリシジルエーテル、ｍ−ビニルベンジルグリシジルエーテル、ｐ−ビニルベンジルグリシジルエーテル等の芳香族ビニル化合物；
インデン、１−メチルインデン等のインデン類；

メチル（メタ）アクリレート、エチル（メタ）アクリレート、ｎ−プロピル（メタ）アクリレート、ｉ−プロピル（メタ）アクリレート、ｎ−ブチル（メタ）アクリレート、ｉ−ブチル（メタ）アクリレート、ｓｅｃ−ブチル（メタ）アクリレート、ｔ−ブチル（メタ）アクリレート、２−ヒドロキシエチル（メタ）アクリレート、２−ヒドロキシプロピル（メタ）アクリレート、３−ヒドロキシプロピル（メタ）アクリレート、２−ヒドロキシブチル（メタ）アクリレート、３−ヒドロキシブチル（メタ）アクリレート、４−ヒドロキシブチル（メタ）アクリレート、アリル（メタ）アクリレート、ベンジル（メタ）アクリレート、シクロヘキシル（メタ）アクリレート、フェニル（メタ）アクリレート、２−メトキシエチル（メタ）アクリレート、２−フェノキシエチル（メタ）アクリレート、メトキシジエチレングルコール（メタ）アクリレート、メトキシトリエチレングルコール（メタ）アクリレート、メトキシプロピレングルコール（メタ）アクリレート、メトキシジプロピレングルコール（メタ）アクリレート、イソボルニル（メタ）アクリレート、ジシクロペンタジエニル（メタ）アクリレート、２−ヒドロキシ−３−フェノキシプロピル（メタ）アクリレート、グリセロールモノ（メタ）アクリレート等の不飽和カルボン酸エステル類；

２−アミノエチル（メタ）アクリレート、２−ジメチルアミノエチル（メタ）アクリレート、２−アミノプロピル（メタ）アクリレート、２−ジメチルアミノプロピルアクリレート、３−アミノプロピル（メタ）アクリレート、３−ジメチルアミノプロピル（メタ）アクリレート等の不飽和カルボン酸アミノアルキルエステル類；
グリシジル（メタ）アクリレート等の不飽和カルボン酸グリシジルエステル類；
酢酸ビニル、プロピオン酸ビニル、酪酸ビニル、安息香酸ビニル等のカルボン酸ビニルエステル類；
ビニルメチルエーテル、ビニルエチルエーテル、アリルグリシジルエーテル等の不飽和エーテル類；
（メタ）アクリロニトリル、α−クロロアクリロニトリル、シアン化ビニリデン等のシアン化ビニル化合物；
（メタ）アクリルアミド、α−クロロアクリルアミド、Ｎ−２−ヒドロキシエチル（メタ）アクリルアミド等の不飽和アミド類；
１，３−ブタジエン、イソプレン、クロロプレン等の脂肪族共役ジエン類
等を挙げることができる。

これらの共重合性不飽和単量体のうち、マクロモノマー類、Ｎ−位置換マレイミド類、２−ヒドロキシエチル（メタ）アクリレート、ベンジル（メタ）アクリレート、グリセロールモノ（メタ）アクリレート等が好ましい。また、マクロモノマー類の中ではポリスチレンマクロモノマー、ポリメチル（メタ）アクリレートマクロモノマーが特に好ましく、Ｎ−位置換マレイミド類の中ではＮ−フェニルマレイミド、Ｎ−シクロヘキシルマレイミドが特に好ましい。
前記共重合性不飽和単量体は、単独でまたは２種以上を混合して使用することができる。

本発明における好ましいアルカリ可溶性樹脂としては、カルボキシル基含有不飽和単量体と共重合性不飽和単量体との共重合体（以下、単に「カルボキシル基含有共重合体」という。）を挙げることができる。
カルボキシル基含有共重合体としては、（ａ）カルボキシル基含有不飽和単量体と、（ｂ）ポリスチレンマクロモノマー、ポリメチル（メタ）アクリレートマクロモノマー、Ｎ−フェニルマレイミド、Ｎ−シクロヘキシルマレイミド、２−ヒドロキシエチル（メタ）アクリレート、ベンジル（メタ）アクリレートおよびグリセロール（メタ）アクリレートの群から選ばれる少なくとも１種とを含有し、（ｃ）場合によりスチレン、α−メチルスチレン、メチル（メタ）アクリレート、アリル（メタ）アクリレートおよびフェニル（メタ）アクリレートの群から選ばれる少なくとも１種をさらに含有する単量体混合物の共重合体（以下、「カルボキシル基含有共重合体（Ｉ）」という。）が好ましく、特に、（ａ）（メタ）アクリル酸を必須成分とし、場合により、こはく酸モノ〔２−（メタ）アクリロイルオキシエチル〕および／またはω−カルボキシポリカプロラクトンモノ（メタ）アクリレートをさらに含有するカルボキシル基含有不飽和単量体と、（ｂ）ポリスチレンマクロモノマー、ポリメチル（メタ）アクリレートマクロモノマー、Ｎ−フェニルマレイミド、Ｎ−シクロヘキシルマレイミド、２−ヒドロキシエチル（メタ）アクリレート、ベンジル（メタ）アクリレートおよびグリセロール（メタ）アクリレートの群から選ばれる少なくとも１種とを含有し、（ｃ）場合によりスチレン、α−メチルスチレン、メチル（メタ）アクリレート、アリル（メタ）アクリレートおよびフェニル（メタ）アクリレートの群から選ばれる少なくとも１種をさらに含有する単量体混合物の共重合体（以下、「カルボキシル基含有共重合体（II）」という。）が好ましい。

カルボキシル基含有共重合体（II）の具体例としては、
（メタ）アクリル酸／ベンジル（メタ）アクリレート／ポリスチレンマクロモノマー共重合体、
（メタ）アクリル酸／ベンジル（メタ）アクリレート／ポリメチル（メタ）アクリレートマクロモノマー共重合体、
（メタ）アクリル酸／Ｎ−フェニルマレイミド／スチレン／ベンジル（メタ）アクリレート共重合体、
（メタ）アクリル酸／Ｎ−フェニルマレイミド／α−メチルスチレン／ベンジル（メタ）アクリレート、
（メタ）アクリル酸／Ｎ−シクロヘキシルマレイミド／スチレン／ベンジル（メタ）アクリレート共重合体、
（メタ）アクリル酸／Ｎ−シクロヘキシルマレイミド／α−メチルスチレン／ベンジル（メタ）アクリレート共重合体、
（メタ）アクリル酸／こはく酸モノ〔２−（メタ）アクリロイルオキシエチル〕／Ｎ−フェニルマレイミド／スチレン／アリル（メタ）アクリレート共重合体、
（メタ）アクリル酸／こはく酸モノ〔２−（メタ）アクリロイルオキシエチル〕／Ｎ−フェニルマレイミド／スチレン／ベンジル（メタ）アクリレート共重合体、
（メタ）アクリル酸／こはく酸モノ〔２−（メタ）アクリロイルオキシエチル〕／Ｎ−シクロヘキシルマレイミド／スチレン／アリル（メタ）アクリレート共重合体、
（メタ）アクリル酸／こはく酸モノ〔２−（メタ）アクリロイルオキシエチル〕／Ｎ−シクロヘキシルマレイミド／スチレン／ベンジル（メタ）アクリレート共重合体、

（メタ）アクリル酸／ベンジル（メタ）アクリレート／グリセロールモノ（メタ）アクリレート共重合体、（メタ）アクリル酸／こはく酸モノ〔２−（メタ）アクリロイルオキシエチル〕／ベンジル（メタ）アクリレート／グリセロールモノ（メタ）アクリレート共重合体、
（メタ）アクリル酸／２−ヒドロキシエチル（メタ）アクリレート共重合体、
（メタ）アクリル酸／スチレン／２−ヒドロキシエチル（メタ）アクリレート共重合体、（メタ）アクリル酸／２−ヒドロキシエチル（メタ）アクリレート／ベンジル（メタ）アクリレート共重合体、
（メタ）アクリル酸／２−ヒドロキシエチル（メタ）アクリレート／フェニル（メタ）アクリレート共重合体、
（メタ）アクリル酸／２−ヒドロキシエチル（メタ）アクリレート／ベンジル（メタ）アクリレート／ポリスチレンマクロモノマー共重合体、
（メタ）アクリル酸／２−ヒドロキシエチル（メタ）アクリレート／ベンジル（メタ）アクリレート／ポリメチル（メタ）アクリレートマクロモノマー共重合体、
（メタ）アクリル酸／２−ヒドロキシエチル（メタ）アクリレート／Ｎ−フェニルマレイミド／スチレン／フェニル（メタ）アクリレート／ポリスチレンマクロモノマー共重合体、
（メタ）アクリル酸／２−ヒドロキシエチル（メタ）アクリレート／Ｎ−フェニルマレイミド／スチレン／フェニル（メタ）アクリレート／ポリメチルメタクリレートマクロモノマー共重合体、
（メタ）アクリル酸／Ｎ−フェニルマレイミド／スチレン／ベンジル（メタ）アクリレート／グリセロールモノ（メタ）アクリレート共重合体、
（メタ）アクリル酸／ω−カルボキシポリカプロラクトンモノ（メタ）アクリレート／Ｎ−フェニルマレイミド／スチレン／ベンジル（メタ）アクリレート／グリセロールモノ（メタ）アクリレート共重合体
等を挙げることができる。

