JP2002110759A - オープンカセット用ロードポート - Google Patents

オープンカセット用ロードポート

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JP2002110759A
JP2002110759A JP2000289339A JP2000289339A JP2002110759A JP 2002110759 A JP2002110759 A JP 2002110759A JP 2000289339 A JP2000289339 A JP 2000289339A JP 2000289339 A JP2000289339 A JP 2000289339A JP 2002110759 A JP2002110759 A JP 2002110759A
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JP
Japan
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mounting table
open cassette
cassette
load port
clean room
Prior art date
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Withdrawn
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JP2000289339A
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English (en)
Inventor
Takeshi Sasaki
武 佐々木
Kazutoshi Sawato
一利 澤戸
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Applied Materials Inc
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Applied Materials Inc
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  • Container, Conveyance, Adherence, Positioning, Of Wafer (AREA)

Abstract

(57)【要約】 【課題】 オープンカセット用ロードポートのフラッシ
ュマウント方式の設置を可能とする。 【解決手段】 クリーンルーム2内に配置され、ウェハ
Wを装填したオープンカセット6を受け取って載置する
載置台7と、該載置台7をロボット室4に接続可能なイ
ンタフェース5とを具備するとともに、載置台7の上方
に配置され、該載置台7に載置されたオープンカセット
6の周囲に供給する下降流を発生するファン14と、該
ファン14と載置台7との間に配置されたフィルタ15
とを具備するロードポート1を提供する。

