JP2008053392A - 収納ケースの洗浄方法 - Google Patents
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Abstract
【解決手段】 物理吸着した有機物の異物またはイオン性の異物またはイオン結晶異物が付着して汚染された収納ケースの洗浄方法であって、前記収納ケースをクリーンな空気または不活性ガスの気流中に常温〜80度の温度範囲下で静置し、前記収納ケースに付着した前記異物を脱離除去することを特徴とする。
【選択図】 図1
Description
そのため、収納ケースの形状が複雑な場合、あるいは金属部品を使っている場合には、従来の洗浄方法による洗浄が難しいため、やむを得ずケースをそのまま使い続けて半導体デバイス製造の歩留まりを低下させたり、あるいはケースを新品と置き換えて対応することにより製造コストの増大を招くという問題があった。
さらに、イオンの発生を嫌う収納ケースを洗浄して、洗浄効果が高く、収納物の品質を上げ、収納物あるいは収納物を用いた製品の歩留まりを向上させるという効果を呈する。
したがって、ケースからの硫酸イオンの脱離に起因する保管しているフォトマスクの汚染を防止する上で、清浄なマスクを保管する基板収納ケースの残留硫酸イオン量(ng/cm2)は、マスクを6ヶ月(24週)以上閾値を超えることなく保管するには、20ng/cm2以下が必要であり、管理上は10ng/cm2以下がより好ましい。
以下、実施例によりさらに詳しく説明する。
当初、硫酸イオンの付着の有無は、イオンクロマトグラフィ法により分析し、ケース、マスクともに硫酸イオンが付着していないことを確認しておいた。
Claims (6)
- 物理吸着した有機物の異物またはイオン性の異物またはイオン結晶異物が付着して汚染された収納ケースの洗浄方法であって、
前記収納ケースをクリーンな空気または不活性ガスの気流中に常温〜80度の温度範囲下で静置し、前記収納ケースに付着した前記異物を脱離除去することを特徴とする収納ケースの洗浄方法。 - 前記イオン性の異物が、硫酸イオン、硝酸イオン、塩酸イオン、シュウ酸イオンのいずれかの陰イオン、またはナトリウムイオン、アンモニウムイオンのいずれかの陽イオンを含むことを特徴とする請求項1に記載の収納ケースの洗浄方法。
- 前記イオン結晶異物が、硫酸アンモニウム、硝酸アンモニウム、塩酸アンモニウム、シュウ酸アンモニウム、塩化ナトリウムのいずれかを含むことを特徴とする請求項1に記載の収納ケースの洗浄方法。
- 前記クリーンな空気または不活性ガスが、酸性イオンを除去するケミカルフィルタおよびアルカリ性イオンを除去するケミカルフィルタおよび有機物を除去するケミカルフィルタを通した空気または不活性ガスであることを特徴とする請求項1〜請求項3のいずれか1項に記載の収納ケースの洗浄方法。
- 前記クリーンな空気または不活性ガスが、風量30m3/分〜200m3/分の範囲であることを特徴とする請求項1〜請求項4のいずれか1項に記載の収納ケースの洗浄方法。
- 前記イオン性の異物またはイオン結晶異物が硫酸イオンを含み、前記異物を脱離除去した後の前記収納ケース表面上に残留する前記硫酸イオンの付着量が20ng/cm2以下であることを特徴とする請求項1〜請求項5のいずれか1項に記載の収納ケースの洗浄方法。
Priority Applications (4)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP2006227246A JP4853178B2 (ja) | 2006-08-24 | 2006-08-24 | 収納ケースの洗浄方法 |
US11/839,626 US7967917B2 (en) | 2006-08-24 | 2007-08-16 | Method of cleaning storage case |
EP07016114A EP1892046B1 (en) | 2006-08-24 | 2007-08-16 | Method of cleaning storage case |
TW096130686A TWI362963B (en) | 2006-08-24 | 2007-08-20 | Method of cleaning storage case |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP2006227246A JP4853178B2 (ja) | 2006-08-24 | 2006-08-24 | 収納ケースの洗浄方法 |
Publications (2)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JP2008053392A true JP2008053392A (ja) | 2008-03-06 |
JP4853178B2 JP4853178B2 (ja) | 2012-01-11 |
Family
ID=38691844
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP2006227246A Active JP4853178B2 (ja) | 2006-08-24 | 2006-08-24 | 収納ケースの洗浄方法 |
Country Status (4)
Country | Link |
---|---|
US (1) | US7967917B2 (ja) |
EP (1) | EP1892046B1 (ja) |
JP (1) | JP4853178B2 (ja) |
TW (1) | TWI362963B (ja) |
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2006
- 2006-08-24 JP JP2006227246A patent/JP4853178B2/ja active Active
-
2007
- 2007-08-16 EP EP07016114A patent/EP1892046B1/en active Active
- 2007-08-16 US US11/839,626 patent/US7967917B2/en active Active
- 2007-08-20 TW TW096130686A patent/TWI362963B/zh active
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EP1892046B1 (en) | 2011-07-13 |
EP1892046A1 (en) | 2008-02-27 |
JP4853178B2 (ja) | 2012-01-11 |
TWI362963B (en) | 2012-05-01 |
US7967917B2 (en) | 2011-06-28 |
US20090007939A1 (en) | 2009-01-08 |
TW200831181A (en) | 2008-08-01 |
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A621 | Written request for application examination |
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|
A131 | Notification of reasons for refusal |
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A521 | Written amendment |
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A01 | Written decision to grant a patent or to grant a registration (utility model) |
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A61 | First payment of annual fees (during grant procedure) |
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