カルボキシル基含有共重合体におけるカルボキシル基含有不飽和単量体の共重合割合は、通常、５〜５０重量％、好ましくは１０〜４０重量％である。この場合、カルボキシル基含有不飽和単量体の共重合割合が５重量％未満では、得られる着色層形成用感放射線性組成物のアルカリ現像液に対する溶解性が低下する傾向があり、一方５０重量％を超えると、アルカリ現像液に対する溶解性が過大となり、アルカリ現像液により現像する際に、着色層の基板からの脱落や着色層表面の膜荒れを来たしやすくなる傾向がある。

本発明におけるアルカリ可溶性樹脂のゲルパーミエーションクロマトグラフィー（ＧＰＣ、溶出溶媒：テトラヒドロフラン）で測定したポリスチレン換算重量平均分子量（以下、「Ｍｗ」という。）は、好ましくは３，０００〜３００，０００、さらに好ましくは３，０００〜１００，０００である。
また、本発明におけるアルカリ可溶性樹脂のゲルパーミエーションクロマトグラフィー（ＧＰＣ、溶出溶媒：テトラヒドロフラン）で測定したポリスチレン換算数平均分子量（以下、「Ｍｎ」という。）は、好ましくは３，０００〜６０，０００、さらに好ましくは３，０００〜２５，０００である。
また、本発明におけるアルカリ可溶性樹脂のＭｗとＭｎの比（Ｍｗ／Ｍｎ）は、通常、１〜５、好ましくは１〜４である。
このような特定のＭｗあるいはＭｎを有するアルカリ可溶性樹脂を使用することによって、現像性に優れた着色層形成用感放射線性組成物が得られ、それによりシャープなパターンエッジを有する着色層を形成することができるとともに、現像時に未露光部の基板上および遮光層上に残渣、地汚れ、膜残り等が発生し難くなる。
本発明において、アルカリ可溶性樹脂は、単独でまたは２種以上を混合して使用することができる。

本発明におけるアルカリ可溶性樹脂の使用量は、（Ａ）着色剤１００重量部に対して、通常、１０〜１，０００重量部、好ましくは２０〜５００重量部である。この場合、アルカリ可溶性樹脂の使用量が１０重量部未満では、例えば、アルカリ現像性が低下したり、未露光部の基板上あるいは遮光層上に地汚れや膜残りが発生するおそれがあり、一方１，０００重量部を超えると、相対的に着色剤濃度が低下するため、薄膜として目的とする色濃度を達成することが困難となる場合がある。

−（Ｃ）多官能性単量体−
本発明における多官能性単量体は、２個以上の重合性不飽和結合を有する単量体である。
多官能性単量体としては、例えば、
エチレングリコール、プロピレングリコール等のアルキレングリコールのジ（メタ）アクリレート類；
ポリエチレングリコール、ポリプロピレングリコール等のポリアルキレングリコールのジ（メタ）アクリレート類；
グリセリン、トリメチロールプロパン、ペンタエリスリトール、ジペンタエリスリトール等の３価以上の多価アルコールのポリ（メタ）アクリレート類やそれらのジカルボン酸変性物；
ポリエステル、エポキシ樹脂、ウレタン樹脂、アルキド樹脂、シリコーン樹脂、スピラン樹脂等のオリゴ（メタ）アクリレート類；
両末端ヒドロキシポリ−１，３−ブタジエン、両末端ヒドロキシポリイソプレン、両末端ヒドロキシポリカプロラクトン等の両末端ヒドロキシル化重合体のジ（メタ）アクリレート類や、
トリス〔２−（メタ）アクリロイロキシエチル〕フォスフェート
等を挙げることができる。

これらの多官能性単量体のうち、３価以上の多価アルコールのポリ（メタ）アクリレート類やこれらのジカルボン酸変性物、具体的には、トリメチロールプロパントリ（メタ）アクリレート、ペンタエリスリトールトリ（メタ）アクリレート、ペンタエリスリトールテトラ（メタ）アクリレート、ジペンタエリスリトールペンタ（メタ）アクリレート、ジペンタエリスリトールヘキサ（メタ）アクリレート等が好ましく、特に、トリメチロールプロパントリアクリレート、ペンタエリスリトールトリアクリレートおよびジペンタエリスリトールヘキサアクリレートが、着色層強度が高く、着色層表面の平滑性に優れ、かつ未露光部の基板上および遮光層上に地汚れ、膜残り等を発生し難い点で好ましい。
これらの多官能性単量体は、単独でまたは２種以上を混合して使用することができる。

本発明における多官能性単量体の使用量は、（Ｂ）アルカリ可溶性樹脂１００重量部に対して、通常、５〜５００重量部、好ましくは２０〜３００重量部である。この場合、多官能性単量体の使用量が５重量部未満では、着色層の強度や表面平滑性が低下する傾向があり、一方５００重量部を超えると、例えば、アルカリ現像性が低下したり、未露光部の基板上あるいは遮光層上に地汚れ、膜残り等が発生しやすくなる傾向がある。

本発明においては、多官能性単量体の一部を、１個の重合性不飽和結合を有する単官能性単量体で置き換えることもできる。
前記単官能性単量体としては、例えば、前記（Ｂ）アルカリ可溶性樹脂について例示したカルボキシル基含有不飽和単量体、共重合性不飽和単量体や、Ｎ−ビニルサクシンイミド、Ｎ−ビニルピロリドン、Ｎ−ビニルフタルイミド、Ｎ−ビニル−２−ピペリドン、Ｎ−ビニル−ε−カプロラクタム、Ｎ−ビニルピロール、Ｎ−ビニルピロリジン、Ｎ−ビニルイミダゾール、Ｎ−ビニルイミダゾリジン、Ｎ−ビニルインドール、Ｎ−ビニルインドリン、Ｎ−ビニルベンズイミダゾ−ル、Ｎ−ビニルカルバゾール、Ｎ−ビニルピペリジン、Ｎ−ビニルピペラジン、Ｎ−ビニルモルホリン、Ｎ−ビニルフェノキサジン等のＮ−ビニル誘導体類；Ｎ−（メタ）アクリロイルモルフォリンのほか、市販品として、商品名で、Ｍ−５３００、Ｍ−５４００、Ｍ−５６００（以上、東亞合成（株）製）等を挙げることができる。
これらの単官能性単量体は、単独でまたは２種以上を混合して使用することができる。 単官能性単量体の使用割合は、多官能性単量体と単官能性単量体の合計に対して、通常、９０重量％以下、好ましくは５０重量％以下である。この場合、単官能性単量体の使用割合が９０重量％を超えると、着色層の強度や表面平滑性が低下する傾向がある。

−（Ｄ）光ラジカル発生剤−
本発明における光ラジカル発生剤は、Ｏ−アシルオキシム型光重合開始剤からなり、特に前記式（１）または（２）で表される化合物（以下、「光ラジカル発生剤〔Ｄ１〕」という。）を必須成分とし、可視光線、紫外線、遠紫外線、荷電粒子線、Ｘ線等の放射線による露光によって、（Ｃ）多官能性単量体および場合により使用される単官能性単量体の重合を開始しうるラジカルを発生する成分からなる。
前記式（１）または（２）で表される「光ラジカル発生剤（Ｄ１）」においては、Ｒ_１は、炭素数１〜２０のアルキル基、炭素数３〜８のシクロアルキル基、フェニル基から選ばれた基。Ｒ_２、Ｒ_３は、各々、水素原子、炭素数１〜２０のアルキル基、炭素数３〜８のシクロアルキル基、フェニル基（但し、炭素数１〜６のアルキル基、炭素数１〜６のアルコキシ基、フェニル基、およびハロゲン原子で少なくとも１個以上で置換されてもよい。）、炭素数７〜２０のアリサイクリック基（前記シクロアルキル基をのぞく）から選ばれた基である。Ｒ_４は、炭素数４〜２０の含酸素複素環基、炭素数４〜２０の含窒素複素環基、炭素数４〜２０の含硫黄複素環基から選ばれた基である。Ｒ_５は、水素、炭素数１〜１２のアルキル基、炭素数１〜１２のアルコキシル基から選ばれた基である。ｎは１〜５の整数で、ｍは０〜５の整数で、ｎ＋ｍ≦５であり、ｌは０〜６の整数である。