Description

【発明の詳細な説明】
【0001】
【発明の属する技術分野】この発明は、クリーンルーム
内に設置されて、該クリーンルーム内を搬送されてきた
オープンカセットを受け取るとともに、該オープンカセ
ット内に装填されているウェハを、メインフレームに供
給するためのマニピュレータに引き渡すオープンカセッ
ト用ロードポートに関するものである。
【0002】
【従来の技術】ウェハをメインフレームに供給する方法
としては、オープンカセットを用いる方法と密閉された
ボックス式カセットを用いる方法とがある。従来、我国
では、200mmウェハをメインフレームに供給する方
法としてオープンカセットを用いる方法が主として採用
されてきた。
【0003】この方法では、マニピュレータを備えたロ
ボット室と一体的に形成された開放式のロードポートを
使用している。すなわち、ロードロックを介してメイン
フレームに接続されたロボット室およびロードポート
は、一体としてクリーンルーム内に配置されることによ
り、ウェハの周囲の空気清浄度を高く保持するようにな
っている。そして、クリーンルーム内を走行する無人搬
送車(以下、AGVと呼ぶ。)によって運ばれてきたオ
ープンカセットがロードポートに引き渡されると、マニ
ピュレータの作動によってオープンカセットからウェハ
が引き出されて、メインフレームに供給されるようにな
っていた。
【0004】一方、ボックス式カセットを用いる方法
は、近年、300mmウェハを供給する方法として、海
外で主流となっている。この方法は、密封されたボック
ス式カセット内に多数のウェハを収容し、カセット内を
高清浄度に保持するもので、FOUP方式として海外で
は業界標準となっている。
【0005】すなわち、FOUP方式は、それ自体で高
清浄度に保たれたカセットを使用し、同じく空気清浄度
が高く維持されたロボット室にカセットを連結した後
に、両者間の隔壁を開いて、ロボット室内のマニピュレ
ータによりカセット内のウェハを取り出す方法である。
この方法によれば、密封されたカセットによってウェハ
周囲の空気の清浄度が高く保たれるので、カセットを搬
送する環境を高清浄度のクリーンルームとする必要がな
く、例えば、高速の搬送手段である天井走行機構を利用
できるという利点がある。
【0006】
【発明が解決しようとする課題】しかしながら、FOU
P方式では、カセット内部を高清浄度に保つ必要がある
ために、該カセットの開閉機構が複雑で高価なものとな
り、また、カセットの開閉時に塵埃が発生すること、さ
らには、カセット自体の洗浄が困難である等の問題があ
る。
【0007】また、FOUP方式では、上述したよう
に、密封式のカセットを用いてウェハを搬送するもので
あるため、メインフレームからロボット室までを高清浄
度に保っておき、搬送されてきた密封式カセットをロボ
ット室に気密状態に直接連結した後に、両者間の隔壁を
開くこととすれば、ウェハ周囲の雰囲気を高い清浄度に
維持することができる。このために、FOUP方式で
は、メインフレームからロボット室までを、高清浄度に
保った1つのユニットとして提供するとともに、密封式
カセットにロボット室に接続するためのインタフェース
を設けることとしている。
【0008】しかしながら、従来より200mmウェハ
供給用にオープンカセット方式を採用してきた我国の企
業においては、既に、ウェハを搬送する環境としてクリ
ーンルームが設置されており、この設備を利用するため
に、300mmウェハに対してもオープンカセットによ
るウェハの供給方法を踏襲することが望まれる場合もあ
る。この場合に、ロボット室までのユニットとして提供
されるメインフレームに対しても、オープンカセットに
よる供給方法を採用できることが必要となる。
【0009】また、クリーンルームにおいては、一般
に、ウェハを装填したカセットをロードポートに供給す
るためにAGVが使用される。かかるAGVは、定めら
れた軌道上を移動するものであるため、軌道は短く直線
的であることが効率的である。したがって、クリーンル
ーム内に配置されるロードポートについても、クリーン
ルーム内を走行するAGVの障害とならないように、ク
リーンルームの壁面と面一に設置する、いわゆるフラッ
シュマウント方式が採用されることが好ましい。
【0010】この発明は、上述した事情に鑑みてなされ
たものであって、FOUP方式用に設計されたメインフ
レームに対して、オープンカセットを用いたウェハの供
給を可能とし、フラッシュマウント方式を採用すること
ができるロードポートを提供することを目的としてい
る。
【0011】
【課題を解決するための手段】上記目的を達成するため
に、この発明は、メインフレームにウェハを供給するマ
ニピュレータを備えたロボット室に接続され、クリーン
ルーム内を搬送されてきたオープンカセット内のウェハ
を前記マニピュレータに引き渡すロードポートであっ
て、クリーンルーム内に配置され、ウェハを装填したオ
ープンカセットを受け取って載置する載置台と、該載置
台を前記ロボット室に接続可能なインタフェースとを具
備するとともに、前記載置台の上方に配置され、該載置
台に載置されたオープンカセットの周囲に供給する下降
流を発生するファンと、該ファンと載置台との間に配置
されたフィルタとを具備するオープンカセット用ロード
ポートを提案している。
【0012】
【作用】本発明に係るオープンカセット用ロードポート
によれば、クリーンルーム内に配置した載置台を、イン
タフェースを用いてロボット室に接続し、クリーンルー
ム内を搬送されてくるオープンカセットを載置台上に載
置することにより、ロボット室内のマニピュレータが載
置台上に載置されたオープンカセットからウェハを取り
出すことができる。これにより、ロボット室まで1つの
ユニットとして提供されるメインフレームに対しても、
オープンカセットによるウェハの供給が可能となる。
【0013】この場合において、本発明のロードポート
によれば、載置台の上方に、下降流を発生するファンお
よびフィルタが配置されているので、ファンにおいて発
生され、フィルタにおいて塵埃を除去された下降流が、
載置台上のオープンカセットの周囲に供給される。すな
わち、ロードポートが、クリーンルームの壁面から一段
凹んだスペースに配置され、クリーンルームにおいて供
給される下降流を利用できない場合においても、載置台
上のオープンカセットの周囲に下降流を供給することが
できるので、ロードポートのフラッシュマウントを達成
することができ、クリーンルームの効率的な利用を図る
ことが可能となる。
【0014】
【発明の実施の形態】以下、本発明に係るロードポート
の一実施形態について、図面を参照して説明する。この
実施形態に係るロードポート1は、図1に示されるよう
に、クリーンルーム2の一壁面3に開口するように配置
されたロボット室4に接続するためのインタフェース部
5を具備する箱状の装置であって、その高さ方向の中央
付近に、ウェハWを装填したオープンカセット6を受け
取る載置台7を具備している。
【0015】前記載置台7は、水平に配置され、載置さ
れるオープンカセット6を位置決めする突起のような位
置決め手段(図示せず)が設けられている。この載置台
