JP2008058243A - 磁界発生装置及びそれを用いた透磁率測定装置 - Google Patents
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Abstract
【解決手段】この磁界発生装置1は、所定の導体に電流が供給されることによって磁界を発生させる磁界発生装置であって、平板状の絶縁性基板2と、絶縁性基板2の主面2a上に直線状に延在して形成された磁界発生用金属膜3と、絶縁性基板2の主面2b上に形成されたグランド用金属膜4とを備え、磁界発生用金属膜3とグランド用金属膜4とは、絶縁性基板2の一方の端面において一体的に形成され、他方の端面においては分離して形成されている。
【選択図】図1
Description
Claims (8)
- 所定の導体に電流が供給されることによって磁界を発生させる磁界発生装置であって、
絶縁性基板と、
前記絶縁性基板の一方の主面上に線状に延在して形成された第1の金属膜と、
前記絶縁性基板の他方の主面上に形成された第2の金属膜とを備え
前記第1の金属膜と前記第2の金属膜とは、前記絶縁性基板の端部において電気的に接続されている、
ことを特徴とする透磁率測定用の磁界発生装置。 - 前記第1の金属膜は、前記絶縁性基板上の一方の端部から他方の端部にわたって形成されている
ことを特徴とする請求項1記載の磁界発生装置。 - 前記絶縁性基板上の前記一方の主面上には、前記第1の金属膜のみが形成されている
ことを特徴とする請求項1又は2記載の磁界発生装置。 - 前記第2の金属膜は、前記第1の金属膜の延在方向に対して垂直な方向の幅が前記第1の金属膜より大きくなるように形成され、
前記第1の金属膜は、前記絶縁性基板の前記一方の端部において前記第2の金属膜と接続されている、
ことを特徴とする請求項1〜3のいずれか一項に記載の磁界発生装置。 - 所定の導体に電流が供給されることによって被測定物に磁界を印加して前記被測定物の透磁率を測定するための透磁率測定装置であって、
絶縁性基板と、
前記絶縁性基板の一方の主面上に線状に延在して形成された第1の金属膜と、
前記絶縁性基板の他方の主面上に形成された第2の金属膜とを備え
前記第1の金属膜と前記第2の金属膜とは、前記絶縁性基板の一方の端部において電気的に接続されている、
ことを特徴とする透磁率測定装置。 - 前記第1の金属膜は、前記絶縁性基板上の一方の端部から他方の端部にわたって形成されている
ことを特徴とする請求項5記載の透磁率測定装置。 - 前記絶縁性基板上の前記一方の主面上には、前記第1の金属膜のみが形成されている
ことを特徴とする請求項5又は6記載の透磁率測定装置。 - 前記第2の金属膜は、前記第1の金属膜の延在方向に対して垂直な方向の幅が前記第1の金属膜より大きくなるように形成され、
前記第1の金属膜は、前記絶縁性基板の前記一方の端部において前記第2の金属膜と接続されている、
ことを特徴とする請求項5〜7のいずれか一項に記載の透磁率測定装置。
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2006
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