式（１）または（２）においてＲ_１の炭素数１〜２０の直鎖状、分岐状もしくは環状のアルキル基、フェニル基としては、例えば、メチル基、エチル基、ｎ−プロピル基、ｉ−プロピル基、ｎ−ブチル基、ｓｅｃ−ブチル基、ｔ−ブチル基、ｎ−ペンチル基、ｎ−ヘキシル基、ｎ−ヘプチル基、ｎ−オクチ基、ｎ−ノニル基、ｎ−デシル基、ｎ−ウンデシル基、ｎ−ドデシル基、シクロペンチル基、シクロヘキシル基等を挙げることができる。

また、Ｒ_２、Ｒ_３の炭素数１〜２０の直鎖状、分岐状もしくは環状のアルキル基、フェニル基としては、例えば、メチル基、エチル基、ｎ−プロピル基、ｉ−プロピル基、ｎ−ブチル基、ｓｅｃ−ブチル基、ｔ−ブチル基、ｎ−ペンチル基、ｎ−ヘキシル基、ｎ−ヘプチル基、ｎ−オクチ基、ｎ−ノニル基、ｎ−デシル基、ｎ−ウンデシル基、ｎ−ドデシル基、シクロペンチル基、シクロヘキシル基等を挙げることができる。

Ｒ_２、Ｒ_３のフェニル基に対する置換基は、水素、ならびに炭素数１〜６の直鎖状、分岐状、環状のアルキル基としては、メチル基、エチル基、ｎ−プロピル基、ｉ−プロピル基、ｎ−ブチル基、ｓｅｃ−ブチル基、ｔ−ブチル基、ｎ−ペンチル基、ｎ−ヘキシル基、シクロペンチル基、シクロヘキシル基等を挙げることができる。
また、炭素数１〜６の直鎖状、分岐状、環状のアルコキシ基としては、メトキシ基、エトキシ基、ｎ−プロポキシ基、ｉ−プロポキシ基、ｎ−ブトキシ基、ｔ−ブトキシ基等を挙げることができる。ハロゲン原子としては、例えば、フッ素原子、塩素原子等を挙げることができる。
炭素数７〜２０のアリサイクリック基（前記シクロアルキル基をのぞく）としては、たとえば、ビシクロアルキル基、トリシクロアルキル基、スピロアルキル基、ｔｅｒ−シクロアルキル基、テルペン骨格含有基、アダマンチル骨格含有基などがあげられる。

Ｒ_４の炭素数４〜２０の含窒素複素環基、炭素数４〜２０の含酸素複素環基、炭素数４〜２０の含硫黄複素環基としては、たとえば、チオラニル基、アゼピニル基、ジヒドロアゼピニル基、ジオキソラニル基、トリアジニル基、オキサチアニル基、チアゾーリル基、オキサジアジニル基、ジオキサインダニイル基、ジヒアナフタレニル基、フラニル基、チオフェニル基、ピロリル基、オキサゾリル基、イソオキサゾリル基、チアゾリル基、イソチアゾリル基、ピラゾリル基、フラザニル基、ピラニル基、ピリジニル基、ピリダジニル基、ピリミジル基、ピラジニル基、ピロリニル基、モルホニル基、ピペラジニル基、キヌクリジニル基、インドーリル基、イソインドーリル基、ベンゾフラニル基、ベンゾチオフェニル基、インドリジニル基、クロメニル基、キノリニル基、イソキノリニル基、プリニル基、キナゾリニル基、シンノリニル基、フタラジニル基、プテリジニル基、カルバゾーリル基、アクリジニル基、フェナントリジニル基、チオキサンテニル基、フェナジニル基、フェノチアジニル基、フェノキサチイニル基、フェノキサジニル基、チアントレニル基、テトラヒドロフラニル基、テトラヒドロピラニル基などがあげられる。これらのうち、特にテトラヒドロフラニル基、テトラヒドロピラニル基等が好ましい。

Ｒ_５として、水素、炭素数１〜１２の直鎖状、分岐状もしくは環状のアルキル基としては、例えば、メチル基、エチル基、ｎ−プロピル基、ｉ−プロピル基、ｎ−ブチル基、ｓｅｃ−ブチル基、ｔ−ブチル基、ｎ−ペンチル基、ｎ−ヘキシル基、ｎ−ヘプチル基、ｎ−オクチ基、ｎ−ノニル基、ｎ−デシル基、ｎ−ウンデシル基、ｎ−ドデシル基、シクロペンチル基、シクロヘキシル基等を挙げることができる。
また、炭素数１〜１２の直鎖状、分岐状もしくは環状のアルコキシ基としては、メトキシ基、エトキシ基、ｎ−プロポキシ基、ｉ−プロポキシ基、ｎ−ブトキシ基、ｔ−ブトキシ、ｎ−ペンチルオキシ基等を挙げることができる。
これらのうち特に、メチル基、エチル基、ｎ−プロピル基、ｉ−プロピル基、ｎ−ブチル基、メトキシ基、エトキシ基が好ましい。
ｎは１であることが好ましい。ｍは０、１，２のいずれかであることが好ましく、１であることが特に好ましい、また、ｌは０、１，２のいずれかであることが好ましく、１であることが特に好ましい。