7の周囲には、ロボット室4側に配される後壁部8のみ
が配置され、前面および両側面には側壁がなく、広い開
口部9が確保されている。
【0016】前記後壁部8には、ロボット室4に接続
し、該ロボット室4内のマニピュレータ10が載置台7
上のオープンカセット6からウェハWを取り出すために
出入り可能な窓部11が形成されている。そして、この
窓部11には、載置台7の下方から昇降させられて、該
窓部11を開閉する後側ドア12が設けられている。ま
た、前記インタフェース部5は、この後壁部8の背面に
設けられている。
【0017】また、前記載置台7の前面および両側面に
は、該載置台7の下方から昇降させられて、載置台7の
周囲を開閉する前側ドア13が設けられている。この前
側ドア13は、図2に示す例では、前面および両側面を
同時に開閉する断面コ字状のドアであるが、前面および
両側面を別々に開閉するドアであってもよい。
【0018】前記載置台7の上方には、該載置台7か
ら、オープンカセット6を収容可能なスペースを空けて
下向きの空気流を発生させるファン14と、該ファン1
4からの空気流を通過させることにより塵埃を除去する
フィルタ15とが配置され、前記後壁部8の上端によっ
て支持されている。
【0019】このように構成された本実施形態に係るロ
ードポート1の作用について、以下に説明する。本実施
形態に係るロードポート1は、図1に示されるように、
クリーンルーム2内の壁面3aから一段凹んだスペース
に配置される。そして、後壁部8のインタフェース部5
を用いて、クリーンルーム2の外部に該クリーンルーム
2の一壁面3に開口して配置されているロボット室4に
接続される。これにより、ロボット室4内のマニピュレ
ータ10が、後壁部8の窓部11を介して、ロードポー
ト1の載置台7まで伸び、該載置台7上に載置されてい
るオープンカセット6内のウェハWを取り出して、ロー
ドロック17内の固定カセット18に移載することが可
能となる。
【0020】このように設定されたロードポート1にお
いて、クリーンルーム2内を走行してきたAGV16
が、ウェハWを装填したオープンカセット6を載置台7
上に引き渡す。このとき、ロードポート1の前側ドア1
3は開かれる。これにより、載置台7の前面および両側
面が開放され、AGV16の移載アーム(図示せず)と
ロードポート1との干渉が低減される。また、この時点
で、後壁部8の窓部11の後部ドア12は閉鎖されてい
る。したがって、AGV16の移載アームや、移載中の
オープンカセット6と、ロボット室4内のマニピュレー
タ10とが干渉することが回避される。
【0021】次いで、AGV16による移載が終了し、
載置台7上からAGV16の移載アームが離れた状態
で、前側ドア13が閉じられる。これにより、載置台7
に載置されているオープンカセット6の周囲が全周にわ
たって閉鎖される。そして、ファン14の作動により、
発生した下降流がフィルタ15を通過して塵埃を除去さ
れた後に、載置台7上のオープンカセット6の周囲に供
給され、該オープンカセット6に付着していた塵埃が載
置台7の下方に向かって洗い流される。
【0022】この場合において、載置台7の周囲は、前
側ドア13および後側ドア12によって閉鎖されること
により、流路が画定されている。したがって、ファン1
4によって供給された下降流が、オープンカセット6の
周囲において乱れることが最小限に抑制される。このた
め、塵埃をオープンカセット6の周囲に留まらせること
なく、載置台7の下方に流すことができる。
【0023】この後に、後側ドア12を開くことによ
り、窓部11が開放され、ロボット室4内のマニピュレ
ータ10がオープンカセット6からウェハWを取り出す
ことが可能となる。後側ドア12が開かれる前に、オー
プンカセット6周囲の塵埃が下降流により流されている
ので、塵埃がロボット室4内に入り込むことが防止され
る。
【0024】また、この時点で前側ドア13は閉じられ
ているので、クリーンルーム2内で作業する作業者が、
誤って載置台7上に手を入れ、マニピュレータ10と接
触する等の事故の発生を未然に防止することができる。
【0025】このように、本実施形態に係るロードポー
ト1によれば、FOUP方式に適合するようにロボット
室4までを含めて一体的に構成されたメインフレームに
対しても、既存のクリーンルーム2を活用してオープン
カセット6を用いたウェハWの供給を可能にすることが
できる。したがって、FOUP方式に合わせた新たな設
備の構築に要するコストを最小限に抑えることができる
という利点がある。
【0026】また、開閉機構が複雑であり、洗浄が困難
であるとともに、機構部において塵埃が発生しやすく、
高価である等の問題が多い密閉式のカセットを使用する
ことを回避することができ、上記諸問題の発生を防止す
ることができる。
【0027】さらに、このように構成されたロードポー
ト1によれば、クリーンルーム2の天井から供給される
下降流を利用することができない場所に設置される場合
においても、専用のファン14の作動によって載置台7
上のオープンカセット6の周りに下降流を発生させ、塵
埃を除去することができるという効果を奏する。
【0028】すなわち、クリーンルーム2の壁面に対し
て、ロードポート1をフラッシュマウント方式で設置す
ることができ、AGV16の移動に対する障害物をでき
るだけ減らして、クリーンルーム2の有効利用、およ
び、AGV16の効率的な移動経路を確保することがで
きる。
【0029】
【発明の効果】以上説明したように、本発明に係るロー
ドポートによれば、FOUP方式のために提供されるメ
インフレームに対して、オープンカセットによるウェハ
の供給を行うことができる。その結果、既存の設備であ
るクリーンルームをそのまま利用することができ、製造
コストの削減を図ることができるとともに、複雑な構造
のために、塵埃の発生やコスト高等の問題を生じ易い密
閉式のカセットを使用せずに済むという利点がある。
【0030】また、専用のファンを具備するので、載置
台上に載置されたオープンカセットから塵埃を除去する
ことができるとともに、フラッシュマウント方式の採用
を可能とし、AGVの経路上に配される障害物を排除し
て、クリーンルームを効率的に活用することができると
いう効果を奏する。
【図面の簡単な説明】
【図1】 本発明の一実施形態に係るロードポートの設
置状態を概略的に示す縦断面図である。
【図2】 図1のロードポートを示す斜視図である。
【符号の説明】
W ウェハ 1 ロードポート 2 クリーンルーム 4 ロボット室 5 インタフェース 6 オープンカセット 7 載置台 10 マニピュレータ 14 ファン 15 フィルタ
───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (72)発明者 佐々木 武 千葉県成田市新泉14−3 野毛平工業団地 内 アプライド マテリアルズ ジャパン 株式会社内 (72)発明者 澤戸 一利 千葉県成田市新泉14−3 野毛平工業団地 内 アプライド マテリアルズ ジャパン 株式会社内 Fターム(参考) 5F031 CA02 DA01 FA12 FA15 NA03 PA26