かかる化合物（Ｄ１）の具体例としては、
エタノン，１−［９−エチル−６−（２−メチル−２−テトラヒドロフラニルオキシベンゾイル）−９．Ｈ．−カルバゾール−３−イル］−，１−（Ｏ−アセチルオキシム）
エタノン，１−［９−エチル−６−（２−メチル−２−テトラヒドロピラニルオキシベンゾイル）−９．Ｈ．−カルバゾール−３−イル］−，１−（Ｏ−アセチルオキシム）
エタノン，１−［９−エチル−６−（２−メチル−２−テトラヒドロフラニルメトキシベンゾイル）−９．Ｈ．−カルバゾール−３−イル］−，１−（Ｏ−アセチルオキシム）
エタノン，１−［９−エチル−６−（２−メチル−２−テトラヒドロピラニルメトキシベンゾイル）−９．Ｈ．−カルバゾール−３−イル］−，１−（Ｏ−アセチルオキシム）
エタノン，１−［９−エチル−６−（２−メチル−３−テトラヒドロフラニルオキシベンゾイル）−９．Ｈ．−カルバゾール−３−イル］−，１−（Ｏ−アセチルオキシム）
エタノン，１−［９−エチル−６−（２−メチル−３−テトラヒドロピラニルオキシベンゾイル）−９．Ｈ．−カルバゾール−３−イル］−，１−（Ｏ−アセチルオキシム）
エタノン，１−［９−エチル−６−（２−メチル−３−テトラヒドロフラニルメトキシベンゾイル）−９．Ｈ．−カルバゾール−３−イル］−，１−（Ｏ−アセチルオキシム）
エタノン，１−［９−エチル−６−（２−メチル−３−テトラヒドロピラニルメトキシベンゾイル）−９．Ｈ．−カルバゾール−３−イル］−，１−（Ｏ−アセチルオキシム）
エタノン，１−［９−エチル−６−（２−メチル−４−テトラヒドロフラニルオキシベンゾイル）−９．Ｈ．−カルバゾール−３−イル］−，１−（Ｏ−アセチルオキシム）
エタノン，１−［９−エチル−６−（２−メチル−４−テトラヒドロピラニルオキシベンゾイル）−９．Ｈ．−カルバゾール−３−イル］−，１−（Ｏ−アセチルオキシム）
エタノン，１−［９−エチル−６−（２−メチル−４−テトラヒドロフラニルメトキシベンゾイル）−９．Ｈ．−カルバゾール−３−イル］−，１−（Ｏ−アセチルオキシム）
エタノン，１−［９−エチル−６−（２−メチル−４−テトラヒドロピラニルメトキシベンゾイル）−９．Ｈ．−カルバゾール−３−イル］−，１−（Ｏ−アセチルオキシム）
エタノン，１−［９−エチル−６−（２−メチル−５−テトラヒドロフラニルオキシベンゾイル）−９．Ｈ．−カルバゾール−３−イル］−，１−（Ｏ−アセチルオキシム）
エタノン，１−［９−エチル−６−（２−メチル−５−テトラヒドロピラニルオキシベンゾイル）−９．Ｈ．−カルバゾール−３−イル］−，１−（Ｏ−アセチルオキシム）
エタノン，１−［９−エチル−６−（２−メチル−５−テトラヒドロフラニルメトキシベンゾイル）−９．Ｈ．−カルバゾール−３−イル］−，１−（Ｏ−アセチルオキシム）
エタノン，１−［９−エチル−６−（２−メチル−５−テトラヒドロピラニルメトキシベンゾイル）−９．Ｈ．−カルバゾール−３−イル］−，１−（Ｏ−アセチルオキシム）
エタノン，１−［９−エチル−６−（２−メチル−２−テトラヒドロフラニルオキシベンゾイル）−９．Ｈ．−カルバゾール−３−イル］−，１−（Ｏ−アセチルオキシム）
エタノン，１−［９−エチル−６−（２−メチル−２−テトラヒドロピラニルオキシベンゾイル）−９．Ｈ．−カルバゾール−３−イル］−，１−（Ｏ−ベンゾイルアセチルオキシム）
エタノン，１−［９−エチル−６−（２−メチル−２−テトラヒドロフラニルメトキシベンゾイル）−９．Ｈ．−カルバゾール−３−イル］−，１−（Ｏ−ベンゾイルアセチルオキシム）
エタノン，１−［９−エチル−６−（２−メチル−２−テトラヒドロピラニルメトキシベンゾイル）−９．Ｈ．−カルバゾール−３−イル］−，１−（Ｏ−ベンゾイルアセチルオキシム）
エタノン，１−［９−エチル−６−（２−メチル−３−テトラヒドロフラニルオキシベンゾイル）−９．Ｈ．−カルバゾール−３−イル］−，１−（Ｏ−ベンゾイルアセチルオキシム）
エタノン，１−［９−エチル−６−（２−メチル−３−テトラヒドロピラニルオキシベンゾイル）−９．Ｈ．−カルバゾール−３−イル］−，１−（Ｏ−ベンゾイルアセチルオキシム）
エタノン，１−［９−エチル−６−（２−メチル−３−テトラヒドロフラニルメトキシベンゾイル）−９．Ｈ．−カルバゾール−３−イル］−，１−（Ｏ−ベンゾイルアセチルオキシム）
エタノン，１−［９−エチル−６−（２−メチル−３−テトラヒドロピラニルメトキシベンゾイル）−９．Ｈ．−カルバゾール−３−イル］−，１−（Ｏ−ベンゾイルアセチルオキシム）
エタノン，１−［９−エチル−６−（２−メチル−４−テトラヒドロフラニルオキシベンゾイル）−９．Ｈ．−カルバゾール−３−イル］−，１−（Ｏ−ベンゾイルアセチルオキシム）
エタノン，１−［９−エチル−６−（２−メチル−４−テトラヒドロピラニルオキシベンゾイル）−９．Ｈ．−カルバゾール−３−イル］−，１−（Ｏ−ベンゾイルアセチルオキシム）
エタノン，１−［９−エチル−６−（２−メチル−４−テトラヒドロフラニルメトキシベンゾイル）−９．Ｈ．−カルバゾール−３−イル］−，１−（Ｏ−ベンゾイルアセチルオキシム）
エタノン，１−［９−エチル−６−（２−メチル−４−テトラヒドロピラニルメトキシベンゾイル）−９．Ｈ．−カルバゾール−３−イル］−，１−（Ｏ−ベンゾイルアセチルオキシム）
エタノン，１−［９−エチル−６−（２−メチル−５−テトラヒドロフラニルオキシベンゾイル）−９．Ｈ．−カルバゾール−３−イル］−，１−（Ｏ−ベンゾイルアセチルオキシム）
エタノン，１−［９−エチル−６−（２−メチル−５−テトラヒドロピラニルオキシベンゾイル）−９．Ｈ．−カルバゾール−３−イル］−，１−（Ｏ−ベンゾイルアセチルオキシム）
エタノン，１−［９−エチル−６−（２−メチル−５−テトラヒドロフラニルメトキシベンゾイル）−９．Ｈ．−カルバゾール−３−イル］−，１−（Ｏ−ベンゾイルアセチルオキシム）
エタノン，１−［９−エチル−６−（２−メチル−５−テトラヒドロピラニルメトキシベンゾイル）−９．Ｈ．−カルバゾール−３−イル］−，１−（Ｏ−ベンゾイルアセチルオキシム）
エタノン，１−［９−エチル−６−［２−メチル−４−（２，２−ジメチル−１，３−ジオキソラニル）メトキシベンゾイル］−９．Ｈ．−カルバゾール−３−イル］−，１−（Ｏ−アセチルオキシム）
等を挙げることができる。
これらのうち特に、エタノン，１−［９−エチル−６−（２−メチル−４−テトラヒドロフラニルメトキシベンゾイル）−９．Ｈ．−カルバゾール−３−イル］−，１−（Ｏ−アセチルオキシム）、エタノン，１−［９−エチル−６−（２−メチル−４−テトラヒドロピラニルメトキシベンゾイル）−９．Ｈ．−カルバゾール−３−イル］−，１−（Ｏ−アセチルオキシム）、エタノン，１−［９−エチル−６−（２−メチル−５−テトラヒドロフラニルメトキシベンゾイル）−９．Ｈ．−カルバゾール−３−イル］−，１−（Ｏ−アセチルオキシム）、エタノン，１−［９−エチル−６−（２−メチル−５−テトラヒドロピラニルメトキシベンゾイル）−９．Ｈ．−カルバゾール−３−イル］−，１−（Ｏ−アセチルオキシム）、エタノン，１−［９−エチル−６−［２−メチル−４−（２，２−ジメチル−１，３−ジオキソラニル）メトキシベンゾイル］−９．Ｈ．−カルバゾール−３−イル］−，１−（Ｏ−アセチルオキシム）が好ましい。
これら光ラジカル発生剤（Ｄ１）は同時に２種以上を使用しても良い。

光ラジカル発生剤（Ｄ）として前記式（１）または（２）以外のＯ−アシルオキシム型光ラジカル発生剤（以下、「光ラジカル発生剤（Ｄ２）」という。）も併用することができる。
これら光ラジカル発生剤（Ｄ２）の具体例としては１，２−オクタジオン−１−［４−（フェニルチオ）フェニル］−２−（Ｏ−ベンゾイルオキシム）、１，２−ブタンジオン−１−［４−（フェニルチオ）フェニル］−２−（Ｏ−ベンゾイルオキシム）、１，２−ブタンジオン−１−［４−（フェニルチオ）フェニル］−２−（Ｏ−アセチルオキシム）、１，２−オクタジオン−１−［４−（メチルチオ）フェニル］−２−（Ｏ−ベンゾイルオキシム）、１，２−オクタジオン−１−［４−（フェニルチオ）フェニル］−２−（Ｏ−（４―メチルベンゾイルオキシム））等を挙げることができる。これらのうち、特に１，２−オクタジオン−１−［４−（フェニルチオ）フェニル］−２−（Ｏ−ベンゾイルオキシム）が好ましい。

また、本発明においては、Ｏ−アシルオキシム型光ラジカル発生剤と共に、他の光ラジカル発生剤を併用することもできる。
前記他の光ラジカル発生剤としては、例えば、下記式（４−１）、式（４−２）または式（４−３）で表される主要骨格を少なくとも１種有するビイミダゾール系化合物、ベンゾイン系化合物、アセトフェノン系化合物、ベンゾフェノン系化合物、α−ジケトン系化合物、多核キノン系化合物、キサントン系化合物、ホスフィン系化合物、トリアジン系化合物等を挙げることができる。

前記ビイミダゾール系化合物としては、例えば、
２，２’−ビス（２−クロロフェニル）−４，４’，５，５’−テトラキス（４−エトキシカルボニルフェニル）−１，２’−ビイミダゾール、
２，２’−ビス（２−ブロモフェニル）−４，４’，５，５’−テトラキス（４−エトキシカルボニルフェニル）−１，２’−ビイミダゾール、
２，２’−ビス（２−クロロフェニル）−４，４’，５，５’−テトラフェニル−１，２’−ビイミダゾール、
２，２’−ビス（２，４−ジクロロフェニル）−４，４’，５，５’−テトラフェニル−１，２’−ビイミダゾール、
２，２’−ビス（２，４，６−トリクロロフェニル）−４，４’，５，５’−テトラフェニル−１，２’−ビイミダゾール、
２，２’−ビス（２−ブロモフェニル）−４，４’，５，５’−テトラフェニル−１，２’−ビイミダゾール、
２，２’−ビス（２，４−ジブロモフェニル）−４，４’，５，５’−テトラフェニル−１，２’−ビイミダゾール、
２，２’−ビス（２，４，６−トリブロモフェニル）−４，４’，５，５’−テトラフェニル−１，２’−ビイミダゾール
等を挙げることができる。

これらのビイミダゾール系化合物のうち、２，２’−ビス（２−クロロフェニル）−４，４’，５，５’−テトラフェニル−１，２’−ビイミダゾール、２，２’−ビス（２，４−ジクロロフェニル）−４，４’，５，５’−テトラフェニル−１，２’−ビイミダゾールおよび２，２’−ビス（２，４，６−トリクロロフェニル）−４，４’，５，５’−テトラフェニル−１，２’−ビイミダゾールが好ましく、特に２，２’−ビス（２−クロロフェニル）−４，４’，５，５’−テトラフェニル−１，２’−ビイミダゾールが好ましい。
前記ビイミダゾール系化合物は、溶剤に対する溶解性に優れ、未溶解物、析出物等の異物を生じることがなく、しかも感度が高く、少ないエネルギー量の露光により硬化反応を十分進行させるとともに、コントラストが高く、未露光部で硬化反応が生じることがないため、露光後の塗膜は、現像液に対して不溶性の硬化部分と、現像液に対して高い溶解性を有する未硬化部分とに明確に区分され、これにより、アンダーカットのない画素パターンおよびブラックマトリックスパターンが所定の配列に従って配置された高精細なパターンアレイを形成することができる。

−水素供与体−
また、本発明においては、光ラジカル発生剤としてビイミダゾール系化合物を併用する場合、下記する水素供与体を併用することが、感度をさらに改良することができる点で好ましい。
ここでいう「水素供与体」とは、露光によりビイミダゾール系化合物から発生したラジカルに対して、水素原子を供与することができる化合物を意味する。
このような水素供与体としては、下記で定義するメルカプタン系化合物、下記で定義するアミン系化合物等が好ましい。
前記メルカプタン系化合物は、ベンゼン環あるいは複素環を母核とし、該母核に直接結合したメルカプト基を１個以上、好ましくは１〜３個、さらに好ましくは１〜２個有する化合物（以下「メルカプタン系水素供与体」という。）からなる。
また、前記アミン系化合物は、ベンゼン環あるいは複素環を母核とし、該母核に直接結合したアミノ基を１個以上、好ましくは１〜３個、さらに好ましくは１〜２個有する化合物（以下「アミン系水素供与体」という。）からなる。
なお、これらの水素供与体は、メルカプト基とアミノ基とを同時に有することもできる。

以下、水素供与体について、より具体的に説明する。
メルカプタン系水素供与体は、ベンゼン環あるいは複素環をそれぞれ１個以上有することができ、またベンゼン環と複素環との両者を有することができ、これらの環を２個以上有する場合、縮合環を形成しても形成しなくてもよい。
また、メルカプタン系水素供与体は、メルカプト基を２個以上有する場合、少なくとも１個の遊離メルカプト基が残存する限りでは、残りのメルカプト基の１個以上がアルキル、アラルキルまたはアリール基で置換されていてもよく、さらには少なくとも１個の遊離メルカプト基が残存する限りでは、２個の硫黄原子がアルキレン基等の２価の有機基を介在して結合した構造単位、あるいは２個の硫黄原子がジスルフィドの形で結合した構造単位を有することができる。
さらに、メルカプタン系水素供与体は、メルカプト基以外の箇所で、カルボキシル基、置換もしくは非置換のアルコキシカルボニル基、置換もしくは非置換のフェノキシカルボニル基、ニトリル基等によって置換されていてもよい。

このようなメルカプタン系水素供与体の具体例としては、２−メルカプトベンゾチアゾール、２−メルカプトベンゾオキサゾール、２−メルカプトベンゾイミダゾール、２，５−ジメルカプト−１，３，４−チアジアゾール、２−メルカプト−２，５−ジメチルアミノピリジン等が挙げることができる。
これらのメルカプタン系水素供与体のうち、２−メルカプトベンゾチアゾール、２−メルカプトベンゾオキサゾールが好ましく、特に、２−メルカプトベンゾチアゾールが好ましい。

次に、アミン系水素供与体は、ベンゼン環あるいは複素環をそれぞれ１個以上有することができ、またベンゼン環と複素環との両者を有することができ、これらの環を２個以上有する場合、縮合環を形成しても形成しなくてもよい。
また、アミン系水素供与体は、アミノ基の１個以上がアルキル基または置換アルキル基で置換されてもよく、またアミノ基以外の箇所で、カルボキシル基、置換もしくは非置換のアルコキシカルボニル基、置換もしくは非置換のフェノキシカルボニル基、ニトリル基等によって置換されていてもよい。

このようなアミン系水素供与体の具体例としては、４，４’−ビス（ジメチルアミノ）ベンゾフェノン、４，４’−ビス（ジエチルアミノ）ベンゾフェノン、４−ジエチルアミノアセトフェノン、４−ジメチルアミノプロピオフェノン、４−ジメチルアミノ安息香酸エチル、４−ジメチルアミノ安息香酸ｉ−アミル、４−ジメチルアミノ安息香酸、４−ジメチルアミノベンゾニトリル等が挙げることができる。
これらのアミン系水素供与体のうち、４，４’−ビス（ジメチルアミノ）ベンゾフェノン、４，４’−ビス（ジエチルアミノ）ベンゾフェノンが好ましく、特に、４，４’−ビス（ジエチルアミノ）ベンゾフェノンが好ましい。なお、４，４’−ビス（ジメチルアミノ）ベンゾフェノンや４，４’−ビス（ジエチルアミノ）ベンゾフェノンは、ビイミダゾール系化合物が存在しない場合でも、それ単独で光ラジカル開始剤として作用しうるものである。

本発明において、水素供与体は、単独でまたは２種以上を混合して使用することができるが、１種以上のメルカプタン系水素供与体と１種以上のアミン系水素供与体とを組み合わせて使用することが、形成された着色層が現像時に基板から脱落し難く、また着色層の強度および感度も高い点で好ましい。
メルカプタン系水素供与体とアミン系水素供与体との好ましい組み合わせの具体例としては、２−メルカプトベンゾチアゾール／４，４’−ビス（ジメチルアミノ）ベンゾフェノン、２−メルカプトベンゾチアゾール／４，４’−ビス（ジエチルアミノ）ベンゾフェノン、２−メルカプトベンゾオキサゾール／４，４’−ビス（ジメチルアミノ）ベンゾフェノン、２−メルカプトベンゾオキサゾール／４，４’−ビス（ジエチルアミノ）ベンゾフェノン等を挙げることができ、さらに好ましい組み合わせは、２−メルカプトベンゾチアゾール／４，４’−ビス（ジエチルアミノ）ベンゾフェノン、２−メルカプトベンゾオキサゾール／４，４’−ビス（ジエチルアミノ）ベンゾフェノンであり、特に好ましい組み合わせは、２−メルカプトベンゾチアゾール／４，４’−ビス（ジエチルアミノ）ベンゾフェノンである。
メルカプタン系水素供与体とアミン系水素供与体との組み合わせにおけるメルカプタン系水素供与体とアミン系水素供与体との重量比は、通常、１：１〜１：４、好ましくは１：１〜１：３である。

また、前記ベンゾイン系化合物としては、例えば、ベンゾイン、ベンゾインメチルエーテル、ベンゾインエチルエーテル、ベンゾインイソプロピルエーテル、ベンゾインイソブチルエーテル、２−ベンゾイル安息香酸メチル等を挙げることができる。
また、前記アセトフェノン系化合物としては、例えば、２，２−ジメトキシアセトフェノン、２，２−ジエトキシアセトフェノン、２，２−ジメトキシ−２−フェニルアセトフェノン、２−ヒドロキシ−２−メチル−１−フェニルプロパン−１−オン、１−（４−ｉ−プロピルフェニル）−２−ヒドロキシ−２−メチルプロパン−１−オン、２−メチル−（４−メチルチオフェニル）−２−モルフォリノ−１−プロパン−１−オン、４−（２−ヒドロキシエトキシ）フェニル−（２−ヒドロキシ−２−プロピル）ケトン、２−ベンジル−２−ジメチルアミノ−１−（４−モルフォリノフェニル）ブタン−１−オン、１−ヒドロキシシクロヘキシルフェニルケトン、２，２−ジメトキシ−１，２−ジフェニルエタン−１−オン等を挙げることができる。

また、前記ベンゾフェノン系化合物としては、例えば、４，４’−ビス（ジメチルアミノ）ベンゾフェノン、４，４’−ビス（ジエチルアミノ）ベンゾフェノン等を挙げることができる。
また、前記α−ジケトン系化合物としては、例えば、ジアセチル、ジベンゾイル、メチルベンゾイルホルメート等を挙げることができる。
また、前記多核キノン系化合物としては、例えば、アントラキノン、２−エチルアントラキノン、２−ｔ−ブチルアントラキノン、１，４−ナフトキノン等を挙げることができる。
また、前記キサントン系化合物としては、例えば、キサントン、チオキサントン、２−クロロチオキサントン等を挙げることができる。
また、前記ホスフィン系化合物としては、例えば、ビス（２，４，６−トリメチルベンゾイル）フェニルホスフィンオキサイド、２，４，６−トリメチルベンゾイルジフェニルホスフィンオキサイド等を挙げることができる。