Claims (1)

    【特許請求の範囲】
  1. 【請求項1】 メインフレームにウェハを供給するマニ
    ピュレータを備えたロボット室に接続され、クリーンル
    ーム内を搬送されてきたオープンカセット内のウェハを
    前記マニピュレータに引き渡すロードポートであって、 前記クリーンルーム内に配置され、ウェハを装填したオ
    ープンカセットを受け取って載置する載置台と、該載置
    台を前記ロボット室に接続可能なインタフェースとを具
    備するとともに、 前記載置台の上方に配置され、該載置台に載置されたオ
    ープンカセットの周囲に供給する下降流を発生するファ
    ンと、該ファンと載置台との間に配置されたフィルタと
    を具備することを特徴とするオープンカセット用ロード
    ポート。
JP2000289339A 2000-09-22 2000-09-22 オープンカセット用ロードポート Withdrawn JP2002110759A (ja)

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Cited By (2)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
US7967917B2 (en) * 2006-08-24 2011-06-28 Dai Nippon Printing Co., Ltd. Method of cleaning storage case
JP2020150091A (ja) * 2019-03-13 2020-09-17 シンフォニアテクノロジー株式会社 Efem

Cited By (3)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
US7967917B2 (en) * 2006-08-24 2011-06-28 Dai Nippon Printing Co., Ltd. Method of cleaning storage case
JP2020150091A (ja) * 2019-03-13 2020-09-17 シンフォニアテクノロジー株式会社 Efem
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Effective date: 20071204