また、前記トリアジン系化合物としては、例えば、２，４，６−トリス（トリクロロメチル）−ｓ−トリアジン、２−メチル−４，６−ビス（トリクロロメチル）−ｓ−トリアジン、２−〔２−（フラン−２−イル）エテニル〕−４，６−ビス（トリクロロメチル）−ｓ−トリアジン、２−〔２−（５−メチルフラン−２−イル）エテニル〕−４，６−ビス（トリクロロメチル）−ｓ−トリアジン、２−〔２−（４−ジエチルアミノ−２−メチルフェニル）エテニル〕−４，６−ビス（トリクロロメチル）−ｓ−トリアジン、２−〔２−（３，４−ジメトキシフェニル）エテニル〕−４，６−ビス（トリクロロメチル）−ｓ−トリアジン、２−（４−メトキシフェニル）−４，６−ビス（トリクロロメチル）−ｓ−トリアジン、２−（４−エトキシスチリル）−４，６−ビス（トリクロロメチル）−ｓ−トリアジン、２−（４−ｎ−ブトキシフェニル）−４，６−ビス（トリクロロメチル）−ｓ−トリアジン、

下記式（５）で表される化合物

、下記式（６）で表される化合物

等のハロメチル基を有する化合物等を挙げることができる。
前記他の光ラジカル発生剤は、単独でまたは２種以上を混合して使用することができる。
他の光ラジカル発生剤の使用割合は、Ｏ−アシルオキシム型光ラジカル発生剤（Ｄ１）と他の光ラジカル発生剤との合計に対して、好ましくは５０重量％以下、さらに好ましくは１〜３０重量％である。この場合、他の光ラジカル発生剤の使用割合が５０重量％を超えると、本発明の所期の効果が損なわれるおそれがある。

本発明における光ラジカル発生剤の合計使用量は、（Ｃ）多官能性単量体と場合により使用される単官能性単量体との合計１００重量部に対して、通常、０．０１〜２００重量部、好ましくは１〜１２０重量部、特に好ましくは１〜１００重量部である。この場合、光ラジカル発生剤の合計使用量が０．０１重量部未満では、露光による硬化が不十分となり、画素パターンあるいはブラックマトリックスパターンが所定の配列に従って配置されたパターンアレイを得ることが困難となるおそれがあり、一方２００重量部を超えると、形成された着色層が現像時に基板から脱落しやすくなり、また未露光部の基板上あるいは遮光層上に地汚れ、膜残り等を生じやすくなる。
さらに、本発明においては、前記光ラジカル発生剤と共に、必要に応じて、増感剤、硬化促進剤あるいは高分子光架橋・増感剤の１種以上を併用することもできる。

−（Ｅ）溶媒−
本発明における溶媒は、ジプロピレングリコールジメチルエーテルを必須成分とするものである。
溶媒中のジプロピレングリコールジメチルエーテルの含有割合は、５〜４０重量％であり、好ましくは１５〜３５重量％、特に好ましくは２０〜３０重量％である。この場合、ジプロピレングリコールジメチルエーテルの含有割合が５重量％未満であると、着色層形成用感放射線性組成物の乾燥物や突沸孔などの抑制効果が低下するおそれがあり、一方４０重量％を超えると、溶媒としての溶解力が低下して不溶物が析出するおそれがある。

本発明における溶媒は、ジプロピレングリコールジメチルエーテル以外の溶媒（以下、「他の溶媒」という。）を含有している。
他の溶媒としては、着色層形成用感放射線性組成物を構成する（Ａ）〜（Ｄ）成分や添加剤成分を分散または溶解し、かつこれらの成分と反応せず、適度の揮発性を有するものである限り、適宜に選択して使用することができるが、沸点１５０℃未満、好ましくは１３０〜１５０℃の溶媒（以下、「低沸点溶媒」という。）を含むものが望ましい。本発明でいう「沸点」とは、１気圧における値を意味する。

低沸点溶媒の具体例としては、プロピレングリコールモノメチルエーテル、プロピレングリコールモノエチルエーテル、プロピレングリコールモノメチルエーテルアセテート、２−ペプタノン、酢酸ｎ−ブチル、酢酸ｉ−ブチル、酢酸ｉ−ペンチル、酪酸エチル、酪酸ｎ−プロピル、酪酸ｉ−プロピル、ピルビン酸エチル等を挙げることができる。

これらの低沸点溶媒のうち、プロピレングリコールモノメチルエーテル、プロピレングリコールモノエチルエーテル、プロピレングリコールモノメチルエーテルアセテート、２−ペプタノン、酢酸ｉ−ペンチル、ピルビン酸エチル等が好ましく、特に、プロピレングリコールモノメチルエーテル、プロピレングリコールモノエチルエーテル、プロピレングリコールモノメチルエーテルアセテートが好ましい。
前記低沸点溶媒は、単独でまたは２種以上を混合して使用することができる。

溶媒中の低沸点溶媒の含有割合は、好ましくは１０〜６０重量％、さらに好ましくは２０〜５０重量％、特に好ましくは２０〜４５重量％である。この場合、低沸点溶媒の含有割合が１０重量％未満であると、スティッキングの発生や真空ベークの時間が長くなることによる生産性の低下を招くおそれがあり、一方６０重量％を超えると、着色層形成用感放射線性組成物の乾燥物の抑制効果が不十分となるおそれがある。

本発明において、他の溶媒は、さらに、沸点１５０℃以上１８０℃未満、好ましくは１５５〜１８０℃の溶媒（但し、ジプロピレングリコールジメチルエーテルを除く。）（以下、「中沸点溶媒」という。）を含むことが望ましい。
中沸点溶媒の具体例としては、エチレングリコールモノ−ｎ−ブチルエーテル、エチレングリコールモノエチルエーテルアセテート、プロピレングリコールモノエチルエーテルアセテート、３−メトキシブチルアセテート、ジエチレングリコールジメチルエーテル、ジエチレングリコールメチルエチルエーテル、シクロヘキサノン、３−エトキシプロピオン酸エチル、酪酸ｎ−ブチル、アセト酢酸メチル等を挙げることができる。

これらの中沸点溶媒のうち、エチレングリコールモノ−ｎ−ブチルエーテル、エチレングリコールモノエチルエーテルアセテート、プロピレングリコールモノエチルエーテルアセテート、３−メトキシブチルアセテート、ジエチレングリコールジメチルエーテル、ジエチレングリコールメチルエチルエーテル、シクロヘキサノン、３−エトキシプロピオン酸エチル等が好ましく、特に、プロピレングリコールモノエチルエーテルアセテート、３−メトキシブチルアセテート、ジエチレングリコールジメチルエーテル、ジエチレングリコールメチルエチルエーテル、シクロヘキサノン、３−エトキシプロピオン酸エチルが好ましい。
前記中沸点溶媒は、単独でまたは２種以上を混合して使用することができる。

溶媒中の中沸点溶媒の含有割合は、好ましくは３０〜７０重量％、さらに好ましくは３０〜６０重量％、特に好ましくは３０〜５０重量％である。この場合、中沸点溶媒の含有割合が３０重量％未満であると、着色層形成用感放射線性組成物の乾燥物が発生しやすくなる傾向があり、一方７０重量％を超えると、スティッキングの発生や真空ベークの時間が長くなることによる生産性の低下を招くおそれがある。

さらに、本発明においては、前記各溶媒と共に、沸点が１８０℃を越える溶媒（以下、「高沸点溶媒」という。）を併用することもできる。
高沸点溶媒の具体例としては、ベンジルエチルエーテル、ジヘキシルエーテル、アセトニルアセトン、イソホロン、カプロン酸、カプリル酸、１−オクタノール、１−ノナノール、ベンジルアルコール、酢酸ベンジル、安息香酸エチル、しゅう酸ジエチル、マレイン酸ジエチル、γ−ブチロラクトン、炭酸エチレン、炭酸プロピレン、エチレングリコールモノフェニルエーテルアセテート等を挙げることができる。
前記高沸点溶媒は、単独でまたは２種以上を混合して使用することができる。

本発明における溶媒中の各溶媒の含有割合をより具体的に示すと、好ましくは、ジプロピレングリコールジメチルエーテルが５〜４０重量％、低沸点溶媒が１０〜６０重量％、中沸点溶媒が３０〜７０重量％、高沸点溶媒が２０重量％以下であり、さらに好ましくは、ジプロピレングリコールジメチルエーテルが１５〜３５重量％、低沸点溶媒が２０〜５０重量％、中沸点溶媒が３０〜６０重量％、高沸点溶媒が２０重量％以下であり、特に好ましくは、ジプロピレングリコールジメチルエーテルが２０〜３０重量％、低沸点溶媒が２０〜４５重量％、中沸点溶媒が３０〜５０重量％、高沸点溶媒が２０重量％以下である。このような混合溶媒を使用することにより、着色層形成用感放射線性組成物の乾燥物や突沸孔などの発生が著しく抑制され、スティッキングの発生や真空ベークの時間が長くなることによる生産性の低下を来たすことがなく、かつ不溶物が析出することもない、良好な着色層形成用感放射線性組成物を得ることができる。

本発明の着色層形成用感放射線性組成物における溶媒の合計使用量は、特に限定されるものではないが、得られる組成物の塗布性、安定性等の観点から、当該組成物の溶媒を除いた各成分の合計濃度が、好ましくは５〜５０重量％、特に好ましくは１０〜４０重量％となる量が望ましい。

−他の添加剤−
本発明の着色層形成用感放射線性組成物は、前記（Ａ）〜（Ｅ）成分を含有するものであるが、必要に応じて他の添加剤を含有することもできる。
前記他の添加剤としては、例えば、ガラス、アルミナ等の充填剤；ポリビニルアルコール、ポリ（フロロアルキルアクリレート）類等の高分子化合物；ノニオン系界面活性剤、カチオン系界面活性剤、アニオン系界面活性剤等の界面活性剤；ビニルトリメトキシシラン、ビニルトリエトキシシラン、ビニルトリ（２−メトキシエトキシ）シラン、Ｎ−（２−アミノエチル）−３−アミノプロピルメチルジメトキシシラン、Ｎ−（２−アミノエチル）−３−アミノプロピルトリメトキシシラン、３−アミノプロピルトリエトキシシラン、３−グリシドキシプロピルトリメトキシシラン、３−グリシドキシプロピルメチルジメトキシシラン、２−（３，４−エポキシシクロヘキシル）エチルトリメトキシシラン、３−クロロプロピルメチルジメトキシシラン、３−クロロプロピルトリメトキシシラン、３−メタクリロイルオキシプロピルトリメトキシシラン、３−メルカプトプロピルトリメトキシシラン等の密着促進剤；２，２−チオビス（４−メチル−６−ｔ−ブチルフェノール）、２，６−ジ−ｔ−ブチルフェノール等の酸化防止剤；２−（３−ｔ−ブチル−５−メチル−２−ヒドロキシフェニル）−５−クロロベンゾトリアゾール、アルコキシベンゾフェノン類等の紫外線吸収剤；ポリアクリル酸ナトリウム等の凝集防止剤等を挙げることができる。

カラーフィルタの形成方法
次に、本発明の着色層形成用感放射線性組成物（以下、単に「着色層形成用組成物」ともいう。）を用いて、本発明のカラーフィルタを形成する方法について説明する。
本発明のカラーフィルタの形成方法は、少なくとも下記（１）〜（４）の工程を含んでいる。
（１）着色層形成用組成物の塗膜を基板上に形成する工程。
（２）前記塗膜の少なくとも一部に露光する工程。
（３）露光後の塗膜を現像する工程。
（４）現像後の塗膜を熱処理する工程。

以下、これらの工程について順次説明する。
−（１）の工程−
先ず、基板の表面上に、必要に応じて、画素を形成する部分を区画するように遮光層を形成し、この基板上に、着色層形成用組成物を塗布したのち、減圧下で真空ベークを行い溶媒を蒸発除去して、塗膜を形成する。
この工程で使用される基板としては、例えば、ガラス、シリコン、ポリカーボネート、ポリエステル、芳香族ポリアミド、ポリアミドイミド、ポリイミド、ポリエーテルスルホンのほか、環状オレフィンの開環重合体やその水素添加物等を挙げることができる。
また、これらの基板には、所望により、シランカップリング剤等による薬品処理、プラズマ処理、イオンプレーティング、スパッタリング、気相反応法、真空蒸着等の適宜の前処理を施しておくこともできる。

着色層形成用組成物を基板に塗布する方法としては、特に限定されるものでないが、スリット・アンド・スピン塗布法、スピンレス塗布法等の、スリットノズルを用いる方法（以下、「スリットノズル塗布法」という。）が好ましい。
スリットノズル塗布法において、スリット・アンド・スピン塗布法とスピンレス塗布法、塗布基板の大きさによって条件は異なるが、例えば、スピンレス塗布法により第５世代のガラス基板（１１００ｍｍ×１２５０ｍｍ）を塗布する場合、スリットノズルからの着色層形成用組成物の吐出量は、通常、５００〜２，０００マイクロリットル／秒、好ましくは８００〜１，５００マイクロリットル／秒であり、また塗工速度は、通常、５００〜１，５００ｍｍ／秒、好ましくは７００〜１，２００ｍｍ／秒である。
着色層形成用組成物の固形分としては通常、１０〜２０％、好ましくは１３〜１８％である。
真空ベークの条件は、真空度が、通常、０．１〜１．０ｔｏｒｒ、好ましくは０．２〜０．５ｔｏｒｒ程度であり、温度が、通常、６０〜１２０℃、好ましくは７０〜１１０℃程度であり、ベーク時間が、通常、１〜５分、好ましくは２〜４分程度である。
形成される塗膜の厚さは、溶媒除去後の膜厚として、通常、０．１〜１０μｍ、好ましくは０．２〜８．０μｍ、特に好ましくは０．２〜６．０μｍである。

−（２）の工程−
その後、形成された塗膜の少なくとも一部に露光する。塗膜の一部に露光する際には、通常、適当なパターンを有するフォトマスクを介して露光する。
露光に使用される放射線としては、例えば、可視光線、紫外線、遠紫外線、電子線、Ｘ線等を使用することができるが、波長が１９０〜４５０ｎｍの範囲にある放射線が好ましい。
放射線の露光量は、通常、１０〜１０，０００Ｊ／ｍ² 程度である。

−（３）の工程−
その後、現像液を用いて現像して、塗膜の未露光部を溶解除去する。
前記現像液としては、例えば、炭酸ナトリウム、水酸化ナトリウム、水酸化カリウム、テトラメチルアンモニウムハイドロオキサイド、コリン、１，８−ジアザビシクロ−［５．４．０］−７−ウンデセン、１，５−ジアザビシクロ−［４．３．０］−５−ノネン等の水溶液からなるアルカリ現像液が好ましい。
前記アルカリ現像液には、例えば、メタノール、エタノール等の水溶性有機溶剤や界面活性剤等を適量添加することもできる。なお、アルカリ現像後は、通常、水洗する。
現像処理法としては、シャワー現像法、スプレー現像法、ディップ（浸漬）現像法、パドル（液盛り）現像法等を採用することができる。
現像条件は、常温で５〜３００秒程度が好ましい。

−（４）の工程−
その後、加熱処理（以下、「ポストベーク」という。）することにより、基板上に着色層を形成することができる。
ポストベークの条件は、１８０〜２３０℃で２０〜４０分程度が好ましい。

本発明のカラーフィルタの形成方法においては、前記（１）〜（４）工程を、赤色、緑色または青色の顔料が分散された各着色層形成用組成物を用いて繰り返して、赤色の画素パターン、緑色の画素パターンおよび青色の画素パターンを同一基板上に形成することにより、赤色、緑色および青色の三原色の画素パターンが所定の配列で配置された着色層を基板上に形成することができる。但し、本発明においては、各色の画素パターンの形成順は特に限定されるものではない。
このようにして形成された画素の膜厚は、通常、０．５〜５．０μｍ、好ましくは１．５〜３．０μｍである。

本発明の着色層形成用感放射線性組成物は、乾燥物の溶媒再溶解性が高く、突沸孔の発生も少ないことから、特に、スリットノズル塗布法を用いるカラーフィルタの形成に極めて好適に適用することができる。

以下、実施例を挙げて、本発明をさらに具体的に説明する。但し、本発明は、下記実施例に限定されるものではない。
実施例１
（Ａ）着色剤としてC.I.ピグメントレッド２５４／C.I.ピグメントレッド１７７＝８０／２０（重量比）混合物１５重量部、分散剤としてＤｉｓｐｅｒｂｙｋ−２００１を４重量部（固形分換算）、（Ｂ）アルカリ可溶性樹脂としてメタクリル酸／Ｎ−フェニルマレイミド／スチレン／ベンジルメタクリレート共重合体（共重合重量比＝２０／３０／２０／３０、Ｍｗ＝９，５００、Ｍｎ＝５，０００）６重量部および（Ｅ）溶媒としてプロピレングリコールモノメチルエーテルアセテート７５重量部を、ビーズミルにより処理して、予備分散液（Ｒ１）を調製した。

次いで、予備分散液（Ｒ１）１００重量部、（Ｂ）アルカリ可溶性樹脂としてメタクリル酸／こはく酸モノ（２−メタクリロイロキシエチル）／Ｎ−フェニルマレイミド／スチレン／ベンジルメタクリレート共重合体（共重合重量比＝２５／１０／３０／２０／１５、Ｍｗ＝１２，０００、Ｍｎ＝６，５００）５重量部、（Ｃ）多官能性単量体としてジペンタエリスリトールヘキサアクリレート１０重量部、（Ｄ）光重合開始剤としてエタノン，１−〔９−エチル−６−[２−メチル−４−（２，２−ジメチル−１，３−ジオキソラニル）メトキシベンゾイル]−９．Ｈ．−カルバゾール−３−イル〕−，１−（Ｏ−アセチルオキシム）を１重量部、および（Ｅ）溶媒としてジプロピレングリコールジメチルエーテル２５重量部、プロピレングリコールモノメチルエーテルアセテート２５重量部、３−メトキシブチルアセテート７５重量部、シクロヘキサノン５０重量部を混合して、着色層形成用組成物（Ｒ１−１）を調製した。

得られた着色層形成用組成物（Ｒ１−１）について、下記の手順にしたがって評価を行った。評価結果を表１に示す。
乾燥物の溶媒再溶解性の評価
ガラス基板に着色層形成用組成物（Ｒ１−１）を塗布し、２３℃、湿度５０％の条件下で３０分風乾したのち、乾燥塗膜が付着したガラス基板をプロピレングリコールモノメチルエーテルアセテート中に１０分間浸漬した。このとき、乾燥塗膜の再溶解状態により、下記の３段階で評価した。
○：浸漬中に乾燥塗膜が全て溶解する、
△：１０分間浸漬後も乾燥塗膜の一部が残る、
×：１０分間浸漬後も乾燥塗膜が殆どもしくは全く溶解しない。

突沸孔の評価
表面にナトリウムイオンの溶出を防止するＳｉＯ2 膜が形成されたソーダガラス基板（３００ｍｍ×４００ｍｍ）に、着色層形成用組成物（Ｒ１−１）をスピンコーターを用いて塗布したのち、真空度が０．３ｔｏｒｒに到達するまで真空ベークを行って、膜厚２．５μｍの塗膜を形成した。
その後、得られた基板を光学顕微鏡で観察して、塗膜の５ｍｍ×４００ｍｍ四方の規定領域内に発生する突沸孔の数を数え、下記の３段階で評価した。
○：５００個未満、
△：５００個以上１０００個未満、
×：１０００個以上。

感度の評価
液状組成物（Ｒ１−１）を、表面にナトリウムイオンの溶出を防止するＳｉＯ2 膜が形成されたソーダガラス基板に、スピンコーターを用いて塗布したのち、９０℃のホットプレート上で２分間プレベークを行って、膜厚１．７μｍの塗膜を形成した。
次いで、基板を室温に冷却したのち、高圧水銀ランプを用い、フォトマスク（スリット幅３０μｍ）を介して、塗膜に３６５ｎｍ、４０５ｎｍおよび４３６ｎｍの各波長を含む紫外線を露光した。このときの露光量は４００Ｊ／ｍ² であった。その後、基板を２３℃の０．０４重量％水酸化カリウム水溶液に１分間浸漬して、現像したのち、超純水で洗浄して、風乾した。その後、２２０℃のクリーンオーブン内で３０分間ポストベークを行なって、基板上に赤色のストライプ状画素パターンが配列された画素アレイを形成した。このとき、基板上の画素アレイを光学顕微鏡にて観察し、画素パターンのエッジに欠けが認められるかどうか、また、画素パターンの断面を走査型電子顕微鏡（ＳＥＭ）にて観察し、アンダーカットが認められるかどうか、下記の３段階で評価した。
＜画素パターンエッジの欠け＞
○：欠けなし、
△：欠けが少し見られる、
×：欠けが多数見られる。
＜画素パターンの断面のアンダーカット＞
○：アンダーカットなし、
△：アンダーカットが少し見られる、
×：アンダーカットが多数見られる。

実施例２
実施例１において、予備分散液（Ｒ１）１００重量部に対して添加する（Ｅ）溶媒をジプロピレングリコールジメチルエーテル５０重量部、３−エトキシプロピオン酸エチル１２５重量部に変更したこと以外は実施例１と同様の操作を行い、着色層形成用組成物（Ｒ１−２）を調製して、評価を行った。評価結果を表１に示す。

実施例３
実施例１において、予備分散液（Ｒ１）１００重量部に対して添加する（Ｅ）溶媒をジプロピレングリコールジメチルエーテル５０重量部、プロピレングリコールモノメチルエーテルアセテート５０重量部、ジエチレングリコールメチルエチルエーテル２５重量部、３−メトキシブチルアセテート５０重量部に変更したこと以外は実施例１と同様の操作を行い、着色層形成用組成物（Ｒ１−３）を調製して、評価を行った。評価結果を表１に示す。

実施例４
実施例１において、予備分散液（Ｒ１）１００重量部に対して添加する（Ｅ）溶媒をジプロピレングリコールジメチルエーテル３７重量部、プロピレングリコールモノメチルエーテルアセテート１７重量部、ジエチレングリコールメチルエチルエーテル１９重量部、３−メトキシブチルアセテート３７重量部に変更したこと以外は実施例１と同様の操作を行い、着色層形成用組成物（Ｒ１−４）を調製して、評価を行った。評価結果を表１に示す。

比較例１
実施例１において、予備分散液（Ｒ１）１００重量部に対して添加する溶媒をプロピレングリコールモノメチルエーテルアセテート２５重量部、３−メトキシブチルアセテート７５重量部、シクロヘキサノン７５重量部に変更したこと以外は実施例１と同様の操作を行い、着色層形成用組成物（Ｒ１−５）を調製して、評価を行った。評価結果を表１に示す。

比較例２
実施例１において、予備分散液（Ｒ１）１００重量部に対して添加する溶媒をプロピレングリコールモノメチルエーテルアセテート５０重量部、３−エトキシプロピオン酸エチル７５重量部、ジエチレングリコールメチルエチルエーテル５０重量部に変更したこと以外は実施例１と同様の操作を行い、着色層形成用組成物（Ｒ１−６）を調製して、評価を行った。評価結果を表１に示す。

比較例３
実施例１において、予備分散液（Ｒ１）１００重量部に対して添加する溶媒をプロピレングリコールモノメチルエーテルアセテート２５重量部、３−メトキシブチルアセテート７５重量部、シクロヘキサノン７５重量部に変更したことと、（Ｄ）光重合開始剤を２−メチル−（４−メチルチオフェニル）−２−モルフォリノ−１−プロパノン−１を５重量部に変更したこと以外は実施例１と同様の操作を行い、着色層形成用組成物（Ｒ１−７）を調製して、評価を行った。評価結果を表１に示す。

以上の評価結果を表１にまとめて示す。ここでは、赤色の顔料を用いた感放射線性樹脂組成物について評価したが、青色、緑色、黄色や黒色の顔料を用いた感放射線性樹脂組成物の場合にも同様の結果が得られた。

Claims (7)

1. （Ａ）着色剤、（Ｂ）アルカリ可溶性樹脂、（Ｃ）多官能性単量体、（Ｄ）光ラジカル発生剤および（Ｅ）溶媒を含有し、（Ｄ）光ラジカル発生剤が下記式（１）または（２）で表される化合物を含有し、（Ｅ）溶媒がジプロピレングリコールジメチルエーテルを５〜４０重量％含有することを特徴とする着色層形成用感放射線性組成物。
   

   

   

   
   〔式（１）または（２）において、Ｒ_１は、炭素数１〜２０のアルキル基、炭素数３〜８のシクロアルキル基、フェニル基から選ばれた基。Ｒ_２、Ｒ_３は、各々、水素原子、炭素数１〜２０のアルキル基、炭素数３〜８のシクロアルキル基、フェニル基（但し、炭素数１〜６のアルキル基、炭素数１〜６のアルコキシ基、フェニル基、およびハロゲン原子で少なくとも１個以上で置換されてもよい。）、炭素数７〜２０のアリサイクリック基（前記シクロアルキル基をのぞく）から選ばれた基である。Ｒ_４は、炭素数４〜２０の含酸素複素環基、炭素数４〜２０の含窒素複素環基、炭素数４〜２０の含硫黄複素環基から選ばれた基である。Ｒ₅は、水素、炭素数１〜１２のアルキル基、炭素数１〜１２のアルコキシル基から選ばれた基である。ｎは1〜５の整数、ｍは０〜５の整数で、ｎ＋ｍ≦５であり、ｌは０〜６の整数である。〕
2. （Ｅ）溶媒が沸点１５０℃未満の溶媒を１０〜６０重量％含有することを特徴とする、請求項１に記載の着色層形成用感放射線性組成物。
3. （Ｅ）溶媒がさらに沸点１５０℃以上１８０℃未満の溶媒（但し、ジプロピレングリコールジメチルエーテルを除く。）を３０〜７０重量％含有することを特徴とする、請求項２に記載の着色層形成用感放射線性組成物。
4. 少なくとも下記（１）〜（４）の工程を含むことを特徴とするカラーフィルタの形成方法。
   （１）請求項１〜３のいずれかに記載の着色層形成用感放射線性組成物の塗膜を基板上に形成する工程。
   （２）前記塗膜の少なくとも一部に露光する工程。
   （３）露光後の塗膜を現像する工程。
   （４）現像後の塗膜を熱処理する工程。
5. （１）の工程において、着色層形成用感放射線性組成物をスリットノズルを用いて基板に塗布することを特徴とする、請求項４に記載のカラーフィルタの形成方法。
6. 請求項１〜３のいずれかに記載の着色層形成用感放射線性組成物から形成された着色層を備えてなるカラーフィルタ。
7. 請求項６に記載のカラーフィルタを具備するカラー液晶表示パネル。